KR101229649B1 - Method for mounting chips using lateral side, chip assembly mounted by the sam, and method for manufacturing chip for the same - Google Patents
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Abstract
측면을 이용한 칩 적층방법, 이에 의하여 적층된 칩 어셈블리 및 이를 위한 칩 제조방법이 제공된다.
본 발명에 따른 칩 적층방법은 칩 상부에 제 1 절연층을 도포한 후, 또 다른 칩을 상기 제 1 절연층 상에 적층시키는 방식으로, 칩-제 1 절연층-칩 형태의 칩 적층구조를 형성시키는 단계;
상기 칩 적층구조의 측면 상에 제 2 절연층을 적층하는 단계; 및
소정 높이의 범프가 하나 이상 형성된 전도성 연결부재를 상기 제 2 절연층 내부로 압착시키는 단계를 포함하며, 여기에서 상기 칩 적층구조에서 상기 칩 패드는 측면에 노출된 상태이고, 상기 압착에 의하여 범프는 상기 제 2 절연층 내부에서 상기 칩 패드와 접촉하는 것을 특징으로 한다.Provided are a chip stacking method using side surfaces, and a chip assembly stacked thereon and a chip manufacturing method therefor.
In the chip stacking method according to the present invention, a chip stacking structure in the form of a chip-first insulating layer-chip is formed by coating a first insulating layer on a chip and then stacking another chip on the first insulating layer. Forming;
Stacking a second insulating layer on a side of the chip stack; And
And compressing a conductive connection member having one or more bumps of a predetermined height into the second insulating layer, wherein the chip pad is exposed to the side surface of the chip stack structure, and the bump is formed by the pressing. In contact with the chip pad in the second insulating layer.
Description
본 발명은 측면을 이용한 칩 적층방법, 이에 의하여 적층된 칩 어셈블리 및 이를 위한 칩 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 칩 측면 상에 노출된 칩 패드를 열압착 등과 같은 간단한 공정에 의하여 전기적으로 연결시키므로, 공정에 있어서 경제적인, 측면을 이용한 칩 적층방법, 이에 의하여 적층된 칩 어셈블리 및 이를 위한 칩 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a chip stacking method using side surfaces, a chip assembly stacked thereon, and a chip manufacturing method therefor, and more particularly, electrically connecting chip pads exposed on chip sides by a simple process such as thermocompression bonding. Therefore, the present invention relates to a chip stacking method using side surfaces, which is economical in a process, a chip assembly stacked thereon and a chip manufacturing method therefor.
최근 전자제품이 고성능화, 소형화, 경량화됨에 따라 칩의 집적밀도가 높아지고 있으며, 이를 만족시키기 위해 복수의 칩을 적층시키는 3차원 패키징에 대한 연구가 활발히 진행중이다. 3차원 패키징은 인터커넥션 방법에 따라 TSV(Through Silicon Via), 와이어 본딩, 엣지 트레이스(Edge traces)등의 방법이 개발되었다. TSV는 적층칩을 연결하는 신호선의 길이가 가장 짧기 때문에 전력소비를 감소 시키고, 신호의 전달 속도가 빠르며 와이어본딩에 비해 입력/출력 밀도가 높은 장점이 있다. 반면에 TSV는 본딩과 디본딩공정시 생산비가 높은 단점이 있다. 반면 와이어 본딩은 와이어로 회로를 연결하는 적층 방식으로 칩을 적층을 하기 위해서는 스페이서라고 불리는 더미 웨이퍼으로 층간에 일정한 간격을 띄워야 함으로 전체 칩의 부피가 커지는 단점이 있다. Recently, as the electronic products have been improved in performance, miniaturization, and weight, chip integration density has increased, and in order to satisfy this, research on three-dimensional packaging in which a plurality of chips are stacked is being actively conducted. Three-dimensional packaging has developed methods such as through silicon via (TSV), wire bonding, and edge traces according to the interconnection method. TSV has the advantage of reducing power consumption, fast signal transmission speed, and high input / output density compared to wire bonding because the length of signal line connecting the stacked chip is the shortest. On the other hand, TSV has a high production cost in the bonding and debonding process. On the other hand, wire bonding has a disadvantage in that the volume of the entire chip is increased because a predetermined distance between layers is to be spaced between dummy wafers called spacers in order to stack chips in a stacking manner in which circuits are connected by wires.
이와 같은 반도체 칩의 3차원 적층 기술은 반도체의 집적밀도를 높일 수 있는 기술이기 때문에 이에 관한 다수의 특허와 연구논문이 발표, 개시되어 있으며, 적층 칩의 측면에 회로선을 형성하기 위한 다양한 방법이 제시되고 있다. 대한민국특허 제10-2006-0109524호의 “칩 스택 패키지”에서는 칩을 적층하고 와이어 본딩을 이용해 패드와 패드의 인터커넥션을 형성하는 방법을 제시하였다. 대한민국특허 제10-2006-0082924호의 “반도체 패키지 및 그 제조방법”에서는 칩을 적층하고 와이어 본딩과 도전성 컬럼을 이용하여 적층 칩간의 신호선을 형성하는 방법을 제시하였다. 대한민국특허 제10-2006-0001150호의 “멀티 스택 패키지 및 이의 제조 방법”에서는 적층 칩에 금속 범프를 형성하고 압력을 가하여 접합부를 만드는 열압착 방법을 제시하였다. 또한, 대한민국특허 제10-2008-0072951호의 '칩 패키지, 이를 이용한 적층형 패키지 및 그 제조 방법'에서는 복수의 칩을 관통하는 신호선과 솔더볼을 이용하여 적층칩간의 신호선을 형성하였다. 상기의 특허들은 반도체 접합 방법인 와이어 본딩, TSV 등의 방법을 적용하여 칩을 적층하여 3차원 패키지를 제조한다. 적층시 와이어 본딩을 사용하면 스페이서를 사용해야 하기 때문에 칩의 부피가 커지고, TSV는 비아 드릴링이 복잡하고 생산비가 많이 드는 단점이 있다. 선행기술로 특허와 함께, 실리콘 칩의 3차원 적층 기술에 관하여 다양한 연구논문이 발표되고 있다. 이 중 연구논문인 ('A review of 3D packaging technology, IEEE Trans. on Components, Packaging and Manufacturing Tech., Vol.21, No.1, 1998)에서 다양한 3차원 적층 기술이 설명되고 있으며, 상기 연구논문에서 제시한 적층 기술 중에서 적층 칩의 측면에 신호선을 형성하는 경우에는 칩의 측면에 절연층을 형성하여 단락을 방지하는 방법들이 제시되어 있지만, 이와 같은 방법들은 칩을 제조한 후에 칩의 측면에 절연층을 형성하고 수직 패터닝 공정이 필요하기 때문에 공정이 복잡하고 생산성이 낮은 단점이 있다. Since the three-dimensional stacking technology of the semiconductor chip is a technology that can increase the integration density of the semiconductor, a number of patents and research papers related to this have been published and disclosed, and various methods for forming circuit lines on the side of the stacked chip have been disclosed. Is being presented. In the “chip stack package” of Korean Patent No. 10-2006-0109524, a method of stacking chips and forming interconnections between pads using wire bonding has been presented. In Korean Patent No. 10-2006-0082924, “Semiconductor Package and Manufacturing Method”, a method of stacking chips and forming signal lines between stacked chips using wire bonding and conductive columns has been presented. Korean Patent No. 10-2006-0001150 "Multi-stack package and its manufacturing method" proposed a thermocompression method for forming a metal bump on the laminated chip and making a joint by applying a pressure . In addition, in Korean Patent No. 10-2008-0072951, 'chip package, a stacked package using the same, and a manufacturing method thereof', signal lines between the stacked chips are formed by using signal lines and solder balls passing through a plurality of chips. The above patents apply a method of wire bonding, TSV, etc., which is a semiconductor bonding method, to manufacture a three-dimensional package by stacking chips. The use of wire bonding in stacking requires the use of spacers, which increases the volume of the chip, and TSV has disadvantages of complicated via drilling and high production costs. In addition to the patent as a prior art, various research papers have been published on the three-dimensional stacking technology of silicon chips. Among them, a research paper ('A review of 3D packaging technology, IEEE Trans.on Components, Packaging and Manufacturing Tech., Vol. 21, No. 1, 1998) describes various three-dimensional stacking technologies. In the case of forming signal lines on the side of the stacked chip among the stacking techniques proposed in the above, methods for preventing a short circuit by forming an insulating layer on the side of the chip are proposed. However, these methods insulate the side of the chip after manufacturing the chip. The process is complicated and the productivity is low because the layer is formed and the vertical patterning process is required.
따라서, 본 발명은 앞서 설명한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 적층 칩 간의 전기적인 인터커넥션을 형성함으로써 생산성을 높일 수 있는 칩 적층방법을 제공하는데 본 발명이 해결하려는 과제가 있다. Accordingly, the present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, there is a problem to be solved by the present invention to provide a chip stacking method that can increase the productivity by forming an electrical interconnection between the stacked chips. .
본 발명이 해결하려는 또 다른 과제는 적층 칩간 전기적 인터커넥션을 형성하며, 별도의 칩 측면의 절연이 필요 없는 칩 적층수단 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an electrical interconnection between stacked chips, and to provide a chip stacking means and a method of manufacturing the same, which do not require insulation of a separate chip side.
본 발명에 따른 칩 적층방법은 칩 상부에 제 1 절연층을 도포한 후, 또 다른 칩을 상기 제 1 절연층 상에 적층시키는 방식으로, 칩-제 1 절연층-칩 형태의 칩 적층구조를 형성시키는 단계; 기 칩 적층구조의 측면 상에 제 2 절연층을 적층하는 단계; 및 소정 높이의 범프가 하나 이상 형성된 전도성 연결부재를 상기 제 2 절연층 내부로 압착시키는 단계를 포함하며, 여기에서 상기 칩 적층구조에서 상기 칩 패드는 측면에 노출된 상태이고, 상기 압착에 의하여 범프는 상기 제 2 절연층 내부에서 상기 칩 패드와 접촉한다.In the chip stacking method according to the present invention, a chip stacking structure in the form of a chip-first insulating layer-chip is formed by coating a first insulating layer on a chip and then stacking another chip on the first insulating layer. Forming; Stacking a second insulating layer on the side of the chip stack structure; And compressing a conductive connection member having one or more bumps of a predetermined height into the second insulating layer, wherein the chip pads are exposed to side surfaces of the chip stack structure, and bumps are formed by the compression. Is in contact with the chip pad inside the second insulating layer.
본 발명은 칩 측면 상에 노출된 칩 패드를 열압착 등과 같은 간단한 공정에 의하여 전기적으로 연결시키므로, 적층 공정에 있어서 경제적이다. 또한, 칩 측면에 구비되는 또 다른 접착층은 절연특성을 가짐으로써 칩간 수직 인터커넥션을 형성시키는 전도성 연결부재를 칩에 적합시킬 뿐만 아니라, 칩 측면을 절연시킨다.The present invention is economical in the lamination process since the chip pad exposed on the chip side is electrically connected by a simple process such as thermocompression bonding or the like. In addition, another adhesive layer provided on the side of the chip has an insulating property so as not only to fit the chip to the conductive connection member that forms the vertical interconnection between the chip, but also insulates the chip side.
따라서, 종래 기술과 같이 칩 측면의 별도 절연이 필요 없어진다. 아울러, 기판 상에 형성되는 금속 라인 형태의 전도성 연결부재는 통상적인 기술만으로도 다양한 형태가 될 수 있으므로, 복잡한 구조의 층간 인터커넥션도 효과적으로 구현할 수 있다. 더 나아가, 적층칩의 패드 금속과 수직 범프신호선이 동일한 금속을 확산접합으로 본딩하기 때문에 기계적, 열적 신뢰성이 우수한 장점이 있다. 또한 수직으로 적층되는 칩과 칩 측면에서 이를 연결시키기 위한 칩이 동일 물질로 이루어지므로, 어셈블리 전체의 열적, 기계적 신뢰성이 높은 장점이 있다. Therefore, separate insulation of the chip side is eliminated as in the prior art. In addition, since the conductive connection member in the form of a metal line formed on the substrate may have various shapes using only conventional techniques, it is possible to effectively implement interlayer interconnection of a complicated structure. Furthermore, since the pad metal of the stacked chip and the vertical bump signal line bond the same metal by diffusion bonding, there is an advantage in that mechanical and thermal reliability are excellent. In addition, since the chips stacked vertically and the chips for connecting them on the chip side are made of the same material, there is a high thermal and mechanical reliability of the entire assembly.
도 1 내지 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 적층방법을 설명하는 도면이다.
도 6은 도 5에 따른 범프(330)와 칩 패드(110) 간의 접촉부위에 대한 확대단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층된 칩 어셈블리의 구조를 설명하는 분리 사시도이다.
도 8는 웨이퍼 레벨에서 칩의 측면을 따라 패드가 형성되어 있는 적층용 칩을 제조하는 과정을 설명하기 위한 개략도이다. 1 to 5 are diagrams illustrating a chip stacking method according to an embodiment of the present invention.
6 is an enlarged cross-sectional view of a contact portion between the
7 is an exploded perspective view illustrating a structure of a stacked chip assembly according to an embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram illustrating a process of manufacturing a stacking chip in which pads are formed along side surfaces of a chip at a wafer level.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로서, 본 발명을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 설명하는 실시예에 한정되는 것이 아니다. 그리고, 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 생략되며, 도면의 동일한 참조부호는 동일한 부재임을 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. However, the present invention can be implemented in various different forms, and is not limited to the embodiments described. In order to clearly describe the present invention, parts that are not related to the description are omitted, and the same reference numerals in the drawings denote the same members.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라, 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 “...부”, “...기”, “모듈”, “블록” 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어 또는 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.Throughout the specification, when an element is referred to as " including " an element, it does not exclude other elements unless specifically stated to the contrary. The terms "part", "unit", "module", "block", and the like described in the specification mean units for processing at least one function or operation, And a combination of software.
본 발명은 칩 상부에 구비되며, 소정 높이의 칩 패드를 측면에 노출시킨 후, 상기 칩 패드를 전기적으로 연결시키는 별도의 전도성 수직 연결부를 이용, 칩을 적층시킨다. The present invention is provided on top of the chip, and after exposing a chip pad of a predetermined height on the side, using a separate conductive vertical connection for electrically connecting the chip pad to stack the chips.
도 1 내지 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 적층방법을 설명하는 도면이다.1 to 5 are diagrams illustrating a chip stacking method according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따라 수직으로 적층되는 칩(100)이 개시된다.Referring to FIG. 1, a
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 칩(100) 상부에는 외부로의 신호선 연결을 위한 부재인 칩 패드(110)가 구비된다(도 1a). 특히, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 칩 패드(110)은 칩 내측으로 들어가있는 형태가 아니라, 칩의 외부 경계에 일측이 접하고 있는 형태이다(도 1b). 이로써 칩(100) 측면과 칩 패드(110) 측면은 외부로 동시에 노출될 수 있으며, 본 발명은 상기 노출되는 칩 패드(110) 측면을 칩간 인터커넥션 위치로 활용한다. The
도 2를 참조하면, 도 1의 칩(100) 및 칩 패드(110)을 포함하는 단위 칩(300)을 수직으로 적층한다. 이때 단위 칩(300)과 단위 칩(300) 사이에는 절연물질로 이루어진 제 1 접착층(310)이 구비되며, 이로써 단위 칩(300)과 단위 칩(300)은 소정 높이만큼 이격된, 칩-제 1 접착층-칩의 적층구조가 형성된다. 또한, 상기 제 1 접착층(310)의 도포에도 불구하고, 상기 칩 패드(110) 및 칩(100)의 측면은 외부로 노출된다. Referring to FIG. 2, the
도 3을 참조하면, 상기 칩 패드(110)와 칩(100) 측면 상에 절연성의 제 2 접착층(320)이 도포된다. 본 발명의 일 실시예에서 상기 제 1 및 제 2 접착제는 열경화성 접착제, 열가소성 접착제, 광경화성 접착제, 광 가소성 접착제 및 감광성 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어진 이종 물질일 수 있다.Referring to FIG. 3, an insulating second
도 4를 참조하면, 칩 패드(110)와 접촉하여, 칩을 전기적으로 연결시키는 돌출부재인 범프(330)가 복수 개 연결된 금속라인 형태의 전도성 연결부재(340)가 상기 제 2 접착층(320) 방향으로 눌려지며(압착되며), 그 결과 돌출부재인 범프(330)는 대응되는 칩 패드(110)와 접촉하게 된다(도 5 참조). 이와 같이 상기 하나 이상의 범프(330)가 하나 이상의 칩 패드와 각각 접촉함으로써, 상기 전도성 연결부재(340)는 수직 방향으로 적층된 칩간 전기적 인터커넥션을 구성하게 된다. 본 발명의 일 실시예에서 상기 전도성 연결부재는 인터커넥션을 구성하고자 하는 칩 패드를 전기적으로 수직 연결하는 금속 라인 형태인 것이 바람직하며, 따라서, 접착의 용이성 등을 위하여 상기 전도성 연결부재는 칩과 같은 별도 기판(350)에 패턴된 상태이다. 본 발명의 일 실시예에서 기판(350)은 바람직하게는 칩과 동일한 재질이며, 이로써 칩 어셈블리 전체적으로 동일한 열 팽창 계수 등의 물성을 가지게 되고, 더 나아가, 제 2 접착층에 의한 균일한 접착 강도를 기대할 수 있다. Referring to FIG. 4, a
본 발명의 일 실시예에서 상기 범프는 원추형, 반구 또는 평탄한 형상 등의 다양한 형상일 수 있으며, 본 발명의 범위는 본 명세서의 도면에 개시된 범프 형상에 한정되지 않는다. In one embodiment of the present invention, the bumps may be various shapes such as conical, hemispherical or flat, and the scope of the present invention is not limited to the bump shapes disclosed in the drawings of the present specification.
본 발명의 일 실시예에서 상기 전도성 연결부재(340)의 압착방향을 상기 연결부재(340)로부터 소정 방향으로 돌출된 범프(330)가 칩 패드(110)와 접촉할 수 있는 방향이어야 한다. 또한, 본 발명의 일 실시예에서 상기 압착은 열압착 접합, 초음파 접합, 열초음파 접합공정과 같이 소정의 열을 인가하는 방식의 압착이 바람직하다. 즉, 열을 인가함으로써 연성화된 제 2 접착층(320)을 범프(330)가 용이하게 침투할 수 있으며, 이로써 칩 패드와 범프의 전기적 접촉을 효과적으로 유도할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the compression direction of the
상기 범프(330)와 칩 패드(110)의 접촉 이후 상기 제 2 접착층(320)은 경화되며, 이로써 전도성 연결부재(340)가 상부에 패턴된 기판(350)은 는 제 2 접착층(320)에 기계적으로 견고하게 부착된다. 따라서, 상기 제 2 접착층(320)으로 인하여, 칩 측면의 별도 절연처리 공정이 불필요해지므로, 본 발명에 따른 칩 적층방법은 종래 기술에 비하여 공정 경제적이다. After contact between the
도 6은 도 5에 따른 범프(330)와 칩 패드(110) 간의 접촉부위에 대한 확대단면도이다.6 is an enlarged cross-sectional view of a contact portion between the
도 6을 참조하면, 제 2 접합층(320) 내부로 침투한 소정 높이의 돌출 금속 부재인 범프(330)는 칩 패드(110)와 접촉하며, 특히 상기 범프(330)의 수직 위치는 대응되는 칩 패드와 동일하거나, 이보다 조금 높은 것이 바람직한데, 이러한 구성을 통하여 칩 패드(110)와의 선택적인 접촉이 가능하기 때문이다.Referring to FIG. 6, the
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층된 칩 어셈블리의 구조를 설명하는 분리 사시도이다.7 is an exploded perspective view illustrating a structure of a stacked chip assembly according to an embodiment of the present invention.
도 7을 참조하면, 복수 개의 칩(100)이 수직 방향으로 적층되고, 상기 칩 사이에는 절연성인 제 1 접착층이 도포된 상태이다. 또한, 칩(100)과 상기 칩 상부에 구비된 칩 패드(110)는 측면이 노출된 상태이다. Referring to FIG. 7, a plurality of
또한, 상기 칩간 수직 방향의 인터커넥션을 구성하기 위한 기판(350)이 제 2 접착층에 의하여 상기 칩 측면과 접합하는데, 이때 상기 기판(350) 상에는 상기 칩 패드(110)의 접촉하는 범프(330)가 하나 이상 구비된 전도성 연결부재(340)가 상기 적층, 패턴된 상태이다. 도 7에서 점선으로 표시된 부분은 기판(350)의 반대쪽, 즉 칩 측면 방향으로 소정 높이만큼 돌출된 금속라인을 나타낸다. 이와 같이, 기판 상에 형성되는 금속 라인 형태의 전도성 연결부재는 통상적인 패터닝 기술만으로도 다양한 구조로 제조될 수 있는데, 이와 같은 측면 패터닝 구조를 통하여 본 발명은 복잡한 구조의 층간 인터커넥션을 효과적으로 구현한다. In addition, the
본 발명에서는 상술한 바와 같이 범프와의 접촉을 위하여, 칩의 경계와 동일한 경계, 즉, 칩 측면을 따라 형성된 칩 패드가 매우 중요하다. 이하 도면을 이용하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 제조방법을 설명한다. In the present invention, as described above, for the contact with the bumps, chip pads formed along the same boundary as the chip boundary, that is, along the chip side surface, are very important. Hereinafter, a chip manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 8는 웨이퍼 레벨에서 칩의 측면을 따라 패드가 형성되어 있는 적층용 칩을 제조하는 과정을 설명하기 위한 개략도이다. 8 is a schematic diagram illustrating a process of manufacturing a stacking chip in which pads are formed along side surfaces of a chip at a wafer level.
도 8을 참조하면, 먼저 칩 기판(100)상에 금속패드(110)를 증착한다. 상기 증착은 전기도금을 이용하여 범핑을 하거나, 써멀 이베이퍼레이터(Thermal evaporator), 이빔 이베이퍼레이터(E-beam evaporatior), 스퍼터링(Sputtering) 방식으로 수행될 수 있다. Referring to FIG. 8, first, a
이후, 특정 너비(w)를 갖는 다이싱블레이드나 레이저를 이용하여 금속 패드부분을 커팅하여 칩의 측면에 패드를 가공한다. 이로써 금속패드(110)의 소정 너비는 제거되며, 이로써 칩 패드(110)가 칩 경계를 따라 형성된 적층용 칩이 완성된다. Thereafter, the metal pad portion is cut by using a dicing blade or a laser having a specific width w to process the pad on the side of the chip. As a result, the predetermined width of the
이상에서 본 발명의 칩 적층방법에 대한 기술사항을 첨부도면과 함께 서술하였지만, 이는 이 발명의 가장 양호한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 이 발명을 한정하는 것은 아니다. The technical details of the chip stacking method of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the exemplary embodiments of the present invention are described by way of example and are not intended to limit the present invention.
또한, 이 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자이면 누구나 이 발명의 기술사상의 범주를 이탈하지 않고 첨부한 특허청구범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다. In addition, it is obvious that any person skilled in the art can make various modifications and imitations within the scope of the appended claims without departing from the scope of the technical idea of the present invention.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications and variations will be apparent to those skilled in the art.
따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
Claims (16)
제 1 접착층을 칩 상부에 도포한 후, 또 다른 칩을 상기 제 1 접착층 상에 제 1 접착시키는 방식으로, 칩-제 1 접착층-칩 형태의 칩 적층구조를 형성시키는 단계;
상기 칩 적층구조의 측면 상에 제 2 접착층을 적층하는 단계; 및
소정 높이의 범프가 하나 이상 형성된 전도성 연결부재를 상기 제 2 접착층 내부로 압착하는 단계를 포함하며, 여기에서 상기 칩 적층구조에서 상기 칩 패드는 측면에 노출된 상태이고, 상기 압착에 의하여 상기 범프는 상기 제 2 접착층 내부에서 상기 칩 패드와 접촉하여 제 2 접착되며, 상기 전도성 연결부재는 상기 칩 적층방향과 평행한 방향으로 상기 칩 측면에 압착되는 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.A stacking method of a chip having a chip pad provided thereon, the method
Forming a chip stack structure in the form of a chip-first adhesive layer-chip by applying a first adhesive layer over the chip, and then attaching another chip to the first adhesive layer first;
Stacking a second adhesive layer on a side of the chip stack; And
And compressing a conductive connection member having one or more bumps of a predetermined height into the second adhesive layer, wherein the chip pads are exposed to side surfaces of the chip stack structure, and the bumps are formed by the pressing. And a second adhesive layer in contact with the chip pad in the second adhesive layer, wherein the conductive connection member is pressed onto the chip side surface in a direction parallel to the chip stacking direction.
상기 전도성 연결부재는 또 다른 기판상에 패턴된 금속 라인인 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.The method of claim 1,
And the conductive connecting member is a metal line patterned on another substrate.
상기 제 1 접착층과 제 2 접착층은 절연 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.The method of claim 1,
And the first adhesive layer and the second adhesive layer are made of an insulating material.
상기 제 1 접착과 제 2 접착은 열압착 접합, 초음파 접합, 열초음파 접합공정 중 어느 하나의 방식으로 진행되는 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.The method of claim 1,
The first bonding and the second bonding is a chip stacking method, characterized in that the progress in any one of the process of thermocompression bonding, ultrasonic bonding, thermosonic bonding.
상기 칩 패드는 상기 칩 측면을 따라 형성되는 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.The method of claim 1,
The chip pad is characterized in that formed along the chip side.
상기 제 1 접착층과 제 2 접착층은 열경화성 접착제, 열가소성 접착제, 광경화성 접착제, 광 가소성 접착제 및 감광성 물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.The method of claim 1,
And the first adhesive layer and the second adhesive layer are selected from the group consisting of a thermosetting adhesive, a thermoplastic adhesive, a photocurable adhesive, a photoplastic adhesive, and a photosensitive material.
상기 범프는 원추형, 반구 또는 평탄한 형상인 것을 특징으로 하는 칩 적층방법.The method of claim 1,
And wherein said bumps are conical, hemispherical or flat.
상기 칩 어셈블리는
상부에 칩 패드가 형성된 칩 사이에 도포된 제 1 접착층;
상기 칩 측면에 형성된 제 2 접착층; 및
상기 제 2 접착층 상에 적층, 접합되며, 소정 높이의 범프가 하나 이상 형성된 전도성 연결 부재가 상부에 패턴된 기판을 포함하며, 여기에서 상기 범프는 상기 제 2 접착층 내부에서 상기 칩 패드와 접촉하며, 상기 전도성 연결부재는 상기 칩 적층방향과 평행한 방향으로 상기 칩 측면에 압착된 것을 특징으로 하는 칩 어셈블리. The method of claim 9,
The chip assembly is
A first adhesive layer applied between chips having chip pads formed thereon;
A second adhesive layer formed on the side of the chip; And
A substrate on which a conductive connection member stacked and bonded on the second adhesive layer and having at least one bump having a predetermined height is patterned thereon, wherein the bump contacts the chip pad within the second adhesive layer, And the conductive connecting member is pressed onto the side of the chip in a direction parallel to the stacking direction of the chip.
상기 전도성 연결부재는 상기 적층된 복수 개의 칩을 수직 방향으로 전기적으로 인터커넥션하는 것을 특징으로 하는 칩 어셈블리. The method of claim 10,
And the conductive connection member electrically interconnects the stacked plurality of chips in a vertical direction.
상기 제 1 접착층과 제 2 접착층은 절연 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 칩 어셈블리. 12. The method of claim 11,
And the first adhesive layer and the second adhesive layer are made of an insulating material.
칩 기판 상에 금속 패드를 적층하는 단계; 및
상기 적층된 금속패드 및 하부의 칩 기판을 절단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층용 칩 제조방법.A method for manufacturing a chip for lamination used in the lamination method according to any one of claims 1 to 4 and 6 to 8.
Depositing a metal pad on a chip substrate; And
And cutting the stacked metal pads and the lower chip substrate.
상기 적층은 써멀 이베이퍼레이터(Thermal evaporator), 이빔 이베이퍼레이터(E-beam evaporatior) 또는 스퍼터링(Sputtering) 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 적층용 칩 제조방법.The method of claim 14,
The stacking method of the stacking chip, characterized in that the thermal evaporator (Thermal evaporator), an e-beam evaporator (E-beam evaporator) or a sputtering (sputtering) method.
상기 절단은 특정 너비를 갖는 다이싱블레이드나 레이저를 이용하여 금속 패드부분을 절단하는 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 적층용 칩 제조방법.The method of claim 14,
The cutting is a method for manufacturing a chip for lamination, characterized in that the metal pad portion is cut using a dicing blade or laser having a specific width.
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