KR101241437B1 - A method for manufacturing a art patterned stone tile - Google Patents

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KR101241437B1 KR1020120078395A KR20120078395A KR101241437B1 KR 101241437 B1 KR101241437 B1 KR 101241437B1 KR 1020120078395 A KR1020120078395 A KR 1020120078395A KR 20120078395 A KR20120078395 A KR 20120078395A KR 101241437 B1 KR101241437 B1 KR 101241437B1
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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a picture plate stone is provided to spread a surface treating agent in a paste state on the surface of basalt, thereby omitting a washing process, and reducing a processing time for the production. CONSTITUTION: A method for manufacturing a picture plate stone includes: a step(S10) of cutting a basalt plate stone into a cubic plate; a step(S20) of spreading a surface treating agent in a paste state formed by mixing powder glaze with oil on the surface of the cut basalt plate stone so that the surface flatness of the basalt plate stone is uniform; a step(S30) of spraying a mixture formed by mixing water, oil, and a white glaze at a certain ratio on the spread surface treating agent with an air gun, and drying the mixture so that a white foundation layer can be formed; a step(S40) of adhering a ceramic-decal film having a pattern or a design to the foundation layer; and a step(S50) of heating the basalt plate stone at a temperature of 800 to 1000°C for two and a half to three hours so that the pattern or the design on the ceramic-decal film can be integrally plasticized on the foundation layer. [Reference numerals] (S10) Cutting step; (S20) Surface treatment step; (S30) Foundation layer forming step; (S40) Transferred layer forming step; (S50) Plasticizing step

Description

도화 판석의 제조방법{A method for manufacturing a art patterned stone tile}A method for manufacturing a art patterned stone tile

본 발명은 도화 판석의 제작방법 및 이에 의해 제작된 도화 판석에 관한 것으로써, 특히 자연석인 현무암의 표면에 실사 문양이 표현된 도화 판석에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a flagstone and a plated flagstone produced by the same, and more particularly, to a plated flagstone in which live-action patterns are expressed on a surface of basalt which is a natural stone.

잘 알려져 있는 바와 같이, 다공성 석재로서 현무암(Basalt)은 화산암의 일종으로 대부분의 경우 화산 폭발시 분출된 용암류가 지표 근처에서 식어서 생성된 암석류로 지하 깊은 곳에서 굳어진 화강암과는 구별되는데, 주로 감람석, 희석, 사장석 및 자철석 등의 광물조성으로 구성된다.As is well known, basalt as a porous stone is a type of volcanic rock, and in most cases it is a lava flow formed by volcanic eruptions cooling near the surface, and is distinguished from granite hardened deep underground. Consists of mineral composition such as olivine, dilution, plagioclase and magnetite.

이러한 현무암은 생성지역 및 시기에 따라 화학성분들이 다르게 함유되어 있는데, SiO2가 주성분이고 Al2O3, Fe2O3, MgO, CaO, Na2O, TiO2, K2O, P2O5 등의 산화물이 포함된 성분특성을 가지며, 특히 융용점은 1,300-1,500℃ 정도로서 다른 세라믹 재료들에 비해 낮은 편이고 산, 알칼리에 대한 내약품성 및 내마모성이 우수한 것으로 알려져 있다.These basalts contain different chemical components, depending on the region and time of production.SiO 2 is the main component and Al 2 O 3 , Fe 2 O 3 , MgO, CaO, Na 2 O, TiO 2 , K 2 O, P 2 O It has a component characteristic including oxides such as 5, and the melting point is about 1,300-1,500 ℃, which is lower than other ceramic materials, and is known to be excellent in chemical and abrasion resistance against acids and alkalis.

현무암에 대한 지금까지의 산업적 이용은 원석을 절단 가공하여 골재, 벽돌, 타일 등에 이용하여 왔다. 이와 관련하여, 본 출원인이 2009년에 출원하여 등록받은 특허 제0966918호가 있다.Until now, the industrial use of basalt has been used to cut and process the raw stone, aggregates, bricks, tiles and the like. In this regard, there is patent number 0966918, filed by Applicant in 2009.

그런데, 상기 제0966918호 특허에 개시된 발명은 현무암 원석을 절단한 후 세척하는 공정과 세척 후 건조하는 공정에서 많은 시간과 비용을 소모하게 되므로 결과적으로 도화 판석의 생산성이 낮아지고 제품의 제조원가가 상승하는 문제점이 있다. 또한, 상기 제0966918호 특허에 개시된 발명은 현무암 표면에 투명한 보호층을 형성함으로써 그 보호층 표면에 형성된 표현층의 무늬나 도안이 현무암의 어두운 색깔로 인하여 부각되지 않아 그 무늬나 도안이 선명하게 부각되지 않음으로써 미감이 나빠지는 문제점이 있었다.However, the invention disclosed in the patent No. 0966918 consumes a lot of time and money in the process of cutting and washing the basalt ore and drying after washing, resulting in lower productivity of the plated flagstone and an increase in the manufacturing cost of the product. There is a problem. In addition, the invention disclosed in the 0909918 patent forms a transparent protective layer on the surface of the basalt so that the pattern or pattern of the expression layer formed on the surface of the protective layer is not highlighted due to the dark color of the basalt. There was a problem that the taste is worse by not.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 현무암 원석을 기초로 한 도화 판석의 생산성을 현저하게 향상시키고 미감이 현저하게 향상되도록 공정이 개선된 도화 판석의 제조 방법과 도화 판석을 제공하는 데 있다.An object of the present invention was devised to solve the above problems, and the production method and plated flagstone with improved process to significantly improve the productivity and aesthetics of the plated flagstone based on basalt ore. To provide.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일 실시 예에 따른 도화 판석의 제조방법은, 현무암을 이용한 도화 판석의 제조 방법에 있어서,In order to achieve the above object, the manufacturing method of the plated flagstone according to an embodiment of the present invention, in the manufacturing method of the plated flagstone using basalt,

현무암 판석을 육면체의 평판형으로 절단하는 절단 단계;Cutting the basalt flagstone into a hexahedral plate shape;

상기 절단 단계에서 절단된 현무암 판석의 표면에 분말 유약과 오일이 혼합된 페이스트 상태의 표면 처리제를 도포하여 현무암 표면의 평탄도를 고르게 하는 표면처리 단계;A surface treatment step of applying a surface treating agent in a paste state in which powder glaze and oil are mixed to the surface of the basalt flagstone cut in the cutting step to even the flatness of the basalt surface;

상기 표면처리 단계에서 도포된 표면 처리제 위에 물과 오일과 백색 유약을 일정 비율로 혼합하여 에어 건으로 분사하여 건조함으로써 백색의 바탕층을 형성하는 바탕층 형성 단계;A base layer forming step of forming a white base layer by mixing water, an oil, and a white glaze in a predetermined ratio on the surface treatment agent applied in the surface treatment step, spraying with an air gun, and drying;

상기 바탕층 위에 무늬 또는 도안이 형성된 도자기 전사용 필름을 부착하는 전사층 형성 단계; 및A transfer layer forming step of attaching a porcelain transfer film having a pattern or pattern formed on the base layer; And

상기 전사층 형성 단계 후에 현무암 판석을 800℃ 내지 1000℃에서 2시간 30분 내지 3시간 가열함으로써 상기 도자기 전사용 필름에 형성된 무늬 또는 도안이 상기 바탕층 위에 일체로 소성 되도록 하는 소성 단계;를 포함한 점에 특징이 있다.A baking step of heating the basalt flagstone after the transfer layer forming step at 800 ° C. to 1000 ° C. for 2 hours 30 minutes to 3 hours so that the pattern or pattern formed on the porcelain transfer film is integrally baked on the base layer. It is characterized by.

상기 표면 처리 단계에서 상기 분말 유약과 물의 혼합 비율은 무게 비율로 10 : 4.5~6.5이며,The mixing ratio of the powder glaze and water in the surface treatment step is a weight ratio of 10: 4.5 ~ 6.5,

상기 바탕층 형성 단계에서 물과 오일과 백색 유약의 혼합비율은 중량비로 60 : 1.5 : 100이며,The mixing ratio of water, oil and white glaze in the base layer forming step is 60: 1.5: 100 by weight,

상기 바탕층 형성 단계에서 사용되는 백색 유약은 산화 붕소와, 산화 칼슘과, 산화 알루미늄과, 산화 칼륨과, 산화 마그네슘과, 산화 나트륨과, 산화 지르코늄과, 산화 규소를 포함한 것이 바람직하다.The white glaze used in the base layer forming step preferably includes boron oxide, calcium oxide, aluminum oxide, potassium oxide, magnesium oxide, sodium oxide, zirconium oxide, and silicon oxide.

상기 바탕층의 두께는 0.3mm 내지 0.5mm인 것이 바람직하다.The thickness of the base layer is preferably 0.3mm to 0.5mm.

상술한 방법에 의해 본 발명에 따른 도화 판석이 제조된다.By the method mentioned above, the drawing flagstone which concerns on this invention is manufactured.

본 발명에 따른 도화 판석의 제조 방법은 페이스트 상태의 표면 처리제를 현무암 표면에 도포함으로써 종래의 세척공정을 생략할 수 있으므로 에너지와 비용 이 절감되고 제품 생산 공정 시간이 단축되어 생산성이 향상된 효과를 제공한다. 또한, 본 발명에 따른 제조 방법에 의해 제조된 도화 판석은 백색 표면에 다양한 그림이나 무늬가 표현되므로 심미감이 우수하고 상품성이 뛰어난 효과가 있다.According to the present invention, the method of manufacturing the plated flagstone can apply a surface treatment agent in the form of a paste to the basalt surface, thereby eliminating the conventional washing process, thereby reducing energy and cost, and shortening the production time of the product, thereby improving productivity. . In addition, the plated flagstone produced by the manufacturing method according to the present invention has a variety of pictures and patterns on the white surface is excellent in the aesthetics and has excellent merchandise.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 도화 판석의 제조방법 공정도이다.
도 2는 도 1에 도시된 표면처리 단계를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 바탕층 형성 단계를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 1에 도시된 전사층 형성 단계를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 1에 도시된 공정에 의해 제조된 도화 판석의 샘플 사진이다.1 is a process chart of the manufacturing method of the plated flagstone according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a view for explaining the surface treatment step shown in FIG.
3 is a view for explaining the base layer forming step shown in FIG.
4 is a view for explaining the transfer layer forming step shown in FIG.
FIG. 5 is a sample photograph of a drawing flagstone manufactured by the process shown in FIG. 1. FIG.

이하, 본 발명에 따른 일 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings an embodiment according to the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 도화 판석의 제조방법 공정도이다. 도 2는 도 1에 도시된 표면처리 단계를 설명하기 위한 도면이다. 도 3은 도 1에 도시된 바탕층 형성 단계를 설명하기 위한 도면이다. 도 4는 도 1에 도시된 전사층 형성 단계를 설명하기 위한 도면이다. 도 5는 도 1에 도시된 공정에 의해 제조된 도화 판석의 샘플 사진이다.1 is a process chart of the manufacturing method of the plated flagstone according to a preferred embodiment of the present invention. 2 is a view for explaining the surface treatment step shown in FIG. 3 is a view for explaining the base layer forming step shown in FIG. 4 is a view for explaining the transfer layer forming step shown in FIG. FIG. 5 is a sample photograph of a drawing flagstone manufactured by the process shown in FIG. 1. FIG.

도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 도화 판석의 제조방법은 현무암을 이용한 도화 판석의 제조 방법으로서, 절단 단계(S10)와, 표면처리 단계(S20)와, 바탕층 형성 단계(S30)와, 전사층 형성 단계(S40)와, 소성 단계(S50)를 포함한다.1 to 5, the manufacturing method of the plated flagstone according to an embodiment of the present invention is a manufacturing method of the plated flagstone using basalt, cutting step (S10), surface treatment step (S20) and the base layer Forming step (S30), the transfer layer forming step (S40), and firing step (S50).

상기 절단 단계(S10)에서는 현무암 판석을 육면체의 평판형으로 절단한다. 상기 절단 단계(S10)에서는 다이아몬드 커터와 같은 공지된 절단 수단을 이용하여 현무암 판석을 절단할 수 있다.In the cutting step S10, the basalt flagstone is cut into a hexahedral plate shape. In the cutting step (S10) it is possible to cut the basalt flagstone using a known cutting means such as a diamond cutter.

상기 표면처리 단계(S20)에서는 상기 절단 단계(S10)에서 절단된 현무암 판석(20)의 표면에 분말 유약과 물이 혼합된 페이스트 상태의 표면 처리제(30)를 도포한다. 도 2를 참조하면, 상기 표면 처리제(30)는 치약과 같은 정도의 점도를 가지는 페이스트 상태의 표면 처리제(30)를 도구(35)를 사용하여 상기 현무암 판석(20)의 표면에 도포한다. 상기 표면 처리제(30)는 용기(37)에서 압축되어 현무암 판석(20)의 일면에 배출된다. 상기 표면처리 단계(S20)에 의해 울퉁불퉁하고 기공이 많은 현무암의 표면이 일정한 평탄도를 가지게 된다. 상기 표면 처리제(30)는 분말 유약과 오일을 혼합한 것이다. 상기 표면 처리제(30)는 분말 유약과 오일의 혼합비가 중량비로 10 : 4.5~6.5의 비율이다. 분말 유약과 오일의 혼합비가 10 : 4.5 보다 작은 경우에는 상기 표면 처리제(30)의 점도가 너무 커서 상기 현무암 판석(20)에 그 표면 처리제(30)가 제대로 도포 되지 않는 문제점이 있다. 한편, 분말 유약과 오일의 혼합비가 10 : 6.5 보다 큰 경우에는 상기 표면 처리제(30)의 점도가 너무 낮아져서 상기 현무암 판석(20)에 도포시 표면 처리제(30)가 흘러 내림으로써 그 목적을 달성할 수 없는 문제점이 있다. 상기 표면 처리제(30)를 구성하는 분말 유약은 산화 붕소(Anhydrous Boric Acid)와, 산화 칼슘(Calcium Oxide)과, 산화 알루미늄(Alundum)과, 산화 칼륨(Dipotassium Oxide)과, 산화 마그네슘(MgO)과, 산화 나트륨(Sodium Monooxide)과, 산화 지르코늄(ZrO2)과, 산화 규소(Silica)를 포함한다. 더 구체적으로 상기 분말 유약은 산화 붕소 9.9wt%, 산화 칼슘 8.2wt%, 산화 알루미늄 5.4wt%, 산화 칼륨 3.1wt%, 산화 마그네슘 3.2wt%, 산화 나트륨 5wt%, 산화 지르코늄 9.2wt%, 산화규소 56wt%를 포함한 것이 바람직하다. 상기 표면 처리제(30)를 구성하는 오일은 글리세린(glycerin)을 주성분으로 한 것으로서 상온에서 점도가 있는 시럽(syrup) 형태의 물질이다.In the surface treatment step (S20) is applied to the surface treatment agent 30 of the paste state in which powder glaze and water are mixed on the surface of the basalt flagstone 20 cut in the cutting step (S10). Referring to FIG. 2, the surface treating agent 30 is applied to the surface of the basalt flagstone 20 using a tool 35 with a paste-like surface treating agent 30 having a viscosity equivalent to a toothpaste. The surface treatment agent 30 is compressed in the container 37 and discharged to one surface of the basalt flagstone 20. By the surface treatment step (S20), the surface of the basalt which is bumpy and has many pores has a constant flatness. The surface treatment agent 30 is a mixture of powder glaze and oil. The surface treatment agent 30 is a ratio of the powder glaze and oil in a ratio of 10: 4.5 to 6.5 by weight. When the mixing ratio of the powder glaze and oil is less than 10: 4.5, the viscosity of the surface treating agent 30 is too large, so that the surface treating agent 30 is not properly applied to the basalt flagstone 20. On the other hand, when the mixing ratio of the powder glaze and oil is greater than 10: 6.5, the viscosity of the surface treatment agent 30 is too low to achieve the purpose by flowing down the surface treatment agent 30 when applied to the basalt flagstone (20). There is no problem. The powder glaze constituting the surface treatment agent 30 is boron oxide (Anhydrous Boric Acid), calcium oxide (Calcium Oxide), aluminum oxide (Alundum), potassium oxide (Dipotassium Oxide), magnesium oxide (MgO) and , Sodium monooxide, zirconium oxide (ZrO 2 ), and silicon oxide (Silica). More specifically, the powder glaze is boron oxide 9.9wt%, calcium oxide 8.2wt%, aluminum oxide 5.4wt%, potassium oxide 3.1wt%, magnesium oxide 3.2wt%, sodium oxide 5wt%, zirconium oxide 9.2wt%, silicon oxide It is preferred to include 56wt%. The oil constituting the surface treating agent 30 is a substance having a syrup form having viscosity at room temperature as a main component of glycerin (glycerin).

상기 표면처리 단계(S20)는 상기 표면 처리제(30)를 현무암 판석(20)의 일면에 도포한 후 10분 내지 20분 상온의 공기 중에서 자연 건조함으로써 완료된다. 상기 표면처리 단계(S20)는 종래의 도화 판석의 제조 방법의 문제점을 해결하는 핵심적인 공정이다. 즉, 종래에는 상기 절단 단계(S10) 후에 현무암 판석(20)을 물로 세척하는 방법을 사용하였으므로 세척에 소요되는 물이 생산비용을 상승시키고, 건조 시간이 많이 소요되므로 생산성이 떨어지는 문제점이 있었으나 상기 표면처리 단계(S20)는 이러한 문제점을 일소함으로써 생산비용을 낮추고 제조공정 시간을 단축함으로써 생산성을 향상시킨다.The surface treatment step (S20) is completed by applying the surface treatment agent 30 to one surface of the basalt flagstone 20, followed by natural drying in air at room temperature for 10 minutes to 20 minutes. The surface treatment step (S20) is a key process for solving the problems of the conventional method for producing plated flagstone. That is, since the conventional method used to wash the basalt flagstone 20 with water after the cutting step (S10), the water required for washing increases the production cost, there is a problem that the productivity is low because the drying time takes a lot, but the surface The treatment step (S20) improves productivity by reducing production costs and shortening the manufacturing process time by eliminating these problems.

상기 바탕층 형성 단계(S30)에서는 상기 표면처리 단계(S20)에서 도포된 표면 처리제(30) 위에 물과 오일과 백색 유약을 일정 비율로 혼합하여 에어 건(air gun)으로 분사하여 건조함으로써 백색의 바탕층(40)을 형성한다. 상기 바탕층(40)은 800℃ 내지 1000℃에서 2시간 30분 내지 3시간 열처리함으로써 예비 소성이 이루어진다. 상기 바탕층을 구성하는 물과 오일과 백색 유약의 혼합비는 중량비로 60 : 1.5 : 100인 것이 바람직하다. 상기 바탕층(40)을 형성하기 위해 에어 건(50)에 의해 분사되는 혼합액의 점도는 1200cps(centipoise) 정도인 것이 바람직하다. 상기 백색 유약은 상기 표면 처리 단계에서 사용되는 분말 유약과 동일한 물질이 채용된다. 상기 바탕층 형성 단계(S30)에서 혼합되는 오일은 상기 표면처리 단계(S20)에서 사용되는 오일과 동일한 물질을 채용할 수 있다. 상기 바탕층 형성 단계(S30)에서는 표면 처리된 현무암 판석(20)을 컨베이어 벨트(55)로 이송하면서 상방에서 에어 건(50)으로 혼합액을 분사한다. 상기 바탕층 형성 단계(S30)가 완료되면 현무암 표면에 백색의 바탕층(40)이 형성됨으로써 최종적인 장식 무늬를 형성하는 배경이 형성된다. 상기 바탕층(40)의 두께는 0.3mm 내지 0.5mm인 것이 바람직하다. 상기 바탕층(40)의 두께가 0.3mm 미만인 경우에는 그 바탕층(40)이 현무암 판석의 기공을 충분하기 메울 수 없어서 바탕층(40)의 평탄도가 떨어지는 문제점이 있다. 한편, 상기 바탕층(40)의 두께가 0.5mm를 초과하는 경우에는 바탕층(40)의 평탄도 향상은 한계에 도달하며, 바탕층(40) 형성을 위한 공정비용이 증가하는 문제점이 있다. In the base layer forming step (S30), water and oil and a white glaze are mixed at a predetermined ratio on the surface treatment agent 30 applied in the surface treatment step (S20), sprayed with an air gun and dried to obtain a white color. The base layer 40 is formed. The base layer 40 is prebaked by heat treatment at 800 ℃ to 1000 ℃ for 2 hours 30 minutes to 3 hours. The mixing ratio of water, oil and white glaze constituting the base layer is preferably 60: 1.5: 100 by weight. It is preferable that the viscosity of the mixed solution injected by the air gun 50 to form the base layer 40 is about 1200 cps (centipoise). The white glaze is employed the same material as the powder glaze used in the surface treatment step. The oil mixed in the base layer forming step (S30) may employ the same material as the oil used in the surface treatment step (S20). In the base layer forming step (S30) while spraying the surface-treated basalt flagstone 20 to the conveyor belt 55, the mixed liquid is injected into the air gun 50 from above. When the base layer forming step S30 is completed, a white base layer 40 is formed on the basalt surface, thereby forming a background for forming a final decorative pattern. The thickness of the base layer 40 is preferably 0.3mm to 0.5mm. If the thickness of the base layer 40 is less than 0.3mm, there is a problem that the base layer 40 is not enough to fill the pores of the basalt flagstone, the flatness of the base layer 40 falls. On the other hand, when the thickness of the base layer 40 exceeds 0.5mm, the flatness improvement of the base layer 40 reaches a limit, and there is a problem that the process cost for forming the base layer 40 increases.

상기 전사층 형성 단계(S40)에서는 상기 바탕층(40) 위에 무늬 또는 도안이 형성된 도자기 전사용 필름(60)을 부착한다. 상기 도자기 전사용 필름(60)은 수지로 된 얇은 필름 위에 유약 성분으로 구성된 무늬가 도포 되어 있다. 또한, 상기 도자기 전사용 필름(60)은 수지로 된 필름에 도포된 유약 성분을 덮어서 보호하기 위한 보호 커버로서 종이가 부착되어 있다. 상기 전사층 형성 단계(S40)에서는 상기 도자기 전사용 필름(60)을 물에 담가서 종이를 제거한 후 유약 성분이 무늬로서 도포 된 수지 필름을 상기 바탕층(40)에 부착한다. 그리고, 도자기 전사용 필름(60)이 부착된 판석을 상온에서 2시간 정도 건조한다.In the transfer layer forming step (S40), the porcelain transfer film 60 having a pattern or a pattern formed on the base layer 40 is attached. The porcelain transfer film 60 is coated with a pattern consisting of a glaze component on a thin film of resin. In addition, the porcelain transfer film 60 is attached with paper as a protective cover for covering and protecting the glaze component applied to the resin film. In the transfer layer forming step (S40), the porcelain transfer film 60 is immersed in water to remove paper, and then a resin film coated with a glaze component as a pattern is attached to the base layer 40. Then, the flagstone with the porcelain transfer film 60 is dried at room temperature for about 2 hours.

상기 소성 단계(S50)에서는 상기 전사층 형성 단계(S40) 후에 현무암 판석(20)을 열처리 로(furnace)에 장입한 상태에서 800℃ 내지 1000℃에서 2시간 30분 내지 3시간 가열함으로써 상기 도자기 전사용 필름(60)에 형성된 무늬 또는 도안이 상기 바탕층(40) 위에 일체로 소성 되도록 한다. 상기 소성 단계(S50)에서 수지로 된 필름은 연소 되고 상기 바탕층(40) 표면에 유약 성분으로 이루어진 무늬가 정착되어 그 바탕층(40)과 일체로 된 무늬가 완성된다. 그리고, 바탕층(40)과 무늬가 일체로 된 도화 판석(10)을 자연 냉각함으로써 본 발명에 따른 도화 판석이 완성된다. 상기 소성 단계(S50)에서 열처리 온도가 800℃ 미만인 경우에는 상기 도자기 전사용 필름(60)에 있는 유약이 상기 바탕층(40)과 제대로 결합하지 않는 문제점이 있다. 상기 소성 단계(S50)에서 열처리 온도가 1000℃를 초과하는 경우에는 상기 현무암 판석(20)이 열충격에 의해 손상되는 문제점이 있다. 한편, 상기 소성 단계(S50)에서 열처리하는 시간이 2시간 30분 보다 짧은 경우에는 상기 도자기 전사용 필름(60)에 있는 유약 무늬가 제대로 소성되지 않은 문제점이 있다. 한편, 상기 소성 단계(S50)에서 열처리하는 시간이 3시간을 초과하는 경우에는 상기 바탕층(40)이나 그 바탕층(40)에 결합된 무늬에 균열이 발생하는 문제점이 있다.In the firing step (S50) after the transfer layer forming step (S40) in the state of loading the basalt flagstone 20 into the heat treatment furnace (furnace) by heating at 800 ℃ to 1000 ℃ for 2 hours 30 minutes to 3 hours The pattern or pattern formed on the use film 60 is fired integrally on the base layer 40. In the firing step (S50), the resin film is burned and a pattern made of a glaze component is fixed on the surface of the base layer 40 to complete a pattern integrated with the base layer 40. Then, by naturally cooling the base plate 40 and the patterned flagstone 10 in which the pattern is integrated, the plated flagstone according to the present invention is completed. If the heat treatment temperature in the firing step (S50) is less than 800 ℃ there is a problem that the glaze in the porcelain transfer film 60 does not bond properly with the base layer 40. If the heat treatment temperature in the firing step (S50) exceeds 1000 ℃ there is a problem that the basalt flagstone 20 is damaged by thermal shock. On the other hand, when the heat treatment time in the firing step (S50) is shorter than 2 hours 30 minutes, there is a problem that the glaze pattern in the porcelain transfer film 60 is not properly baked. On the other hand, when the heat treatment time in the firing step (S50) exceeds 3 hours, there is a problem that cracks occur in the base layer 40 or the pattern bonded to the base layer 40.

이와 같이 본 발명에 다른 도화 판석의 제조 방법은 비용과 시간이 많이 들던 종래의 세척 공정이 생략되기 때문에 생산성이 현저하게 향상되는 효과가 있다. 또한, 본 발명에 따른 도화 판석의 제조 방법은 오일과 분말 유약을 혼합한 페이스터 형태의 표면 처리 재로 기공이 많고 표면이 울퉁불퉁한 현무암 판석 표면을 매우 효과적으로 평탄화함으로써 도화 인쇄 품질이 현저하게 향상된다. 또한, 바탕 층을 형성하는 과정에서 오일과 물과 백색 유약을 혼합한 혼합액을 에어 건으로 분사함으로써 분사되는 혼합액이 적정한 점도를 가지도록 함으로써 바탕 층 형성 단계에서 혼합액이 현무암 판석 표면으로 흐르는 것을 방지하는 효과가 있다.As described above, the manufacturing method of the plated flagstone according to the present invention has the effect of significantly improving productivity since the conventional washing process, which is expensive and time consuming, is omitted. In addition, the manufacturing method of the plated flagstone according to the present invention is a surface-treated material in the form of a paste mixed with oil and powder glaze, the planar print quality is significantly improved by planarizing the basalt flagstone surface with a lot of pores and irregular surface. In addition, in the process of forming the base layer, by spraying a mixture of oil, water and white glaze with an air gun, the sprayed mixture has an appropriate viscosity, thereby preventing the mixture from flowing to the basalt flagstone surface in the base layer formation step. There is.

이상, 바람직한 실시 예를 들어 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 발명이 그러한 예에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범주 내에서 다양한 형태의 실시 예가 구체화될 수 있을 것이다.While the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, it is to be understood that the invention is not to be limited by the example, and various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention.

10: 도화 판석
20: 현무암 판석
30: 표면 차리재
35: 도구
37: 용기
40: 바탕층
50: 에어 건
55: 컨베이어 벨트
60: 도자기 전사용 필름
S10: 절단 단계
S20: 표면처리 단계
S30: 바탕층 형성 단계
S40: 전사층 형성 단계
S50: 소성 단계10: Flushing Flagstone
20: Basalt Flagstone
30: surface isolation
35: tools
37: Courage
40: ground floor
50: air gun
55: conveyor belt
60: porcelain transfer film
S10: cutting step
S20: Surface Treatment Step
S30: base layer forming step
S40: transfer layer forming step
S50: firing step

Claims (4)

현무암을 이용한 도화 판석의 제조 방법에 있어서,
현무암 판석을 육면체의 평판형으로 절단하는 절단 단계;
상기 절단 단계에서 절단된 현무암 판석의 표면에 분말 유약과 오일이 혼합된 페이스트 상태의 표면 처리제를 도포하여 현무암 표면의 평탄도를 고르게 하는 표면처리 단계;
상기 표면처리 단계에서 도포 된 표면 처리제 위에 물과 오일과 백색 유약을 일정 비율로 혼합하여 에어 건으로 분사하여 건조함으로써 백색의 바탕층을 형성하는 바탕층 형성 단계;
상기 바탕층 위에 무늬 또는 도안이 형성된 도자기 전사용 필름을 부착하는 전사층 형성 단계; 및
상기 전사층 형성 단계 후에 현무암 판석을 800℃ 내지 1000℃에서 2시간 30분 내지 3시간 가열함으로써 상기 도자기 전사용 필름에 형성된 무늬 또는 도안이 상기 바탕층 위에 일체로 소성 되도록 하는 소성 단계;를 포함한 것을 특징으로 하는 도화 판석의 제조방법.In the manufacturing method of the drawing flagstone using basalt,
Cutting the basalt flagstone into a hexahedral plate shape;
A surface treatment step of applying a surface treating agent in a paste state in which powder glaze and oil are mixed to the surface of the basalt flagstone cut in the cutting step to even the flatness of the basalt surface;
A base layer forming step of forming a white base layer by mixing water, an oil, and a white glaze in a predetermined ratio on the surface treatment agent applied in the surface treatment step by spraying with an air gun to dry;
A transfer layer forming step of attaching a porcelain transfer film having a pattern or pattern formed on the base layer; And
And a baking step of heating the basalt flagstone after the transfer layer forming step at 800 ° C. to 1000 ° C. for 2 hours 30 minutes to 3 hours so that the pattern or pattern formed on the porcelain transfer film is integrally baked on the base layer. A method for producing a plated flagstone, characterized in that. 제1항에 있어서,
상기 표면 처리 단계에서 상기 분말 유약과 오일의 혼합 비율은 무게 비율로 10 : 4.5~6.5이며,
상기 바탕층 형성 단계에서 물과 오일과 백색 유약의 혼합비율은 중량비로 60 : 1.5 : 100이며,
상기 바탕층 형성 단계에서 사용되는 백색 유약은 산화 붕소와, 산화 칼슘과, 산화 알루미늄과, 산화 칼륨과, 산화 마그네슘과, 산화 나트륨과, 산화 지르코늄과, 산화 규소를 포함한 것을 특징으로 하는 도화 판석의 제조 방법.The method of claim 1,
The mixing ratio of the powder glaze and oil in the surface treatment step is 10: 4.5 ~ 6.5 in weight ratio,
The mixing ratio of water, oil and white glaze in the base layer forming step is 60: 1.5: 100 by weight,
The white glaze used in the base layer forming step includes boron oxide, calcium oxide, aluminum oxide, potassium oxide, magnesium oxide, sodium oxide, zirconium oxide, and silicon oxide. Manufacturing method. 제1항에 있어서,
상기 바탕층의 두께는 0.3mm 내지 0.5mm인 것을 특징으로 하는 도화 판석의 제조 방법.The method of claim 1,
The thickness of the base layer is 0.3mm to 0.5mm manufacturing method of the plated flagstone, characterized in that. 삭제delete
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