KR101186026B1 - Chemical solution supply equipment and method of chemical solution supply and etching equipment using the same - Google Patents

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최성일
양재화
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Abstract

본 발명은 액정표시장치 제조공정에서 식각용액 시험(test) 또는 소량의 화학 용액을 사용할 때, 안전하고 용이하게 장비에 공급할 수 있는 화학용액 공급장치, 이를 이용한 공급방법 및 식각장비를 개시한다. 개시된 본 발명의 화학용액 공급장치는 약액을 공급하는 약액 드럼; 상기 약액 드럼에 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 공급관; 상기 약액 드럼과 공급관에 사이에 배치된 펌프; 상기 약액 드럼과 펌프에 각각 일측이 연결된 압력공급관; 상기 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단; 상기 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 조절기; 및 상기 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 약액배출단을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention discloses a chemical solution supply apparatus, a supply method and an etching apparatus using the same, which can be safely and easily supplied to equipment when an etching solution test or a small amount of chemical solution is used in a liquid crystal display manufacturing process. Chemical solution supply apparatus of the present invention disclosed is a chemical liquid drum for supplying a chemical liquid; A supply pipe connected to one side of the chemical liquid drum to supply the chemical liquid to the outside; A pump disposed between the chemical drum and a supply pipe; A pressure supply pipe having one side connected to the chemical drum and the pump, respectively; A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the pressure supply pipe; A regulator arranged to adjust the amount of pressure gas supplied to the pressure supply pipe; And a chemical liquid discharge end disposed to supply the chemical liquid to the other side of the supply pipe to the outside.

본 발명은 액정표시장치 공정장비에 안전하게 약액을 공급할 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect that can be safely supplied to the liquid crystal display device process equipment.

LCD, 식각, 용액, 공급, 시험, test LCD, etching, solution, supply, test

Description

화학용액 공급장치, 이를 이용한 공급방법 및 식각장비{CHEMICAL SOLUTION SUPPLY EQUIPMENT AND METHOD OF CHEMICAL SOLUTION SUPPLY AND ETCHING EQUIPMENT USING THE SAME}Chemical solution supplying device, supplying method and etching equipment using the same {CHEMICAL SOLUTION SUPPLY EQUIPMENT AND METHOD OF CHEMICAL SOLUTION SUPPLY AND ETCHING EQUIPMENT USING THE SAME}

도 1은 종래기술에 의한 습식각장비의 구성도.1 is a block diagram of a wet etching apparatus according to the prior art.

도 2는 본 발명에 따른 습식각장비의 구성도.2 is a block diagram of a wet etching equipment according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 화학용액 공급장치를 도시한 구성도.Figure 3 is a block diagram showing a chemical solution supply apparatus according to the present invention.

도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 화학용액 공급장치의 정면도와 평면도. 4a and 4b is a front view and a plan view of the chemical solution supply apparatus according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

200: 화학용액 공급장치 201a: 제 1 약액드럼200: chemical solution supply device 201a: first chemical liquid drum

201b: 제 2 약액드럼 205: 이송대차201b: second chemical liquid drum 205: transport cart

210a: 제 1 펌프 210b: 제 2 펌프210a: first pump 210b: second pump

218a: 제 1 압력공급관 218b: 제 2 압력공급관218a: first pressure supply pipe 218b: second pressure supply pipe

220a: 제 1 공급관 220b: 제 2 공급관220a: first supply pipe 220b: second supply pipe

230a: 제 1 압력밸브 230b: 제 2 압력밸브230a: first pressure valve 230b: second pressure valve

240: 압력공급단 250a: 제 1 약액배출단240: pressure supply stage 250a: first chemical liquid discharge stage

250b: 제 2 약액 배출단 260a: 제 1 조절기250b: second chemical liquid discharge stage 260a: first regulator

260b: 제 2 조절기260b: second adjuster

본 발명은 액정표시장치 장비에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 식각용액 시험(test) 또는 소량의 화학용액(약액)을 공정장비에 공급할 때, 화학용액을 안전하고 원활하게 공급할 수 있는 화학용액 공급장치 및 이를 이용한 식각장비에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, more specifically, a chemical solution supply device that can safely and smoothly supply a chemical solution when supplying an etching solution test or a small amount of chemical solution (chemical solution) to the process equipment And it relates to an etching equipment using the same.

최근 들어 급속한 발전을 거듭하고 있는 액정표시장치는 소형, 경량화 되면서 성능은 더욱 강력해진 제품들이 생산되고 있다.Recently, liquid crystal display devices, which are rapidly developing, are being manufactured with smaller, lighter weight and more powerful products.

지금까지 정보 디스플레이 장치에 널리 사용되고 있는 CRT(cathode ray tube)가 성능이나 가격 측면에서 많은 장점을 갖고 있지만, 소형화 또는 휴대성의 측면에서는 많은 단점을 갖고 있었다.Cathode ray tube (CRT), which is widely used in information display devices, has many advantages in terms of performance and price, but has many disadvantages in terms of miniaturization or portability.

이에 반하여, 액정표시장치는 소형화, 경량화, 저 전력 소비화 등의 장점을 갖고 있어 CRT의 단점을 극복할 수 있는 대체 수단으로 점차 주목받아 왔고, 현재는 디스플레이 장치를 필요로 하는 거의 모든 정보 처리 기기에 장착되고 있는 실정이다.On the other hand, liquid crystal displays have been attracting attention as an alternative means of overcoming the shortcomings of CRTs because they have advantages such as miniaturization, light weight, and low power consumption. Currently, almost all information processing devices that require display devices are required. The situation is attached to.

상기와 같은 액정표시장치는 글라스 기판 상에 순차적으로 마스크 공정을 진행하여 게이트 버스 라인과 데이터 버스 라인 및 TFT를 형성한 어레이 기판과, 상기 어레이 기판과 대응되도록 글라스 기판 상에 R, G, B 칼라 필터층을 형성한 칼라필터기판을 얼라인(align) 시켜 합착한 다음, 액정을 주입하여 제조된다.The liquid crystal display device is an array substrate in which a gate bus line, a data bus line, and a TFT are formed by sequentially performing a mask process on a glass substrate, and R, G, and B colors on the glass substrate to correspond to the array substrate. The color filter substrate on which the filter layer is formed is aligned and bonded to each other, and then manufactured by injecting liquid crystal.

특히, 마스크 공정에서는 포토리소그라피라는 공정을 진행하는데, 이것은 기판 상에 포토레지스트(photo resistor)라는 감광성 물질을 도포한 다음, 마스크 공정에 따라 노광 및 현상하여 포토레지스트를 패터닝하는 공정이다.In particular, in the mask process, a process called photolithography is performed, which is a process of applying a photosensitive material called a photoresist on a substrate and then exposing and developing the photoresist according to a mask process to pattern the photoresist.

이와 같이, 포토레지스트가 패터닝되면, 이를 마스크로 사용하여 식각 공정 및 패터닝된 포토레지스트를 제거하는 스트립(strip) 공정이 순차적으로 진행된다.As such, when the photoresist is patterned, an etch process and a strip process of removing the patterned photoresist are sequentially performed using the photoresist as a mask.

상기 식각공정은 화학약액이나 플라즈마 가스 또는 라디칼을 이용하여 포토 레지스트가 없는 부분의 박막을 제거하는 공정으로 전자를 습식각, 후자를 건식각이라고 한다.The etching process is a process of removing a thin film in a portion without a photoresist using a chemical solution, plasma gas, or radicals, and the former is called wet etching and the latter is called dry etching.

상기 습식각 방법에는 화학약액이 차있는 용액조에 기판을 담그는 딥핑방식과 화학약액을 기판 상에 뿌려주는 스프레이 방식이 있다.The wet etching method includes a dipping method of dipping a substrate in a solution tank filled with a chemical solution and a spray method of spraying a chemical solution on the substrate.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 습식각장비를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the wet etching equipment will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래기술에 의한 습식각장비의 구성도이다.1 is a block diagram of a wet etching apparatus according to the prior art.

도 1에서와 같이, 종래의 습식각장비는 일정 수위까지 약액이 채워지는 용액조(10)와, 약액을 공급하는 약액공급부(12)와, 상기 약액공급부(12)에 지속적으로 약액을 공급하는 식각탱크(20)와, 상기 용액조(10)의 일측에 연결되어 상기 약액공급부(12)로부터 용액조(10) 내로 약액을 공급해주는 약액공급관(13)과, 약액공급관(13)에 설치되어 약액의 공급량을 조절해주는 공급용 밸브(Vs)와, 상기 용액조(10)의 또 다른 일측에 연결되어 용액조(10) 내의 약액을 다음 공정을 위한 장소로 배출시켜주는 약액배출관(15)과, 상기 약액배출관(15)에 설치되어 약액의 배출을 조절해주는 드레인용 밸브(Vd)와, 상기 약액배출관(15)에 연결되어 약액이 배출되는 약액배출부(35)로 구성된다.As shown in FIG. 1, the conventional wet etching equipment is configured to continuously supply a chemical solution to a solution tank 10 in which a chemical solution is filled up to a predetermined level, a chemical solution supply unit 12 supplying a chemical solution, and a chemical solution supply unit 12. Is connected to the etching tank 20, one side of the solution tank 10, the chemical solution supply pipe 13 for supplying the chemical solution from the chemical solution supply unit 12 into the solution tank 10, and is installed in the chemical solution supply pipe (13) Supply valve (Vs) for adjusting the supply amount of the chemical liquid, and the chemical liquid discharge pipe 15 is connected to another side of the solution tank 10 to discharge the chemical liquid in the solution tank 10 to the place for the next process and , And a drain valve (Vd) installed in the chemical liquid discharge pipe 15 to control discharge of the chemical liquid, and a chemical liquid discharge part 35 connected to the chemical liquid discharge tube 15 to discharge the chemical liquid.

이 때, 상기 약액은 LCD 기판의 소정 영역을 식각하기 위한 것으로, 순수(DI;deionized water)와 에천트(etchant)가 소정비율로 혼합된 것을 말한다.In this case, the chemical liquid is used to etch a predetermined region of the LCD substrate, and refers to a mixture of deionized water and etchant at a predetermined ratio.

상기 약액공급부(12)에는 다량의 식각용액이 저장되어 있는 식각탱크(20)로부터 식각용액을 공급받는데, 이때, 순수공급부(미도시)로부터 공급되는 순수와 식각용액이 소정 비율로 혼합한다.The chemical solution supply unit 12 receives an etching solution from an etching tank 20 in which a large amount of etching solution is stored. At this time, pure water and an etching solution supplied from a pure water supply unit (not shown) are mixed at a predetermined ratio.

한편, 상기 공급용 밸브(Vs) 및 드레인용 밸브(Vd)는 약액의 유량을 조절하는 것으로, 완전 개폐가 이루어질수 있도록 밸브 내에 다이아프램(diaphragm)이라는 구성요소를 포함한다.On the other hand, the supply valve (Vs) and the drain valve (Vd) is to control the flow rate of the chemical liquid, and includes a component called a diaphragm (diaphragm) in the valve so that complete opening and closing.

상기 다이아프램은 밸브의 완전한 실링을 위해 구비되는 것으로, PTFE(Poly Tetra Fluoro Ethylene) 또는 메탈(metal) 등의 재질을 가진다. 또한, 상기 약액 공급관(13) 및 약액 배출관(15)은 불투명한 PVC 재질로 제작된다.The diaphragm is provided for complete sealing of the valve, and may be made of a material such as PTFE (Poly Tetra Fluoro Ethylene) or metal. In addition, the chemical liquid supply pipe 13 and the chemical liquid discharge pipe 15 is made of an opaque PVC material.

그러나, 상기의 식각장비에서 소량의 시험용 약액을 사용하여 식각 공정을 진행하기 위해서는 상기 식각탱크(20)와 약액공급부(12)를 분리한 다음, 시험용 약액 드럼(drum)에 펌프(pump)와 튜브(Tube)를 체결하여 작업자가 직접 튜브를 잡고 상기 약액공급부(12)에 약액을 공급해야 하는 문제가 있다.However, in order to proceed with the etching process using a small amount of the test chemical in the above etching equipment, the etching tank 20 and the chemical liquid supply part 12 are separated, and then a pump and a tube to the test chemical drum. There is a problem that the operator has to hold the tube directly to the tube to supply the chemical liquid to the chemical liquid supply unit 12.

상기 약액공급부(12)에 소량의 약액을 테스트할 때, 작업자는 상기와 같이 수작업으로 작업을 진행해야하기 때문에 화학약품에 의하여 손상을 받을 우려가 있다.When testing a small amount of the chemical liquid in the chemical liquid supply unit 12, the worker may be damaged by the chemical because the work must proceed manually as described above.

이와 같이, 작업자의 수작업에 의해서 약액을 상기 약액공급부(12)에 공급하 면, 약액의 원활한 공급이 어려워 식각공정에서 많은 불량이 발생된다.As such, when the chemical liquid is supplied to the chemical liquid supply part 12 by a worker's manual operation, it is difficult to smoothly supply the chemical liquid and many defects are generated in the etching process.

또한, 이와 같이 소량의 시험용 약액을 식각장비에 공급하기 위해서 식각탱크(20)에 소량의 시험용 약액을 넣은 다음, 이를 약액공급부(12)에 공급하면 시험용 약액에 의해 식각탱크(20) 전체가 오염되는 문제가 있다.In addition, in order to supply a small amount of test chemicals to the etching equipment as described above, a small amount of test chemicals are put in the etching tank 20, and then supplied to the chemical solution supply unit 12, the entire etching tank 20 is contaminated by the test chemicals. There is a problem.

상기와 같이 식각탱크(20) 전체가 오염되면, 다른 시험용 약액 공급하거나 식각공정을 위한 식각용액을 사용할 때, 상기 식각탱크(20) 전체를 세정해야하는 문제가 발생된다.If the entire etching tank 20 is contaminated as described above, when another test chemical is supplied or an etching solution for an etching process is used, a problem arises in that the entire etching tank 20 needs to be cleaned.

본 발명은, 약액 공급을 조절할 수 있는 조절기와 압력 가스공급부등을 구비한 공급장치를 이용하여 식각장비 또는 세정장비에 소량의 시험용 약액을 안전하고 원활하게 공급할 수 있도록 한 화학용액 공급장치 및 이를 이용한 식각장비를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention provides a chemical solution supply device for safely and smoothly supplying a small amount of test chemicals to an etching apparatus or a cleaning equipment by using a supply apparatus including a regulator and a pressure gas supply unit capable of regulating chemical liquid supply. The purpose is to provide etching equipment.

상기한 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 따른 화학용액 공급장치는,Chemical solution supply apparatus according to the present invention for achieving the above object,

약액을 공급하는 약액 드럼;A chemical liquid drum for supplying a chemical liquid;

상기 약액 드럼에 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 공급관;A supply pipe connected to one side of the chemical liquid drum to supply the chemical liquid to the outside;

상기 약액 드럼과 공급관에 사이에 배치된 펌프;A pump disposed between the chemical drum and a supply pipe;

상기 약액 드럼과 펌프에 각각 일측이 연결된 압력공급관;A pressure supply pipe having one side connected to the chemical drum and the pump, respectively;

상기 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단;A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the pressure supply pipe;

상기 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 조절기; 및A regulator arranged to adjust the amount of pressure gas supplied to the pressure supply pipe; And

상기 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 약액배출단을 포함하는 것을 특징으로 한다.It characterized in that it comprises a chemical liquid discharge end arranged to supply the chemical liquid to the other side of the supply pipe.

본 발명에 따른 다른 실시예에 의한 화학용액 공급장치는,Chemical solution supply apparatus according to another embodiment according to the present invention,

약액을 공급하는 제 1, 제 2 약액 드럼;First and second chemical liquid drums for supplying a chemical liquid;

상기 제 1, 제 2 약액 드럼에 각각 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 제 1, 제 2 공급관;First and second supply pipes each having one side connected to the first and second chemical drums to supply the chemical to the outside;

상기 제 1, 제 2 약액 드럼과 제 1, 제 2 공급관에 사이에 각각 배치된 제 1, 제 2 펌프;First and second pumps respectively disposed between the first and second chemical drums and the first and second supply pipes;

상기 제 1, 제 2 약액 드럼과 제 1, 제 2 펌프에 각각 일측이 연결된 제 1, 제 2 압력공급관;First and second pressure supply pipes having one side connected to the first and second chemical drums and the first and second pumps, respectively;

상기 제 1, 제 2 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단;A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the first and second pressure supply pipes;

상기 제 1, 제 2 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 조절기; 및A regulator configured to adjust the amount of pressure gas disposed in the first and second pressure supply pipes; And

상기 제 1, 제 2 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 제 1, 제 2 약액배출단을 포함하는 것을 특징으로 한다.And a first and a second chemical liquid discharge end arranged to supply the chemical liquid to the other side of the first and second supply pipes to the outside.

본 발명의 또 다른 실시예에 의한 식각장비는,Etching equipment according to another embodiment of the present invention,

식각공정을 진행하기 위한 복수개의 용액조와;A plurality of solution tanks for performing an etching process;

상기 용액조에 약액을 공급하기 위한 약액공급부와;A chemical solution supply unit for supplying a chemical solution to the solution tank;

상기 약액공급부에 약액을 지속적으로 공급하기 위해 약액드럼, 펌프 및 조 절기를 구비한 화학용액 공급장치와;A chemical solution supply device having a chemical solution drum, a pump, and a controller to continuously supply the chemical solution to the chemical supply unit;

상기 화학용액 공급장치에 약액 배출을 위한 압력가스를 공급하는 가스 공급부와;A gas supply unit supplying a pressure gas for discharging the chemical liquid to the chemical solution supply device;

상기 용액조에서 배출되는 약액을 외부로 배출하기 위한 약액배출부를 포함하는 것을 특징으로 한다.It characterized in that it comprises a chemical liquid discharge unit for discharging the chemical liquid discharged from the solution tank to the outside.

여기서, 상기 화학용액 공급장치는, 약액을 공급하는 약액 드럼; 상기 약액 드럼에 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 공급관; 상기 약액 드럼과 공급관에 사이에 배치된 펌프; 상기 약액 드럼과 펌프에 각각 일측이 연결된 압력공급관; 상기 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단; 상기 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 조절기; 및 상기 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 약액배출단을 포함하는 것을 특징으로 한다.Here, the chemical solution supply device, a chemical liquid drum for supplying a chemical liquid; A supply pipe connected to one side of the chemical liquid drum to supply the chemical liquid to the outside; A pump disposed between the chemical drum and a supply pipe; A pressure supply pipe having one side connected to the chemical drum and the pump, respectively; A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the pressure supply pipe; A regulator arranged to adjust the amount of pressure gas supplied to the pressure supply pipe; And a chemical liquid discharge end disposed to supply the chemical liquid to the other side of the supply pipe to the outside.

본 발명의 또 다른 실시예에 의한 화학용액 공급방법은,Chemical solution supply method according to another embodiment of the present invention,

약액이 채워진 약액드럼을 제공하는 단계;Providing a chemical liquid drum filled with a chemical liquid;

상기 약액드럼에 압력가스를 공급하여 상기 약액드럼에 채워진 약액을 외부로 배출하는 단계; 및Supplying a pressure gas to the chemical liquid drum to discharge the chemical liquid filled in the chemical liquid drum to the outside; And

상기 약액드럼으로부터 배출되는 약액을 펌프를 이용하여 외부로 약액을 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.It characterized in that it comprises the step of supplying the chemical liquid to the outside by using the pump the chemical liquid discharged from the chemical liquid drum.

본 발명에 의하면, 약액 공급을 조절할 수 있는 조절기와 압력 가스공급부등을 구비한 공급장치를 이용하여 식각장비 또는 세정장비에 소량의 시험용 약액을 안전하고 원활하게 공급할 수 있도록 한 이점이 있다.According to the present invention, there is an advantage to safely and smoothly supply a small amount of test chemicals to the etching equipment or the cleaning equipment by using a supply device having a regulator and a pressure gas supply unit for controlling the chemical liquid supply.

이하, 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 실시 예를 자세히 설명하도록 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 습식각장비의 구성도이다.2 is a block diagram of a wet etching apparatus according to the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 습식각장비는 약액이 채워져 식각공정을 진행하는 용액조(110)와, 약액을 공급하는 약액공급부(112)와, 상기 약액공급부(112)에 지속적으로 약액을 공급할 수 있는 화학용액 공급장치(200)와, 상기 용액조(110)의 일측에 연결되어 상기 약액공급부(112)로부터 용액조(110) 내로 약액을 공급해주는 약액공급관(113)과, 공급용 밸브(Vs1)와, 상기 용액조(110)의 또다른 일측에 연결되어 용액조(110) 내의 약액을 다음 공정을 위한 장소로 배출시켜주는 약액배출관(115)과, 상기 약액배출관(115)에 설치되어 약액의 배출을 조절해주는 드레인용 밸브(Vd1, Vd2)와, 상기 약액배출관(115)에 연결되어 약액이 배출되는 약액배출부(130)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the wet etching equipment is a solution tank 110 that is filled with a chemical liquid and performs an etching process, a chemical liquid supply unit 112 supplying a chemical liquid, and a chemical liquid supply unit 112 to continuously supply the chemical liquid. The chemical solution supply apparatus 200 and the chemical solution supply pipe 113 is connected to one side of the solution tank 110 to supply the chemical solution from the chemical solution supply unit 112 into the solution tank 110, and the supply valve ( Vs1) and a chemical liquid discharge pipe 115 connected to another side of the solution tank 110 to discharge the chemical liquid in the solution tank 110 to a place for the next process, and are installed in the chemical liquid discharge pipe 115. Drain valve (Vd1, Vd2) for controlling the discharge of the chemical liquid, and is connected to the chemical liquid discharge pipe 115 is composed of a chemical liquid discharge unit 130 for discharging the chemical liquid.

그리고, 상기 공급용 밸브(Vs1) 및 드레인용 밸브(Vd1, Vd2)는 PLC(Programmable Logic Control)(126)에 연결되어, 적정 신호에 따라 공급용 밸브(Vs1) 및 드레인용 밸브(Vd1, Vd2)의 개폐를 컨트롤한다.The supply valve Vs1 and the drain valves Vd1 and Vd2 are connected to a programmable logic control (PLC) 126, and the supply valve Vs1 and the drain valves Vd1 and Vd2 according to appropriate signals. Control the opening and closing of the).

상기 화학용액 공급장치(200)는 약액이 담겨진 약액드럼(201)과, 상기 약액드럼(201)에 담겨진 약액을 상기 약액공급부(112)에 공급하기 위한 동력을 발생하는 펌프(210)와, 상기 약액드럼(201)과 펌프(210)에 압력가스를 공급하기 위한 가스공급부(204)와, 상기 가스공급부(204)에서 공급되는 압력가스양(가스의 압력)을 조절하는 조절기(regulator: 260)로 구성되어 있다.The chemical solution supply device 200 includes a chemical liquid drum 201 containing the chemical liquid, a pump 210 generating power for supplying the chemical liquid contained in the chemical liquid drum 201 to the chemical liquid supply part 112, and the The gas supply unit 204 for supplying the pressure gas to the chemical liquid drum 201 and the pump 210, and a regulator (260) for adjusting the amount of pressure gas (pressure of the gas) supplied from the gas supply unit 204 Consists of.

이와같이 구성된 습식식각장비는 다음과 같이 동작된다.The wet etching equipment thus configured is operated as follows.

먼저, 상기 화학용액 공급장치(200)에서는 상기 가스공급부(204)로부터 압력가스가 상기 약액드럼(201)과 펌프(210)에 공급되어 상기 약액드럼(201)에 채워진 약액을 상기 약액공급부(112)에 공급한다. 이때, 상기 조절기(260)는 상기 압력가스의 공급을 조절하여 약액의 배출을 조절한다.First, in the chemical solution supply device 200, the pressure gas is supplied from the gas supply unit 204 to the chemical liquid drum 201 and the pump 210 to fill the chemical liquid filled in the chemical liquid drum 201 with the chemical liquid supply unit 112. Supplies). At this time, the controller 260 controls the discharge of the chemical liquid by adjusting the supply of the pressure gas.

이와 같이, 약액이 상기 약액공급부(112)에 공급되면, 상기 약액공급부(112)에서는 용액조(110) 내부로 약액을 공급하고, 공급된 약액이 적정 수위까지 차면, 상기 PLC(126)가 상기 약액공급부(112)에 설치된 액위센서(미도시)를 통해 상기 약액공급부(112)에서 용액조(110)에 공급된 약액량을 감지하여 약액공급관(113)에 설치된 공급용 밸브(Vs1)의 개폐를 조절하여 약액 공급을 중단시킨다.As such, when the chemical liquid is supplied to the chemical liquid supply unit 112, the chemical liquid supply unit 112 supplies the chemical liquid into the solution tank 110, and when the supplied chemical liquid reaches the appropriate level, the PLC 126 is Opening and closing of the supply valve Vs1 installed in the chemical liquid supply pipe 113 by sensing the chemical liquid amount supplied to the solution tank 110 through the liquid level sensor (not shown) installed in the chemical liquid supply unit 112. To stop the supply of chemicals.

상기 용액조(110) 내에 약액을 공급하는 동안에는, 약액배출관(115)에 설치된 드레인용 밸브(Vd1, Vd2)는 완전히 닫혀져 있어야 한다. 그런 다음, 상기 용액조(110) 내부에 복수개의 LCD 기판(135)을 담궈 식각공정을 수행한 후, LCD 기판(135)을 인출한다.While supplying the chemical liquid into the solution tank 110, the drain valves Vd1 and Vd2 installed in the chemical liquid discharge pipe 115 should be completely closed. Thereafter, the LCD substrate 135 is immersed by immersing the plurality of LCD substrates 135 in the solution tank 110, and the LCD substrate 135 is taken out.

상기와 같은 식각공정을 수행한 후에는, 상기 PLC(126)가 용액조(110) 내부의 약액을 배출하기 위해 드레인용 밸브(Vd1,Vd2)를 열어서 약액배출부(130)로 약액을 배출시킨다.After performing the etching process as described above, the PLC 126 opens the drain valves Vd1 and Vd2 to discharge the chemical liquid in the solution tank 110 to discharge the chemical liquid to the chemical liquid discharge unit 130. .

이와같이, 상기 화학용액 공급장치(200)는 도 3에서 자세히 설명하겠지만, 소량의 약액(식각용액 또는 세정용액)을 안전하고 원활하게 장비에 공급할 수 있다.As described above, the chemical solution supply device 200 will be described in detail with reference to FIG. 3, but a small amount of chemical solution (etch solution or cleaning solution) can be safely and smoothly supplied to the equipment.

본 발명에서는 식각장비를 중심으로 설명하였지만, 약액을 공급하는 장비에는 모두 호환하여 사용할 수 있다.In the present invention has been described with respect to the etching equipment, all of the equipment for supplying the chemical liquid can be used interchangeably.

따라서, 본 발명에서는 소량의 시험용 식각용액 또는 세정용액등을 식각장비 또는 세정장비에 안전하게 공급할 수 있는 효과가 있다.Therefore, in the present invention, there is an effect that can safely supply a small amount of test etching solution or cleaning solution to the etching equipment or cleaning equipment.

도 3은 본 발명에 따른 화학용액 공급장치를 도시한 구성도이다.Figure 3 is a block diagram showing a chemical solution supply apparatus according to the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에서 사용되는 화학용액 공급장치(200)의 구조를 보면, 식각 용액 또는 세정용액으로된 약액을 공급하는 제 1, 제 2 약액드럼(201a, 201b)과, 상기 제 1, 제 2 약액드럼(201a, 201b)에 각각 일측에 연결된 제 1, 제 2 공급관(217a, 217b)과, 상기 제 1, 제 2 공급관(217a, 217b)에 각각 연결되어 약액을 배출하는 제 1, 제 2 펌프(210a, 210b)와, 상기 제 1, 제 2 약액드럼(201a, 201b)과, 상기 제 1, 제 2 펌프(210a, 210b)에 각각 연결된 제 1, 제 2 압력공급관(218a, 218b)과, 상기 제 1, 제 2 압력공급관(218a, 218b)에 각각 연결된 제 1, 제 2 압력 밸브(203a, 230b)와, 상기 제 1, 제 2 압력공급관(218a, 218b) 가장자리에는 소정의 압력가스를 공급하기 위한 압력공급단(240)와, 상기 압력공급단(240)에서 공급되는 압력가스를 조절하는 제 1, 제 2 조절기(regulator: 260a, 260b)를 구비한다.As shown in Figure 3, the structure of the chemical solution supply apparatus 200 used in the present invention, the first and second chemical liquid drums (201a, 201b) for supplying a chemical solution of the etching solution or cleaning solution, and The chemical liquid is discharged by being connected to the first and second supply pipes 217a and 217b connected to one side of the first and second chemical liquid drums 201a and 201b, respectively, and the first and second supply pipes 217a and 217b, respectively. First and second pressures connected to the first and second pumps 210a and 210b, the first and second chemical drums 201a and 201b, and the first and second pumps 210a and 210b, respectively. Supply pipes 218a and 218b, first and second pressure valves 203a and 230b connected to the first and second pressure supply pipes 218a and 218b, respectively, and the first and second pressure supply pipes 218a and 218b. At the edge, a pressure supply stage 240 for supplying a predetermined pressure gas and first and second regulators 260a and 260b for regulating the pressure gas supplied from the pressure supply stage 240 are provided. .

상기 제 1, 제 2 공급관(217a, 217b) 가장자리에는 각각 제 1, 제 2 약액배출단(250a, 250b)이 배치되어 있고, 상기 제 1, 제 2 약액배출단(250a, 250b)과 상기 제 1, 제 2 펌프(210a, 210b) 사이에는 약액 공급을 조절하는 제 1, 제 2 공급밸브(220a, 220b)가 배치되어 있다.First and second chemical liquid discharge ends 250a and 250b are disposed at edges of the first and second supply pipes 217a and 217b, respectively. First and second supply valves 220a and 220b for regulating chemical liquid supply are disposed between the first and second pumps 210a and 210b.

도면에서 도시하였지만 설명하지 않은 205는 약액 드럼을 운반하는 이동대차이다.205, which is illustrated in the drawings but not described, is a mobile truck for carrying a chemical drum.

상기와 같은 구조를 갖는 화학용액 공급장치(200)는 다음과 같은 과정으로 약액을 공급한다. 도 3에 도시된 구조에서는 두개의 약액드럼(201a, 201b)을 사용하여 약액을 공급하는 구조이지만, 어느 한편의 동작원리는 다른 편의 동작원리와 동일하다.The chemical solution supply device 200 having the structure as described above supplies the chemical solution in the following process. In the structure shown in FIG. 3, the chemical liquid is supplied using two chemical liquid drums 201a and 201b, but the operation principle of either is the same as that of the other side.

그래서 일측편에 배치된 제 1 약액 드럼(201a)으로 약액을 공급하는 과정을 설명한다.Thus, the process of supplying the chemical liquid to the first chemical liquid drum 201a disposed on one side will be described.

먼저, 상기 제 1 약액드럼(201a)에 식각용액 또는 세정용액이 채워지면, 압력공급단(240)을 통하여 질소(N2) 가스 또는 압축된 공기(AIR)를 인가하여 상기 제 1 약액드럼(201a)과 제 1 펌프(210a)에 압력을 가한다. 즉, 상기 압력공급단(240)에는 도 2에 도시된 가스공급부로부터 질소 또는 압축공기를 공급받는다.First, when the etching solution or the cleaning solution is filled in the first chemical drum 201a, nitrogen (N 2 ) gas or compressed air (AIR) is applied through the pressure supply stage 240 to the first chemical drum ( Pressure is applied to 201a and the first pump 210a. That is, the pressure supply stage 240 receives nitrogen or compressed air from the gas supply unit illustrated in FIG. 2.

이때, 상기 제 1 압력공급관(218a)에 연결된 제 1 압력밸브(230a)를 통하여 상기 제 1 약액드럼(201a) 또는 제 1 펌프(210a)에 압력가스의 유입 또는 차단이 조절되고, 압력가스량(가스압력)의 조절은 상기 제 1 압력밸브(230a)와 압력공급단(240) 사이에 배치된 제 1 조절기(260a)와 제 2 조절기(260b)가 한다.At this time, the inflow or blocking of the pressure gas into the first chemical liquid drum 201a or the first pump 210a is controlled through the first pressure valve 230a connected to the first pressure supply pipe 218a, and the amount of pressure gas ( Gas pressure) is controlled by the first regulator 260a and the second regulator 260b disposed between the first pressure valve 230a and the pressure supply terminal 240.

즉, 상기 제 1 압력공급관(218a)과 압력공급단(240) 사이에 연결된 제 1 조절기(260a) 및 제 2 조절기(260b)는 상기 압력공급단(240)으로 부터 공급되는 압력가스의 압력을 조절하여 상기 제 1 약액드럼(201a)과 제 1 펌프(210a)에 적절한 압 력이 인가될 수 있도록하는 기능을 한다.That is, the first regulator 260a and the second regulator 260b connected between the first pressure supply pipe 218a and the pressure supply terminal 240 may control the pressure of the pressure gas supplied from the pressure supply terminal 240. It functions to adjust the appropriate pressure to the first chemical liquid drum (201a) and the first pump (210a) by adjusting.

그리고 상기 제 1 조절기(260a) 및 제 2 조절기(260b)는 제 2 약액드럼(201b)이 추가적으로 배치되어도 상기 제 1, 제 2 압력공급관(218a, 218b)에 중앙에 배치되어 상기 압력공급단(240)으로부터 공급되는 압력가스의 압력 조절을 조절한다.The first regulator 260a and the second regulator 260b may be disposed at the center of the first and second pressure supply pipes 218a and 218b even if a second chemical liquid drum 201b is additionally disposed. Adjust the pressure regulation of the pressure gas supplied from 240.

상세하게는 상기 제 1 약액드럼(201a), 제 2 약액드럼(201b), 제 1 펌프(210a), 제 2 펌프(210b)에 유입되는 압력가스량을 상기 제 1, 제 2 조절기(260a, 260b)만으로 조절된다.In detail, the amount of pressure gas flowing into the first chemical liquid drum 201a, the second chemical liquid drum 201b, the first pump 210a, and the second pump 210b is determined by the first and second regulators 260a and 260b. Can only be adjusted.

상기 제 1 압력공급관(218a)을 통하여 상기 제 1 약액드럼(201a)에 공급되는 압력가스는 상기 제 1 약액드럼(201a)에 채워진 식각용액 또는 세정용액을 상기 제 1 공급관(217a)로 배출하는 압력으로 작용한다.The pressure gas supplied to the first chemical liquid drum 201a through the first pressure supply pipe 218a discharges the etching solution or the cleaning solution filled in the first chemical liquid drum 201a to the first supply pipe 217a. Act as pressure;

이때, 상기 제 1 압력공급관(218a)에 연결된 제 1 펌프(210a)에도 압력가스가 공급되면, 상기 제 1 펌프(210a)의 흡입력으로 상기 제 1 공급관(217a)을 통하여 약액 배출을 용이하게 한다.At this time, when the pressure gas is also supplied to the first pump 210a connected to the first pressure supply pipe 218a, the chemical liquid is easily discharged through the first supply pipe 217a by the suction force of the first pump 210a. .

이렇게 제 1 약액드럼(201a)으로부터 약액이 배출되면, 상기 제 1 약액배출단(250a)을 통하여 약액을 외부로 배출한다. 이때 제 1 공급밸브(220a)는 상기 배출되는 약액의 배출을 조절하는 역할을 한다.When the chemical liquid is discharged from the first chemical liquid drum 201a, the chemical liquid is discharged to the outside through the first chemical liquid discharge end 250a. At this time, the first supply valve 220a serves to control the discharge of the discharged chemical liquid.

이와 같이, 본 발명의 화학용액 공급장치(200)는 소량의 식각용액 또는 세정용액을 장비에 공급할 때, 작업자가 화학용액에 오염되는 것을 방지하면서 원활하게 약액을 공급할 수 있는 이점이 있다.As such, when the chemical solution supply apparatus 200 of the present invention supplies a small amount of the etching solution or the cleaning solution to the equipment, the chemical solution supply device 200 can smoothly supply the chemical solution while preventing the operator from contaminating the chemical solution.

도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 화학용액 공급장치의 정면도와 평면도이다.4a and 4b is a front view and a plan view of the chemical solution supply apparatus according to the present invention.

도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 화학용액 공급장치(200)는 작업자가 손쉽게 이동시킬 수 있는 구조로 되어 있는데, 먼저 밸브, 프레임(300) 내측으로 공급관등이 배치되는 장치실(360)과, 약액드럼들을 보관하는 보관실(350)을 구비하고, 정면으로 약액드럼을 이송대차로 반입/반출할 수 있도록 제 1 도어(door: 301a)와 제 2 도어(301b)가 배치되어 있다.As shown in Figure 4a and 4b, the chemical solution supply device 200 is a structure that can be easily moved by the operator, first, the device chamber 360, the supply pipe is disposed inside the valve, frame 300, etc. And a storage chamber 350 for storing the chemical liquid drums, and a first door 301a and a second door 301b are disposed so that the chemical liquid drum can be carried in and out of the transport truck.

도 3에 도시된 바와 같이, 두개의 약액드럼을 사용할 경우에는 상기 보관실(350)에 각각 약액드럼을 반입한 다음, 상기 장치실(360)에 설치되어 잇는 압력공급관과 공급관들을 상기 약액드럼에 체결한 다음, 상기 약액드럼에 채워진 식각용액 또는 세정용액을 장비에 공급한다.(도 3 참조)As shown in FIG. 3, when two chemical liquid drums are used, each chemical liquid drum is loaded into the storage chamber 350, and then the pressure supply pipe and the supply pipes installed in the apparatus chamber 360 are fastened to the chemical liquid drum. Then, the etching solution or cleaning solution filled in the chemical liquid drum is supplied to the equipment (see Figure 3).

이와 같이, 본 발명에서는 작업자가 손쉽게 운반하면서, 소량의 약액을 손쉽게 공급할 수 있는 장점이 있다.As described above, in the present invention, there is an advantage that the operator can easily supply a small amount of the chemical liquid while carrying it easily.

이상에서 자세히 설명된 바와 같이, 본 발명은 약액 공급을 조절할 수 있는 조절기와 압력 가스 공급단을 구비한 공급장치를 이용하여 식각장비 또는 세정장비에 소량의 시험용 약액을 안전하고 원활하게 공급할 수 있도록 한 효과가 있다.As described in detail above, the present invention provides a safe and smooth supply of a small amount of test chemicals to the etching or cleaning equipment by using a supply device having a pressure gas supply stage and a regulator capable of adjusting the chemical liquid supply. It works.

본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않고, 이하 청구 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes can be made by those skilled in the art without departing from the gist of the present invention as claimed in the following claims.

Claims (35)

약액을 공급하는 약액 드럼;A chemical liquid drum for supplying a chemical liquid; 상기 약액 드럼에 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 공급관;A supply pipe connected to one side of the chemical liquid drum to supply the chemical liquid to the outside; 상기 약액 드럼과 공급관에 사이에 배치된 펌프;A pump disposed between the chemical drum and a supply pipe; 상기 약액 드럼과 펌프에 각각 일측이 연결된 압력공급관;A pressure supply pipe having one side connected to the chemical drum and the pump, respectively; 상기 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단;A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the pressure supply pipe; 상기 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 조절기; 및A regulator arranged to adjust the amount of pressure gas supplied to the pressure supply pipe; And 상기 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 약액배출단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.Chemical solution supply apparatus comprising a chemical liquid discharge end arranged to supply the chemical liquid to the other side of the supply pipe. 제 1 항에 있어서, 상기 압력공급단에 연결되어 압력가스를 공급하는 가스공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치. The chemical solution supply apparatus of claim 1, further comprising a gas supply unit connected to the pressure supply stage to supply a pressure gas. 제 1 항에 있어서, 상기 압력공급관에는 압력가스의 흐름을 조절하기 위해 배치된 압력밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.The chemical solution supply device of claim 1, wherein the pressure supply pipe further comprises a pressure valve arranged to control the flow of the pressure gas. 제 1 항에 있어서, 상기 공급관에는 약액의 흐름을 조절하기 위한 공급밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.The chemical solution supply apparatus of claim 1, wherein the supply pipe further comprises a supply valve for regulating the flow of the chemical liquid. 제 1 항에 있어서, 상기 약액 드럼에는 식각용액이 채워진 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.The chemical solution supply device of claim 1, wherein the chemical drum is filled with an etching solution. 제 1 항에 있어서, 상기 약액 드럼에는 세정용액이 채워진 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.2. The chemical solution supply device of claim 1, wherein the chemical drum is filled with a cleaning solution. 제 1 항에 있어서, 상기 압력공급단에 공급되는 압력가스는 N2 또는 공기(air)인 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.2. The chemical solution supply apparatus of claim 1, wherein the pressure gas supplied to the pressure supply stage is N 2 or air. 제 1 항에 있어서, 상기 압력공급단은 상기 약액 드럼과 펌프에 압력가스를 공급하여 약액이 상기 공급관으로 배출되도록 하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.The chemical solution supply device of claim 1, wherein the pressure supply stage supplies pressure gas to the chemical drum and the pump to discharge the chemical liquid into the supply pipe. 제 1 항에 있어서, 상기 조절기는 압력공급단으로부터 공급되는 압력가스량을 조절하여 상기 공급관으로 배출되는 약액양을 조절하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.The chemical solution supply device of claim 1, wherein the controller controls the amount of chemical liquid discharged to the supply pipe by adjusting the amount of pressure gas supplied from the pressure supply stage. 제 1 항에 있어서, 상기 조절기는 상기 약액드럼으로 유입되는 압력가스량을 조절하기 위한 제 1 조절기와 상기 펌프로 유입되는 압력가스량을 조절하기 위한 제 2 조절기로 구성된 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.The chemical solution supply apparatus of claim 1, wherein the controller comprises a first regulator for adjusting the amount of pressure gas flowing into the chemical liquid drum and a second regulator for adjusting the amount of pressure gas flowing into the pump. 약액을 공급하는 제 1, 제 2 약액 드럼;First and second chemical liquid drums for supplying a chemical liquid; 상기 제 1, 제 2 약액 드럼에 각각 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 제 1, 제 2 공급관;First and second supply pipes each having one side connected to the first and second chemical drums to supply the chemical to the outside; 상기 제 1, 제 2 약액 드럼과 제 1, 제 2 공급관에 사이에 각각 배치된 제 1, 제 2 펌프;First and second pumps respectively disposed between the first and second chemical drums and the first and second supply pipes; 상기 제 1, 제 2 약액 드럼과 제 1, 제 2 펌프에 각각 일측이 연결된 제 1, 제 2 압력공급관;First and second pressure supply pipes having one side connected to the first and second chemical drums and the first and second pumps, respectively; 상기 제 1, 제 2 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단;A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the first and second pressure supply pipes; 상기 제 1, 제 2 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 조절기; 및A regulator configured to adjust the amount of pressure gas disposed in the first and second pressure supply pipes; And 상기 제 1, 제 2 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 제 1, 제 2 약액배출단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.And a first and a second chemical liquid discharge end arranged to supply the chemical liquid to the other side of the first and second supply pipes to the outside. 제 11 항에 있어서, 상기 압력공급단에 연결되어 압력가스를 공급하는 가스공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치. 12. The chemical solution supply apparatus of claim 11, further comprising a gas supply unit connected to the pressure supply stage to supply a pressure gas. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1, 제 2 압력공급관에는 압력가스의 흐름을 조 절하기 위해 각각 배치된 제 1, 제 2 압력밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply device of claim 11, wherein the first and second pressure supply pipes further include first and second pressure valves respectively disposed to regulate the flow of pressure gas. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1, 제 2 공급관에는 약액의 흐름을 조절하기 위해 각각 배치된 제 1, 제 2 공급밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply apparatus of claim 11, wherein the first and second supply pipes further include first and second supply valves respectively disposed to control the flow of the chemical solution. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1, 제 2 약액 드럼에는 식각용액이 채워진 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply device of claim 11, wherein an etching solution is filled in the first and second chemical drums. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1, 제 2 약액 드럼에는 세정용액이 채워진 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply device of claim 11, wherein the first and second chemical drums are filled with a cleaning solution. 제 11 항에 있어서, 상기 압력공급단에 공급되는 압력가스는 N2 또는 공기(air)인 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply apparatus of claim 11, wherein the pressure gas supplied to the pressure supply stage is N 2 or air. 제 11 항에 있어서, 상기 압력공급단은 상기 제 1, 제 2 약액 드럼과 제 1, 제 2 펌프에 압력가스를 공급하여 상기 제 1, 제 2 약액 드럼에 채워진 약액이 각각 상기 제 1, 제 2 공급관으로 배출되도록 하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공 급장치.12. The method of claim 11, wherein the pressure supply stage supplies pressure gas to the first and second chemical drums and the first and second pumps so that the chemical liquid filled in the first and second chemical drums are respectively 2, the chemical solution supply device to be discharged to the supply pipe. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1, 제 2 조절기는 압력공급단으로부터 공급되는 압력가스량을 조절하여 상기 제 1, 제 2 공급관으로 배출되는 약액량을 조절하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply device of claim 11, wherein the first and second regulators regulate the amount of chemical liquid discharged to the first and second supply pipes by adjusting the amount of pressure gas supplied from the pressure supply stage. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1, 2 조절기는 상기 제 1, 제 2 압력공급관에 유입되는 압력가스량을 동시에 조절하는 것을 특징으로 하는 화학용액 공급장치.12. The chemical solution supply apparatus of claim 11, wherein the first and second regulators simultaneously control the amount of pressure gas flowing into the first and second pressure supply pipes. 식각공정을 진행하기 위한 용액조와;A solution tank for performing an etching process; 상기 용액조에 약액을 공급하기 위한 약액공급부와;A chemical solution supply unit for supplying a chemical solution to the solution tank; 상기 약액공급부에 약액을 지속적으로 공급하기 위해 약액드럼, 펌프 및 조절기를 구비한 화학용액 공급장치와;A chemical solution supply device having a chemical solution drum, a pump, and a regulator to continuously supply the chemical solution to the chemical supply unit; 상기 화학용액 공급장치의 약액드럼 및 펌프에 약액 배출을 위한 압력가스를 공급하는 가스 공급부와;A gas supply unit supplying a pressure gas for discharging the chemical liquid to the chemical liquid drum and the pump of the chemical solution supply device; 상기 용액조에서 배출되는 약액을 외부로 배출하기 위한 약액배출부를 포함하고,A chemical liquid discharge part for discharging the chemical liquid discharged from the solution tank to the outside; 상기 화학용액 공급장치는,The chemical solution supply device, 상기 약액 드럼에 일측이 연결되어 약액을 외부에 공급하는 공급관;A supply pipe connected to one side of the chemical liquid drum to supply the chemical liquid to the outside; 상기 약액 드럼과 공급관에 사이에 배치된 상기 펌프;The pump disposed between the chemical drum and a supply pipe; 상기 약액 드럼과 펌프에 각각 일측이 연결된 압력공급관;A pressure supply pipe having one side connected to the chemical drum and the pump, respectively; 상기 압력공급관의 타측에 압력가스를 공급받기 위한 압력공급단;A pressure supply stage for receiving a pressure gas to the other side of the pressure supply pipe; 상기 압력공급관에 배치되어 공급되는 압력가스량을 조절하는 상기 조절기; 및The regulator for adjusting the amount of pressure gas disposed in the pressure supply pipe; And 상기 공급관 타측에 약액을 외부로 공급하기 위해 배치된 약액배출단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 식각장비.Etching equipment further comprises a chemical liquid discharging end disposed to supply the chemical liquid to the other side of the supply pipe. 제 21 항에 있어서, 상기 용액조에 약액 공급과 배출 조절을 위한 컨트롤러(PLC)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 식각장비.22. The etching apparatus of claim 21, further comprising a controller (PLC) for supplying and discharging the chemical liquid to the solution tank. 삭제delete 제 21 항에 있어서, 상기 압력공급단에 연결되어 압력가스를 공급하는 가스공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 식각장비. 22. The etching apparatus of claim 21, further comprising a gas supply unit connected to the pressure supply stage to supply a pressure gas. 제 21 항에 있어서, 상기 압력공급관에는 압력가스의 흐름을 조절하기 위해 배치된 압력밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 식각장비.22. The etching apparatus of claim 21, wherein the pressure supply pipe further comprises a pressure valve arranged to control the flow of the pressure gas. 제 21 항에 있어서, 상기 공급관에는 약액의 흐름을 조절하기 위한 공급밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 식각장비.22. The etching apparatus of claim 21, wherein the supply pipe further includes a supply valve for regulating the flow of the chemical liquid. 제 21 항에 있어서, 상기 약액 드럼에는 식각용액이 채워진 것을 특징으로 하는 식각장비.The etching apparatus as claimed in claim 21, wherein the chemical drum is filled with an etching solution. 제 21 항에 있어서, 상기 압력공급단에 공급되는 압력가스는 N2 또는 공기(air)인 것을 특징으로 하는 식각장비.The etching apparatus as claimed in claim 21, wherein the pressure gas supplied to the pressure supply stage is N 2 or air. 제 21 항에 있어서, 상기 압력공급단은 상기 약액 드럼과 펌프에 압력가스를 공급하여 약액이 상기 공급관으로 배출되도록 하는 것을 특징으로 하는 식각장비.22. The etching apparatus of claim 21, wherein the pressure supply stage supplies pressure gas to the chemical liquid drum and the pump to discharge the chemical liquid into the supply pipe. 제 21 항에 있어서, 상기 조절기는 압력공급단으로부터 공급되는 압력가스량을 조절하여 상기 공급관으로 배출되는 약액양을 조절하는 것을 특징으로 하는 식각장비.The etching apparatus of claim 21, wherein the controller adjusts the amount of the chemical liquid discharged to the supply pipe by adjusting the amount of pressure gas supplied from the pressure supply stage. 제 21 항에 있어서, 상기 조절기는 상기 약액드럼으로 유입되는 압력가스량을 조절하기 위한 제 1 조절기와 상기 펌프로 유입되는 압력가스량을 조절하기 위한 제 2 조절기로 구성된 것을 특징으로 하는 식각장비.22. The etching apparatus of claim 21, wherein the controller comprises a first regulator for adjusting the amount of pressure gas flowing into the chemical liquid drum and a second regulator for adjusting the amount of pressure gas flowing into the pump. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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