KR101234147B1 - Printing Plate for Large-area Fine Pattern Printing With Improved Endurance, and Method of Manufacture The Same - Google Patents

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KR101234147B1 KR1020100130501A KR20100130501A KR101234147B1 KR 101234147 B1 KR101234147 B1 KR 101234147B1 KR 1020100130501 A KR1020100130501 A KR 1020100130501A KR 20100130501 A KR20100130501 A KR 20100130501A KR 101234147 B1 KR101234147 B1 KR 101234147B1
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Abstract

본 발명은 내구성이 개선된 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 기판의 하지층 상에 감광성 수지층을 패턴화하고 미세 패턴부에 도전성 재료를 이용하여 구조 보강부를 형성함으로써, 대면적 인쇄판의 제조에 필수적인 미세 패턴부의 강도를 크게 개선할 수 있는 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법에 대해 개시하고 있다.
본 발명에 의한 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법은, (a) 기판상에 감광성 수지층을 형성하는 단계와; (b) 상기 감광성 수지층을 패터닝하여 미세 패턴을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 미세 패턴 사이에 구조 보강부를 형성하는 단계;를 포함하고 있다.
The present invention relates to a printing plate for a large-area micropattern printer with improved durability, and a method of manufacturing the same, by patterning a photosensitive resin layer on a base layer of a substrate and forming a structural reinforcement part using a conductive material in the micropattern portion, Disclosed are a printing plate for a large area fine pattern printer and a method of manufacturing the same, which can greatly improve the strength of the fine pattern portion essential for producing a large area printing plate.
The manufacturing method of the printing plate for large-area micropattern printing according to the present invention comprises the steps of: (a) forming a photosensitive resin layer on a substrate; (b) patterning the photosensitive resin layer to form a fine pattern; And (c) forming a structural reinforcement between the fine patterns.

Description

내구성이 개선된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판 및 그의 제조 방법{Printing Plate for Large-area Fine Pattern Printing With Improved Endurance, and Method of Manufacture The Same}Printing Plate for Large-area Fine Pattern Printing With Improved Endurance, and Method of Manufacture The Same}

본 발명은 내구성이 개선된 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세 패턴 사이에 도금층을 삽입하여 대면적 인쇄판의 제조에 필수적인 미세 패턴부의 강도를 크게 개선 시킨 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a printing plate for a large-area micropattern printer with improved durability and a method of manufacturing the same, and more particularly, by inserting a plating layer between the micropatterns, thereby greatly improving the strength of the micropattern, which is essential for manufacturing a large-area printing plate. A printing plate for an area fine pattern printer and a method of manufacturing the same.

인쇄를 이용해 전자 부품의 회로 및 각종 패턴을 찍어내기 위해서는 잉크젯(Inkjet) 등의 직접 인쇄 방법을 이용하거나 패턴이 인쇄된 인쇄판을 이용하는 그라비어(Gravure) 인쇄나 오프셋(Offset) 인쇄 등의 간접 인쇄 방법을 이용하게 된다.To print circuits and various patterns of electronic parts by using printing, use a direct printing method such as Inkjet or an indirect printing method such as gravure printing or offset printing using a printing plate on which a pattern is printed. Will be used.

종래 인쇄판을 만드는 방법으로는 기판을 부식시켜 패턴을 형성시키는 방법이나 감광성의 수지가 먼저 부착되어 있는 판을 포토리소그래피(photolithography)를 이용하여 패턴을 형성하는 방법이 있다. 그러나, 이러한 종래의 방법은 어떤 방법을 이용하든 형성되는 패턴의 깊이가 일정하게 유지되게 된다. 이러한 인쇄판을 이용하여 인쇄하기 위해서는 인쇄 롤이 패턴의 바닥에 닿지 않도록 인쇄판의 패턴 깊이가 일정 수준 이상이 되어야 한다. 이러한 깊이는 미세 선폭일 때와 일반 패턴일 때가 다르다.Conventional methods for making a printed plate include a method of forming a pattern by corroding a substrate, or a method of forming a pattern using photolithography on a plate to which a photosensitive resin is first attached. However, in this conventional method, the depth of the formed pattern remains constant regardless of which method is used. In order to print using such a printing plate, the pattern depth of the printing plate must be at least a certain level so that the printing roll does not touch the bottom of the pattern. This depth is different for fine line widths and for normal patterns.

도 1a 및 도 1b는 종래 기술의 실시 형태에 따른 인쇄 전자용 인쇄판을 나타낸 것으로서, 도 1a는 습식 에칭(Wet Etching)된 인쇄판의 단면도이고, 도 1b는 인쇄판의 깊이에 따른 인쇄 오류를 나타낸 단면도이다.1A and 1B show a printing electronic printing plate according to an embodiment of the prior art, FIG. 1A is a sectional view of a wet etched printing plate, and FIG. 1B is a sectional view showing a printing error according to the depth of the printing plate. .

도 1a 및 도 1b에서 보듯이, 미세 패턴부인 A 부분의 경우 패턴의 깊이가 깊게 요구되지 않으나 미세 패턴에 비해 비교적 패턴 선폭이 큰 b 부분의 경우에는 인쇄 롤(Roll)(20)이 바닥에 닿아 패턴이 잘못 인쇄될 수 있으므로 깊이를 더 크게 해야 한다. 이 때문에 습식 에칭을 통해 제작된 인쇄판(10)은 형성되는 패턴의 깊이(t)가 인쇄판의 최소 미세 선폭의 1/2 이하로 결정되게 된다. 즉, 인쇄판에서 구현 가능한 최소 선폭은 아래와 같이 결정되게 된다.As shown in FIGS. 1A and 1B, in the case of the portion A of the fine pattern portion, the depth of the pattern is not required deeply, but in the case of the portion b of which the pattern line width is relatively larger than the fine pattern, the printing roll 20 touches the floor. The pattern may be printed incorrectly, so the depth should be larger. For this reason, in the printing plate 10 manufactured by wet etching, the depth t of the pattern to be formed is determined to be 1/2 or less of the minimum fine line width of the printing plate. That is, the minimum line width that can be implemented in the printing plate is determined as follows.

[구현 가능한 최소 선폭 ≥ 최소 패턴 깊이 × 2][Minimum Line Width ≥ Minimum Pattern Depth × 2]

일반적으로, 인쇄판을 이용해 인쇄 가능한 최소 패턴 깊이는 5㎛ 수준이므로, 종래의 방법을 통해 구현 가능한 최소 선폭은 10㎛ 수준이 된다. 따라서 종래 기술로는 10㎛ 이내의 미세 선폭을 갖는 인쇄판을 제조하기가 어렵다.In general, since the minimum pattern depth that can be printed using a printing plate is about 5 μm, the minimum line width that can be realized by the conventional method is about 10 μm. Therefore, in the prior art, it is difficult to manufacture a printing plate having a fine line width within 10 μm.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 도 2a와 같이 건식 식각이나 임프린팅 기술을 이용하여 비등방성의 수직형 패턴을 기판(30) 위에 형성하는 방법이 최근 제시되고 있다. 그러나 이러한 패턴의 경우에도 도 2b와 같이, 미세 패턴부가 인쇄 과정에서 롤(Roll)(20)에 의한 압력으로 파손되는 문제가 있어 대형화하기에 어려움이 있었다.
In order to solve this problem, a method of forming an anisotropic vertical pattern on the substrate 30 using dry etching or imprinting techniques as shown in FIG. 2A has recently been proposed. However, even in such a pattern, as shown in FIG. 2B, there is a problem in that the fine pattern portion is damaged by the pressure of the roll 20 in the printing process, and thus it is difficult to enlarge the size.

전술한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 기존의 기술로 제조된 인쇄판에서 구현할 수 없었던 미세 패턴이 형성된 인쇄판을 제조할 수 있는 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to solve the above-mentioned problems, and proposes a printing plate for a large-area fine pattern printer and a method of manufacturing the same, which can produce a printing plate on which a fine pattern is formed that could not be realized in a printing plate manufactured by a conventional technology. There is.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 기판의 하지층 상에 감광성 수지층을 패턴화하고 미세 패턴부에 도전성 재료를 이용하여 구조 보강부를 형성함으로써, 대면적 인쇄판의 제조에 필수적인 미세 패턴부의 강도를 크게 개선할 수 있는 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to pattern the photosensitive resin layer on the underlying layer of the substrate and to form a structural reinforcement using a conductive material in the fine pattern portion, the strength of the fine pattern portion essential for the production of large area printing plate The present invention provides a printing plate for a large-area fine pattern printer and a method of manufacturing the same, which can greatly improve the performance of the present invention.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 미세 패턴부에 도금 등의 기술을 이용하여 구조 보강부를 형성한 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to propose a printing plate for a large-area micropattern printer and a method of manufacturing the structure reinforcing portion formed by using a technique such as plating on the fine pattern portion.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 미세 패턴 사이에 도금층을 삽입하여 미세 패턴의 파괴를 방지한 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a printing plate for a large-area micropattern printer and a manufacturing method thereof by inserting a plating layer between the micropattern to prevent the destruction of the micropattern.

본 발명의 해결과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
The solution to the problem of the present invention is not limited to those mentioned above, and other solutions not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 청구항 1에 기재된 발명은, 「대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법에 있어서, (a) 기판상에 하지층을 형성하는 단계와; (b) 상기 하지층을 상기 기판 상부가 노출되도록 패터닝 하는 단계와; (c) 상기 하지층 및 노출된 기판 상부에 감광성 수지층을 형성하는 단계와; (d) 상기 하지층 상부가 노출되도록 상기 감광성 수지층을 패터닝하여 미세 패턴을 형성하는 단계; 및 (e) 상기 미세 패턴 사이에 구조 보강부를 형성하는 단계;를 포함하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.As a means for solving the above-described technical problem, the invention as set forth in claim 1, "In the manufacturing method of a printing plate for large-area fine pattern printing, (a) forming a base layer on a substrate; (b) patterning the underlayer so that the top of the substrate is exposed; (c) forming a photosensitive resin layer on the base layer and the exposed substrate; (d) forming a fine pattern by patterning the photosensitive resin layer to expose the upper base layer; And (e) forming a structural reinforcing part between the fine patterns. &Quot; The method of manufacturing a printing plate for printing a large area fine pattern.

청구항 2에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 기판은: PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 2, wherein the substrate according to claim 1, wherein the substrate comprises: a polymer comprising PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate resin), PMMA (polymethylmethacrylate), glass, film, metal ( And a method for producing a printing plate for large-area fine pattern printing, which is formed of any one material from the group including Metal. &Quot;

청구항 3에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 기판은: 패턴의 정확도를 유지하기 위해서 전사기판의 열팽창 계수 대비 2배 이내의 열팽창계수를 가지는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The method according to claim 3, wherein the substrate according to claim 1 has a thermal expansion coefficient of less than twice the thermal expansion coefficient of the transfer substrate in order to maintain the accuracy of the pattern. Is provided.

청구항 4에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 인쇄판의 제조 방법은: 상기 기판상에 하지층을 형성한 후 상기 감광성 수지층을 형성한 다음, 상기 하지층과 상기 감광성 수지층을 동시에 패터닝하여 미세 패턴을 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.According to the invention of claim 4, "The method of manufacturing the printing plate according to claim 1 comprises: forming a base layer on the substrate and then forming the photosensitive resin layer, and then simultaneously forming the base layer and the photosensitive resin layer. The manufacturing method of the printing plate for large-area micropattern printing which patterns and forms a micropattern. "Is provided.

청구항 5에 기재된 발명은, 「제 4 항에 있어서, 상기 하지층은: 금속을 증착 또는 스퍼터링(Sputtering) 하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.Invention of Claim 5 provides "The manufacturing method of the printing plate for large area fine pattern printing of Claim 4 in which the said base layer is formed by vapor-depositing or sputtering a metal."

청구항 6에 기재된 발명은, 「제 4 항에 있어서, 상기 하지층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 6, wherein the base layer is selected from the group comprising: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn. The manufacturing method of the printing plate for large-area fine-pattern printing formed from the at least 1 sort (s) of metal or alloy containing these metals. "

청구항 7에 기재된 발명은, 「제 4 항에 있어서, 상기 하지층은: 상기 감광성 수지층과 상기 기판 간의 밀착력을 개선하는 역할과 함께 상기 구조 보강부의 형성을 위한 도전층으로 사용되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 7, wherein the base layer is: a large-area fine pattern to be used as a conductive layer for forming the structural reinforcement portion, with the role of improving adhesion between the photosensitive resin layer and the substrate; The manufacturing method of the printing plate for printing. "Is provided.

청구항 8에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating)을 포함한 코팅 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 8, wherein the photosensitive resin layer is formed using any one of a coating method including spin coating and slit coating. The manufacturing method of the printing plate for. "Is provided.

청구항 9에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.According to the ninth aspect of the present invention, "the photosensitive resin layer according to claim 1 is formed by using any one of a photosensitive material including a photoresist, a dry film resist, and an ultraviolet curable resin. Method for producing a printing plate for printing a large area fine pattern. &Quot;

청구항 10에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 10 provides "The method of manufacturing a printing plate for large-area fine pattern printing according to claim 1, wherein the photosensitive resin layer is formed of a positive or negative photosensitive material.

청구항 11에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 구조 보강부는: 도전성 재료를 이용한 전해 또는 무전해 도금 공정으로 도금하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.Invention of Claim 11 provides "The manufacturing method of the printing plate for large-area fine pattern printing of Claim 1 by which the said structural reinforcement part is plated and formed by the electrolytic or electroless-plating process using a conductive material."

청구항 12에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 구조 보강부의 두께(t1)는 상기 미세 패턴을 형성하는 감광성 수지층의 두께(t2)보다 작게 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 12, "The production of a printing plate for large-area fine pattern printing according to claim 1, wherein the thickness t1 of the structural reinforcing part is formed smaller than the thickness t2 of the photosensitive resin layer forming the fine pattern. Method.

청구항 13에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 미세 패턴의 최소 선폭(w)은: 상기 구조 보강부의 두께를 t1, 상기 감광성 수지층의 두께를 t2라 할 때, 0 < t1 < t2-w < 40㎛의 식에 의해 1~20㎛ 범위 내에 존재하며, 상기 감광성 수지층의 두께(t2)는 상기 미세패턴의 선폭(w)에 따라 변화하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.According to the invention described in claim 13, "The minimum line width (w) of the fine pattern according to claim 1 is: when the thickness of the structural reinforcing portion is t1 and the thickness of the photosensitive resin layer is t2, 0 <t1 <t2 A method of manufacturing a printing plate for printing a large-area fine pattern, wherein the thickness t2 of the photosensitive resin layer is changed according to the line width w of the fine pattern by a formula of −w <40 μm. .

청구항 14에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 구조 보강부는: 상기 하지층이 형성된 부분에만 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 14 provides "The method of manufacturing the printing plate for large-area fine pattern printing according to claim 1, wherein the structural reinforcing portion is formed only at a portion where the base layer is formed. ''

청구항 15에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 구조 보강부는: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 전기전도도를 가지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속을 이용하여 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.The invention according to claim 15, wherein the structure reinforcing portion includes: electrical conductivity containing Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn. The manufacturing method of the printing plate for large-area micropattern printing formed using the at least 1 sort (s) of metal chosen from the group.

또한, 전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 다른 수단으로서, 청구항 16에 기재된 발명은, 「대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판에 있어서, 기판상에 패턴이 형성된 감광성 수지층; 및 상기 감광성 수지층의 미세 패턴 사이에 형성된 구조 보강부;를 포함하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.In addition, as another means for solving the above-described technical problem, the invention described in claim 16, "In the printing plate for large-area fine pattern printing, a photosensitive resin layer having a pattern formed on a substrate; And a structural reinforcing part formed between the fine patterns of the photosensitive resin layer. ”The printing plate for large-area fine pattern printing.

청구항 17에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 기판은: PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.According to claim 17, "The substrate according to claim 16, wherein the substrate is: a polymer (PC), a polyethylene (polyethylene terephthalate resin), PET (Polymethylmethacrylate), glass, film (Film), metal ( Metal plate). A printing plate for printing a large-area fine pattern formed of any one material from a group including Metal.

청구항 18에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 인쇄판은: 상기 기판과 상기 감광성 수지층 사이에 패턴이 형성된 하지층을 더 포함하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.The invention according to claim 18 provides the printing plate for printing a large-area fine pattern according to claim 16, wherein the printing plate further comprises an underlayer on which a pattern is formed between the substrate and the photosensitive resin layer.

청구항 19에 기재된 발명은, 「제 18 항에 있어서, 상기 하지층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.The invention according to claim 19, wherein the base layer is selected from the group consisting of: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn. It provides a printing plate for a large-area fine pattern printing formed of at least one metal or an alloy containing these metals.

청구항 20에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.The invention according to claim 20, wherein the photosensitive resin layer is formed using any one of photosensitive materials including photoresist, dry film resist, and ultraviolet curable resin. Printing plate for printing an area fine pattern. "

청구항 21에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 구조 보강부는: 도전성 재료를 이용한 전해 또는 무전해 도금 공정으로 도금하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.The invention according to claim 21 provides "The structure reinforcement part of Claim 16: The printing plate for large-area fine pattern printing formed by plating by the electrolytic or electroless-plating process using a conductive material."

청구항 22에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 구조 보강부의 두께(t1)는 상기 미세 패턴을 형성하는 감광성 수지층의 두께(t2)보다 작게 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.The invention according to claim 22, "The printing plate for large-area fine pattern printing according to claim 16, wherein the thickness t1 of the structural reinforcing portion is smaller than the thickness t2 of the photosensitive resin layer forming the fine pattern. to provide.

청구항 23에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 미세 패턴의 최소 선폭(w)은: 상기 구조 보강부의 두께를 t1, 상기 감광성 수지층의 두께를 t2라 할 때, 0 < t1 < t2-w < 40㎛의 식에 의해 1~20㎛ 범위 내에 존재하며, 상기 감광성 수지층의 두께(t2)는 상기 미세패턴의 선폭(w)에 따라 변화하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.According to the invention described in claim 23, "The minimum line width (w) of the fine pattern according to claim 16 is: when the thickness of the structural reinforcing part is t1 and the thickness of the photosensitive resin layer is t2, 0 <t1 <t2 It exists in the range of 1-20 micrometers by the formula of -w <40 micrometer, and the thickness t2 of the said photosensitive resin layer changes with the line width w of the said micropattern. to provide.

청구항 24에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 구조 보강부는: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 전기전도도를 가지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속을 이용하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.The invention as set forth in claim 24, "The structure reinforcing portion of claim 16, wherein the structural reinforcement comprises: electrical conductivity comprising Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn The large-area fine-pattern printing printing plate formed using the at least 1 sort (s) of metal chosen from the group. "Is provided.

또한, 전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 또 다른 수단으로서, 청구항 25에 기재된 발명은, 「대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판에 있어서, 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법을 사용하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.」을 제공한다.
Moreover, as another means for solving the above-mentioned technical problem, the invention of Claim 25 is "The printing plate for large area fine pattern printing uses the manufacturing method in any one of Claims 1-15. And a printing plate for printing a large area fine pattern. &Quot;

본 발명에 따르면, 기존의 인쇄판을 이용해 불가능하였던 미세 영역의 패턴을 간접 인쇄 방식으로 인쇄할 수 있게 됨으로써, 전자 회로 및 패턴을 빠르고 값싸게 제조할 수 있다.According to the present invention, it is possible to print the pattern of the micro area that was impossible using the existing printing plate by indirect printing method, thereby making it possible to manufacture electronic circuits and patterns quickly and inexpensively.

또한, 인쇄판 제조자의 경우 기존의 인쇄판에서 구현할 수 없었던 미세패턴을 본 발명을 이용하여 제조함으로써 인쇄판의 적용 범위를 넓힐 수 있다.
In addition, in the case of a printing plate manufacturer, by using the present invention to manufacture a fine pattern that could not be implemented in the existing printing plate it can broaden the application range of the printing plate.

본 발명의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other effects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1a 및 도 1b는 종래 기술의 실시 형태에 따른 인쇄 전자용 인쇄판을 나타낸 것으로서,
도 1a는 습식 에칭(Wet Etching)된 인쇄판의 단면도이고,
도 1b는 인쇄판의 깊이에 따른 인쇄 오류를 나타낸 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 종래 기술의 다른 실시 형태에 따른 인쇄 전자용 인쇄판을 나타낸 것으로서,
도 2a는 비등방성 패턴이 형성된 인쇄판의 단면도이고,
도 2b는 인쇄판의 깊이에 따른 파손 모습을 나타낸 단면도이다.
도 3 내지 도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 의한 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 공정 단면도이다.
도 8은 감광성 수지층과 구조 보강부를 이용한 인쇄판의 단면도이다.
1A and 1B show a printed electronic printing plate according to an embodiment of the prior art,
1A is a cross-sectional view of a wet etched printing plate,
1B is a cross-sectional view showing a printing error according to the depth of the printing plate.
2A and 2B show a printed electronic printing plate according to another embodiment of the prior art,
2A is a cross-sectional view of a printing plate on which an anisotropic pattern is formed,
Figure 2b is a cross-sectional view showing the appearance of damage according to the depth of the printing plate.
3 to 7 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a printing plate for printing a large area fine pattern according to a preferred embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a printing plate using a photosensitive resin layer and a structural reinforcing portion.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명되는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙여 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by similar reference numerals throughout the specification.

이하, 본 발명에서 실시하고자 하는 구체적인 기술내용에 대해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

대면적 미세패턴 Large Area Fine Pattern 프린팅용For printing 인쇄판의 제조 방법의 실시 예 Embodiment of the manufacturing method of the printing plate

도 3 내지 도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 의한 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 공정 단면도이다.3 to 7 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a printing plate for printing a large area fine pattern according to a preferred embodiment of the present invention.

먼저, 도 3과 같이, 기판(100)을 깨끗이 세정한 다음, 상기 기판상에 하지층(110)을 형성한다. First, as shown in FIG. 3, the substrate 100 is cleaned, and then a base layer 110 is formed on the substrate.

상기 기판(100)은 표면의 평탄도가 확보되고 대형화 가능하며, 전사된 후의 기판과 열팽창 계수가 유사한 재료로 제조되면 모두 사용 가능하다. 그 예로서, 상기 기판(100)은 PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된다. 상기 기판(100)은 패턴의 정확도를 유지하기 위해서 전사기판의 열팽창 계수 대비 2배 이내의 열팽창계수를 갖도록 선정하는 것이 바람직하다.The substrate 100 may have a flat surface and may be enlarged, and may be used as long as the substrate 100 is made of a material having a similar coefficient of thermal expansion to the substrate after being transferred. For example, the substrate 100 may include any one of a group including a polymer including glass carbonate (PC), polyethylene terephthalate resin (PET), and polymethylmethacrylate (PMMA), glass, film, and metal. It is formed of a material. In order to maintain the accuracy of the pattern, the substrate 100 may be selected to have a coefficient of thermal expansion within two times the thermal expansion coefficient of the transfer substrate.

상기 하지층(110)은 금속을 증착하거나 혹은 스퍼터링(Sputtering) 하여 형성되며, 그 재료로는 도금에 사용될 수 있는 재료는 모두 가능하다. 예를 들어, Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성할 수 있다. 상기 하지층(110)은 이후에 형성할 감광성 수지(도 5의 120 참조)와 상기 기판(100) 간의 밀착력을 개선하는 역할과 함께 구조 보강부(도 7의 130 참조)의 형성을 위한 도전층으로 사용된다.The base layer 110 is formed by depositing or sputtering a metal, and any material that can be used for plating may be used as the material. For example, formed of at least one metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or an alloy containing these metals. can do. The base layer 110 serves to improve adhesion between the photosensitive resin (see 120 of FIG. 5) and the substrate 100 to be formed later, and a conductive layer for forming a structural reinforcement part (see 130 of FIG. 7). Used as

계속해서, 도 4를 참조하면, 상기 하지층(110)을 이용하여 패턴이 필요한 부분에 패턴을 형성한다. Subsequently, referring to FIG. 4, a pattern is formed on a portion requiring a pattern by using the base layer 110.

그 후, 도 5와 같이, 상기 패턴이 형성된 하지층(110) 상부와 상기 기판(100)의 상부가 노출된 부분에 감광성 물질을 코팅하여 감광성 수지층(120)을 형성한다. 상기 감광성 수지층(120)은 통상의 코팅 방법을 통해 코팅한다. 이때, 통상의 코팅 방법이란 전형적으로는 스핀 코팅(Spin Coating)과 슬릿 코팅(Slit Coating)이 있으며, 코팅 균일도를 유지할 수 있는 방법이라면 모두 적용 가능하다.Thereafter, as shown in FIG. 5, a photosensitive material is coated on a portion of the base layer 110 on which the pattern is formed and an upper portion of the substrate 100 is exposed to form the photosensitive resin layer 120. The photosensitive resin layer 120 is coated through a conventional coating method. In this case, the conventional coating method is typically spin coating (Spin Coating) and slit coating (Slit Coating), any method that can maintain the coating uniformity can be applied.

상기 감광성 수지층(120)은 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 자외선 경화형 수지 등이 모두 사용 가능하며, 본 발명의 구조가 그 재료에 한정되어 적용되는 것은 아니다. 또한, 상기 감광성 수지층(120)은 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성할 수 있다.The photosensitive resin layer 120 may be a photoresist, a dry film resist, an ultraviolet curable resin, or the like, and the structure of the present invention is not limited to the material. In addition, the photosensitive resin layer 120 may be formed of a positive or negative photosensitive material.

그 후, 도 6과 같이, 상기 감광성 수지층(120)을 이용하여 패턴이 필요한 부분에 패턴을 형성한다. 이때, 상기 감광성 수지층(120)을 이용하여 형성된 미세 패턴은 상기 하지층(111)이 형성된 부분에만 형성된다. Thereafter, as shown in FIG. 6, a pattern is formed on a portion where a pattern is required using the photosensitive resin layer 120. At this time, the fine pattern formed by using the photosensitive resin layer 120 is formed only in the portion where the base layer 111 is formed.

마지막으로, 도 7과 같이, 상기 하지층(111) 상부에 형성된 미세 패턴 사이에 구조 보강부(130)를 형성한다. 이때, 상기 구조 보강부(130)의 두께(t1)는 상기 미세 패턴을 형성하는 감광성 수지층의 두께(t2)보다 작게 형성하는 것이 바람직하다.Finally, as shown in FIG. 7, the structural reinforcement 130 is formed between the fine patterns formed on the base layer 111. In this case, the thickness t1 of the structural reinforcement part 130 may be smaller than the thickness t2 of the photosensitive resin layer forming the fine pattern.

상기 구조 보강부(130)는 도전성 재료를 이용하여 도금 등의 방법을 통해 형성되며, 도금은 전해, 무전해 도금 방법을 모두 포함할 수 있으나 무전해 도금을 이용하는 것이 바람직하다. 더 자세하게는 상기 구조 보강부(130)는 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 전기전도도를 가지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속을 이용하여 도금 등의 방법으로 형성할 수 있다.The structural reinforcement unit 130 is formed by a plating method using a conductive material, and the plating may include both electrolytic and electroless plating methods, but it is preferable to use electroless plating. More specifically, the structural reinforcement unit 130 is at least one selected from the group having electrical conductivity including Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn It can be formed by a method such as plating using a metal.

이와 같이, 상기 구조 보강부(130)는 상기 하지층(111)이 형성된 부분에만 형성되므로, 미세 패턴 부분만을 선택적으로 강화하는 것이 가능하다. As such, since the structural reinforcement part 130 is formed only at the portion where the base layer 111 is formed, it is possible to selectively reinforce only the fine pattern portion.

도 8은 감광성 수지층과 구조 보강부를 이용한 인쇄판의 단면을 나타낸 것이다.8 shows a cross section of a printing plate using a photosensitive resin layer and a structural reinforcing portion.

도 8을 참조하여 설명하면, 제조된 인쇄판을 이용해 롤(Roll)로 잉크를 전사시킬 때 인쇄판의 깊이에 따라 패턴 형상 불량이 생길 수 있기 때문에 미세패턴에서도 최소한의 패턴 깊이는 필요하다. 이러한 점에서, 상기 구조 보강부(130)의 두께(t1)와 상기 감광성 수지층(121)의 두께(t2), 그리고 최소 구현 선폭(w) 사이에는 아래와 같은 관계가 있다.Referring to FIG. 8, a minimum pattern depth is required even in a fine pattern because pattern shape defects may occur depending on the depth of the printing plate when transferring the ink to the roll using the manufactured printing plate. In this regard, there is a relationship between the thickness t1 of the structural reinforcement 130, the thickness t2 of the photosensitive resin layer 121, and the minimum implementation line width w.

0 < t1 < t2-w < 40㎛0 <t1 <t2-w <40 µm

통상적으로는 본 발명에서 언급하는 미세패턴의 최소 선폭(w)은 1~20㎛ 범위 내에 존재하며, 상기 감광성 수지층(120)의 두께는 상기 미세패턴의 최소 선폭(w)에 따라 변화할 수 있다.
Typically, the minimum line width w of the micropattern mentioned in the present invention is present in a range of 1 to 20 μm, and the thickness of the photosensitive resin layer 120 may vary according to the minimum line width w of the micropattern. have.

대면적 미세패턴 Large Area Fine Pattern 프린팅용For printing 인쇄판의 실시 예 Embodiment of the printing plate

본 발명에 의한 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판은 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 기판(100)상에 패턴이 형성된 하지층(111)과, 상지 하지층(111) 상에 패턴이 형성된 감광성 수지층(121)과, 상기 감광성 수지층(121)의 미세 패턴 사이에 형성된 구조 보강부(130)를 포함하고 있다.As shown in FIGS. 7 and 8, the printing plate for large-area fine pattern printing according to the present invention has a pattern formed on a base layer 111 and an upper base layer 111 formed with a pattern on the substrate 100. The photosensitive resin layer 121 and the structural reinforcement part 130 formed between the fine pattern of the photosensitive resin layer 121 are included.

여기서, 상기 기판(100)은 앞에서 설명한 바와 같이, 표면의 평탄도가 확보되고 대형화 가능하며, 전사된 후의 기판과 열팽창 계수가 유사한 재료로 제조되면 모두 사용 가능하다. 그 예로서, PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성할 수 있다.In this case, as described above, the surface of the substrate 100 may be secured and large in size, and may be used if the substrate 100 is made of a material having a similar thermal expansion coefficient to the substrate after being transferred. For example, the polymer may be formed of any one of a polymer including glass (carbonate), film (film) and metal (metal) including polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate resin (PET) and polymethylmethacrylate (PMMA). have.

상기 하지층(111)은 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성되며, 상기 감광성 수지층(121)은 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성할 수 있다.The base layer 111 includes at least one metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or these metals. The photosensitive resin layer 121 may be formed of an alloy, and may be formed using any one of photosensitive materials including photoresist, dry film resist, and ultraviolet curable resin.

상기 구조 보강부(130)는 도전성 재료를 이용한 전해 또는 무전해 도금 공정으로 도금하여 형성되며, 상기 구조 보강부(130)의 두께(t1)는 상기 미세 패턴을 형성하는 감광성 수지층(121)의 두께(t2)보다 작게 형성하는 것이 바람직하다.The structural reinforcement part 130 is formed by plating by an electrolytic or electroless plating process using a conductive material, and the thickness t1 of the structural reinforcement part 130 is formed of the photosensitive resin layer 121 forming the fine pattern. It is preferable to form smaller than thickness t2.

상기 구조 보강부(130)는 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 전기전도도를 가지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속을 이용하여 도금 등의 방법으로 형성할 수 있다.The structural reinforcement unit 130 includes at least one metal selected from the group having electrical conductivity including Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, and Zn. It can be formed by a method such as plating.

이와 같이 구성된 본 발명의 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법은 기판의 하지층 상에 감광성 수지층을 패턴화하고 미세 패턴부에 도전성 재료를 이용하여 구조 보강부를 형성함으로써, 본 발명의 기술적 과제를 해결할 수가 있다.
The printing plate for the large-area micropattern printer and the manufacturing method thereof according to the present invention configured as described above are formed by patterning a photosensitive resin layer on a base layer of a substrate and forming a structural reinforcement part using a conductive material in the micropattern, The problem can be solved.

상술한 실시 예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다.The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons skilled in the art to which the embodiments belong.

따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. 또한, 이상에서 실시 예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications. In addition, the above description has been made with reference to the embodiments, which are merely examples and are not intended to limit the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may be illustrated in the above without departing from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

본 발명의 대면적 미세패턴 프린터용 인쇄판 및 그의 제조 방법은 LED 패키지를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않고 반도체 칩 패키지 및 그 제조 방법에도 동일하게 적용할 수 있다.
The printing plate for a large-area micropattern printer and a manufacturing method thereof according to the present invention have been described using LED packages as an example, but the present invention is not limited thereto.

100 : 기판 110 : 하지층
111 : 패턴이 형성된 하지층 120 : 감광성 수지층
121 : 패턴이 형성된 감광성 수지층 130 : 구조 보강부
100 substrate 110 base layer
111: base layer with pattern 120: photosensitive resin layer
121: photosensitive resin layer formed pattern 130: structural reinforcement

Claims (25)

(a) 기판상에 감광성 수지층을 형성하는 단계와;
(b) 상기 감광성 수지층을 패터닝하여 미세 패턴을 형성하는 단계; 및
(c) 상기 미세 패턴 사이에 도전성 재료의 구조 보강부를 형성하는 단계;
를 포함하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
(a) forming a photosensitive resin layer on the substrate;
(b) patterning the photosensitive resin layer to form a fine pattern; And
(c) forming a structural reinforcement part of the conductive material between the fine patterns;
Method of manufacturing a printing plate for large-area fine pattern printing comprising a.
제 1 항에 있어서, 상기 기판은:
PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the substrate is:
Large-area micropattern printing formed of any one of a group including polymers including glass carbonate, polyethylene terephthalate resin (PET) and polymethylmethacrylate (PMMA), and glass, film, and metal Method for producing a printing plate for
제 1 항에 있어서, 상기 기판은:
패턴의 정확도를 유지하기 위해서 전사기판의 열팽창 계수 대비 2배 이내의 열팽창계수를 가지는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the substrate is:
A method of manufacturing a printing plate for printing a large area fine pattern, which has a coefficient of thermal expansion within two times the thermal expansion coefficient of the transfer substrate in order to maintain the accuracy of the pattern.
제 1 항에 있어서, 상기 인쇄판의 제조 방법은:
상기 기판상에 하지층을 형성한 후 상기 감광성 수지층을 형성한 다음, 상기 하지층과 상기 감광성 수지층을 동시에 패터닝하여 미세 패턴을 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the printing plate is manufactured by:
And forming the photosensitive resin layer on the substrate, and then patterning the underlayer and the photosensitive resin layer simultaneously to form a fine pattern.
제 4 항에 있어서, 상기 하지층은:
금속을 증착 또는 스퍼터링(Sputtering) 하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the underlayer is:
A manufacturing method of a printing plate for printing a large area fine pattern formed by depositing or sputtering a metal.
제 4 항에 있어서, 상기 하지층은:
Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the underlayer is:
Large area fine formed of at least one metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or alloys containing these metals The manufacturing method of the printing plate for pattern printing.
제 4 항에 있어서, 상기 하지층은:
상기 감광성 수지층과 상기 기판 간의 밀착력을 개선하는 역할과 함께 상기 구조 보강부의 형성을 위한 도전층으로 사용되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the underlayer is:
A method of manufacturing a printing plate for large-area fine pattern printing, used as a conductive layer for forming the structural reinforcement part, together with a role of improving adhesion between the photosensitive resin layer and the substrate.
제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating)을 포함한 코팅 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the photosensitive resin layer is:
A method of manufacturing a printing plate for printing a large area fine pattern formed using any one of a coating method including spin coating and slit coating.
제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the photosensitive resin layer is:
A method of manufacturing a printing plate for printing a large area fine pattern using any one of photosensitive materials including photoresist, dry film resist, and ultraviolet curable resin.
제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the photosensitive resin layer is:
A method of manufacturing a printing plate for printing a large-area fine pattern formed of a positive or negative photosensitive material.
제 1 항에 있어서, 상기 구조 보강부는:
도전성 재료를 이용한 전해 또는 무전해 도금 공정으로 도금하여 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1 wherein the structural reinforcement is:
A manufacturing method of a printing plate for large-area fine pattern printing, which is formed by plating by electrolytic or electroless plating using a conductive material.
제 1 항에 있어서,
상기 구조 보강부의 두께(t1)는 상기 미세 패턴을 형성하는 감광성 수지층의 두께(t2)보다 작게 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1,
The thickness t1 of the structural reinforcing part is smaller than the thickness t2 of the photosensitive resin layer forming the fine pattern.
제 1 항에 있어서, 상기 미세 패턴의 최소 선폭(w)은:
상기 구조 보강부의 두께를 t1, 상기 감광성 수지층의 두께를 t2라 할 때,
0 < t1 < t2-w < 40㎛의 식에 의해 1~20㎛ 범위 내에 존재하며,
상기 감광성 수지층의 두께(t2)는 상기 미세패턴의 선폭(w)에 따라 변화하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the minimum line width w of the fine pattern is:
When the thickness of the structural reinforcement part is t1 and the thickness of the photosensitive resin layer is t2,
It exists in the range of 1-20 micrometers by the formula of 0 <t1 <t2-w <40micrometer,
The thickness t2 of the said photosensitive resin layer is a manufacturing method of the printing plate for large area fine pattern printing which changes according to the line width (w) of the said fine pattern.
제 4 항에 있어서, 상기 구조 보강부는:
상기 하지층이 형성된 부분에만 형성하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
5. The structural reinforcement part of claim 4 wherein:
The manufacturing method of the printing plate for large area fine pattern printing formed only in the part in which the said base layer was formed.
제 1 항에 있어서, 상기 구조 보강부는:
Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 전기전도도를 가지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속을 이용하여 형성되는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1 wherein the structural reinforcement is:
Large area micropattern formed using at least one metal selected from the group having electrical conductivity including Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn The manufacturing method of the printing plate for printing.
대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판에 있어서,
기판상에 패턴이 형성된 감광성 수지층; 및
상기 감광성 수지층의 미세 패턴 사이에 도전성 재료로 형성된 구조 보강부;
를 포함하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
In the printing plate for large area fine pattern printing,
A photosensitive resin layer having a pattern formed on the substrate; And
A structural reinforcement part formed of a conductive material between the fine patterns of the photosensitive resin layer;
Printed plate for printing a large area fine pattern comprising a.
제 16 항에 있어서, 상기 기판은:
PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the substrate is:
For printing large-area micropatterns formed of any one of a group of polymers including glass carbonate, film, film, and metal, including polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate resin (PET), and polymethylmethacrylate Printing edition.
제 16 항에 있어서, 상기 인쇄판은:
상기 기판과 상기 감광성 수지층 사이에 패턴이 형성된 하지층을 더 포함하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the printing plate is:
The printing plate for large-area fine pattern printing, further comprising a base layer having a pattern formed between the substrate and the photosensitive resin layer.
제 18 항에 있어서, 상기 하지층은:
Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
19. The method of claim 18, wherein the underlayer is:
Large area micropattern formed of at least one metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or alloys containing these metals Printing plate for printing.
제 16 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the photosensitive resin layer is:
A printing plate for printing a large area fine pattern formed by using any one of photoresist, photoresist, dry film resist, and ultraviolet curable resin.
제 16 항에 있어서, 상기 구조 보강부는:
도전성 재료를 이용한 전해 또는 무전해 도금 공정으로 도금하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the structural reinforcement:
A printing plate for printing a large area fine pattern formed by plating by an electrolytic or electroless plating process using a conductive material.
제 16 항에 있어서,
상기 구조 보강부의 두께(t1)는 상기 미세 패턴을 형성하는 감광성 수지층의 두께(t2)보다 작게 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
17. The method of claim 16,
And a thickness t1 of the structural reinforcement part is smaller than a thickness t2 of the photosensitive resin layer forming the fine pattern.
제 16 항에 있어서, 상기 미세 패턴의 최소 선폭(w)은:
상기 구조 보강부의 두께를 t1, 상기 감광성 수지층의 두께를 t2라 할 때,
0 < t1 < t2-w < 40㎛의 식에 의해 1~20㎛ 범위 내에 존재하며,
상기 감광성 수지층의 두께(t2)는 상기 미세패턴의 선폭(w)에 따라 변화하는 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the minimum line width w of the fine pattern is:
When the thickness of the structural reinforcement part is t1 and the thickness of the photosensitive resin layer is t2,
It exists in the range of 1-20 micrometers by the formula of 0 <t1 <t2-w <40micrometer,
The printing plate for printing a large area fine pattern, wherein the thickness t2 of the photosensitive resin layer is changed according to the line width w of the fine pattern.
제 16 항에 있어서, 상기 구조 보강부는:
Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 전기전도도를 가지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속을 이용하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the structural reinforcement:
Large-area micropattern printing formed using at least one metal selected from the group having electrical conductivity including Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn Dragon Edition.
대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판에 있어서,
제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법을 사용하여 형성된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판.
In the printing plate for large area fine pattern printing,
The printing plate for large-area fine pattern printing formed using the manufacturing method in any one of Claims 1-15.
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