KR101244356B1 - 기판처리장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판을 가열하기 위한 발열수단을 갖는 기판처리장치에 관한 것이다. 상기 기판처리장치는 반응공간을 형성하는 챔버; 기판을 지지하는 기판지지대; 상기 기판을 가열하기 위해 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 코일 형태로 된 발열수단; 상기 코일과 연결되어, 상기 코일과 상기 기판 사이의 간격을 조절하도록 개별적으로 승강 가능한 복수의 간격조절수단; 을 포함하고, 상기 간격조절수단은, 상기 코일에 고정된 헤드부와, 상기 헤드부와 연결된 몸체부를 포함하고, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 회전 가능한 것을 특징으로 한다.
이러한 구성에 따르면, 간격조절수단에 의해 발열수단의 각 지점을 개별적으로 승강시켜도 발열수단의 뒤틀림을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공할 수 있다.
이러한 구성에 따르면, 간격조절수단에 의해 발열수단의 각 지점을 개별적으로 승강시켜도 발열수단의 뒤틀림을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공할 수 있다.
Description
본 발명은 기판을 가열하기 위한 발열수단을 갖는 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체소자, 평면표시장치 및 박막형 태양전지를 제조하기 위해서는 기판에 특정 물질의 박막을 증착하는 박막증착공정, 감광성 물질을 사용하여 이들 박막 중 선택된 영역을 노출 또는 은폐시키는 포토리소그래피 공정, 선택된 영역의 박막을 제거하여 목적하는 대로 패터닝하는 식각공정(etching) 등을 수행해야 한다.
이러한 증착, 식각 등의 공정은 원료물질의 종류나 박막 특성에 따라 다양한 방식으로 진행될 수 있으며, 각 공정에 따라 최적의 환경으로 설계된 기판처리장치의 공정챔버 내부에서 진행된다.
기판처리장치에서 최적의 공정을 확보하기 위하여, 기판은 공정조건에 적합한 온도로 균일하게 가열되어야 한다. 특히, 기판 상에 단결정의 박막을 성장시키는 에피택셜 성장(Selective Epitaxial Growth: SEG)을 포함하는 반도체 제조공정에 있어서, 기판의 균일한 온도분포는 매우 중요하다.
도 1은 종래의 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 도면이다.
기판처리장치(1)는 기판(W)에 대한 증착, 식각 등이 이루어지는 챔버(10)를 포함한다. 챔버(10)는 상부에 위치되는 리드(11)와, 상기 리드(11)의 하부에 마련된 바디(12)를 포함한다.
기판(W)을 챔버(10) 내로 유입 및 배출할 수 있도록 챔버(10)는 개방 가능하게 구성된다. 챔버(10)는 챔버(10)의 외부에 위치된 승강장치(도시안됨)에 의해 리드(11)를 들어올림으로써 개방된다.
챔버(10) 내에는 기판(21)이 놓여지는 기판지지대(20)가 있다. 챔버(10)의 상부에는 기판(W) 위로 공정가스를 분사하도록 다수의 분사홀(41)이 형성된 가스분배판(40)이 형성된다. 공정가스는 가스공급부(70)로부터 공급되어 분사홀(41)을 통해 기판(W) 위로 분사된다.
기판지지대(20)는 승강구동부(30)에 의해 승강 가능하게 구성된다. 승강구동부(30)의 구동에 의해 기판지지대(20)가 승강되면, 기판지지대(20)에 놓여지는 기판(W)과 가스분배판(40) 사이의 간격이 조절될 수 있다.
기판처리장치(1)는 기판지지대(20)의 하부에 위치되는 발열수단(50)을 포함한다. 발열수단(50)은 유도가열 방식으로 작동되는 원형의 코일 형태가 될 수 있다. 발열수단(50)은 기판지지대(20)의 하부에 전체적으로 분포되어, 기판지지대(20) 상에 놓여지는 기판(W)을 균일하게 가열한다.
발열수단(50)의 하부에는 발열수단(50)과 기판지지대(20) 사이의 간격을 조절하기 위해 다수의 간격조절수단(60)이 위치한다. 다수의 간격조절수단(60)은 발열수단(50)의 각 지점을 개별적으로 승강시킬 수 있도록 구성된다.
기판지지대(20)의 하부에 위치된 발열수단(50)에 의한 가열만으로는 기판(W)을 충분히 가열하기 어려운 경우, 기판(W)의 상부에도 발열수단(51)이 위치될 수 있다. 마찬가지로, 발열수단(51)은 간격조절수단(61)에 의해 각 지점이 개별적으로 승강된다.
한편, 기판처리과정에서 사용되고 챔버(10) 내에 남은 반응가스와 부산물은 챔버(10)의 하부에 설치된 배기구(65)를 통하여 배기된다. 배기구(65)에는 원활한 배기를 위하여 펌프를 포함하는 펌핑시스템(도시하지 않음)을 설치할 수 있다.
도 2는 종래의 기판처리장치에 설치되는 발열수단을 나타내는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 발열수단(50, 51)은 원형의 코일 형태로 되고, 발열수단(50, 51)은 간격조절수단(60, 61)과 연결되어 승강 가능하게 구성된다. 도면부호 P는 간격조절수단(60, 61)과 발열수단(50, 51)의 연결점을 나타낸다. 이러한 연결점(P)에서 발열수단(50, 51)과 간격조절수단(60, 61)은 점접촉으로 용접된다.
이처럼, 간격조절수단(60, 61)은 발열수단(50, 51)의 전체를 지지하고 있는 것이 아니라 발열수단(50, 51)의 이격되어 분포되는 다수의 지점을 지지하고 있다.
온도 조절을 위해 간격조절수단(60, 61)이 승강운동을 하면 발열수단(50, 51)의 뒤틀림 현상이 발생된다. 이러한 뒤틀림 현상이 발생하는 이유는 발열수단(50, 51)이 연결되어 있으며, 간격조절수단(60, 61)이 동시에 같은 방향으로 운동하는 것이 아니라 국부적인 온도 조절을 위해 각각 다른 값으로 움직이기 때문이다. 뒤틀림 현상이 발생하면 그만큼 온도를 조절하는데 오차가 발생한다. 또한, 뒤틀림 현상에 의해 발열수단(50, 51)과 간격조절수단(60, 61)의 용접부위가 파손될 수 있다.
따라서, 간격조절수단(60, 61)에 의해 발열수단(50, 51)의 각 지점을 개별적으로 승강시켜도 발열수단(50, 51)의 뒤틀림을 방지할 수 있는 수단이 필요하다.
따라서, 본 발명은 상기 사정을 감안하여 발명한 것으로, 간격조절수단에 의해 발열수단의 각 지점을 개별적으로 승강시켜도 발열수단의 뒤틀림을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하고자 함에 목적이 있다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 의하면, 기판처리장치는 반응공간을 형성하는 챔버; 기판을 지지하는 기판지지대; 상기 기판을 가열하기 위해 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 코일 형태로 된 발열수단; 상기 코일과 연결되어, 상기 코일과 상기 기판 사이의 간격을 조절하도록 개별적으로 승강 가능한 복수의 간격조절수단; 을 포함하고, 상기 간격조절수단은, 상기 코일에 고정된 헤드부와, 상기 헤드부와 연결된 몸체부를 포함하고, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 회전 가능한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 발열수단은 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 원형 코일을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 상기 원형 코일의 접선방향으로의 회전 1자유도 운동을 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 회전 3자유도 운동을 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 헤드부는 소정의 회전저항을 갖도록 상기 몸체부와 연결되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 헤드부는 상기 코일과 2점 접촉, 1면 접촉, 2면 접촉 또는 3면 접촉으로 용접되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 코일과 상기 헤드부의 고정 부위는 상기 발열수단의 평면 상에서 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 라인을 형성하고, 상기 각각의 라인 사이의 거리는 최대한 이격되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 챔버는 리드와 바디로 이루어져 반응공간을 형성하고, 상기 리드가 상기 바디에 대해 승강 가능하도록 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 발열수단은 상기 기판의 상부에 위치된 상부 발열수단과, 상기 기판지지대의 하부에 위치된 하부 발열수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 간격조절수단은 상기 상부 발열수단 및 상기 리드의 벽과 연결된 상부 간격조절수단과, 상기 하부 발열수단 및 상기 바디의 벽과 연결된 하부 간격조절수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 의하면, 기판처리장치는 반응공간을 형성하는 챔버; 기판을 지지하는 기판지지대; 상기 기판을 가열하기 위해 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 원형 코일을 갖는 발열수단; 상기 코일과 면접촉으로 용접되어, 상기 코일과 상기 기판 사이의 간격을 조절하도록 개별적으로 승강 가능한 복수의 간격조절수단; 을 포함하고, 상기 간격조절수단은, 상기 코일과 용접된 헤드부와, 상기 헤드부와 연결된 몸체부를 포함하고, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 3자유도 회전운동이 가능한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 코일과 상기 헤드부의 용접 부위는 상기 발열수단의 평면 상에서 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 라인을 형성하고, 상기 각각의 라인 사이의 거리는 최대한 이격되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 간격조절수단에 의해 발열수단의 각 지점을 개별적으로 승강시켜도 발열수단의 뒤틀림을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공할 수 있다.
도 1은 종래의 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 2는 종래의 기판처리장치에 설치되는 발열수단을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치에 설치되는 발열수단을 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 발열수단과 기판 사이의 간격을 조절하는 실시예를 도시하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 간격조절수단의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 도 6의 간격조절수단의 헤드부가 회전된 상태를 도시하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 간격조절수단의 구성을 나타내는 도면이다.
도 9a, 도 9b 및 도 9c는 본 발명의 간격조절수단의 헤드부와 코일이 용접되는 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 기판처리장치에 설치되는 발열수단을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치에 설치되는 발열수단을 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 발열수단과 기판 사이의 간격을 조절하는 실시예를 도시하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 간격조절수단의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 도 6의 간격조절수단의 헤드부가 회전된 상태를 도시하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 간격조절수단의 구성을 나타내는 도면이다.
도 9a, 도 9b 및 도 9c는 본 발명의 간격조절수단의 헤드부와 코일이 용접되는 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서 각 도면의 구성요소들에 대해 참조부호를 부가함에 있어서 동일한 구성요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호로 표기되었음에 유의하여야 한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 도면이다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 발열수단을 나타내는 평면도이다.
기판처리장치(100)는 챔버(110), 기판지지대(120), 가스분배판(140), 상부 발열수단(151), 하부 발열수단(150), 상부 간격조절수단(161), 하부 간격조절수단(160)을 포함한다.
챔버(110)는 기판(W)에 대한 증착 등의 반응이 진행되는 반응공간을 형성한다. 챔버(110)는 상부에 위치되는 리드(111)와, 상기 리드(111)의 하부에 마련된 바디(112)로 이루어진다. 기판(W)을 챔버(110) 내로 유입 및 배출할 수 있도록 챔버(110)는 개방될 수 있다. 이를 위해, 리드(111)는 바디(112)에 대해 승강 가능하게 구성된다. 리드(111)는 챔버(110)의 외부에 위치된 승강장치(도시안됨)에 의해 승강될 수 있다.
기판지지대(120)는 그 위에 기판(W)을 안착시켜 지지하는 역할을 한다. 기판지지대(120)는 승강구동부(130)에 의해 승강 가능하게 구성될 수 있다. 승강구동부(130)의 구동에 의해 기판지지대(120)가 승강되면, 기판지지대(120)에 놓여지는 기판(W)과 가스분배판(140) 사이의 간격이 조절될 수 있다.
가스분배판(140)은 기판(W) 위로 공정가스를 분배하는 역할을 한다. 공정가스는 가스공급부(170)로부터 공급되어 가스분배판(140)에 형성된 다수의 분사홀(141)을 통해 기판(W) 위로 분사된다.
하부 발열수단(또는 발열수단)(150)은 기판지지대(120)의 하부에 위치되어 기판(W)을 가열한다. 하부 발열수단(150)은 유도가열 방식으로 작동되는 코일 형태가 될 수 있다. 하부 발열수단(150)은 기판지지대(120)의 하부에서 5~50mm 정도 이격되어 설치될 수 있다. 하부 발열수단(150)은 기판지지대(120)의 하부에 전체적으로 분포되어, 기판지지대(120) 상에 놓여지는 기판(W)을 균일하게 가열한다.
하부 발열수단(150)의 하부에는 상기 하부 발열수단(150)과 기판지지대(120) 사이의 간격을 조절하기 위해 복수의 하부 간격조절수단(또는 간격조절수단)(160)이 위치한다. 각각의 하부 간격조절수단(160)은 하부 발열수단(150)과 연결되어, 하부 발열수단(150)의 각 지점을 개별적으로 승강시킬 수 있도록 구성된다. 하부 발열수단(150)와 기판지지대(120) 사이의 간격이 가까워질수록 기판지지대(120)에 안착되는 기판(W)으로 더 많은 열이 전달된다.
상부 발열수단(또는 발열수단)(151)은 기판지지대(120)의 상부에서 기판(W)을 가열한다. 상부 발열수단(151)은 하부 발열수단(150)의 구성과 대체로 동일하고, 하부 발열수단(150)만으로 기판(W)을 충분히 가열하기 어려운 경우 선택적으로 설치될 수 있다. 상부 발열수단(151)의 상부에는 상부 발열수단(151)과 기판(W) 사이의 간격을 조절하기 위해 복수의 상부 간격조절수단(또는 간격조절수단)(161)이 위치한다. 상부 간격조절수단(161)은 상부 발열수단(151) 및 리드(111)와 연결되어, 상부 발열수단(151)의 각 지점을 개별적으로 승강시킬 수 있도록 구성된다. 상부 간격조절수단(161)의 구성은 하부 간격조절수단(160)과 대체로 동일하다.
도 6을 참조하여 후술하는 바와 같이, 간격조절수단(160)은 헤드부(162)와 몸체부(163)를 포함하고, 상기 헤드부(162)는 몸체부(163)에 회전 가능하게 연결되어, 각각의 간격조절수단(160)이 다른 높이로 승강하는 경우에도 발열수단(150)이 뒤틀리는 것을 방지한다.
한편, 기판(W)에 대한 증착과정에서 사용되고 남은 반응가스와 부산물은 챔버(110)의 하부에 설치된 배기구(165)를 통하여 배기된다. 배기구(165)에는 원활한 배기를 위하여 펌프를 포함하는 펌핑시스템(도시하지 않음)이 설치될 수 있다.
도 4를 참조하면, 발열수단(150, 151)은 챔버(110) 내의 중심부에서 주변부로 확장되는 코일 형태로 된다. 이러한 코일은 원형, 타원형, 사각형 등의 여러가지 형상을 가질 수 있다. 또한, 코일은 하나로 연결되어 나선형으로 연장되는 형태로 될 수도 있고, 도시된 것처럼 복수의 원형 코일이 챔버(110)의 중심부에서 주변부로 확장되는 형태가 될 수도 있다.
발열수단(또는 코일)(150, 151)에 전류가 인가되면, 유도 가열 방식에 의해 발열수단(150, 151)이 가열되어 기판(W)을 가열하게 된다. 균일한 증착공정을 위해 기판(W)은 온도의 편차없이 전체적으로 골고루 가열되어야 한다.
도면부호 P는 코일(150, 151)과 간격조절수단(160, 161)의 연결점을 나타낸다. 이처럼, 발열수단(150, 151)은 간격조절수단(160, 161)에 의해 전체적으로 지지되지 않고 다수의 연결점(P)들을 통해 지지되고 있다.
이러한 연결점(P)들은 발열수단(150, 151)의 평면 상에서 챔버(110)의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 라인(l, l', l")을 형성하는 것이 바람직하다. 발열수단(150, 151)을 효과적으로 지지하기 위해 이러한 라인들(l, l', l") 사이의 거리는 최대한 이격되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 연결점(P)들이 3개의 라인을 형성하는 경우, 각각의 라인들은 대략 120°정도로 이격되는 것이 바람직하다. 또는, 연결점(P)들이 4개의 라인을 형성하는 경우, 각각의 라인들은 대략 90°정도로 이격되는 것이 바람직하다.
도 5는 본 발명의 발열수단과 기판 사이의 간격을 조절하는 실시예를 도시하는 도면이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 발열수단(150, 151)은 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 형태로 배치되어 기판(W)을 전체적으로 가열하게 된다.
발열수단(150, 151)은 코일 형태로 되고, 이러한 코일(150, 151)은 기판(W)과의 간격을 조절할 수 있도록 각각의 간격조절수단(160, 161)에 의해 개별적으로 승강된다.
코일(150, 151)과 기판(W) 사이의 간격(T1, T2)은 동일한 높이로 제어되는 것이 아니라, 기판(W)의 온도 분포에 따라 각각의 코일(150, 151)마다 다른 높이로 제어된다. 이처럼, 코일(150, 151)은 연결점(P)들마다 높이가 달라질 수 있어 간격(T1, T2)을 조절하는 과정에서 코일(150, 151)이 뒤틀릴 수 있다. 코일(150, 151)이 뒤틀리면, 기판(W)을 원하는 온도로 가열하기 어렵게 되거나 코일(150, 151)과 간격조절수단(160, 161) 사이의 연결부가 파손될 수 있다.
본 실시예에서는 간격조절수단(160, 161)의 헤드부가 회전될 수 있도록 하여 코일(150, 151)이 외력에 의해 뒤틀리는 것을 방지한다. 이하에서는, 도 6, 도 7a 및 도 7b를 참조하여 이러한 구성을 상세히 설명하기로 한다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 간격조절수단의 구성을 나타내는 도면이다. 도 7a 및 도 7b는 도 6의 간격조절수단의 헤드부가 회전된 상태를 도시하는 도면이다.
코일(150)과 간격조절수단(160)은 용접에 의해 서로 연결될 수 있다. 코일(150)과 간격조절수단(160)의 용접 부위는 면접촉으로 용접되는 것이 바람직하다. 코일(150)과 간격조절수단(160)의 용접 부위가 넓어짐으로 인해, 코일(150)이 외력에 의해 뒤틀리는 것을 효과적으로 방지한다.
간격조절수단(160)은 코일(150)에 용접된 헤드부(162)와, 이러한 헤드부(162)와 연결된 몸체부(163)를 포함한다. 헤드부(162)는 회전축(164)을 중심으로 몸체부(163)에 대해 회전가능하게 몸체부(163)와 연결된다.
복수의 간격조절수단(160)의 개별적인 승강에 의해 코일(150)을 뒤틀리게 하는 힘이 발생한다 해도, 코일(150)과 함께 고정된 헤드부(162)가 몸체부(163)에 대해 회전될 수 있으므로, 코일(150)은 뒤틀리지 않게 된다.
헤드부(162)는 소정의 회전저항을 갖도록 몸체부(163)와 연결되는 것이 바람직하다. 이는 일정 한도 이상의 힘이 헤드부(162)에 가해질 때, 헤드부(162)가 몸체부(163)에 대해 회전하게 한다. 또한, 헤드부(162)가 몸체부(163)에 대해 일단 회전을 하면 일정 한도 이상의 힘이 헤드부(162)에 가해지지 않으면 회전된 상태를 유지하게 한다.
헤드부(162)는 몸체부(163)에 대해 원형의 코일(150)의 접선방향으로 회전 1자유도 운동을 할 수 있다(도 4 참조). 이러한 방향은 도 6에서 화살표 방향과 같이 좌우로 회전되는 방향이 된다. 헤드부(162)가 몸체부(163)에 대해 회전하는 형태는 도 7a 및 도 7b에 도시되어 있다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 간격조절수단의 구성을 나타내는 도면이다.
간격조절수단(260)은 코일(150)에 용접된 헤드부(262)와, 이러한 헤드부(262)와 연결된 몸체부(263)를 포함한다. 코일(150)과 헤드부(262)는 면접촉으로 용접되는 것이 바람직하다.
헤드부(262)는 몸체부(263)에 대해 회전 3자유도 운동을 할 수 있도록 몸체부(263)와 연결된다. 회전 3자유도 운동은 3차원을 표시하는 x, y, z축을 중심으로 한 회전운동을 말한다. 헤드부(262)는 몸체부(263)에 대해 회전 3자유도 운동을 할 수 있도록 연결되므로, 코일(150)은 어느 방향의 힘에 대해서도 뒤틀리는 것이 방지된다.
헤드부(262)는 소정의 회전저항을 갖도록 몸체부(263)와 연결되는 것이 바람직하다. 이는 일정 한도 이상의 힘에 대해 헤드부(262)가 회전하고, 헤드부(262)가 몸체부(263)에 대해 일단 회전을 하면 회전된 상태를 유지하게 한다.
도 9a, 도 9b 및 도 9c는 본 발명의 간격조절수단의 헤드부와 코일이 용접되는 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
도 9a를 참조하면, 간격조절수단(360)은 코일(150)에 용접된 헤드부(362)와, 이러한 헤드부(362)와 연결된 몸체부(363)를 포함한다. 코일(150)과 헤드부(262)는 2점 접촉으로 용접된다.
도 9b를 참조하면, 간격조절수단(360)은 코일(150)에 용접된 헤드부(362)와, 이러한 헤드부(362)와 연결된 몸체부(363)를 포함한다. 코일(150)과 헤드부(262)는 2면 접촉으로 용접된다. 즉, 코일(150)의 좌측면과 우측면 중 한면과, 코일(150)의 하면이 헤드부(362)와 용접된다.
도 9c를 참조하면, 간격조절수단(360)은 코일(150)에 용접된 헤드부(362)와, 이러한 헤드부(362)와 연결된 몸체부(363)를 포함한다. 코일(150)과 헤드부(262)는 3면 접촉으로 용접된다. 즉, 코일(150)의 좌측면, 우측면, 하면이 헤드부(162)와 용접된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치에서는, 발열수단과 연결되는 간격조절수단이 헤드부와 몸체부를 포함하고, 상기 헤드부는 몸체부에 회전 가능하게 연결되어, 각각의 간격조절수단이 서로 다른 높이로 승강하는 경우에도 발열수단이 뒤틀리는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 발열수단에 의해 기판을 균일하게 가열할 수 있으며, 발열수단과 간격조절수단의 연결부가 뒤틀림에 의해 파손되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정 또는 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
100 : 기판처리장치 110 : 챔버
111 : 리드 112 : 바디
120 : 기판지지대 130 : 승강구동부
140 : 가스분배판 150, 151 : 발열수단
160, 161 : 간격조절수단 162 : 헤드부
163 : 몸체부 164 : 회전축
170 : 가스공급부 P : 지지점
111 : 리드 112 : 바디
120 : 기판지지대 130 : 승강구동부
140 : 가스분배판 150, 151 : 발열수단
160, 161 : 간격조절수단 162 : 헤드부
163 : 몸체부 164 : 회전축
170 : 가스공급부 P : 지지점
Claims (12)
- 반응공간을 형성하는 챔버;
기판을 지지하는 기판지지대;
상기 기판을 가열하기 위해 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 코일 형태로 구성되고, 상기 챔버 내부에서 상기 기판지지대의 하부에 위치되는 하부 발열수단을 포함하는 발열수단;
상기 코일과 연결되어, 상기 코일과 상기 기판 사이의 간격을 조절하도록 개별적으로 승강 가능하게 구성되고, 상기 챔버 내부에서 상기 하부 발열수단의 하부에 위치된 하부 간격조절수단을 포함하는 복수의 간격조절수단;
을 포함하고,
상기 간격조절수단은, 상기 코일에 고정된 헤드부와, 상기 헤드부와 연결된 몸체부를 포함하고, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 회전 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제1항에 있어서,
상기 발열수단은 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 원형 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제2항에 있어서,
상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 상기 원형 코일의 접선방향으로의 회전 1자유도 운동을 하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제1항에 있어서,
상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 회전 3자유도 운동을 하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 헤드부는 소정의 회전저항을 갖도록 상기 몸체부와 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 헤드부는 상기 코일과 2점 접촉, 1면 접촉, 2면 접촉 또는 3면 접촉으로 용접되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코일과 상기 헤드부의 고정 부위는 상기 발열수단의 평면 상에서 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 라인을 형성하고, 상기 각각의 라인 사이의 거리는 최대한 이격되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 챔버는 리드와 바디로 이루어져 반응공간을 형성하고, 상기 리드가 상기 바디에 대해 승강 가능하도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제8항에 있어서,
상기 발열수단은 상기 기판의 상부에 위치된 상부 발열수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제9항에 있어서,
상기 간격조절수단은 상기 상부 발열수단 및 상기 리드의 벽과 연결된 상부 간격조절수단을 더 포함하고,
상기 하부 간격조절수단은 상기 하부 발열수단 및 상기 바디의 벽과 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 반응공간을 형성하는 챔버;
기판을 지지하는 기판지지대;
상기 기판을 가열하기 위해 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 원형 코일을 구비하고, 상기 챔버 내부에서 상기 기판의 상부에 위치된 상부 발열수단과 상기 챔버의 내부에서 상기 기판지지대의 하부에 위치되는 하부 발열수단을 포함하는 발열수단;
상기 코일과 면접촉으로 용접되어, 상기 코일과 상기 기판 사이의 간격을 조절하도록 개별적으로 승강 가능하게 구성되고, 상기 챔버의 내부에서 상기 상부 발열수단의 상부에 위치된 상부 간격조절수단과 상기 챔버의 내부에서 상기 하부 발열수단의 하부에 위치된 하부 간격조절수단을 포함하는 복수의 간격조절수단;
을 포함하고,
상기 간격조절수단은, 상기 코일과 면 접촉된 헤드부와, 상기 헤드부와 연결된 몸체부를 포함하고, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 3자유도 회전운동이 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. - 제11항에 있어서,
상기 코일과 상기 헤드부는 면 접촉으로 용접되고,
상기 코일과 상기 헤드부의 접촉 부위는 상기 발열수단의 평면 상에서 상기 챔버의 중심부에서 주변부로 확장되는 복수의 라인을 형성하고, 상기 각각의 라인 사이의 거리는 최대한 이격되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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KR1020110024759A KR101244356B1 (ko) | 2011-03-21 | 2011-03-21 | 기판처리장치 |
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KR1020110024759A KR101244356B1 (ko) | 2011-03-21 | 2011-03-21 | 기판처리장치 |
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KR20020034655A (ko) * | 2000-11-02 | 2002-05-09 | 이애란 | 토끼고기를 주재로 한 건강 음료와 그 제조방법 |
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