KR101237817B1 - Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas - Google Patents

Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas Download PDF

Info

Publication number
KR101237817B1
KR101237817B1 KR1020110140428A KR20110140428A KR101237817B1 KR 101237817 B1 KR101237817 B1 KR 101237817B1 KR 1020110140428 A KR1020110140428 A KR 1020110140428A KR 20110140428 A KR20110140428 A KR 20110140428A KR 101237817 B1 KR101237817 B1 KR 101237817B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
substance
gases
odor
unit
Prior art date
Application number
KR1020110140428A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박재경
이재호
Original Assignee
(주)에어스텍
(주)플라즈마텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에어스텍, (주)플라즈마텍 filed Critical (주)에어스텍
Priority to KR1020110140428A priority Critical patent/KR101237817B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101237817B1 publication Critical patent/KR101237817B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77Liquid phase processes
    • B01D53/78Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06Spray cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/70Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
    • B01D2257/708Volatile organic compounds V.O.C.'s
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2259/00Type of treatment
    • B01D2259/80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/818Employing electrical discharges or the generation of a plasma

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

PURPOSE: An apparatus for purifying toxic gas and odor by neutralization of gases is provides to minimize by-product and secondary toxic material generation. CONSTITUTION: An apparatus for purifying toxic gas and odor comprises a main spray unit(200), a reaction unit(300), and an auxiliary spay unit. An ultrasonic atomizer is mounted at the main spray unit to neutralize a first material of toxic gas and odor. The reaction unit purifies and releases the harmful gas and odor through plasma. The auxiliary spray unit is formed between the main spray unit and reaction unit. [Reference numerals] (AA) Exhaustion gas

Description

기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치{APPARATUS FOR CLEANING TOXIC AND ODOR GAS USING NEUTRALIZATION REACTION BETWEEN GAS AND GAS} Noxious gas and odor gas purification device using neutralization reaction between gases {APPARATUS FOR CLEANING TOXIC AND ODOR GAS USING NEUTRALIZATION REACTION BETWEEN GAS AND GAS}

본 발명은 유해가스 및 악취가스 정화장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 산과 염기성분의 유해물질이 포함된 유해가스 및 악취가스에 기체를 분무하여 산과 염기성분의 유해물질을 제거하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a harmful gas and odor gas purification device, more specifically, neutralization reaction between the gas to remove harmful substances of acid and base components by spraying the gas on the harmful gas and odor gas containing harmful substances of acid and base components It relates to a harmful gas and odor gas purification apparatus using.

각종 공장 등의 배출가스에는 대기오염의 주요인이 되고 있는 휘발성 유기화합물(Volatile Organic Compounds; VOCs)과 같은 다양한 유해 화학물질이나 악취를 유발하는 가스가 포함되어 있다. 상기 휘발성 유기화합물은 그 종류가 다양하나, 벤젠(benzene) 및 페놀(phenol) 같은 방향족(Aromatic) 화합물, 알칸(Alkane), 알켄(Alkene) 등의 탄화수소(Hydrocarbon) 화합물과 염소와 같은 할로겐(halogen) 화합물, 질소, 산소 등을 포함한 비균질 탄화수소(Heterogeneous Hydrocarbon) 등이 있다. 주요 휘발성 유기화합물의 배출원으로는 도료, 도장 및 플라스틱 관련 공장, 화학공장, 정유공장, 저유소 및 세탁소 등을 들 수 있다.Exhaust gases from various factories include various toxic chemicals such as volatile organic compounds (VOCs) and odorous gases, which are major sources of air pollution. The volatile organic compounds may be of various kinds, but aromatic compounds such as benzene and phenol, hydrocarbon compounds such as alkanes and alkenes, and halogens such as chlorine. Heterogeneous hydrocarbons, including compounds, nitrogen, oxygen, and the like. The main sources of volatile organic compounds include paint, paint and plastics factories, chemical plants, oil refineries, reservoirs and laundries.

이러한 휘발성 유기화합물은 그 종류 및 대기 중 반응의 형태에 따라 대류권 오존오염, 성층권 오존층 파괴 및 지구 온난화 등을 유발하며, 인체나 동식물이 휘발성 유기화합물에 노출된 경우 단기적으로는 호흡기 질환, 신경장애 등을 일으키고, 장기적으로는 발암, 유전자 변이 등을 일으킬 수 있다고 보고되어 있다. 이와 같이, 그 자체로도 건강에 매우 유해한 휘발성 유기화합물의 배출량은 산업의 발달로 인해 매년 늘고 있어 그에 따른 환경오염도 더욱 가중되고 있다.These volatile organic compounds cause tropospheric ozone pollution, stratospheric ozone depletion and global warming depending on the type and type of reaction in the atmosphere.In the short term, when humans and animals are exposed to volatile organic compounds, respiratory diseases, neurological disorders, etc. It is reported that in the long term it can cause carcinogenesis, genetic variation and the like. As such, the emissions of volatile organic compounds, which are very harmful to health by themselves, are increasing every year due to the development of the industry, and the environmental pollution is further increased accordingly.

한편, 악취는 주로 대기오염 등에 의하여 발생하며 사람의 후각을 자극한다. 악취의 원인물질에는 황화수소, 머캅탄(mercaptan)류, 아민류 외에도 알데하이드류, 인돌류, 케톤류, 알코올류, 페놀류, 염소화합물, 이황화탄소, 암모니아, 유기산 등이 있다. 이러한 악취물질을 원료로 하는 고무제조공장, 약품제조공장, 플라스틱제조공장, 식품제조공장, 비료공장, 제지공장 등의 주변이나 농ㅇ축산업이 이루어지는 곳, 하수처리장, 분뇨처리장, 화장터, 쓰레기 매립장 근처에서도 다량의 악취가 발생된다. On the other hand, odor is mainly caused by air pollution and stimulates the sense of smell. The odor causing substances include aldehydes, indole, ketones, alcohols, phenols, chlorine compounds, carbon disulfide, ammonia and organic acids in addition to hydrogen sulfide, mercaptans and amines. Around rubber manufacturing plant, chemical manufacturing plant, plastic manufacturing plant, food manufacturing plant, fertilizer plant, paper mill, etc., where the odorous substances are made or where agricultural and livestock industry takes place, sewage treatment plant, manure treatment plant, crematorium, garbage landfill Even in a large amount of odor is generated.

사람은 악취를 맡게 되면 먼저 정신적 스트레스가 쌓이고 심리적으로 불안해지면서, 짜증, 히스테리, 불면증 등을 동반하기도 한다. 생리적으로는 냄새로 인한 혈압상승, 호르몬 분비의 변화에 의한 생식계의 이상, 후각 감퇴, 두통, 구토 등의 증상이 나타나기도 한다.When a person smells bad, mental stress builds up and becomes psychologically disturbing, sometimes accompanied by irritation, hysteria and insomnia. Physiologically, symptoms such as an increase in blood pressure due to odor, abnormality of the reproductive system due to hormonal secretion change, olfactory deterioration, headache and vomiting may occur.

이러한 유해 화학물질 가스와 악취물질을 제거하기 위해 종래에는 직접연소법의 재생식 열산화(Regenerative Thermal Oxidation: RTO) 장치, 간접연소법의 재생식 촉매산화(Regenerative Catalytic Oxidation: RCO) 장치, 흡착처리 장치 또는 바이오필터 등이 주로 사용되고 있었다.Conventional regenerative thermal oxidation (RTO) devices, regenerative catalytic oxidation (RCO) devices, adsorption treatment devices, or the like for direct removal of toxic chemical gases and odorous substances Biofilters were mainly used.

상기 RTO 장치는 배출가스를 직접 연소시켜 산화처리한 후 연소열은 회수 및 재사용하는 방식으로, 처리효율이 높고 고농도의 휘발성 유기화합물의 처리에 경제적이어서 현재 가장 많이 사용되고 있다. 그러나 설비비가 과다한 데다, 휘발성 유기화합물의 농도가 낮으면 운전비가 많이 들어 경제성이 없으며, 배출가스의 유량변동이 심하거나 할로겐, 황화합물이 포함된 휘발성 유기화합물의 처리에는 부적합하며, 구조상 설치장소에도 제한이 따른다.The RTO apparatus is a method of recovering and reusing combustion heat after directly oxidizing and treating an exhaust gas, and thus has high treatment efficiency and is economical in treating high concentrations of volatile organic compounds. However, if the equipment cost is excessive and the concentration of volatile organic compounds is low, it is not economical because of high operating costs, and it is not suitable for the treatment of volatile organic compounds containing severe fluctuations in exhaust gas or containing halogen and sulfur compounds, and it is restricted in the installation place. This follows.

상기 RCO 장치는 촉매를 연소시켜 활성화한 다음, 이를 배출가스와 반응시켜 처리하고 연소열은 회수 및 재사용하는 방식으로, 운전비가 적게 들고 질소화합물(NOx)의 발생이 적으며 소형이라는 이점이 있다. 그러나 RTO 장치 보다 시설비가 과다하고, 처리대상기체의 생성에 따라 그 적용범위가 제한되며, 유량변동이 심하거나 고농도의 휘발성 유기화합물 처리에는 부적합하며, 촉매를 주기적으로 교체하여야 한다.The RCO apparatus burns and activates a catalyst, reacts with the exhaust gas, and treats the combustion heat to recover and reuse heat. Thus, the RCO device has a low operating cost, low generation of nitrogen compounds (NOx), and small size. However, the facility cost is higher than that of the RTO device, the scope of application is limited according to the generation of treatment targets, and the flow rate is not suitable for treating volatile organic compounds at high concentrations, and the catalyst must be replaced periodically.

한편, 흡착처리 장치는 배출가스를 고형 흡착제와 접촉시켜 흡착제의 표면에 휘발성 유기화합물을 채취, 포집, 체류시키는 방법으로 처리하고 열사이클을 이용한 탈착으로 흡착제를 재생한다. 이는 휘발성 유기화합물의 제거효율이 높고 연료비가 적게 드는 이점이 있으나, 배출가스에 포함된 입자상 물질을 미리 여과해야하는 전처리 설비가 필요하고, 흡착제의 재생시 폐수가 발생하여 별도의 폐수처리가 요구되는 단점이 있다.On the other hand, the adsorption treatment apparatus treats the exhaust gas by contacting the solid adsorbent to collect, collect and retain the volatile organic compounds on the surface of the adsorbent, and regenerates the adsorbent by desorption using a thermal cycle. This is advantageous in that the removal efficiency of volatile organic compounds is high and the fuel cost is low. However, a pretreatment facility that needs to filter the particulate matter contained in the exhaust gas is required in advance, and wastewater is generated when the adsorbent is regenerated. There is this.

또한, 바이오필터의 경우 생물학적으로 분해가 되지 않는 물질의 경우 사용하기가 곤란하다. 이러한 바이오필터를 설치할 경우, 생물학적으로 반응하는 데 필요한 시간이 길어서, 부지를 많이 차지하고, 미생물에 활성을 유지 및 관리하는데 어려우며, 특히 온도에 민감하여, 겨울철에 효율이 낮고, 운전이 어려운 단점이 있다. In addition, biofilters are difficult to use in the case of materials that are not biologically decomposed. In the case of installing such a biofilter, it takes a long time to react biologically, occupies a lot of sites, it is difficult to maintain and manage the activity of microorganisms, and in particular, it is sensitive to temperature, so it is low in winter and difficult to operate. .

나아가 플라즈마 처리공정을 이용한 오염물질의 제거방법이 널리 사용되고 있으나, 극히 작은 미립자 형태의 오염물질은 그 크기가 매우 작기 때문에 플라즈마 처리를 하여도 제거되지 않는 문제점이 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해 최근에는 작은 미립자 형태의 오염물질에 물을 무화시켜 분사하여 미립자를 조대화시킨 후 전기 집진하는 기술이 개발되어 있다. 그러나, 물은 극성 성질을 지니고 있기 때문에 극성 성질을 갖는 오염물질에만 조대화시킬 수 있으므로, 비극성 성질을 갖는 오염물질을 제거하기 어려운 문제점이 있다. 또한, 물에 의해 조대화가 일정 수준 이상으로 발생되면 자유낙하하게 되는 부산물이 발생되며, 이에 따라 부산물을 처리하는데 별도의 비용이 발생되는 문제점이 있다. Furthermore, the method of removing contaminants using the plasma treatment process is widely used. However, since the pollutants in the form of extremely small particulates are very small in size, they are not removed even by plasma treatment. In order to solve this problem, recently, a technique has been developed in which small particles are sprayed by atomizing water to contaminants in the form of coarse particles to coarse fine particles and then electrostatically collect them. However, since water has polarity, it can coarsen only to pollutants having polarity, and thus, it is difficult to remove pollutants having nonpolarity. In addition, when the coarsening is generated by a certain level or more by water is generated by-products that fall free, there is a problem in that separate costs are generated in processing the by-products.

따라서 인체에 유해하고, 악취 및 환경오염의 원인이 되지만 일반적인 오염물질 제거공정으로는 처리되지 않는 물질을 제거하기 위한 효율적이고 경제적인 방법의 개발이 요구되고 있다.
Therefore, there is a demand for the development of an efficient and economical method for removing substances that are harmful to the human body and cause odors and environmental pollution but are not processed by the general pollutant removal process.

대한민국 등록특허 제10-0817303호(2008.3.27 공고)Republic of Korea Patent No. 10-0817303 (announced on March 27, 2008) 대한민국 등록특허 제10-0737941호(2007.07.13 공고)Republic of Korea Patent No. 10-0737941 (2007.07.13 announcement) 대한민국 등록특허 제10-0929905호(2009.06.15 공고)Republic of Korea Patent No. 10-0929905 (announced June 15, 2009)

따라서, 본 발명의 목적은 유해가스와 악취가스에 포함된 유해 물질 및 악취물질의 성질에 따라 상반되는 성질을 갖는 기체를 공급하여 상기 유해물질 및 악취물질을 중화시킴으로써 상기 유해물질 및 악취물질에 대한 우수하고, 안정적인 처리효율을 제공하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치를 제공하는데 있다.
Therefore, an object of the present invention by supplying a gas having a property opposite to the harmful substances and odorous substances contained in the toxic gas and odorous gas to neutralize the harmful and odorous substances to the harmful and odorous substances An object of the present invention is to provide a toxic gas and odor gas purification device using a neutralization reaction between gases that provides excellent and stable treatment efficiency.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에서는 유해가스 및 악취가스 정화장치에 있어서, 상기 유해가스와 악취가스의 제 1 물질을 중화시킬 수 있도록 상기 제 1 물질을 중화시키는 제 2 물질을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기가 설치된 주분무부, 및 상기 주분무부를 통과한 유해가스와 악취가스를 플라즈마를 통해 정화시켜 방출하는 반응부를 포함하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치를 제공한다.
In order to achieve the above object of the present invention, in one embodiment of the present invention, in the harmful gas and odor gas purification device, neutralizing the first material to neutralize the first material of the harmful gas and odor gas Noxious gas and odor using a neutralization reaction between gases including a main spraying unit provided with an ultrasonic sprayer spraying a second substance in a gaseous state, and a reaction unit for purifying and discharging the noxious gas and odor gas passing through the main spraying unit through plasma Provide a gas purifier.

본 발명에 의하면, 각종 산업공정 및 생활환경에서 배출되는 악취에 대한 무해화 처리가 신뢰성 있게 이루어질 수 있으며, 오존이나 CO와 같은 2차 독성물질의 생성을 최소화할 수 있다.According to the present invention, the detoxification treatment for odors emitted from various industrial processes and living environments can be reliably performed, and generation of secondary toxic substances such as ozone or CO can be minimized.

그리고 본 발명은 RTO를 이용한 정화장치, 스크러버를 이용한 정화장치, 바이오필터를 이용한 정화장치에 비해 사이즈가 작기 때문에 넓은 설치공간을 필요로 하지 않아 공간 활용성이 우수하다. In addition, the present invention does not require a large installation space because the size is smaller than the purification device using the RTO, the purification device using a scrubber, the purification device using a biofilter, it is excellent in space utilization.

또한, 본 발명은 기체 상태의 산과 알칼리 성분을 사용하여 유해 화학물질을 정화시키므로 부산물의 발생이 최소화되며, 이에 따라 부산물을 후처리하는 비용이 낮아지기 때문에 전체 운영비용도 낮아진다.In addition, the present invention purifies the harmful chemicals by using gaseous acid and alkali components, thereby minimizing the generation of by-products, and thus lowering the overall operating cost since the cost of post-treatment of the by-products is lowered.

아울러, 본 발명은 전체 구성이 단순화되기 때문에 RTO를 이용한 정화장치나 스크러버를 이용한 정화장치 등의 종래 정화장치에 비해 생산비용이 감소될 뿐만 아니라 운용이 쉬워진다.
In addition, the present invention, because the overall configuration is simplified, as well as the production cost is reduced compared to the conventional purification device, such as a purification device using a RTO, a purification device using a scrubber, it is easy to operate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 및 악취가스 정화장치를 개략적으로 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 및 악취가스 정화장치를 설명하기 위한 블록도이다.
도 3은 본 발명에 따른 유해가스 및 악취가스 정화장치의 전기적 연결상태를 설명하기 위한 블록도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유해가스 및 악취가스 정화장치를 설명하기 위한 블록도이다.
1 is a configuration diagram for schematically explaining a harmful gas and odor gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a block diagram for explaining the harmful gas and odor gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a block diagram illustrating the electrical connection of the noxious gas and odor gas purification apparatus according to the present invention.
Figure 4 is a block diagram for explaining the harmful gas and odor gas purification apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 의한 유해가스에 포함된 유해물질 및 악취물질을 제거하기 위해 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치(이하, '유해가스 정화장치'라 약칭한다.)를 상세하게 설명한다.
Hereinafter, referring to the accompanying drawings, in order to remove harmful substances and odorous substances included in harmful gases according to preferred embodiments of the present invention, a harmful gas and odor gas purification apparatus using neutralization reaction between gases (hereinafter, 'toxic gas purification Device ') will be described in detail.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 정화장치를 개략적으로 설명하기 위한 구성도이고, 도 2는 본 발명에 따른 유해가스 정화장치의 일 실시예를 설명하기 위한 블록도이다.1 is a block diagram for schematically explaining a harmful gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a block diagram for explaining an embodiment of the harmful gas purification apparatus according to the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 유해가스 정화장치는 유해가스와 악취가스(이하, '유해가스'라 약칭한다)에 포함된 제 1 물질을 중화시킬 수 있도록 상기 제 1 물질에 대향되는 제 2 물질을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기가 설치된 주분무부(200)와, 상기 주분무부(200)를 통과한 가스를 플라즈마를 통해 정화시켜 방출하는 반응부(300)를 포함한다. 1 and 2, the apparatus for purifying harmful gas according to an embodiment of the present invention may neutralize the first material included in the noxious gas and the odor gas (hereinafter, referred to as 'harmful gas'). The main spraying unit 200 is provided with an ultrasonic atomizer for spraying a second substance opposed to the first substance in a gaseous state, and the reaction unit 300 for purifying the gas passing through the main spraying unit 200 through a plasma to be discharged. Include.

필요에 따라 유해가스를 흡입하여 주분무부로 공급하는 흡입부와, 유해가스가 발생된 경우에만 동작되도록 가스에 대한 정보를 감지하는 센서부와, 상기 센서부로부터 입력되는 정보를 취합하여 각 구성요소의 동작을 제어하는 제어보드를 더 포함할 수 있다.
If necessary, the suction unit for inhaling and supplying harmful gas to the main spraying unit, a sensor unit for sensing information on the gas to operate only when noxious gas is generated, and the information inputted from the sensor unit It may further include a control board for controlling the operation of.

이하, 도면을 참조하여 각 구성요소별로 보다 구체적으로 설명한다. Hereinafter, each component will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 정화장치는 주분무부(200)를 포함한다. Referring to Figure 1, the harmful gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention includes a main spraying unit (200).

상기 주분무부(200)는 내부 일측에 제 2 물질을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기(210', 210")가 설치되어 흡입부를 통해 유입된 유해가스에 기체 상태의 제 2 물질을 분무하여 균일하게 혼합되도록 하는 장치이다.The main spraying unit 200 has ultrasonic sprayers 210 'and 210 "for spraying a second substance in a gas state on one side thereof, and sprays the second substance in a gaseous state to the harmful gas introduced through the suction unit. It is a device that allows mixing.

이때, 유해가스와 제 2 물질은 모두 기체이기 때문에 유해가스와 제 2 물질 사이에는 기체반응이 일어난다. 또한, 상기 제 2 물질은 유해가스의 제 1 물질을 중화시키는 물질로 구성되기 때문에 제 1 물질과 제 2 물질 사이에는 중화반응이 일어난다.At this time, since both the noxious gas and the second substance are gases, a gas reaction occurs between the noxious gas and the second substance. In addition, since the second substance is composed of a substance that neutralizes the first substance of the noxious gas, a neutralization reaction occurs between the first substance and the second substance.

예를 들면, 상기 제 1 물질이 산성 물질인 경우, 제 2 물질로는 산성 물질을 중화시키는 염기성 용액을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 제 1 물질이 염기성 물질인 경우, 제 2 물질로는 염기성 물질을 중화시키는 산성 용액을 사용하는 것이 바람직하다. For example, when the first substance is an acidic substance, it is preferable to use a basic solution for neutralizing the acidic substance as the second substance. In addition, when the first substance is a basic substance, it is preferable to use an acid solution that neutralizes the basic substance as the second substance.

구체적으로, 제 1 물질이 암모니아인 경우 제 2 물질로는 HNO3 1mol% 용액을 사용할 수 있다. 또한, 제 1 물질이 황화수소인 경우 제 2 물질로는 NaOH 1mol% 용액을 사용할 수 있다.Specifically, when the first material is ammonia, a 1 mol% solution of HNO 3 may be used as the second material. In addition, when the first material is hydrogen sulfide, a 1 mol% solution of NaOH may be used as the second material.

다만, 유해가스에 포함된 제 1 물질은 대부분 산성 물질로 구성되기 때문에, 제 2 물질로는 범용적인 사용을 위해 0.01 내지 1몰%의 알칼리 용액을 사용하는 것이 좋다. 이러한 알칼리 용액으로는 수산화나트륨(NaOH) 수용액, 수산화칼륨(KOH) 수용액, 수산화칼슘(Ca(OH)2) 수용액, 또는 암모니아(NH4OH) 수용액 등을 사용할 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다.However, since the first substance included in the noxious gas is mostly composed of acidic substances, it is preferable to use an alkali solution of 0.01 to 1 mol% for the general purpose use as the second substance. As such an alkaline solution, an aqueous sodium hydroxide (NaOH) solution, an aqueous potassium hydroxide (KOH) solution, an aqueous calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) solution, an aqueous ammonia (NH 4 OH) solution, or the like may be used, but is not limited thereto.

결과적으로, 제 1 물질과 제 2 물질의 중화반응을 통해 솔리드가 생성되며, 이러한 솔리드는 유해가스와 같이 반응부로 공급되어 처리된다. As a result, a solid is produced through the neutralization reaction of the first material and the second material, and the solid is supplied to the reaction part and treated like a noxious gas.

한편, 본 발명에 따른 주분무부(200)에서 제 2 물질을 기체 상태로 분무하기 위한 분무장치로 초음파분무기를 사용한다. 일반적으로, 액체를 기체로 상변화(phase change)시킬 수 있는 장치로는 액체를 가열하여 증발시키는 원리를 이용한 가열기가 사용될 수 있다. On the other hand, the main spraying unit 200 according to the present invention uses an ultrasonic atomizer as a spray device for spraying the second material in a gaseous state. In general, a heater using a principle of heating and evaporating a liquid may be used as an apparatus capable of phase changing a liquid into a gas.

그러나, 제 2 물질이 물로만 구성되는 것이 아니라 산성 물질이나 염기성 물질 등을 더 포함하여 구성되기 때문에 가열기를 사용하면 기체간의 중화반응 발생이 저하될 수 있다. 다시 말해, 물에 첨가되는 산성 물질이나 염기성 물질은 물과 끓는점이 서로 다르기 때문에 제 2 물질을 가열기로 증발시키면 물만 증발되고 산성이나 염기성 성분은 증발되지 못하여 중화반응이 일어나지 못하는 문제가 발생될 수 있다.However, since the second material is not only composed of water but also further includes an acidic substance or a basic substance, the use of a heater may reduce the occurrence of neutralization reaction between gases. In other words, since acidic substances or basic substances added to water have different boiling points from water, when the second substance is evaporated with a heater, only water is evaporated and acidic or basic components are not evaporated, and a neutralization reaction may not occur. .

또한, 본 발명의 초음파분무기 대신 일반적인 분무기를 사용할 수도 있지만, 이러한 분무기는 초음파분무기에 비해 분무되는 제 2 물질의 입자사이즈가 크게 형성되기 때문에 제 1 물질과 제 2 물질 사이의 기체반응이 전체적으로 저하된다. 다시 말해, 같은 양에서는 제 2 물질의 입자를 작게 하여 포화도를 높인 것이 뛰어난 성능을 나타낸다.In addition, although an ordinary nebulizer may be used instead of the ultrasonic nebulizer of the present invention, since the nebulizer has a larger particle size of the second material to be sprayed than the ultrasonic nebulizer, the gas reaction between the first material and the second material is reduced overall. . In other words, at the same amount, increasing the degree of saturation by making the particles of the second material small show excellent performance.

즉, 상기 분무기를 사용하여 초음파분무기와 동일한 수준의 중화반응을 발생시키기 위해서는 초음파분무기를 사용하는 경우보다 많은 양의 제 2 물질이 소요되고, 중화반응이 발생되는데 필요한 시간이 증가되며, 반응부에서 요구되는 온도가 높아진다. That is, in order to generate the same level of neutralization reaction as the ultrasonic nebulizer using the nebulizer, a larger amount of the second material is required than in the case of using an ultrasonic nebulizer, and the time required for the neutralization reaction to be increased is increased. The required temperature is high.

게다가, 제 2 물질의 사용량이 증가되면, 유해가스를 정화처리하기 위해 필요한 운용비용이 증가된다. 또한, 반응부로 공급되기 전에 응집현상이 일어나 바닥으로 자유낙하 하는 부산물이 발생되므로, 상기 부산물을 별도로 처리해야 되는 문제가 발생된다. In addition, when the usage amount of the second material is increased, the operating cost required for purifying the noxious gas is increased. In addition, the coagulation phenomenon occurs before being supplied to the reaction unit, so that by-products that fall freely to the bottom are generated, thereby causing a problem of treating the by-products separately.

아울러, 중화반응이 발생되는데 필요한 시간이 증가되면, 반응부로 공급되기 전에 제 1 물질과 제 2 물질을 반응시키는 공간, 예컨대 주분무부(200)의 사이즈가 커져야 되기 때문에, 전체적인 정화장치의 사이즈가 커지게 된다. 즉, 반응부(300)에 제 2 물질을 분사하는 분무기를 사용하기 위해서는 초음파분무기를 사용하는 경우보다 넓은 설치공간이 요구된다.In addition, when the time required for the neutralization reaction to increase is increased, the size of the overall purifier is large because the size of the space for reacting the first material and the second material, for example, the main spraying part 200, must be increased before it is supplied to the reaction part. You lose. That is, in order to use the nebulizer for spraying the second substance on the reaction part 300, a larger installation space is required than when using the ultrasonic nebulizer.

한편, 상기 제 2 물질에는 유해가스에 포함된 휘발성유기화합물(Volatile Organic Compounds : VOCs)을 정화처리하기 위한 계면활성제가 포함될 수 있다. On the other hand, the second material may include a surfactant for purifying volatile organic compounds (VOCs) contained in the noxious gas.

도 3은 본 발명에 따른 유해가스 및 악취가스 정화장치의 전기적 연결상태를 설명하기 위한 블록도이다.Figure 3 is a block diagram illustrating the electrical connection of the noxious gas and odor gas purification apparatus according to the present invention.

도 1 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 주분무부는 유해가스에 포함된 제 1 물질과 기체 상태의 제 2 물질이 접촉되는 공간을 제공하는 분무챔버(미도시)와, 산성 용액이 저장된 제 1 저장 챔버(미도시)와, 염기성 용액이 저장된 제 2 저장 챔버(미도시)와, 상기 분무챔버의 일측에 설치되어 제 2 물질을 분무하는 제 1 초음파분무기(210') 및 제 2 초음파분무기(210")와, 상기 제 1 초음파분무기(210')와 제 1 저장 챔버를 연결하는 제 1 공급 배관 및 제 2 초음파분무기(210")와 제 2 저장 챔버를 연결하는 제 2 공급 배관으로 구성된 공급 배관(미도시), 및 상기 제 1 공급 배관 및 제 2 공급 배관에 각각 구비되고 제어보드(500)에 전기적으로 연결되며 상기 제어보드(500)의 제어신호에 따라 공급 배관을 개폐하는 유출제어 수단(220)으로 구성될 수 있다. 여기서, 유출제어 수단(220)으로는 자동제어밸브나 펌프 등을 사용할 수 있다.1 and 3, the main spraying unit according to the present invention is a spray chamber (not shown) that provides a space for contacting the first substance contained in the noxious gas and the gaseous second substance, and the acidic solution is stored A first storage chamber (not shown), a second storage chamber (not shown) in which a basic solution is stored, a first ultrasonic atomizer 210 'and a second ultrasonic wave installed at one side of the spray chamber to spray a second material. A first supply pipe connecting the nebulizer 210 ", the first ultrasonic atomizer 210 'and the first storage chamber, and a second supply pipe connecting the second ultrasonic atomizer 210" and the second storage chamber. A configured supply pipe (not shown), and the first supply pipe and the second supply pipe, respectively provided in the outlet and electrically connected to the control board 500, the outflow for opening and closing the supply pipe in accordance with the control signal of the control board 500 Control means 220. Here, as the outflow control means 220, an automatic control valve or a pump can be used.

이러한 주분무부(200)는 유해가스의 종류에 따라 서로 다른 초음파분무기(210', 210")를 선택적으로 가동시켜 산성 용액이나 염기성 용액을 기체 상태로 분무할 수 있으므로, 제 2 물질의 사용량을 최소화시킬 수 있다. 또한, 산성 용액과 염기성 용액은 분무되는 초음파분무기(210', 210")가 서로 다르기 때문에 주분무부(200)의 내부로 분무되기 전에 서로 접촉되어 중화되는 문제를 미연에 차단할 수 있다. The main spraying unit 200 may selectively operate different ultrasonic sprayers 210 ′ and 210 ″ according to the type of harmful gas to spray an acidic solution or a basic solution in a gaseous state, thereby minimizing the amount of the second material. In addition, the acidic solution and the basic solution may prevent the problem of being neutralized by contacting each other before being sprayed into the main spraying part 200 because the ultrasonic atomizers 210 'and 210 "to be sprayed are different from each other. .

필요에 따라, 본 발명에 따른 유해가스 정화장치는 제 1 저장 챔버에만 제 2 물질이 저장되고, 제 2 저장 챔버에는 제 2 물질 대신 계면활성제가 함유된 수용액이 저장되도록 구성할 수 있다. 이러한 계면활성제는 분산 및 유화 작용에 의해 유해가스에 포함된 VOCs를 미세입자로 분리하여 플라즈마에 의한 분해 조건을 최적화시키는 역할을 수행한다.If necessary, the harmful gas purifying apparatus according to the present invention may be configured such that the second material is stored only in the first storage chamber, and the aqueous solution containing the surfactant is stored in the second storage chamber instead of the second material. These surfactants serve to optimize the decomposition conditions by plasma by separating the VOCs contained in the harmful gas into fine particles by the dispersion and emulsification action.

여기서, VOCs를 미세입자로 분리하는데 사용되는 계면활성제로는 HLB값이 7~11 범위이고, 비이온계면활성제 폴리에틸렌글리콜(분자량20 내지 40), 폴리프로필렌글리콜(분자량 20 내지 60) 또는 음이온계면활성제 도데실술폰산나트륨을 사용할 수 있다. 또한, 계면활성제가 함유된 수용액은 상기 계면활성제의 1 종류 또는 2 종류 이상의 혼합물 0.01 내지 1중량%와 물 99 내지 99.99 중량%로의 비율 혼합하여 구성되는 것이 바람직하다. 만약 0.01중량% 미만의 계면활성제를 사용하면, 분산 및 유화 작용 효과가 낮아 VOCs를 미세입자로 분리시키는 본연의 기능이 현저히 저하되기 때문에, VOCs를 제거하기 어렵게 된다. 반대로, 1중량%를 초과하는 양의 계면활성제를 사용하면, 비중이 높아서 분산 및 거품등의 2차 문제가 있다. Here, the surfactant used to separate the VOCs into fine particles has a HLB value in the range of 7 to 11, nonionic surfactant polyethylene glycol (molecular weight 20 to 40), polypropylene glycol (molecular weight 20 to 60) or anionic surfactant Sodium dodecyl sulfonate can be used. In addition, the aqueous solution containing the surfactant is preferably configured by mixing a ratio of 0.01 to 1% by weight of one or two or more kinds of the surfactant with 99 to 99.99% by weight of water. If less than 0.01% by weight of surfactant is used, since the effect of dispersing and emulsifying is low and the natural function of separating VOCs into fine particles is significantly reduced, it is difficult to remove VOCs. On the contrary, when the surfactant is used in an amount exceeding 1% by weight, the specific gravity is high, so there are secondary problems such as dispersion and foaming.

다시 말해, 유해가스에는 산성 물질과 염기성 물질로 이루어진 제 1 물질 이외에도 VOCs가 포함될 수 있으므로, 제 1 물질과 VOCs를 모두 원활하게 정화처리하기 위해 주분무부에서는 제 2 물질과 계면활성제가 함유된 수용액을 기체 상태로 분무할 수 있다. In other words, since the harmful gas may include VOCs in addition to the first substance composed of an acidic substance and a basic substance, in order to smoothly purify both the first substance and the VOCs, the main spraying department may use an aqueous solution containing the second substance and the surfactant. Spray in gaseous state.

이와 같이, 계면활성제가 첨가된 제 2 물질을 사용하지 않고, 계면활성제와 제 2 물질을 각각 유해가스에 분무하는 이유는, 초음파분무기를 통해 분무하기 전에 산성 물질 및 염기성 물질과 계면활성제가 반응되는 문제를 미연에 차단하는 한편, 계면활성제의 사용량을 적절히 조절하기 위함이다. 다시 말해, VOCs를 처리하고 남은 계면활성제의 잔여물은 별도의 정화처리 해야 되지만, 이러한 계면활성제는 폴리머이기 때문에 생분해가 어려워 정화처리 하는데 많은 비용이 소모되므로, 최적량의 사용이 필요하다. As such, the reason for spraying the surfactant and the second substance into the noxious gas without using the second substance to which the surfactant is added is that the acidic substance and the basic substance and the surfactant react before the spraying through the ultrasonic atomizer. While preventing the problem in advance, it is to properly control the amount of the surfactant used. In other words, the residues of the surfactants remaining after treating VOCs have to be purified separately. However, since these surfactants are polymers, biodegradation is difficult and expensive to purify them.

필요에 따라, 상기 흡입부(100)와 주분무부(200) 사이에는 전처리부(미도시)가 구비될 수 있다.If necessary, a pretreatment unit (not shown) may be provided between the suction unit 100 and the main spraying unit 200.

이러한 전처리부의 상부에는 유해가스를 포집하기 위해 물을 분사하는 분사기가 다수개 설치되며, 하부에는 포집부가 설치된다. 상기 포집부는 그릴 구조의 받침대 상에 테프론이나 플라스틱 등으로 수세미 구조로 만들어진 포집체가 다수 개 적층된 구조를 갖는다. In the upper part of the pretreatment unit, a plurality of injectors for injecting water to collect harmful gases are installed, and a collecting unit is installed below. The collector has a structure in which a plurality of collectors made of a loofah structure made of Teflon, plastic, or the like are stacked on a pedestal of a grill structure.

또한, 흡입부로 흡입된 유해가스는 전처리부로 유입되어서 포집체에 의해 포집되어 처리된다. 포집체에 포집된 유해가스는 상부에서 계속적으로 분사되는 물에 의해 씻겨 전처리부의 저면으로 저류된 후 처리된다.In addition, the harmful gas sucked into the suction unit flows into the pretreatment unit and is collected and processed by the collector. The harmful gas collected in the collector is washed by water continuously sprayed from the upper side and stored in the bottom surface of the pretreatment unit.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 정화장치는 흡입부(100)를 더 포함할 수 있다. Referring to Figure 1, the harmful gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a suction unit (100).

상기 흡입부(100)는 유해가스 배출원의 주위에 설치되어 유해가스를 흡입하는 것으로서, 상기 유해가스를 흡입하기 위해 송풍기가 구비될 수 있다. 이때, 상기 유해가스는 악취물질이 포함된 악취, 및 벤젠과 톨루엔 등의 VOCs 등을 포함한다. 여기서, 유해가스 배출원이란 유해가스의 배출 가능성이 있는 공장, 소각장 등의 개별시설, 이들 시설들이 밀집된 공업 및 산업단지, 또는 해당시설이나 단지와 인접하여 유해가스가 유입될 우려가 있는 주거지역을 의미한다.The suction unit 100 is installed around the harmful gas discharge source to suck harmful gas, it may be provided with a blower to suck the harmful gas. At this time, the harmful gas includes a malodor containing odorous substances, and VOCs such as benzene and toluene. Here, the source of noxious gas means the individual facilities such as factories, incinerators, etc. that are likely to emit harmful gases, industrial and industrial complexes where these facilities are dense, or residential areas where there is a possibility of harmful gas entering adjacent to the facility or complex do.

특정 양태로서, 본 발명에 따른 흡입부(100)는 유해가스가 통과하는 관형의 하우징(미도시)과, 상기 유해가스를 관형의 하우징 내부로 유입시키기 위하여 유해가스가 유입되는 하우징의 유입부에 설치되는 하나 이상의 송풍기와, 상기 송풍기에 일정간격으로 이격되도록 하우징 내부에 구비되어 유입된 유해가스에 포함된 이물질(먼지, 과잉 유수분 등)을 제거하는 필터로 구성될 수 있다. In a particular aspect, the suction unit 100 according to the present invention is a tubular housing (not shown) through which harmful gas passes, and the inlet of the housing through which harmful gas is introduced to introduce the harmful gas into the tubular housing. One or more blowers to be installed, and the filter provided to remove the foreign matter (dust, excess oil, etc.) contained in the harmful gas introduced into the housing so as to be spaced apart at a predetermined interval to the blower.

이때, 상기 필터로는 프리필터 및 데미스터(Demister) 등이 사용될 수 있으며, 상기 프리필터와 데미스터 중 어느 하나가 전단에 위치될 수 있다.
At this time, as the filter, a pre-filter and a demister may be used, and either the pre-filter or the demister may be positioned at the front end.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 정화장치는 센서부(400)를 더 포함할 수 있다.Referring to Figure 3, the harmful gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a sensor unit 400.

상기 센서부(400)는 유해가스를 배출하는 유해가스 배출원의 주위에 설치되는 것으로서, 유해가스에 대한 정보를 실시간으로 감지하고, 감지된 정보를 제어보드(500)로 전송한다. 여기서, 센서부(400)는 하나 이상의 센서(410, 420, 430)로 이루어지며, 각 센서는 단일의 유해가스 배출원에 두 개 이상이 설치되거나 인접한 위치의 유해가스 배출원에 각각 설치될 수 있다.The sensor unit 400 is installed around the harmful gas discharge source for discharging the noxious gas, and detects the information on the noxious gas in real time, and transmits the detected information to the control board 500. Here, the sensor unit 400 is composed of one or more sensors 410, 420, 430, each sensor may be installed in two or more harmful gas discharge source of a single harmful gas source or adjacent to each other.

이러한 센서부(400)로는 유해가스를 감지할 수 있다면 어떠한 센서를 사용하여도 무방하지만, 바람직하게는 악취의 원인이 되는 황화수소, 암모니아, VOCs 등의 발생을 감지할 수 있는 센서를 사용하는 것이 좋다. 보다 구체적으로, 센서부(400)로는 반도체식 센서, 전기화학식 센서, 직접연소식 센서, UV센서, IR센서 등을 사용할 수 있으며, 특정적으로는 TVOC 센서, H2S 센서 등을 사용할 수 있다.As the sensor unit 400, any sensor may be used as long as it can detect a harmful gas, but it is preferable to use a sensor that can detect generation of hydrogen sulfide, ammonia, VOCs, and the like, which causes odors. . More specifically, the sensor unit 400 may use a semiconductor sensor, an electrochemical sensor, a direct combustion sensor, a UV sensor, an IR sensor, and specifically, may use a TVOC sensor, H 2 S sensor, and the like. .

나아가, 상기 센서부(400)에서는 유해가스의 발생여부, 유해가스의 종류, 유해가스의 발생량을 측정할 수 있는 센서를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 센서를 사용하면, 제어보드(500)는 유해가스의 종류, 유해가스의 발생량, 유해물질 입자의 크기에 따라 유출제어 수단(220)을 제어하여 공급 배관의 개폐를 조절할 수 있게 되어, 보다 효율적인 시스템 운영이 가능해진다.
Further, in the sensor unit 400, it is preferable to use a sensor that can measure whether or not the generation of harmful gas, the type of harmful gas, the amount of harmful gas. Using such a sensor, the control board 500 can control the flow control means 220 according to the type of harmful gas, the amount of harmful gas, the size of the harmful substance particles to control the opening and closing of the supply pipe, more efficient System operation is possible.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 정화장치는 반응부(300)를 포함한다. 1 and 2, the harmful gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention includes a reaction unit (300).

상기 반응부(300)는 주분무부(200)의 후단에 연결되어 상기 주분무부(200)를 통과한 유해가스를 코로나 방전을 통해 정화시켜 방출하는 것으로서, 바람직하게는 당업계에서 통상적으로 사용하는 코로나 방전을 이용한 전기집진기(Electric precipitator)를 사용하는 것이 좋다.The reaction unit 300 is connected to the rear end of the main spraying unit 200 to purify and discharge the harmful gas passing through the main spraying unit 200 through a corona discharge, preferably a corona commonly used in the art. It is recommended to use an electric precipitator using discharge.

보다 구체적으로, 상기 반응부(300)로는 유해가스를 처리하기 위해 펄스 코로나 방전(pulsed corona discharge) 또는 유전체 장벽 방전(dielectric barrier discharge) 기술이 적용된 전기집진기를 사용할 수 있다. More specifically, the reaction unit 300 may use an electrostatic precipitator to which a pulsed corona discharge or a dielectric barrier discharge technique is applied to treat harmful gases.

특정 양태로서, 본 발명에 따른 반응부(300)는 유해가스가 통과하는 닫힌 공간을 제공하는 하우징과, 상기 하우징 내에 소정의 간격마다 나란히 배열된 복수개의 평판형 접지전극들과, 상기 하우징내에 상기 접지전극들 사이사이마다 배치된 복수개의 방전전극들, 및 상기 접지전극들과 상기 방전전극들 사이에 코로나 방전에 의한 플라즈마를 발생시키기 위하여 상기 방전전극들 각각에 고전압펄스를 인가하는 고전압펄스공급수단을 포함할 수 있다.
In a particular aspect, the reaction unit 300 according to the present invention includes a housing providing a closed space through which harmful gas passes, a plurality of flat ground electrodes arranged side by side at predetermined intervals in the housing, and A plurality of discharge electrodes arranged between the ground electrodes and high voltage pulse supply means for applying a high voltage pulse to each of the discharge electrodes to generate a plasma by corona discharge between the ground electrodes and the discharge electrodes; It may include.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 정화장치는 제어보드(500)를 더 포함할 수 있다. Referring to Figure 3, the harmful gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a control board (500).

상기 제어보드(500)는 센서부(400), 송풍기(110), 초음파분무기(210) 및 유출제어 수단(220), 플라즈마 반응기(310)에 전기적으로 연결되는 것으로서, 유해가스 배출원에 설치된 센서부(400)를 이용하여 유해가스의 발생여부 및 배출농도 정보와, 센서부(400)를 구성하는 센서들의 위치정보, 상기 센서들의 이상 유무 등의 정보를 취합한다. The control board 500 is electrically connected to the sensor unit 400, the blower 110, the ultrasonic atomizer 210 and the outflow control means 220, the plasma reactor 310, the sensor unit installed in the harmful gas discharge source By using the 400, information on the generation and emission concentration information of the harmful gas, the location information of the sensors constituting the sensor unit 400, information such as whether there is an abnormality of the sensors are collected.

그리고 제어보드(500)는 상기 센서부(400)로부터 제공되는 정보를 취합하여 송풍기(110), 초음파분무기(210), 유출제어 수단(220), 및 플라즈마 반응기(310)의 동작을 제어한다.
In addition, the control board 500 collects the information provided from the sensor unit 400 and controls the operations of the blower 110, the ultrasonic atomizer 210, the outflow control means 220, and the plasma reactor 310.

도 4는 본 발명에 따른 유해가스 정화장치의 다른 실시예를 설명하기 위한 블록도이다. Figure 4 is a block diagram for explaining another embodiment of the harmful gas purification apparatus according to the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 유해가스 정화장치는 유해가스에 기체 상태의 제 2 물질을 분무하는 주분무부(200)와, 상기 주분무부(200)를 통과한 유해가스에 계면활성제가 함유된 수용액을 기체 상태로 분무하는 보조분무부(250), 및 상기 보조분무부(250)를 통과한 유해가스를 플라즈마를 통해 정화시켜 방출하는 반응부(300)를 포함한다. 이때, 주분무부(200) 및 반응부(300)는 전술한 설명을 통해 그 구성을 파악할 수 있으므로, 보다 구체적인 설명은 생략한다.
Referring to FIG. 4, the apparatus for purifying harmful gas according to another embodiment of the present invention includes a main spray unit 200 for spraying a second substance in a gaseous state on the harmful gas, and a harmful gas passed through the main spray unit 200. Auxiliary spraying unit 250 for spraying the aqueous solution containing the surfactant in the gas state, and the reaction unit 300 for purifying the harmful gas passing through the auxiliary spraying unit 250 through the plasma to discharge. At this time, since the main spraying unit 200 and the reaction unit 300 can determine the configuration through the above description, a more detailed description thereof will be omitted.

도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유해가스 정화장치는 보조분무부(250)를 포함한다. 4, the harmful gas purifying apparatus according to another embodiment of the present invention includes an auxiliary spraying unit (250).

상기 보조분무부(250)는 주분무부(200)와 반응부(300)의 사이에 구비된 것으로서, 주분무부(200)가 제 1 물질을 중화시키는 제 2 물질을 분무하는 것과 달리 내부 공간에 계면활성제가 함유된 수용액을 기체 상태로 분무하여 상기 계면활성제가 함유된 수용액으로 유해가스에 포함된 VOCs를 미세입자로 분리하는 역할을 수행한다. 이를 위해, 보조분무부(250)에는 주분무부(200)를 통과한 유해가스에 계면활성제가 함유된 수용액을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기가 설치된다.The auxiliary spraying unit 250 is provided between the main spraying unit 200 and the reaction unit 300, and the main spraying unit 200 interfaces with an internal space, unlike the main spraying unit 200 spraying a second material that neutralizes the first material. Spraying the aqueous solution containing the active agent in a gaseous state serves to separate the VOCs contained in the harmful gas into fine particles with the aqueous solution containing the surfactant. To this end, the auxiliary spraying unit 250 is provided with an ultrasonic atomizer for spraying an aqueous solution containing a surfactant in a gaseous state in the harmful gas passing through the main spraying unit 200.

이러한 보조분무부(250)는 주분무부(200)와 위치가 서로 바뀌어도 무방하다.
The auxiliary spraying unit 250 may be replaced with the main spraying unit 200 and the position.

전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 유해가스 정화장치는 종래의 RTO를 이용한 정화장치, 스크러버를 이용한 정화장치, 바이오필터를 이용한 정화장치와 비교하면 아래의 표 1과 같은 차이점을 갖는다.As described above, the harmful gas purifying apparatus according to the present invention has a difference as shown in Table 1 below when compared with a conventional purifying apparatus using RTO, a purifying apparatus using a scrubber, a purifying apparatus using a biofilter.

[표 1][Table 1]

Figure 112011102425246-pat00001
Figure 112011102425246-pat00001

이하, 본 발명을 바람직한 일 실시예를 참조하여 다음에서 구체적으로 상세하게 설명한다. 이러한 실시예에서는 대표 악취 물질인 황화수소와 암모니아 가스의 화학 반응 유도하고, 이를 통하여 생성물질을 코로나방전을 이용하여 유해물질을 제거하기 위해 도 5와 같이 구성하였다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments. In this embodiment, a chemical reaction of hydrogen sulfide, which is a representative malodorous substance, and ammonia gas is induced, and through this, the product is configured as shown in FIG. 5 to remove harmful substances by using corona discharge.

구체적으로, 공기 중에 희석된 황화수소(H2S) 가스와 암모니아(NH3) 가스는 질소 분위기에 10% 황화수소, 10% 암모니아를 사용하였으며, MFC(Mass Flow Controller)를 이용하여 유량을 조절하였다. 상기 황화수소와 암모니아는 상온에서 열역학적으로 쉽게 화학반응이 일어날 수 있고, 쉽게 구입할 수 있고, 가격이 저렴한 경제적인 특징이 있어 사용하였다.Specifically, hydrogen sulfide (H 2 S) gas and ammonia (NH 3 ) gas diluted in air used 10% hydrogen sulfide and 10% ammonia in a nitrogen atmosphere, and the flow rate was controlled using MFC (Mass Flow Controller). The hydrogen sulfide and ammonia can be easily thermochemically chemically reacted at room temperature, can be easily purchased, and has been used because of economical features at low cost.

또한, 플라즈마 가스는 공기 중에 희석된 황화수소, 암모니아 가스를 직접 사용하였으며, 공기는 장치 후단에 송풍기를 사용하여 공기를 플라즈마 반응기로 투입시켰다. In addition, the plasma gas directly used hydrogen sulfide and ammonia gas diluted in air, and air was introduced into the plasma reactor using a blower at the rear of the apparatus.

아울러, 유해가스인 제 1 물질로 황화수소 가스가 주입된 경우 상기 제 1 물질을 중화시키는 제 2 물질로 NaOH 1mol% 용액을 사용하여 화학반응을 유도하였다. 그리고 유해가스인 제 1 물질로 암모니아 가스가 주입된 경우 제 2 물질로 HNO3 1mol% 용액을 사용하였다. In addition, when hydrogen sulfide gas was injected into the first substance which is a noxious gas, a 1 mol% NaOH solution was used as the second substance to neutralize the first substance, thereby inducing a chemical reaction. In addition, when ammonia gas was injected into the first substance as a noxious gas, a 1 mol% HNO 3 solution was used as the second substance.

더불어, 화학반응을 통하여 생성된 물질을 제거하기 위한 코로나 방전 반응을 이용한 전기집진기를 제작하여 사용하였다. 이러한 전기집진기의 내부는 핀형태의 방전극과 원형의 상대전극(집진극)으로 구성되어 있으며, 재질은 스테인레스로 제작하였다. 그리고 코로나 방전을 발생시키기 위해 사용된 전원은 고전압 직류전원장치를 사용하였으며, 고전압(kV), 저전류(mA) 형태로 전원이 공급하였다. In addition, an electrostatic precipitator using a corona discharge reaction for removing a substance generated through a chemical reaction was used. The interior of the electrostatic precipitator is composed of a pin-shaped discharge electrode and a circular counter electrode (dust collecting pole), and the material is made of stainless steel. The power source used to generate the corona discharge was a high voltage DC power supply and a high voltage (kV), low current (mA) power supply.

제거율(removal efficiency)과 설계인자는 다음에 [수학식 1]을 이용하여 계산하였다. The removal efficiency and design factors were calculated using Equation (1).

[수학식 1][Equation 1]

제거율 (%) =

Figure 112011102425246-pat00002
Removal rate (%) =
Figure 112011102425246-pat00002

여기서,

Figure 112011102425246-pat00003
는 초기 암모니아와 황화수소에 농도(ppm)이며,
Figure 112011102425246-pat00004
는 분해 후 황화수소와 암모니아 농도(ppm)이다.
here,
Figure 112011102425246-pat00003
Is the concentration in ppm of initial ammonia and hydrogen sulfide,
Figure 112011102425246-pat00004
Is the concentration of hydrogen sulfide and ammonia (ppm) after decomposition.

도 6은 유량에 따른 황화수소의 제거 효율을 나타내는 그래프이며, 표 2는 유량에 따른 황화수소의 제거 효율을 나타내는 표이다. 6 is a graph showing the removal efficiency of hydrogen sulfide according to the flow rate, Table 2 is a table showing the removal efficiency of hydrogen sulfide according to the flow rate.

[표 2][Table 2]

Figure 112011102425246-pat00005
Figure 112011102425246-pat00005

구체적으로, 초음파분무기를 사용하여 수산화나트륨 1mol%의 수용액을 기상하여 황화수소와 화학반응 유도하였다. Specifically, an aqueous solution of 1 mol% sodium hydroxide was vaporized using an ultrasonic atomizer to induce a chemical reaction with hydrogen sulfide.

실험결과 유량이 500L/min에서는 황화수소의 농도가 증하여 1,000ppm 에서도 99% 이상의 높은 제거율을 보이고, 2,500ppm에서도 85%의 제거율을 보였다. The experimental results showed that the hydrogen sulfide concentration increased at 500 L / min, resulting in high removal rates of over 99% at 1,000 ppm and 85% at 2,500 ppm.

그리고 유량이 1,000L/min인 경우, 300ppm까지 99.9% 이상의 높은 제거율을 보이다가, 400ppm에서 제거율이 급격히 낮아짐을 보였다. When the flow rate was 1,000 L / min, the removal rate was higher than 99.9% up to 300 ppm, and the removal rate was rapidly lowered at 400 ppm.

또한, 유량이 2,000L/min의 경우, 100ppm에서 98%의 제거율을 보이다가 농도가 높아지면 급격히 낮아짐을 보였다. In addition, when the flow rate is 2,000L / min, the removal rate of 98% at 100ppm was shown to decrease sharply as the concentration increases.

실험결과 500L/min에서 유속은 2.2m/s의 속도였으며, 충분한 체류 시간과 수산화나트륨의 양이 충분하여, 고농도의 황화수소와의 반응이 대부분이 일어났다고 판단되었다. Experimental results showed that the flow rate was 2.2m / s at 500L / min, and sufficient residence time and sufficient amount of sodium hydroxide resulted in most reaction with high concentration of hydrogen sulfide.

유량이 증가하여 1,000L/min에서는 유속이 4.3m/s로 높아져서, 300ppm까지는 제거율이 높았으나, 그 이상의 농도에서 낮아지는 것으로 보아, 화학반응이 일어나는데 필요한 시간이 부족하다고 판단되었다. 유량을 더욱 증가시킨 2,000L/min의 결과에서도 같은 결과를 확인할 수 있었다.
As the flow rate increased, the flow rate increased to 4.3 m / s at 1,000 L / min, and the removal rate was high up to 300 ppm, but it was lowered at a higher concentration. Therefore, it was judged that the time required for the chemical reaction was insufficient. The same result was confirmed in the result of 2,000 L / min which further increased the flow rate.

도 7은 유량에 따른 암모니아의 제거 효율을 나타내는 그래프이며, 표 3은 유량에 따른 암모니아의 제거 효율을 나타내는 표이다. 7 is a graph showing the removal efficiency of ammonia according to the flow rate, Table 3 is a table showing the removal efficiency of ammonia according to the flow rate.

[표 3][Table 3]

Figure 112011102425246-pat00006
Figure 112011102425246-pat00006

구체적으로, 초음파분무기를 사용하여 질산 1mol%의 수용액을 기상하여 암모니아와 화학반응 유도하였다. Specifically, an aqueous solution of 1 mol% nitric acid was vaporized using an ultrasonic atomizer to induce a chemical reaction with ammonia.

실험결과 유량이 500L/min에서는 암모니아의 농도가 증하여 800ppm 에서도 90% 이상의 제거율을 보이고, 1,400ppm에서도 85%의 제거율을 보였다. Experimental results showed that the ammonia concentration increased at 500 L / min, resulting in more than 90% removal at 800 ppm and 85% at 1,400 ppm.

그리고 유량이 1000L/min인 경우, 440ppm 까지는 95% 이상의 높은 제거율을 보이다가 600ppm에서 제거율이 낮아지기 시작하였다. And when the flow rate is 1000L / min, the removal rate was shown to be higher than 95% to 440ppm, the removal rate began to decrease at 600ppm.

또한, 유량이 2,000L/min인 경우, 110ppm에서 90%의 제거율을 보이다가 농도가 높아지면 급격히 낮아짐이 관찰되었다. In addition, when the flow rate is 2,000L / min, it was observed that the removal rate of 90% at 110ppm, but sharply lowered as the concentration increases.

실험결과 500L/min에서 유속은 2.2m/s의 속도였으며, 충분한 체류 시간과 질산의 양이 충분하여, 고농도의 암모니아와의 반응이 대부분이 일어났다고 판단되었다.Experimental results showed that the flow rate was 2.2m / s at 500L / min, and sufficient residence time and sufficient amount of nitric acid were considered, and most of the reaction with high concentration of ammonia occurred.

유량이 증가하여 1,000L/min에서는 유속이 4.3m/s로 높아져서, 440ppm까지는 제거율이 높았으나, 그 이상의 농도에서 낮아지는 것으로 보아, 화학반응이 일어나는데 필요한 시간이 부족하다고 판단되었다. 유량을 더욱 증가시킨 2,000L/min의 결과에서도 같은 결과를 확인할 수 있었다.
As the flow rate increased, the flow rate increased to 4.3 m / s at 1,000 L / min, and the removal rate was high up to 440 ppm, but it was lowered at higher concentrations. Therefore, it was determined that the time required for the chemical reaction to occur was insufficient. The same result was confirmed in the result of 2,000 L / min which further increased the flow rate.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It can be understood that it is possible.

100 : 흡입부 110 : 송풍기
200 : 주분무부 210 : 초음파분무기
220 : 유출제어 수단 250 : 보조분무부
300 : 반응부 310 : 플라즈마 반응기
400 : 센서부 500 : 제어보드
100: suction 110: blower
200: main spray unit 210: ultrasonic spray
220: outflow control means 250: auxiliary spraying unit
300: reaction unit 310: plasma reactor
400: sensor 500: control board

Claims (9)

유해가스 및 악취가스 정화장치에 있어서,
상기 유해가스와 악취가스의 제 1 물질을 중화시킬 수 있도록 상기 제 1 물질을 중화시키는 제 2 물질을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기가 설치된 주분무부;
상기 주분무부를 통과한 유해가스와 악취가스를 코로나 방전에 의한 플라즈마를 통해 정화시켜 방출하는 반응부; 및
상기 주분무부와 반응부 사이에 구비되며, 계면활성제가 함유된 수용액을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기가 설치된 보조분무부를 포함하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
In the harmful gas and odor gas purification device,
A main spraying unit provided with an ultrasonic atomizer for spraying a second substance neutralizing the first substance in a gaseous state so as to neutralize the first substance of the noxious gas and the odor gas;
A reaction unit configured to purify the harmful gas and the odor gas passing through the main spray unit through plasma by corona discharge; And
An apparatus for purifying toxic gases and odor gases using a neutralization reaction between gases provided between the main spraying unit and the reaction unit and including an auxiliary spraying unit provided with an ultrasonic atomizer for spraying an aqueous solution containing a surfactant in a gaseous state.
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 물질은
0.01 내지 1몰%의 알칼리 용액인 것을 특징으로 하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
The method of claim 1, wherein the second material is
Noxious gas and odor gas purification apparatus using a neutralization reaction between gases, characterized in that the alkali solution of 0.01 to 1 mol%.
제 2 항에 있어서, 상기 알칼리 용액은
수산화나트륨 수용액, 수산화칼륨 수용액, 수산화칼슘 수용액, 및 암모니아 수용액으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
The method of claim 2, wherein the alkaline solution is
A harmful gas and odor gas purification apparatus using neutralization reaction between gases, characterized in that any one selected from the group consisting of aqueous sodium hydroxide solution, potassium hydroxide solution, calcium hydroxide solution, and ammonia solution.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 물질이 산성 물질인 경우,
상기 제 2 물질은 염기성 용액인 것을 특징으로 하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
The method of claim 1,
If the first material is an acidic material,
The second substance is a harmful gas and odor gas purification apparatus using a neutralization reaction between gases, characterized in that the basic solution.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 물질이 염기성 물질인 경우,
상기 제 2 물질은 산성 용액인 것을 특징으로 하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
The method of claim 1,
When the first substance is a basic substance,
The second substance is an harmful gas and odor gas purification apparatus using a neutralization reaction between gases, characterized in that the acidic solution.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 계면활성제가 함유된 수용액은
계면활성제 0.01내지 1중량%와 물 99 내지 99.99중량%로 구성된 것을 특징으로 하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
According to claim 1, wherein the aqueous solution containing the surfactant is
Hazardous and odor gas purification apparatus using a neutralization reaction between gases, characterized in that consisting of 0.01 to 1% by weight of surfactant and 99 to 99.99% by weight of water.
제 1 항에 있어서,
상기 유해가스와 악취가스의 상태를 측정하는 센서부; 및
상기 센서부로부터 전송된 정보를 수신하는 제어보드를 더 포함하고,
상기 주분무부는 제 1 물질과 제 2 물질이 접촉되는 공간을 제공하는 분무챔버와, 상기 분무챔버의 일측에 설치되어 제 2 물질을 기체 상태로 분무하는 초음파분무기와, 산성 용액이 저장된 제 1 저장부와, 염기성 용액이 저장된 제 2 저장부와, 상기 초음파분무기와 제 1 저장부를 연결하는 제 1 공급 배관 및 초음파분무기와 제 2 저장부를 연결하는 제 2 공급 배관으로 구성된 공급 배관, 및 상기 제 1 공급 배관 및 제 2 공급 배관에 각각 구비되고 상기 제어보드에 연결되며 상기 제어보드의 제어신호에 따라 공급 배관을 개폐하는 유출제어 수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 기체간의 중화반응을 이용한 유해가스 및 악취가스 정화장치.
The method of claim 1,
Sensor unit for measuring the state of the harmful gas and odor gas; And
Further comprising a control board for receiving information transmitted from the sensor unit,
The main spraying unit comprises a spray chamber which provides a space where the first material and the second material contact each other, an ultrasonic atomizer installed at one side of the spray chamber to spray the second material in a gaseous state, and a first storage in which an acidic solution is stored. A supply pipe comprising a portion, a second storage part storing a basic solution, a first supply pipe connecting the ultrasonic atomizer and the first storage part, and a second supply pipe connecting the ultrasonic atomizer and the second storage part, and the first supply part. Noxious and odorous gases using neutralization reaction between gases, which are provided in the supply pipe and the second supply pipe, respectively, connected to the control board, and configured to flow out and open the supply pipe according to the control signal of the control board. Purifier.
KR1020110140428A 2011-12-22 2011-12-22 Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas KR101237817B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110140428A KR101237817B1 (en) 2011-12-22 2011-12-22 Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110140428A KR101237817B1 (en) 2011-12-22 2011-12-22 Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101237817B1 true KR101237817B1 (en) 2013-02-28

Family

ID=47900289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110140428A KR101237817B1 (en) 2011-12-22 2011-12-22 Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101237817B1 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101290660B1 (en) 2012-05-15 2013-07-30 인하대학교 산학협력단 The eliminating method of hydrogen sulfide gas by electric precipitator
CN107469586A (en) * 2017-09-29 2017-12-15 广东省环境科学研究院 A kind of plasma organic exhaust gas purifying system integrated with biofilter and method
CN110891670A (en) * 2017-03-13 2020-03-17 图里诺研究合作有限公司 Specific liquid solutions suitable for cooling and capturing pollutants in diesel engine exhaust
KR102448309B1 (en) * 2022-05-24 2022-10-07 주식회사 에스엔텍솔루숀 Horizontal type plasma ion adsorption oxidation deodorization device with smart sewage pipeline ICT base
KR102506391B1 (en) 2022-08-08 2023-03-06 박정수 Apparatus for VOC purification
KR20240139220A (en) 2023-03-14 2024-09-23 이세창 Apparatus For Purification Harmful Gas Using Plasma

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56152751A (en) 1980-03-28 1981-11-26 Japan Erekutorosutatetsuku Pureshipiteeta Kk Electric dust collection of high resistive dust
KR100817303B1 (en) 2006-11-07 2008-03-27 (주)플라즈마텍 Apparatus and method for treating mixed acid exhaust gas
KR20090081985A (en) * 2008-01-25 2009-07-29 한국기계연구원 Harmfulness gas cleaning system
KR20110114352A (en) * 2010-04-13 2011-10-19 (주)에어스텍 Deodorizing equipment with remote controlling system

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56152751A (en) 1980-03-28 1981-11-26 Japan Erekutorosutatetsuku Pureshipiteeta Kk Electric dust collection of high resistive dust
KR100817303B1 (en) 2006-11-07 2008-03-27 (주)플라즈마텍 Apparatus and method for treating mixed acid exhaust gas
KR20090081985A (en) * 2008-01-25 2009-07-29 한국기계연구원 Harmfulness gas cleaning system
KR20110114352A (en) * 2010-04-13 2011-10-19 (주)에어스텍 Deodorizing equipment with remote controlling system

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101290660B1 (en) 2012-05-15 2013-07-30 인하대학교 산학협력단 The eliminating method of hydrogen sulfide gas by electric precipitator
CN110891670A (en) * 2017-03-13 2020-03-17 图里诺研究合作有限公司 Specific liquid solutions suitable for cooling and capturing pollutants in diesel engine exhaust
CN107469586A (en) * 2017-09-29 2017-12-15 广东省环境科学研究院 A kind of plasma organic exhaust gas purifying system integrated with biofilter and method
KR102448309B1 (en) * 2022-05-24 2022-10-07 주식회사 에스엔텍솔루숀 Horizontal type plasma ion adsorption oxidation deodorization device with smart sewage pipeline ICT base
KR102506391B1 (en) 2022-08-08 2023-03-06 박정수 Apparatus for VOC purification
KR20240139220A (en) 2023-03-14 2024-09-23 이세창 Apparatus For Purification Harmful Gas Using Plasma

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101237817B1 (en) Apparatus for cleaning toxic and odor gas using neutralization reaction between gas and gas
KR101312414B1 (en) A system and the method for cleaning harmful gas using corona discharge and catalyst
KR101567334B1 (en) Plasma absorption deodor apparatus
CN202962243U (en) Treatment system for industrial stink smelly gases
KR101669805B1 (en) Deodorization type scrubber
KR102134292B1 (en) Plasma low temperature oxidation adsorption catalyst deodorizer and deodorization method
CN105148656A (en) Comprehensive disposal system for malodorous organic exhaust gas
KR101430120B1 (en) Gas purification apparatus
CN106861389A (en) A kind of VOC off-gas cleaning equipments and purification method
KR20100118643A (en) Gas furifying system
KR100542085B1 (en) Wet scrubber using ozone and cleaning solution including catalyst material for harmful gas removal
KR100949797B1 (en) Deodorization and sterilization apparatus using plasma
KR101395594B1 (en) Apparatus for cleaning of harmful gas having complex pollutant
KR20080057808A (en) Odor gas treatment device having biochemical odor gas treatment unit
CN105664652A (en) Equipment special for spraying oil paint and purifying waste gas
KR20030043404A (en) Method for removal of volatile organic compounds and odor using non-thermal plasma and apparatus thereof
CN110772912A (en) Purification equipment for comprehensive waste gas of biological pharmaceutical factory
KR100428965B1 (en) Air purification method
KR20100123787A (en) Deodor system with dry and wet type package
KR20010068436A (en) Apparatus for removing and deodorizing volatile organic compound by using corona plasma
CN115722052B (en) Device and method for removing volatile organic compounds in industrial waste gas
KR20030042109A (en) Catalytic compound for purification of air and water and method and apparatus for purification of air and water using the same
CN209451632U (en) A kind of pig house environmental protection grade deodorizing process system
KR100454424B1 (en) Harmful gas purifying apparatus and thereof method by using bio filter and micro wave
KR101127918B1 (en) Apparatus for cleaning toxic and odor gas using water particle

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161101

Year of fee payment: 4

R401 Registration of restoration
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171121

Year of fee payment: 6

R401 Registration of restoration
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190221

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200213

Year of fee payment: 8