KR101202349B1 - 유기 발광 소자 - Google Patents
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Abstract
Description
화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.
유기 발광 소자 (organic light emitting device)는 자발광형 표시 소자로 시야각이 넓으며 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답시간이 빠르다는 장점을 가지고 있기 때문에 커다란 주목을 받고 있다.
이러한 유기 전계 발광 소자의 종류는 크게 발광층 (emitting layer)에 무기 화합물을 사용하는 무기 전계 발광 소자와 유기 화합물을 사용하는 유기 EL 소자가 있고, 이 중에서 특히 유기 EL 소자는 무기 전계 발광 소자에 비하여 휘도, 구동전압 및 응답속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 점에서 많은 연구가 이루어지고 있다.
유기 전계 발광 소자는 일반적으로 애노드/유기 발광층/캐소드의 적층구조를 갖고, 상기 애노드와 발광층 사이 또는 발광층과 캐소드 사이에 정공 주입층 및/또는 정공 수송층 및 전자 주입층을 더 적층하여 애노드/정공 수송층/유기 발광층/캐소드, 애노드/정공 수송층/유기 발광층/전자 수송층/캐소드 등의 구조를 갖는다.
이 중, 유기 발광층 재료로서 페난트렌 유도체 등이 사용될 수 있으나, 지금까지 알려진 유기 발광 재료를 포함한 유기 발광 소자는 수명, 효율 및 소비전력 특성이 만족할 만한 수준에 이르지 못하여 개선의 여지가 많다.
본 발명의 일 측면은 개선된 전기적 특성, 전하 수송 능력 및 발광 능력을 가지는 헤테로 고리 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 측면은 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 측면은 상기 유기 발광 소자를 구비한 평판 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 측면은 상기 유기 발광 소자의 하나 이상의 층이 상기 헤테로 고리 화합물을 사용하여 습식 공정으로 형성되는 유기 발광 소자를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따라, 하기 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물이 제공된다:
<화학식 1>
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 헤테로 고리 화합물의 R1 내지 R9은 각각 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 탄소수 1 내지 50의 치환 또는 비치환된 알킬기, 탄소수 3 내지 50의 치환 또는 비치환된 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 50의 치환 또는 비치환된 알콕시기, 탄소수 5 내지 50의 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 탄소수 5 내지 50의 치환 또는 비치환된 아릴싸이오기, 탄소수 5 내지 60의 치환 또는 비치환된 아릴기, 탄소수 5 내지 60의 아릴기로 치환된 아미노기, 탄소수 4 내지 60의 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 60의 치환 또는 비치환된 축합 다환기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 또는 카르복시기를 나타내며, R1 내지 R9는 인접하는 치환기의 1조가 서로 결합하여 방향환을 형성할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 헤테로 고리 화합물의 R1, R2, R3 또는 R6은 아릴기일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 헤테로 고리 화합물의 R6은 비치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기, 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기, 또는 탄소수 5 내지 50의 아릴아민기 또는; C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기, C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기, 할로겐기 또는 C5-C10 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 4 내지 60의 헤테로아릴기, 또는 C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 탄소수 5 내지 50의 아릴아민기일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 헤테로 고리 화합물의 R1은 비치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기 또는; C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기 또는 C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기, 할로겐기 또는 C5-C10 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 4 내지 60의 헤테로아릴기일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 헤테로 고리 화합물의 R2 또는 R3은 각각 독립적으로 메틸기 또는 페닐기일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 화합물들 중 하나일 수 있다:
본 발명의 다른 측면에 따라, 제 1 전극; 제 2 전극; 및 상기 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에 개재된 유기막을 구비한 유기 발광 소자로서, 상기 유기막이 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하는 유기 발광 소자가 제공된다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 유기막은 전자 주입층 또는 전자 수송층일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 유기막은 전자 주입 기능 및 전자 수송 기능을 동시에 갖는 단일막일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 유기막은 발광층일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 유기막은 발광층이며, 상기 헤테로 고리 화합물은 형광 또는 인광 호스트로 사용될 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 유기막은 발광층이며, 상기 헤테로 고리 화합물은 형광 도펀트로 사용될 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 발광층, 전자 주입층 또는 전자 수송층은 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하며, 상기 발광층은 안트라센 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 발광층, 전자 주입층 또는 전자 수송층은 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하며, 상기 발광층은 아릴아민 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 발광층, 전자 주입층 또는 전자 수송층은 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하며, 상기 발광층은 스티릴 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 전자 주입층 또는 전자 수송층은 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하며, 적색 발광층, 녹색 발광층, 청색 발광층 또는 백색 발광층은 인광 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자의 유기막은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자저지층, 발광층, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 유기 발광 소자는 제 1 전극/정공 주입층/발광층/제 2 전극, 제 1 전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/제 2 전극 또는 제 1 전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층 /전자 수송층/전자 주입층/제 2 전극 구조를 가질 수 있다.
본 발명의 또 다른 측면에 따라, 이러한 유기 발광 소자를 구비하고, 상기 유기 발광 소자의 제 1 전극이 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 전기적으로 연결된 평판 표시 장치가 제공된다.
본 발명의 또 다른 측면에 따라, 이러한 유기 발광 소자를 구비하고, 상기 유기 발광 소자의 하나 이상의 층이 상기 헤테로 고리 화합물을 사용하여 습식 공정으로 형성되는 유기 발광 소자가 제공된다.
본 발명의 일 구현예에 따른 헤테로 고리 화합물은 전기적 특성, 전하 수송 능력이 우수하며 발광 능력을 가지고 유리전이온도가 높고 결정화를 방지할 수 있는 재료로서 적색, 녹색, 청색, 흰색 등의 거의 모든 칼라의 형광과 인광 소자에 적합한 전자 수송 재료 또는 녹색, 청색, 흰색의 발광 재료로서 유용하며, 이를 이용하여 고효율, 저전압, 고휘도, 장수명의 유기 전계 발광 소자를 제작할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 소자의 구조를 나타낸 도면이다.
이하에서 본 발명을 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 헤테로 고리 화합물은 하기 화학식 1로 표시될 수 있다:
<화학식 1>
상기 식 중, R1 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 탄소수 1 내지 50의 치환 또는 비치환된 알킬기, 탄소수 3 내지 50의 치환 또는 비치환된 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 50의 치환 또는 비치환된 알콕시기, 탄소수 5 내지 50의 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 탄소수 5 내지 50의 치환 또는 비치환된 아릴싸이오기, 탄소수 5 내지 60의 치환 또는 비치환된 아릴기, 탄소수 5 내지 60의아릴기로 치환된 아미노기, 탄소수 4 내지 60의 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 60의 치환 또는 비치환된 축합 다환기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 또는 카르복시기를 나타내며, R1 내지 R9는 인접하는 치환기의 1조가 서로 결합하여 방향환을 형성할 수 있다.
유기 발광 소자를 구성하는 발광층이나 전자 수송층 재료로서 공지의 물질인 Alq3, TPBI(2,2',2"-(1,3,5-phenylene) tris (1-phenyl)-1H-benzimidazol), PBD(2-Biphenyl-4-yl-5-(4-tert-butyl-phenyl)-[1,3,4]oxadiazole), PF-6P(perfluoronated chemical:퍼플루오리네이티드 화합물), PyPySPyPy(2,5-bis(6'-(2',2"-bipyridyl))-1,1-dimethyl-3,4-diphenylsiylol:2,5-비스(6'-(2',2"-비피리딜))-1,1-디메틸-3,4-디페닐시롤) 등이 잘 알려져 있으나, 지금까지 알려진 재료들로 이루어진 유기 발광 소자는 수명, 효율 및 소비 전력 특성이 만족할 만한 수준에 이르지 못하여 개선의 여지가 많다.
페난트렌기 및 인돌기가 화학식 1과 같이 융합된 이러한 화합물을 이용하여 제조된 유기 발광 소자는 보존 시 및 구동 시의 내구성이 높다. 또 플루오렌기, 나프틸기 등의 치환기의 도입으로 필름 상태의 분자막 상태가 개선되어 유기 전계 발광 소자의 특성을 향상시키는 장점이 있다.
상기 화학식 1의 화합물의 치환기에 대해서 좀 더 상세히 서술한다.
상기 식 중, R1, R2, R3 또는 R6은 아릴기일 수 있다. 상기 아릴기는 나중에 설명하는 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환된 아릴기일 수 있다.
상기 식 중, R6은 비치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기, 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기, 또는 탄소수 5 내지 50의 아릴아민기 또는; C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기, C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기, 할로겐기 또는 C5-C10 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 4 내지 60의 헤테로아릴기, 또는 C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 탄소수 5 내지 50의 아릴아민기일 수 있다.
상기 식 중, R1은 비치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기 또는; C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기 또는 C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기, 할로겐기 또는 C5-C10 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 4 내지 60의 헤테로아릴기일 수 있다.
상기 식 중, R2 또는 R3은 각각 독립적으로 메틸기 또는 페닐기일 수 있다.
이하, 본 발명의 화학식들에서 사용된 그룹 중 대표적인 그룹의 정의를 살펴보면 다음과 같다(치환기를 한정하는 탄소 수는 비제한적인 것으로서 치환기의 특성을 한정하지는 않는다).
상기 화학식에서, 비치환된 C1-C50 알킬기는 선형 및 분지형일 수 있으며, 이의 비제한적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소부틸, sec-부틸, 펜틸, iso-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노나닐, 도데실 등을 들 수 있고, 상기 알킬기 중 하나 이상의 수소 원자는 중수소 원자, 할로겐 원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기, 아미디노기, 히드라진, 히드라존, 카르복실기나 그의 염, 술폰산기나 그의 염, 인산이나 그의 염, 또는 C1-C10 알킬기, C1-C10 알콕시기, C2-C10 알케닐기, C2-C10 알키닐기, C6-C16 아릴기, 또는 C4-C16 헤테로아릴기로 치환될 수 있다.
상기 화학식에서, 비치환된 C3-C50 사이클로알킬기는 탄소 수 3 내지 50의 고리 형태의 알킬기를 의미하며, 상기 사이클로알킬기 중 하나 이상의 수소 원자는 상술한 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환 가능하다.
상기 화학식에서, 탄소수 1 내지 50의 비치환된 알콕시기란 -OA(여기서, A는 상술한 바와 같은 비치환된 C1-C50 알킬기임)의 구조를 갖는 그룹으로서, 이의 비제한적인 예로서, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로필옥시, 부톡시, 펜톡시, 등을 들 수 있다. 이들 알콕시기 중 적어도 하나 이상의 수소원자는 상술한 알킬기의 경우와 마찬가지의 치환기로 치환가능하다.
상기 화학식 중, 비치환된 C5-C60 아릴기는 하나 이상의 고리를 포함하는 카보사이클 방향족 시스템을 의미하며, 2 이상의 고리를 가질 수 경우, 서로 융합되거나, 단일 결합 등을 통하여 연결될 수 있다. 아릴이라는 용어는 페닐, 나프틸, 안트라세닐과 같은 방향족 시스템을 포함한다. 또한, 상기 아릴기 중 하나 이상의 수소 원자는 상술한 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환 가능하다.
치환 또는 비치환된 C5-C60 아릴기의 예로는 페닐기, C1-C10 알킬페닐기(예를 들면, 에틸페닐기), 할로페닐기(예를 들면, o-, m- 및 p-플루오로페닐기, 디클로로페닐기), 시아노페닐기, 디시아노페닐기, 트리플루오로메톡시페닐기, 비페닐기, 할로비페닐기, 시아노비페닐기, C1-C10 알킬비페닐기, C1-C10 알콕시비페닐기, o-, m-, 및 p-토릴기, o-, m- 및 p-쿠메닐기, 메시틸기, 페녹시페닐기, (α,α-디메틸벤젠)페닐기, (N,N'-디메틸)아미노페닐기, (N,N'-디페닐)아미노페닐기, 펜타레닐기, 인데닐기, 나프틸기, 할로나프틸기(예를 들면, 플루오로나프틸기), C1-C10 알킬나프틸기(예를 들면, 메틸나프틸기), C1-C10 알콕시나프틸기(예를 들면, 메톡시나프틸기), 시아노나프틸기, 안트라세닐기, 아즈레닐기, 헵타레닐기, 아세나프틸레닐기, 페나레닐기, 플루오레닐기, 안트라퀴놀일기, 메틸안트릴기, 페난트릴기, 트리페닐렌기, 피레닐기, 크리세닐기, 에틸-크리세닐기, 피세닐기, 페릴레닐기, 클로로페릴레닐기, 펜타페닐기, 펜타세닐기, 테트라페닐레닐기, 헥사페닐기, 헥사세닐기, 루비세닐기, 코로네릴기, 트리나프틸레닐기, 헵타페닐기, 헵타세닐기, 피란트레닐기, 오바레닐기 등을 들 수 있다.
상기 화학식 중, 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기는 N, O, P 또는 S 중에서 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자를 포함하고, 2 이상의 고리를 가질 경우, 이들은 서로 융합되거나, 단일 결합 등을 통하여 연결될 수 있다. 비치환된 C4-C60 헤테로아릴기의 예에는, 피라졸일기, 이미다졸일기, 옥사졸일기, 티아졸일기, 트리아졸일기, 테트라졸일기, 옥사디아졸일기, 피리디닐기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 트리아지닐기, 카바졸일기, 인돌일기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기 등을 들 수 있다. 또한 상기 헤테로아릴기 중 하나 이상의 수소 원자는 상술한 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환 가능하다.
상기 화학식 중, 탄소수 5 내지 50의 비치환된 아릴옥시기란 -OA1으로 표시되는 그룹으로서, 이 때 A1은 상기 C5-C60 아릴기와 탄소수만 다를 뿐 동일한 종류의 작용기이다. 상기 아릴옥시기의 예로는 페녹시기 등을 들 수 있다. 상기 아릴 옥시기 중 하나 이상의 수소 원자는 상술한 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환 가능하다.
상기 화학식 중, 탄소수 5 내지 50의 비치환된 아릴싸이오기는 -SA1으로 표시되는 그룹으로서, 이 때 A1은 상기 C5-C60 아릴기 아릴기와 탄소수만 다를 뿐 동일한 종류의 작용기이다. 상기 아릴싸이오기의 예로는 벤젠싸이오기, 나프틸싸이오기 등을 들 수 있다. 상기 아릴싸이오기 중 하나 이상의 수소 원자는 상술한 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환 가능하다.
상기 화학식 중, 비치환된 C6-C60 축합 다환기란, 하나 이상의 방향족 고리 및/또는 하나 이상의 비방향족 고리가 서로 융합된 2 이상의 고리를 포함한 치환기를 가리키는 것으로서, 상술한 바와 같은 아릴기 또는 헤테로아릴기의 예 중 일부 이상은 상기 축합 다환기에 포함될 수 있다.
상기 화학식 중, 탄소수 5 내지 50의 아릴아민기는 탄소수 5 내지 50의 아릴기로 치환된 아미노기를 다르게 표현한 것일 뿐 동일한 기이며, 치환된 탄소수 5 내지 50의 아릴아민기에서 치환은 아릴기에 치환된 것을 의미한다.
이하 본 발명의 상기 화학식 1로 표현되는 화합물의 구체적인 예로서, 하기 화합물 1 내지 55를 들 수 있다. 그러나 본 발명의 화학식 1로 표현되는 화합물이 이들 화합물들로 한정되어서는 안 된다.
본 발명의 일 구현예를 따르는 유기 발광 소자는 제 1 전극; 제 2 전극; 및 상기 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에 전술한 바와 같은 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물을 포함한 유기막을 구비한다.
본 발명의 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물을 포함한 유기막은 전자 주입층 또는 전자 수송층일 수 있으며, 전자 주입 기능 및 전자 수송 기능을 동시에 갖는 단일막일 수도 있다. 또는 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물을 포함한 유기막은 발광층일 수도 있다. 상기 유기막이 발광층인 경우, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물은 형광 또는 인광 호스트로 사용될 수 있거나, 또는 형광 도펀트로 사용될 수도 있다.
본 발명의 일 구현예에 따른 상기 유기 발광 소자의 발광층, 전자 주입층 또는 전자 수송층이 상기 화합물을 포함하는 경우, 상기 발광층은 공지의 안트라센 화합물, 아릴아민 화합물 또는 스티릴 화합물을 포함할 수 있으며, 상기 안트라센 화합물, 아릴아민 화합물 또는 스티릴 화합물은 비치환 되거나 또는 상술한 C1-C50 알킬기의 치환기와 동일한 치환기로 치환 가능하다.
본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 소자의 전자 주입층 또는 전자 수송층이 상기 헤테로 고리 화합물을 포함하는 경우, 적색 발광층, 녹색 발광층, 청색 발광층 또는 백색 발광층은 공지의 인광 화합물을 포함할 수 있다.
한편, 상기 제 1 전극은 애노드이고, 상기 제 2 전극은 캐소드일 수 있는데, 이와 반대의 경우도 물론 가능하다.
전술한 바와 같은 유기 발광 소자는 필요에 따라, 상기 유기막은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 저지층, 발광층, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중 하나 이상의 층을 더 구비할 수 있고, 필요에 따라서는 상기 유기막의 각 층들을 2층으로 형성하는 것도 가능하다.
예를 들어, 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 소자는, 제 1 전극/정공 주입층/발광층/제 2 전극, 제 1 전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/제 2 전극 또는 제 1 전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층 /전자 수송층/전자 주입층/제 2 전극 구조를 가질 수 있다. 또는 상기 유기 발광 소자는 제 1 전극/정공 주입 기능 및 정공 수송 기능을 동시에 갖는 단일막 /발광층/전자 수송층/제 2 전극 또는 제 1 전극/정공 주입 기능 및 정공 수송 기능을 동시에 갖는 단일막/발광층/전자 수송층/전자 주입층/제 2 전극 구조를 가질 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 소자는 전면 발광형, 배면 발광형 등 다양한 구조로 적용 가능하다.
이하, 본 발명을 따르는 유기 발광 소자의 제조 방법을 도 1에 도시된 유기 발광 소자를 참조하여, 살펴보기로 한다. 도 1의 유기 발광 소자는 기판, 제 1 전극 (애노드), 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 및 제 2 전극 (캐소드)를 구비하고 있다.
먼저 기판 상부에 높은 일함수를 갖는 제 1 전극용 물질을 증착법 또는 스퍼터링법 등에 의해 형성하여 제 1 전극을 형성한다. 상기 제 1 전극은 애노드 (Anode) 또는 캐소드 (cathode)일 수 있다. 여기에서 기판으로는 통상적인 유기 발광 소자에서 사용되는 기판을 사용하는데 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판이 바람직하다. 제 1 전극용 물질로는 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO), Al, Ag, Mg 등을 이용할 수 있으며, 투명 전극 또는 반사 전극으로 형성될 수 있다.
다음으로, 상기 제 1 전극 상부에 진공 증착법, 스핀 코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 다양한 방법을 이용하여 정공 주입층(HIL)을 형성할 수 있다.
진공 증착법에 의하여 정공 주입층을 형성하는 경우, 그 증착 조건은 정공 주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적으로 하는 정공 주입층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 증착온도 100 내지 500℃, 진공도 10-8 내지 10-3torr, 증착속도 0.01 내지 100Å/sec의 범위에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다.
스핀 코팅법에 의하여 정공 주입층을 형성하는 경우, 그 코팅 조건은 정공 주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적하는 하는 정공 주입층의 구조 및 열적 특성에 따라 상이하지만, 약 2000rpm 내지 5000rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 열처리 온도는 약 80℃ 내지 200℃의 온도 범위에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다.
상기 정공 주입층 물질로는 공지된 정공 주입 재료를 사용할 수 있는데, 예를 들면, 구리프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물, m-MTDATA [4,4',4''-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine], NPB(N,N'-디(1-나프틸)-N,N'-디페닐벤지딘(N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine)), TDATA, 2-TNATA, Pani/DBSA (Polyaniline/Dodecylbenzenesulfonic acid:폴리아닐린/도데실벤젠술폰산), PEDOT/PSS(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/Poly(4-styrenesulfonate):폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(4-스티렌술포네이트)), Pani/CSA (Polyaniline/Camphor sulfonicacid:폴리아닐린/캠퍼술폰산) 또는 PANI/PSS (Polyaniline)/Poly(4-styrenesulfonate):폴리아닐린)/폴리(4-스티렌술포네이트))등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 정공 주입층의 두께는 약 100Å 내지 10000Å, 바람직하게는 100Å 내지 1000Å일 수 있다. 상기 정공 주입층의 두께가 상기 범위를 만족할 경우, 구동전압 상승없이, 우수한 정공주입 특성을 얻을 수 있다.
다음으로 상기 정공 주입층 상부에 진공 증착법, 스핀 코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 다양한 방법을 이용하여 정공 수송층(HTL)을 형성할 수 있다. 진공 증착법 및 스핀팅법에 의하여 정공 수송층을 형성하는 경우, 그 증착조건 및 코팅조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공 주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.
상기 정공 수송층 물질은 공지된 정공 수송층 물질을 이용할 수 있는데, 예를 들면, N-페닐카바졸, 폴리비닐카바졸 등의 카바졸 유도체, NPB, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4'-디아민(TPD) 등의 방향족 축합환을 갖는 아민 유도체 등을 사용할 수 있다. 이 중, 예를 들면, TCTA의 경우, 정공 수송 역할 외에도, 발광층으로부터 엑시톤이 확산되는 것을 방지하는 역할도 수행할 수 있다.
상기 정공 수송층의 두께는 약 50Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 600Å일 수 있다. 상기 정공 수송층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동전압 상승없이 우수한 정공수송 특성을 얻을 수 있다.
다음으로 상기 정공 수송층 상부에 진공 증착법, 스핀 코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법을 이용하여 발광층 (EML)을 형성할 수 있다. 진공 증착법 및 스핀 코팅법에 의해 발광층을 형성하는 경우, 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공 주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.
상기 발광층은 전술한 바와 같은 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물은 호스트 또는 도펀트로서 사용될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물 외에, 발광층은 공지된 다양한 발광 물질을 이용하여 형성할 수 있는데, 공지의 호스트 및 도펀트를 이용하여 형성할 수도 있다. 상기 도펀트의 경우, 공지의 형광 도펀트 및 공지의 인광 도펀트를 모두 사용할 수 있다.
예를 들어, 호스트로서는 Alq3, CBP(4,4'-N,N'-디카바졸-비페닐), 9,10-디(나프탈렌-2-일)안트라센(ADN), 또는 DSA(디스티릴아릴렌) 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 공지된 적색 도펀트로서 PtOEP, Ir(piq)3, Btp2Ir(acac), DCJTB 등을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 공지된 녹색 도펀트로서, Ir(ppy)3 (ppy = 페닐피리딘), Ir(ppy)2(acac), Ir(mpyp)3, C545T 등을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 공지된 청색 도펀트로서, F2Irpic, (F2ppy)2Ir(tmd), Ir(dfppz)3, ter-플루오렌(fluorene), 4,4'-비스(4-디페닐아미노스타릴) 비페닐 (DPAVBi), 2,5,8,11-테트라-티-부틸 페릴렌 (TBP) 등을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 도펀트의 함량은 발광층 형성재료 100 중량부 (즉, 호스트와 도펀트의 총중량은 100중량부로 함)를 기준으로 하여 0.1 내지 20 중량부, 특히 0.5 ~ 12 중량부인 것이 바람직하다. 도펀트의 함량이 상기 범위를 만족하면, 농도 소광 현상이 실질적으로 방지될 수 있다.
상기 발광층의 두께는 약 100Å 내지 1000Å, 바람직하게는 200Å 내지 600Å일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 상기 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동전압 상승없이 우수한 발광 특성을 얻을 수 있다.
발광층이 인광 도펀트를 포함할 경우, 삼중항 여기자 또는 정공이 전자 수송층으로 확산되는 현상을 방지하기 위하여 정공 저지층 (HBL)을 발광층 상부에 형성할 수 있다 (도 1에는 미도시됨). 이 때 사용할 수 있는 정공 저지층 물질은 특별히 제한되지는 않으며, 공지된 정공 저지층 물질 중에서 임의로 선택하여 이용할 수 있다. 예를 들면 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, Balq, BCP 등을 이용할 수 있다.
상기 정공 저지층의 두께는 약 50Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 300Å일 수 있다. 상기 정공 저지층의 두께가 50Å 미만인 경우, 정공저지 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공 저지층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.
다음으로 전자 수송층(ETL)을 진공 증착법, 또는 스핀 코팅법, 캐스트법 등의 다양한 방법을 이용하여 형성한다. 진공 증착법 및 스핀 코팅법에 의해 전자 수송층을 형성하는 경우, 그 조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공 주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.
상기 전자 수송층 물질은 전술한 바와 같은 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물일 수 있다. 또는 공지된 전자 수송층 형성 재료 중에서 임의로 선택될 수 있다. 예를 들면, 이의 예로는, 퀴놀린 유도체, 특히 트리스(8-퀴놀리노레이트)알루미늄(Alq3), TAZ, Balq 등과 같은 공지의 재료를 사용할 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 전자 수송층의 두께는 약 100Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 500Å일 수 있다. 상기 전자 수송층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 상승없이 우수한 전자수송특성을 얻을 수 있다.
또한 전자 수송층 상부에 음극으로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 기능을 가지는 물질인 전자 주입층 (EIL)이 적층될 수 있다.
전자 주입층으로서는 전술한 바와 같은 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물일 수 있다. 또는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등과 같은 전자 주입층 형성 재료로서 공지된 임의의 물질을 이용할 수 있다. 상기 전자 주입층의 증착조건 및 코팅조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공 주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.
상기 전자 주입층의 두께는 약 1Å 내지 100Å, 바람직하게는 5Å 내지 90Å일 수 있다. 상기 전자 주입층의 두께가 상술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동전압 상승없이 우수한 전자주입 특성을 얻을 수 있다.
마지막으로 전자 주입층 상부에 진공 증착법이나 스퍼터링법 등의 방법을 이용하여 제 2 전극을 형성할 수 있다. 상기 제 2 전극은 캐소드 또는 애노드로 사용될 수 있다. 상기 제 2 전극 형성용 물질로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기전도성 화합물 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag)등을 들 수 있다. 또한, 전면 발광 소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 사용한 투명 캐소드를 사용할 수도 있다.
본 발명을 따르는 유기 발광 소자는 다양한 형태의 평판 표시 장치, 예를 들면 수동 매트릭스 유기 발광 표시 장치 및 능동 매트릭스 유기 발광 표시 장치에 구비될 수 있다. 특히, 능동 매트릭스 유기 발광 표시 장치에 구비되는 경우, 기판 측에 구비된 제 1 전극은 화소 전극으로서 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극와 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 유기 발광 소자는 양면으로 화면을 표시할 수 있는 평판 표시 장치에 구비될 수 있다.
또한 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 소자의 하나 이상의 층은 상기 화학식 1의 화합물을 사용하여 증착 방법으로 형성될 수 있거나, 또는 용액으로 제조된 화학식 1의 화합물을 코팅하는 습식 방법으로도 형성될 수 있다.
이하에서, 본 발명을 화합물 16, 25, 27 및 40의 바람직한 합성예 및 실시예를 구체적으로 예시하지만, 본 발명이 하기의 실시예로 한정되는 것을 의미하는 것은 아니다.
합성예
중간체 C-1의 합성
1,5-Dibromonaphthalene (28.6 g, 100 mmole), benzophenone hydrazone (11.7 g, 60 mmole), Pd(OAc)2 (330 mg, 3 mol%), KOtBu (7.3g, 75.0 mmole) 혼합물에 톨루엔 300 mL를 가하고 질소분위기, 90 ˚C 에서 4시간 가열 하였다. 반응 혼합물을 실온으로 식힌 후 물 100 mL를 가하고 염화메틸렌 500 mL로 두 차례 추출하였다. 유기층을 건조, 여과, 농축 시키고 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 화합물 C-1을 노란색 고체로 얻었다. (16.8 g, 84 %) 화합물의 구조는 HRMS를 이용하여 확인하였다. (calc.; 400.0575, found; 400.0561)
중간체 C-2의 합성
화합물 C-1 (20.1 g, 50 mmole), pTSA.H2O (38.0 g, 200 mmole), 메틸에틸키톤 50 mL 혼합물에 톨루엔 100 mL, 에탄올 50 mL를 가하고 90 ˚C 에서 36시간 가열 하였다. 반응 혼합물을 실온으로 식힌 후 물 100 mL를 가하고 염화메틸렌 200 mL로 두 차례 추출하였다. 유기층을 건조, 여과, 농축 시키고 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 화합물 C-2를 연록색 고체로 얻었다. (9.3 g, 68 %) 화합물의 구조는 HRMS를 이용하여 확인하였다. (calc.; 273.0153, found; 273.0148)
중간체 C-3의 합성
화합물 C-2 (8.3 g, 30 mmole), bipyridyl 보론산 (6.6 g, 33 mmole), Pd(PPh3)4 (1.7 g, 5 mol %), NaOH (4.8 g, 120 mmole)에 물 30 mL, THF 100 mL를 가하고 질소분위기, 70 ˚C 에서 12시간 가열 하였다. 반응 혼합물을 실온으로 식힌 후 물 50 mL를 가하고 염화메틸렌 300 mL로 두 차례 추출하였다. 유기층을 건조, 여과, 농축 시키고 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 화합물 C-3을 미색 고체로 얻었다. (6.07 g, 58 %) 화합물의 구조는 HRMS를 이용하여 확인하였다. (calc.; 349.1579, found; 349.1568)
화합물 16의 합성
화합물 C-3 (13.3 g, 30.0 mmole), 2-bromonaphthalene (8.07 g, 39.0 mmole), NaOtBu 4.3 g (45.0 mmole), Pd2(dba)3 1.4g (1.5 mmole), PtBu3(0.30 g, 1.5 mmole)의 혼합물에 톨루엔 100 mL를 가하고 질소분위기, 90 ˚C 에서 6시간 가열 하였다. 반응 혼합물을 실온으로 식힌 후 물 30 mL를 가하고 염화메틸렌 200 mL로 두 차례 추출하였다. 유기층을 건조, 여과, 농축 시키고 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 화합물 16을 연노랑 고체로 얻었다. (9.2 g, 65 %) 화합물의 구조는 NMR 및 HRMS를 이용하여 확인하였다.
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ (ppm); 8.12-8.75 (m, 5H), 6.89-7.78 (m, 19H), 2.44 (s, 3H), 2.41 (s, 3H). 13-C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ (ppm); 162.2, 160.4, 158.6, 138.8, 138.4, 138.1, 136.7, 134.8, 133.8, 133.0, 132.2, 132.0, 130.7, 129.6, 129.0, 128,2, 127.2, 126.5, 126.2, 124.3, 122.6, 122.0 119.6, 119.2, 118.5, 118.0, 116.7, 116.4, 116.0, 114.2, 112,1, 12.1, 8.1.
HRMS (calc.; 475.2048, found; 475.2040)
화합물 25의 합성
화합물 16의 합성법과 동일한 방법으로 화합물 C-3 (13.3 g, 30.0 mmole)과 2-(4-Bromo-phenyl)-1-phenyl-1H-benzoimidazole (13.6 g, 39.0 mmole)이용하여 화합물 25를 연노랑 고체 (10.0 g, 50 %)로 얻었다. 화합물의 구조는 NMR 및 HRMS를 이용하여 확인하였다.
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ (ppm); 8.22-8.65 (m, 5H), 6.99-7.65 (m, 20H), 2.40 (s, 3H), 2.31 (s, 3H). 13-C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ (ppm); 164.3, 162.3, 159.7, 140.8, 140.4, 139.4, 136.7, 135.8, 134.8, 133.7, 132.6, 132.0, 130.3, 129.1, 128.1, 127.2, 126.6, 126.1, 124.8, 122.1, 119.8, 119.2, 118.5, 118.0, 116.7, 116.4, 116.0, 114.2, 112,1, 15.1, 10.6.
HRMS (calc.; 617.2579, found; 617.2571)
화합물 27의 합성
화합물 16의 합성법과 동일한 방법으로 화합물 C-3 (13.3 g, 30.0 mmole)과 6-bromo bipyridyl (9.12 g, 39.0 mmole)이용하여 화합물 27을 연노랑 고체 (7.9 g, 43 %)로 얻었다. 화합물의 구조는 NMR 및 HRMS를 이용하여 확인하였다.
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ (ppm); 8.02-8.43 (m, 4H), 7.02-7.85 (m, 15H), 2.42 (s, 3H), 2.32 (s, 3H). 13-C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ (ppm); 160.3, 159.3, 158.3, 150.8, 146.4, 139.8, 138.7, 137.8, 137.1, 136.5, 136.0, 134.3, 131.6, 131.0, 130.3, 129.1, 128.1, 127.4, 126.6, 126.1, 125.4, 124.8, 122.1, 119.8, 119.2, 118.5, 116.7, 116.4, 116.0, 114.2, 14.1, 9.5.
HRMS (calc.; 503.2110, found; 503.2101)
중간체 C-4의 합성
화합물 C-2의 합성법과 동일한 방법으로 메틸에틸키톤 대신 벤질페닐키톤 (19.6 g, 100 mmole)을 사용하여 화합물 C-4를 미색 고체 (12.3 g, 62 %)로 얻었다. 화합물의 구조는 HRMS를 이용하여 확인하였다. (calc.; 397.0466, found; 397.0456)
중간체 C-5의 합성
화합물 C-3의 합성법과 동일한 방법으로 화합물 C-4 (11.9 g, 30 mmole)와 bipyridyl 보론산 (6.6 g, 33 mmole)을 이용하여 화합물 C-5를 미색 고체 (10.6 g, 75 %)로 얻었다. 화합물의 구조는 HRMS를 이용하여 확인하였다. (calc.; 473.1892, found; 473.1883)
화합물 40의 합성
화합물 16의 합성법과 동일한 방법으로 화합물 C-5 (13.0 g, 30 mmole)와 브로모 나프탈렌 (6.8 g, 33 mmole)을 이용하여 화합물 40을 연노랑 고체 (8.8 g, 62 %)로 얻었다. 화합물의 구조는 NMR 및 HRMS를 이용하여 확인하였다.
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ (ppm); 8.23-8.53 (m, 5H), 7.06-7.86 (m, 24H). 13-C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ (ppm); 158.3, 153.3, 152.3, 139.7, 138.5, 137.5, 137.1, 136.5, 136.2, 135.3, 134.2, 133.5, 132.1, 131.6, 131.0, 130.3, 129.1, 128.1, 127.8, 127.4, 126.6, 126.1, 125.4, 124.8, 122.1, 121.7, 121.0, 119.8, 119.2, 118.5, 116.7, 116.4, 116.0, 114.2.
HRMS (calc.; 599.2361, found; 599.2352)
실시예
1
애노드는 코닝 (corning) 15Ωcm2 (1200Å) ITO 유리 기판을 50mm × 50mm × 0.7mm 크기로 잘라서 이소프로필 알코올과 순수를 이용하여 각 5분 동안 초음파 세정한 후, 30분 동안 자외선을 조사하고 오존에 노출시켜 세정하고 진공증착장치에 이 유리기판을 설치하였다.
상기 기판 상부에 우선 정공 주입층으로서 공지의 물질인 2-TNATA를 진공 증착하여 600Å 두께로 형성한 후, 이어서 정공 수송성 화합물로서 공지의 물질인 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐(이하, NPB)을 300Å의 두께로 진공 증착하여 정공 수송층을 형성하였다.
상기 정공 수송층 상부에 공지의 녹색 형광 호스트인 Alq3와 공지의 녹색 형광 도펀트인 C545T를 중량비 98 : 2로 동시 증착하여 300Å의 두께로 발광층을 형성하였다.
이어서 상기 발광층 상부에 전자 수송층으로서 화합물 16을 300Å의 두께로 증착한 후, 상기 전자 수송층 상부에 전자 주입층으로서 할로겐화 알칼리금속인 LiF를 10Å의 두께로 증착하고, Al를 3000Å(음극 전극)의 두께로 진공 증착하여 LiF/Al 전극을 형성함으로써 유기 발광 소자를 제조하였다.
상기 소자는 전류 밀도 50mA/㎠에서 구동 전압 5.97V, 발광 휘도 8,454cd/㎡의 고휘도를 나타냈으며, 색좌표는 (0.311, 0.642)이고 발광 효율은 16.91cd/A이었다.
실시예
2
전자 수송층 형성시 상기 화합물 16 대신 화합물 25을 이용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 하여 유기 EL 소자를 제작했다.
이 소자는 전류밀도 50mA/㎠에서 구동전압 5.63V, 발광 휘도 8,848cd/㎡의 고휘도를 나타냈으며, 색좌표는 (0.310, 0.642)이고 발광 효율은 17.70cd/A이었다.
실시예
3
전자 수송층 형성시 상기 화합물 16 대신 화합물 27을 이용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 하여 유기 발광 소자를 제작한다.
상기 소자는 전류 밀도 50mA/㎠에서 구동 전압 5.82V, 발광 휘도 8,376cd/㎡의 고휘도를 나타냈으며, 색좌표는 (0.309, 0.643)이고 발광 효율은 16.75cd/A이었다.
실시예
4
전자 수송층 형성시 상기 화합물 16 대신 화합물 40를 이용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 하여 유기 발광 소자를 제작했다.
상기 소자는 전류 밀도 50mA/㎠에서 구동 전압 5.58V, 발광 휘도 8,651cd/㎡의 고휘도를 나타냈으며, 색좌표는 (0.310, 0.642)이고 발광 효율은 17.30cd/A이었다.
비교예
1
전자 수송층 형성시 상기 화합물 16 대신 공지의 물질인 Alq3을 이용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 하여 유기 발광 소자를 제작했다.
상기 소자는 전류 밀도 50mA/㎠에서 구동 전압 7.45V, 발광 휘도 6,102cd/㎡를 나타냈고, 색좌표는 (0.309, 0.642)로 거의 동일했으며 발광 효율은 12.2cd/A이었다.
본 발명의 일실시예에 따른 헤테로 고리 화합물들을 전자 수송재료로 유기 발광 장치에 사용한 결과, 모두가 공지의 물질인 Alq3와 비교해서 구동 전압이 1V 이상 낮아졌으며 효율이 대폭 향상된 우수한 I-V-L 특성을 나타내었고 특히 수명 개선 효과가 탁월하여 실시예 1 내지 4의 경우 비교예 1 대비 수명이 100% 이상 향상되는 결과를 나타내었다. 대표 수명 결과를 요약하여 아래의 표 1에 나타내었다.
전자수송재료 | 구동전압 (V) |
전류밀도 (㎃/㎠) |
휘도 (cd/㎡) |
효율 (cd/A) |
색좌표 | 반감수명 (hr @100㎃/㎠) |
|
실시예 1 | 화합물 16 | 5.97 | 50 | 8,454 | 16.91 | (0.311, 0.642) | 495 hr |
실시예 2 | 화합물 25 | 5.63 | 50 | 8,848 | 17.70 | (0.310, 0.642) | 550 hr |
실시예 3 | 화합물 27 | 5.82 | 50 | 8,376 | 16.75 | (0.309, 0.643) | 480 hr |
실시예 4 | 화합물 40 | 5.58 | 50 | 8,651 | 17.30 | (0.310, 0.642) | 523 hr |
비교예 1 | Alq3 | 7.45 | 50 | 6,102 | 12.2 | (0.309, 0.642) | 237 hr |
본 발명에 대해 상기 합성예 및 실시예를 참고하여 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명에 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
Claims (18)
- 하기 화학식 1로 표시되는 헤테로 고리 화합물:
<화학식 1>
상기식 중,
상기 R1은 비치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기 또는; C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기 또는 C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 아민기, 페녹시기, 페닐기, 할로겐기 또는 C5-C10 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 4 내지 60의 헤테로아릴기이고,
상기 R2 및 R3은 각각 독립적으로 메틸기 또는 페닐기이고,
상기 R6은 비치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기, 탄소수 4 내지 60의 비치환된 헤테로아릴기, 또는 탄소수 6 내지 50의 아릴아민기 또는; C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기, 터페닐기, 안트라센기, 플루오레닐기, 카바졸릴기 및 피렌기에서 선택되는 1 내지 4환의 아릴기, C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 페녹시기, 페닐기, 할로겐기 또는 C5-C10 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 4 내지 60의 헤테로아릴기, 또는 C1-C5 알킬기, C1-C5 알콕시기, 시아노기, 페녹시기, 페닐기 또는 할로겐기로 치환된 탄소수 6 내지 50의 아릴아민기이며,
R4, R5, R7, R8 및 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 중수소를 나타낸다. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제 1 전극;
제 2 전극; 및
상기 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에 개재된 유기막을 구비한 유기 발광 소자로서,
상기 유기막의 적어도 하나의 층이 제 1 항의 헤테로 고리 화합물을 포함하는 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 전자 주입층 또는 전자 수송층인 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 전자 주입 기능 및 전자 수송 기능을 동시에 갖는 단일막인 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 발광층인 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 발광층이며, 상기 화합물이 형광 또는 인광 호스트로 사용되는 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 발광층이며, 상기 화합물이 형광 도펀트로 사용되는 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 발광층, 전자 주입층 또는 전자 수송층이며, 상기 발광층은 안트라센기를 포함하는 공지의 화합물 혹은 아릴아민기를 포함하는 공지의 화합물 혹은 스티릴기를 포함하는 공지의 화합물을 포함하는 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 전자 주입층 또는 전자 수송층이며, 적색 발광층, 녹색 발광층, 청색 발광층 또는 백색 발광층이 인광 화합물을 포함하는 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광 소자의 유기막이 정공 주입층, 정공 수송층, 전자저지층, 발광층, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 층을 더 포함하는 유기 발광 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 소자가 제 1 전극/정공 주입층/발광층/제 2 전극, 제 1 전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/제 2 전극 또는 제 1 전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층 /전자 수송층/전자 주입층/제 2 전극 구조를 갖는 유기 발광 소자. - 제 7 항의 유기 발광 소자를 구비하고, 상기 유기 발광 소자의 제 1 전극이 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 전기적으로 연결된 평판 표시 장치.
- 제 7 항에 있어서, 상기 유기 발광 소자의 하나 이상의 층이 상기 헤테로 고리 화합물을 사용하여 습식 공정으로 형성되는 유기 발광 소자.
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