KR101183276B1 - 이미지화 조성물 및 방법 - Google Patents

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롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨.
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Abstract

이미지화 조성물, 제품 및 이미지화 방법이 개시된다. 이미지화 조성물은 에너지 감수성이어서 조성물에 충분한 양의 에너지에 적용시에 색 또는 색조에 영향을 주게 된다. 이미지화 조성물을 제품상에 코팅하여 워크 피스를 마킹하는데 사용될 수 있는 에너지 감수성 제품을 형성한다.

Description

이미지화 조성물 및 방법{Imaging composition and method}
도 1은 이미지화 조성물을 함유하는 접착제 제품의 단면도이다.
도 2는 레이저 빔의 선택적 적용후 폴리머 필름상에서 건조된 조성물에 의한 포토퍼기티브(photofugitive) 응답 사진이다.
도 3은 레이저 빔의 선택적 적용후 폴리머 필름상에서 건조된 조성물에 의한 포토트로픽(phototropic) 응답 사진이다.
본 발명은 이미지화 조성물 및 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 기판상에 도포하여 제품을 형성하기에 적합한 안정한 이미지화 조성물 및 이 제품의 사용방법에 관한 것이다.
다양한 산업에서 기판상에 이미지를 형성하여 기판을 마킹하는데 사용된 조성물과 방법은 많다. 이러한 산업을 몇가지 언급하자면 제지 산업, 포장 산업, 도장 산업, 의료 산업, 치과 산업, 전자 산업, 섬유 산업, 항공, 해운 및 자동차 산 업, 및 영상 기술을 포함한다. 이미지화 또는 마킹은 전형적으로 제조업자의 명칭 또는 로고, 일련 번호 또는 롯트 번호, 조직 형태와 같이 제품을 확인하는데 사용되거나, 반도체 웨이퍼, 항공 선박, 해양 해운 선박 및 지구 운행체를 제조할 때 배치 목적으로 사용될 수 있다.
마킹은 또한 제품, 포토레지스트, 솔더마스크, 인쇄판 및 다른 포토폴리머 제품을 점검하는데 이용된다. 예를 들어, U.S. 5,744,280호에서는 이른바 모노크롬 및 멀티크롬 이미지를 형성할 수 있는 광이미지화(photoimageable) 조성물을 개시하고 있으며, 이 조성물은 콘트라스트(contrast) 이미지 특성을 가지고 있다. 광이미지화 조성물은 광산화제, 감광제, 광탈활성화 화합물 및 중수소화 류코(leuco) 화합물을 포함한다. 류코 화합물은 메탄(중심) 탄소원자가 대응하는 하이드리도 아미노트리아릴-메틴 대신에 중수소 혼합에 의해 적어도 60%가 중수소화되어 있는 아미노트리아릴메틴 화합물 또는 관련 화합물이다. 이 특허에서는 중수소화 류코 화합물이 대응하는 하이드리도 류코 화합물과 반대로 콘트라스트 이미지화가 증가된다고 주장하고 있다. 광이미지화 조성물을 화학 조사선에 노광할 때 포토트로픽 반응이 유도된다.
라벨에 정보의 표시, 직물에 로고 정치, 또는 회사명, 부품 또는 일련 번호 또는 롯트 번호와 같은 다른 정보 또는 반도체 장치에서 다이 위치 등의 정보 스탬핑은 직접 인쇄에 의해 작용될 수 있다. 인쇄는 패드 인쇄 또는 스크린 인쇄에 의해 수행될 수 있다. 패드 인쇄는 패드의 팽창성으로 곡면을 인쇄하는데 장점이 있으나 미세 패턴을 정밀하게 하는데 단점이 있다. 스크린 인쇄는 스크린의 제한된 메쉬 크기로 미세 패턴을 정밀하게 얻는데 곤란하다. 열악한 정밀성 외에, 인쇄는 매번 원하는 패턴을 위해 플레이트를 제작할 필요가 있거나 인쇄 조건을 설정하는데 시간이 걸리므로, 이들 방법은 실시간 공정을 요구하는 용도에 결코 적합하지 않다.
따라서, 인쇄에 의한 마킹은 최근에 잉크 제트 마킹에 의해 대체되어 왔다. 잉크 제트 마킹이 종래의 많은 인쇄 시스템에 없었던, 속도와 실시간 공정을 위한 요구에 부응하지만, 가압하에 노즐로부터 분사되는, 사용 잉크는 엄밀히 규정되고 있다. 규격에 정확히 일치하지 않으면, 때로 잉크는 노즐 차단의 원인이 되며, 거절 비율이 증가되게 된다.
이 문제를 극복하기 위해, 최근에 고속 및 고효율 마킹 방법으로서 레이저 마킹이 주목받고 있으며 이미 일부 산업에서 실시되고 있다. 많은 레이저 마킹 기술은 레이저광으로 기판의 필요 부위만을 조사하여 조사된 부위를 변성 또는 제거하거나 코팅된 기판을 레이저광으로 조사하여 조사된 코팅층을 제거하는 것을 포함하며 이로서 조사된 부위(표지 부위)와 비조사 부위(바탕) 사이에 콘트라스트를 만든다.
반도체 칩과 같은 제품을 마킹하는 레이저를 사용하는 것은 신속하고 경제적인 표시 수단이다. 그러나, 표면을 연소시켜 원하는 마킹을 얻는 최신 레이저 마킹 기술에 관련된 단점이 있다. 예를 들어, 레이저에 의해 표면에서 연소된 마킹은 광원에 대한 선택 입사각에서 볼 수 있을 뿐이다. 또한, 마킹 후에 제품 표면에 침착된 오일 또는 다른 오염물질이 레이저 마킹을 흐리게 하거나 심지어 차단할 수 있다. 추가로, 레이저가 실제 워크 피스 표면을 연소시키므로, 노출된 다이 마킹(bare die marking)을 위해, 관련 연소는 하층 구조 또는 내부 회로를 손상시킬 수 있거나 내부 다이 온도를 허용 한계를 초과하여 증가시킴으로서 손상시킬 수 있다. 더구나, 제조 부품이 레이저 반응 물질로 제조되지 않은 경우, 부품 표면에 도포된 레이저 반응 코팅은 비용을 추가하고 경화하는데 몇시간 소요될 수 있다.
별도로, 표면상에 이미지를 투영하는데 레이저 프로젝터가 사용될 수 있다. 이들 프로젝터는 워크 피스의 워크 피스의 고정화를 돕는데 사용된다. 일부 시스템은 평편한 표면이 아니라 아우트라인이 있는 표면상에 3차원 이미지를 투영하도록 디자인되어 있다. 투영된 이미지는 제품을 제조하기 위한 패턴으로서 사용되고 미리 지정된 플라이(ply) 위에 플라이의 원하는 위치의 이미지를 스캐닝하는데 사용된다. 이러한 용도의 일예는 가죽 제품, 지붕틀, 및 항공기 동체의 제조에 있다. 레이저 프로젝터는 또한 항공기 페인트동안 템플레이트 위치화 또는 페인트 마스크를 위해 사용된다.
천공하기 위해, 로고 또는 그림을 그리기 위한 아우트라인을 형성하기 위해, 또는 해양 선박의 세그먼트를 접착하기 위한 배열을 위해 가공부품을 지정하거나 배열하는 곳의 마킹을 제공하는 스캐닝된 레이저 이미지의 사용은 워크 피스면에 대해 레이저 프로젝터의 위치를 보정하는데 극도의 정밀도를 요구한다. 전형적으로 가공부품을 배열하는데 충분한 정밀도를 위해 6개 기준점이 필요하다. 반사경 또는 센서가 플라이가 위치할 근접 부위에 위치한다. 기준점이 워크 피스과 레이저에 대해 고정 위치에 있으므로, 또한 워크 피스에 대해 레이저가 있는 곳을 알게 된다. 전형적으로, 작업자들은 레이저 이미지를 한정하는 마커(marker) 또는 마스킹 테이프(masking tape)와 워크 피스를 레이저 빔 이미지가 접촉시키는 위치를 작업자들이 표시할 수 있다. 이러한 방법은 지루하며, 작업자의 손이 마스킹을 만드는 빔 전방에서 움직일 때 빔을 차단할 수 있다. 따라서, 오배열이 발생할 수 있다.
레이저 마킹에 수반되는 다른 문제는 작업자의 눈을 손상시킬 위험이 있다는 점이다. 마킹에 사용될 수 있는 많은 레이저는 작업자의 망막을 손상시킬 수 있다. 일반적으로, 5 mW를 초과하는 에너지를 발생하는 레이저는 작업자에 해롭다.
따라서, 개선된 이미지화 조성물 및 워크 피스의 마킹 방법이 요망된다.
발명의 요약
제품은 5 mW 이하 전력에서 에너지 적용시에 조성물의 색 또는 색조를 변화시키기에 충분한 양의 하나 이상의 증감제를 가지는 이미지화 조성물을 포함한다.
다른 구체예로, 제품은 5 mW 이하 전력에서 에너지 적용시에 조성물의 색 또는 색조를 변화시키기에 충분한 양의 하나 이상의 증감제를 가지는 이미지화 조성물을 포함하며, 이미지화 조성물은 제품의 한면을 코팅하고 반대면은 접착제를 포함한다.
또 다른 구체예로, 제품은 5 mW 이하 전력에서 에너지 적용시에 조성물의 색 또는 색조를 변화시키기에 충분한 양의 하나 이상의 증감제를 가지는 이미지화 조 성물을 포함하며, 이미지화 조성물은 폴리머 베이스의 한면을 코팅하고 폴리머 베이스의 반대면은 접착제 릴리스 코팅을 가지는 접착제를 포함하며, 보호층이 이미지화 조성물을 커버한다.
이미지화 조성물은 바인더 폴리머, 희석제, 가소제, 유동제, 촉진제, 접착 향상제, 유기산, 계면활성제, 연쇄전달제, 증점제, 유동성 개선제 및 이미지화 조성물을 목적하는 표시법 및 기판에 적합하도록 하는 다른 임의 성분들을 포함할 수 있다. 이어서, 이미지화 조성물을 가지는 제품을 적합한 워크 피스에 적용하여 제품을 제조하는데 사용되는 이미지를 형성할 수 있다.
다른 구체예로, 이미지화 방법은 5 mW 이하 전력에서 에너지 적용시에 조성물의 색 또는 색조를 변화시키기에 충분한 양의 하나 이상의 증감제를 가지는 이미지화 조성물을 제공하고; 이미지화 조성물을 기판에 도포하여 제품을 형성한 후; 제품을 워크 피스에 도포하며; 이미지화 조성물에 에너지를 5 mW 이하의 전력으로 적용하여 색 또는 색조를 변화시키는 단계를 포함한다. 이러한 제품 및 방법은 워크 피스의 색 또는 색조를 변화시키거나, 항공 선박, 해양 선박 및 지구 운행체 등의 워크 피스상에 패턴을 위치시키거나, 텍스타일상에 이미지를 형성하는데 신속하고 효율적인 수단이다.
워크 피스상에 추가의 공정을 실행하기전 또는 후에 이미지화 조성물의 일부를 적절한 현상제 또는 스트리퍼로 제거할 수 있다. 제품이 박리식 접착제를 가지는 경우, 원치않는 부분을 워크 피스로 부터 벗겨낼 수 있다.
이미지는 예를 들어 연결 부품을 서로 묶기 위해 홀울 뚫거나, 비행기상에 로고 또는 그림을 표시하기 위해 초안을 형성하거나, 선박 부품의 세그먼트를 정렬하기 위해 마크 또는 인디케이터로 사용될 수 있다. 제품은 워크 피스에 신속하게 적용될 수 있고 이미지가 색 또는 색조 콘트라스트를 형성하기 위한 에너지를 적용하여 신속히 형성될 수 있기 때문에, 작업자는 더 이상 제품 제조시에 휴대용 마커 또는 테이프로 워크 피스를 마크 레이저 빔 이미지에 인접시킬 필요가 없다. 따라서, 작업자가 손으로 이동시킴으로써 야기되는 광 차단 문제 및 작업자가 휴대용 마커 또는 테이프 피스를 사용하여 마크를 도포하는 더디고 따분한 공정이 배제된다. 또한, 색 또는 색조를 변화시키기 위해 사용되는 낮은 에너지 전력은 작업자의 눈을 손상시킬 위험을 방지하거나, 적어도 감소시킨다.
인간에 의한 에러 감소는 마킹의 정확도를 증가시킨다. 이는 마크가 제조시에 정확도가 기계의 신뢰성 및 안전한 조작에 결정적인 항공 선박, 해양 선박 또는 지구 운행체와 같은 부품의 정렬을 지정하는데 사용되는 경우 중요하다.
이미지화 조성물을 스프레이 코팅, 롤러 코팅, 디핑, 잉크 제팅, 브로싱과 같은 방법 또는 기타 적절한 방법에 의해 기판에 도포할 수 있다. 색 또는 색조를 변화시키기 위해 충분한 양의 에너지를 적용하는 에너지 원은 레이저, 적외선 및 자외선을 방출하는 장치를 포함하나, 이에만 한정되지 않는다. 통상적인 장치가 사용될 수 있어서, 제품 및 방법을 이용하는데 새로운 특수 장치를 사용할 필요가 없다. 또한, 워크 피스상에 제품을 비선택적으로 단일 코팅 도포한 후, 색 또는 색조를 변화시키기 위한 에너지를 신속히 적용하는 것은 제품을 어셈블리 라인용으로 적합하도록 만든다. 따라서, 수많은 통상적인 정렬 및 이미지화 공정보다 효율적인 제품이 제공된다.
본 명세서를 통해 사용된 하기 약어들은 다음과 같은 의미를 가진다: ℃ = 섭씨온도; IR = 적외선; UV = 자외선; g = 그램; ㎎ = 밀리그램; ℓ = 리터; ㎖ = 밀리리터; wt% = 중량 퍼센트; erg = 1 dyne ㎝ = 10-7 주울(joule); J = 주울(joule); mJ = 밀리주울; nm = 나노미터; = 10-9 미터; ㎝ = 센티미터; ㎜ = 밀리미터; W = 와트 = 1 주울/초; mW = 밀리와트; ns = 나노초; μsec = 마이크로초; Hz = 헤르츠; KV = 킬로볼트.
용어 "폴리머" 및 "코폴리머"는 본 명세서를 통해 혼용하여 사용된다. "화학 조사선"은 화학 변화를 유도하는 광으로 부터의 조사선을 의미한다. "포토퍼기티브(photofugitive) 응답"은 에너지 적용이 착색 재료를 바래게 하거나 좀 더 밝게 하는 것을 의미한다. "포토트로픽(phototropic) 응답"은 에너지 적용이 재료를 어둡게 하는 것을 의미한다. "색조 변화"는 색이 바래지거나 좀 더 어두워지는 것을 의미한다. "(메트)아크릴레이트"는 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 포함하고, "(메트)아크릴산"은 메타크릴산 및 아크릴산을 포함한다. "희석제"는 용매 또는 고체 충전제와 같은 담체 또는 부형제를 의미한다.
달리 언급이 없으면, 모든 퍼센트는 중량에 의하고, 건조 중량 또는 용매를 제외한 중량에 기초한다. 모든 수치 범위는 포괄적이며, 어떤 순서로도 조합이 가능하나, 단 논리상 이들 수치 범위는 합해서 최대 100% 이어야 한다.
제품은 5 mW 이하 전력에서 에너지 적용시에 조성물의 색 또는 색조를 변화시키기에 충분한 양의 하나 이상의 증감제를 가지는 이미지화 조성물을 포함한다. 이미지화 조성물을 기판에 도포하여 제품을 형성할 수 있다. 제품을 워크 피스에 도포한 후, 충분한 양의 에너지를 적용하여 전체 제품의 색 또는 색조를 변화시키거나, 제품상에 패턴화 이미지를 형성한다. 예를 들어, 이미지화 조성물을 가지는 제품을 워크 피스에 선택적으로 도포한 후, 에너지를 적용하여 색 또는 색조를 변화시켜 제품상에 패턴화 이미지를 형성한다. 달리는, 이미지화 조성물을 가지는 제품으로 워크 피스 전체를 커버한 후, 에너지를 선택적으로 적용하여 색 또는 색조를 변화시켜 제품상에 패턴화 이미지를 형성할 수 있다. 워크 피스상에 이미지 형성후, 후술하는 바와 같이 추가의 공정을 수행하여 생성물을 형성할 수 있다.
조성물에 사용된 증감제는 에너지에 의해 활성화되어 색 또는 색조를 변화시키거나, 활성화하여 하나 이상의 다른 화합물의 색 또는 색조를 변화시키는 화합물이다. 이미지화 조성물은 가시선에 민감한 하나 이상의 감광제를 포함하며, 5 mW 이하 전력의 에너지로 활성화될 수 있다. 일반적으로, 이러한 증감제는 이미지화 조성물에 대해 0.005 내지 10 중량%, 또는 예를 들어 0.05 내지 5 중량%, 또는 0.1 내지 1 중량%의 양으로 포함된다.
가시 범위에서 활성화되는 증감제는 전형적으로 300 nm를 초과하나 600 nm 미만, 또는 예를 들어 350 내지 550 nm, 또는 400 내지 535 nm의 파장에서 활성화된다. 이러한 증감제는 사이클로펜타논에 기초한 콘쥬게이트 화합물, 예를 들어 사이클로펜타논, 2,5-비스-[4-(디에틸아미노)페닐]메틸렌]-,사이클로펜타논, 2,5-비스-[2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H-벤조[i,j]퀴놀리진-9-일)메틸렌]-,사이클로펜타논, 2,5-비스-[4-(디에틸아미노)-2-메틸페닐]메틸렌]-,사이클로펜타논을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 이러한 사이클로펜타논은 당업계에 공지된 방법에 의해 사이클릭 케톤 및 트리사이클릭 아미노알데하이드로부터 제조될 수 있다.
적합한 이들 콘쥬게이트 사이클로펜타논의 예는 다음과 같은 화학식 1을 가진다:
Figure 112005006882306-pat00001
상기 식에서,
p 및 q는 독립적으로 0 또는 1이고,
r은 2 또는 3이며,
R1은 독립적으로 수소, 선형 또는 측쇄 (C1-C10)지방족, 또는 선형 또는 측쇄 (C1-C10)알콕시이고, 전형적으로 R1은 독립적으로 수소, 메틸 또는 메톡시이며,
R2는 독립적으로 수소, 선형 또는 측쇄 (C1-C10)지방족, (C5-C 7)환, 예를 들어 지환식 환, 페닐, 알크아릴, 선형 또는 측쇄 (C1-C10)하이드록시알킬, 선형 또는 측 쇄 하이드록시 종결 에테르, 예를 들어 -(CH2)v-O-(CHR3)w-OH(여기에서, v는 2 내지 4의 정수이고, w는 1 내지 4의 정수이다)이고,
R3는 수소 또는 메틸이며,
각 R2의 탄소는 함께 질소를 가지는 5 내지 7 원환 또는 질소 및 산소, 황 및 제 2의 질소중에서 선택된 다른 헤테로원자를 가지는 5 내지 7 원환이다.
상기 증감제는 5 mW 이하의 전력에서 활성화될 수 있다.
가시광 범위내에서 활성화되는 다른 증감제에는 N-알킬아미노 아릴 케톤, 예를 들어 비스(9-주돌리딜 케톤), 비스(N-에틸-1,2,3,4-테트라하이드로-6-퀴놀릴)케톤 및 p-메톡시페닐-(N-에틸-1,2,3,4-테트라하이드로-6-퀴놀릴)케톤; 알데하이드 또는 디메틴헤미시아닌과 상응하는 케톤의 염기 촉매화 축합에 의해 제조된 가시광 흡수 염료; 가시광 흡수 스쿠아릴륨 화합물; 1,3-디하이드로-1-옥소-2H-인덴 유도체; 쿠마린계 염료, 예를 들어 케토쿠마린 및 3,3'-카보닐 비스(7-디에틸아미노쿠마린); 할로겐화 티타노센 화합물, 예를 들어 비스(eta.5-2,4-사이클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)티탄; 및 아릴 케톤 및 p-디알킬아미노아릴알데하이드로부터 유도된 화합물이 포함되나, 이에만 한정되지 않는다. 추가의 증감제의 예에는 플루오르세인 타입 염료 및 트리아릴메탄 핵에 기초한 광흡수제 물질이 포함된다. 이러한 화합물은 에오신(Eosin), 에오신 B 및 Rose Bengal을 포함한다. 다른 적합한 화합물은 에리스로신 B(Erythrosin B)이다. 이와 같은 증감제의 제조방법은 당업계에 공지되었으며, 다수가 상업적으로 구입가 능하다. 전형적으로, 이러한 가시광 활성 증감제는 조성물에 대해 0.05 내지 2 중량%, 또는 예를 들어 0.25 내지 1 중량% 또는 0.1 내지 0.5 중량%의 양으로 사용된다.
임의로, 이미지화 조성물은 UV 광에 의해 활성화되는 하나 이상의 감광제를 포함할 수 있다. 이러한 감광제는 전형적으로 10 nm를 초과하나 300 nm 미만, 또는 예를 들어 50 내지 250 nm, 또는 100 내지 200 nm의 파장에서 활성화된다. 이러한 UV 활성화 감광제는 중량 평균 분자량 10,000 내지 300,000의 폴리머 감광제, 예를 들어 1-[4-(디메틸아미노)페닐]-1-(4-메톡시페닐)메타논, 1-[4-(디메틸아미노)페닐]-1-(4-하이드록페닐)메타논 및 1-[4-(디메틸아미노)페닐]-1-[4-(2-하이드록에톡시)페닐]메타논; 케톤 이민 염료의 유리 염기; 트리아릴메탄 염료의 아미노 유도체; 잔텐 염료의 아미노 유도체; 아크리딘 염료의 아미노 유도체; 메틴 염료; 및 폴리메틴 염료가 포함되나, 이로만 한정되지 않는다. 이들 화합물의 제조방법은 당업계에 공지되었다. 전형적으로, 이러한 UV 활성화 증감제는 조성물에 대해 0.05 내지 1 중량%, 또는 예를 들어 0.1 내지 0.5 중량%의 양으로 조성물에 사용된다.
임의로, 이미지화 조성물은 IR 광에 의해 활성화되는 하나 이상의 감광제를 포함할 수 있다. 이러한 감광제는 전형적으로 600 nm를 초과하나 1,000 nm 미만, 또는 예를 들어 700 내지 900 nm, 또는 750 내지 850 nm의 파장에서 활성화된다. 이러한 IR 활성화 감광제에는 적외선 스쿠아릴륨 염료 및 카보시아닌 염료가 포함되나, 이로만 한정되지 않는다. 이들 화합물의 제조방법은 당업계에 공지되었으며 문헌에 개시된 방법으로 제조될 수 있다. 전형적으로, 이러한 UV 활성화 증감제는 조성물에 대해 0.05 내지 3 중량%, 또는 예를 들어 0.5 내지 2 중량%, 또는 0.1 내지 1 중량%의 양으로 사용된다.
환원제로 작용할 수 있는 화합물은 하나 이상의 퀴논 화합물, 예를 들어 1,6-피렌퀴논 및 1,8-피렌퀴논과 같은 피렌퀴논; 9,10-안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논, 9,10-페난트레퀴논, 1,2-벤자안트라퀴논, 2,3-벤즈안트라퀴논, 2-메틸-1,4-나프토퀴논, 2,3-디클로로나프토퀴논, 1,4-디메틸안트라퀴논, 2,3-디메틸안트라퀴논, 안트라퀴논 알파-설폰산의 소듐염, 3-클로로-2-메틸안트라퀴논, 레텐퀴논, 7,8,9,10-테트라하이드로나프타센퀴논 및 1,2,3,4-테트라하이드로벤즈(a)안트라센-7,12-디온이 포함되나, 이에만 한정되지 않는다.
환원제로 작용할 수 있는 다른 화합물은 하기 화학식의 트리에탄올아민의 아실 에스테르를 포함하나, 이에 한정되지 않는다:
Figure 112005006882306-pat00002
상기 식에서,
R은 탄소원자수 1 내지 4의 알킬 및 3,3',3"-니트릴로트리프로피온산 또는 니트릴로트리아세트산의 C1-C4 알킬 에스테르 0 내지 99%이다.
이러한 트리에탄올아민의 아실 에스테르의 예에는 트리에탄올아민 트리아세테이트 및 디벤질에탄올아민 아세테이트가 있다.
하나 이상의 환원제를 이미지화 조성물에 사용하여 목적하는 색 또는 색조 변화를 제공할 수 있다. 전형적으로, 하나 이상의 퀴논을 하나 이상의 트리에탄올아민의 아실 에스테르와 사용하여 목적하는 환원제 작용 효과를 이룰 수 있다. 환원제는 조성물에 대해 0.05 내지 50 중량%, 또는 예를 들어 0.1 내지 40 중량%, 또는 0.5 내지 35 중량%의 양으로 사용된다.
연쇄전달제가 이미지화 조성물에 사용될 수 있다. 이러한 연쇄전달제는 촉진제로 작용할 수 있다. 연쇄전달제 또는 촉진제는 에너지에 노광후 색 또는 색조를 변화시키는 속도를 증가시킨다. 색 또는 색조 변화 속도를 촉진하는 임의의 화합물이 사용될 수 있다. 촉진제는 조성물에 0.01 내지 25 중량%, 또는 예를 들어 0.5 내지 10 중량%의 양으로 포함된다. 적합한 촉진제의 예는 오늄염 및 아민을 포함한다.
적합한 오늄염은 오늄 양이온이 요오도늄 또는 설포늄인 오늄염, 예를 들어 아릴설포닐옥시벤젠설포네이트 음이온의 오늄염, 포스포늄, 옥시설폭소늄, 옥시설포늄, 설폭소늄, 암모늄, 디아조늄, 셀로노늄, 아르소늄 및 N-치환된 N-헤테로사이클릭 오늄(여기에서, N은 치환되거나 비치환된 포화 또는 불포화 알킬 또는 아릴 그룹으로 치환된다)을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다.
오늄염의 음이온은 예를 들어 클로라이드, 또는 비친핵성 음이온, 예컨대 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 헥사플루오로아르세네이트, 헥사 플루오로안티모네이트, 트리플레이트, 테트라키스-(펜타플루오로페닐)보레이트, 펜타플루오로에틸 설포네이트, p-메틸벤질 설포네이트, 에틸설포네이트, 트리플루오로메틸 아세테이트 및 펜타플루오로에틸 아세테이트일 수 있다.
전형적인 오늄염의 예는 예를 들어 디페닐 요오도늄 클로라이드, 디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐 요오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 4,4'-디쿠밀요오도늄 클로라이드, 4,4'-디쿠밀요오도늄 헥사플루오로포스페이트, N-메톡시-a-피콜리늄-p-톨루엔 설포네이트, 4-메톡시벤젠-디아조늄 테트라플루오로보레이트, 4,4'-비스-도데실페닐요오도늄 헥사플루오로 포스페이트, 2-시아노-트리페닐포스포늄 클로라이드, 비스-[4-디페닐설포니온페닐]설파이드-비스-헥사플루오로 포스페이트, 비스-4-도데실페닐요오도늄 헥사플루오로안티모네이트 및 트리페닐설포늄 헥사플루오로안티모네이트를 포함한다.
적합한 아민은 일차, 이차 및 삼차 아민, 예를 들어 메틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 헤테로사이클릭 아민, 예를 들어 피리딘 및 피페리딘, 방향족 아민, 예를 들어 아닐린, 사급 암모늄 할라이드, 예를 들어 테트라에틸암모늄 플루오라이드, 및 사급 암모늄 하이드록사이드, 예를 들어 테트라에틸암모늄 하이드록사이드를 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 화학식 (2)의 트리에탄올아민은 또한 환원제로 사용하는 것 이외에 촉진제 활성을 가진다.
색 형성제와 같은 다른 화합물이 이미지화 조성물에 사용될 수 있다. 이러한 색 형성제는 류코 타입 화합물을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 이러한 색 형성제는 또한 색 또는 색조 변화에 기여한다. 적합한 류코 타입 화합물은 아 미노트리아릴메탄, 아미노크산텐, 아미노티오크산텐, 아미노-9,10-디하이드로아크리딘, 아미노페녹사진, 아미노페노티아진, 아미노디하이드로페나진, 안티노디페닐메틴, 류코 인다민, 아미노하이드로신남산, 예를 들어 시아노에탄 및 류코 메틴, 하이드라진, 류코 인디고이드 염료, 아미노-2,3-디하이드로안트라퀴논, 테트라할로-p,p'-비페놀, 2-(p-하이드록시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 및 펜에틸아닐린을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 이들 화합물은 조성물에 0.1 내지 5 중량%, 또는 예를 들어 0.25 내지 3 중량%, 또는 0.5 내지 2 중량%의 양으로 포함된다.
류코 타입 화합물이 조성물에 사용되는 경우, 하나 이상의 산화제가 전형적으로 포함된다. 산화제로 작용할 수 있는 화합물은 헥사아릴비이미다졸 화합물, 예를 들어 2,4,5,2',4',5'-헥사페닐비이미다졸, 2,2',5-트리스(2-클로로페닐)-4-(3,4-디메톡시페닐)-4,5-디페닐비이미다졸(및 이성체), 2,2'-비스(2-에톡시페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,1'-비-1H-이미다졸 및 2,2'-디-1-나프탈레닐-4,4',5,5'-테트라페닐-1'-비-1H-이미다졸을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 다른 적합한 화합물에는 1 이하의 수소가 부착되어 있고, 몰당 40 킬로칼로리 이상의 자유 래디칼로 제 1 할로겐을 생성하는 결합 해리 에너지를 가지는 할로겐화 화합물; 식 R'-SO2-X(여기에서, R'는 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 아릴, 알크아릴 또는 아르알킬이며, X는 염소 또는 브롬이다)의 설포닐 할라이드; 식 R"-S-X'(여기에서, R" 및 X'는 상기 R' 및 X와 동일한 의미를 가진다)의 설페닐 할라이드; 테트라아릴 하이드라진, 벤조티아졸릴 디설파이드, 폴리메트아릴알데하이드, 알킬리덴 2,5-사이클 로헥사디엔-1-온, 아조벤질, 니트로소, 알킬(T1), 퍼옥사이드 및 할로아민을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 이들 화합물은 조성물에 0.25 내지 10 중량%, 또는 예를 들어 0.5 내지 5 중량%, 또는 1 내지 3 중량%의 양으로 포함된다. 이들 화합물의 제조방법은 공지되었으며, 다수가 상업적으로 구입가능하다.
필름 형성제가 조성물에 대한 바인더로 작용하도록 이미지화 조성물에 사용될 수 있다. 이러한 필름 형성제는 목적하는 색 또는 색조 변화에 불리하게 방해하지 않는 조건으로 조성물 제제에 사용될 수 있다. 필름 형성제는 조성물에 대해 10 내지 90 중량%, 또는 예를 들어 15 내지 70 중량%, 또는 25 내지 60 중량%의 양으로 포함된다. 전형적으로, 필름 형성제는 산 작용 모노머 및 비-산 작용 모노머의 혼합물로부터 유도된다. 산 및 비-산 작용 모노머를 배합하여 산가가 적어도 80 또는 예를 들어 150 내지 250인 코폴리머를 형성한다. 적합한 산 적용 모노머의 예에는 (메트)아크릴산, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 2-아크릴아미도-2-메틸프로판설폰산, 2-하이드록시에틸 아크릴롤 포스페이트, 2-하이드록시프로필 아크릴롤 포스페이트 및 2-하이드록시-알파-아크릴롤 포스페이트가 포함되나, 이로만 한정되지 않는다.
적합한 비-산 작용 모노머의 예에는 (메트)아크릴산의 에스테르, 예를 들어 메틸 아크릴레이트, 2-에틸 헥실 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, n-헥실 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 하이드록실 에틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 2-에톡시 에틸 메타크릴레이트, t-부틸 아크릴레이트, 1,5-펜탄디올 디아크릴레이트, N,N-디페닐아미노에틸 아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 1,3-프로판디올 디아크릴레이트, 데카메틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 데카메틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,4-사이클로헥산디올 디아크릴레이트, 2,2-디메틸올 프로판 디아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 글리세롤 트리아크릴레이트, 2,2-디(p-하이드록시페닐)프로판 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 폴리옥시에틸-2,2-디(p-하이드록시페닐)프로판 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 폴리옥시프로필트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 부틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올 디메타크릴레이트, 1,2,4-부탄트리올 트리메타크릴레이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타에리스리톨 디메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타크릴레이트, 1-페닐 에틸렌-1,2-디메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트; 스티렌 및 치환 스티렌, 예를 들어 2-메틸 스티렌 및 비닐 톨루엔 및 비닐 에스테르, 예를 들어 비닐 아크릴레이트 및 비닐 메타크릴레이트가 포함되나, 이로만 한정되지 않는다.
다른 적합한 폴리머는 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈, 하이드록실-에틸셀루로즈 및 하이드록시에틸프로필 메틸셀룰로즈와 같은 비이온성 폴리머를 포함하나, 이로만 한정되지 않는다.
임의로, 하나 이상의 가소제가 조성물에 포함될 수 있다. 임의의 적합한 가소제가 사용될 수 있다. 가소제는 조성물에 0.5 내지 15 중량%, 또는 예를 들어 1 내지 10 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 적합한 가소제의 예에는 프탈레이트, 예를 들어 디부틸프탈레이트, 디헵틸프탈레이트, 디옥틸프탈레이트 및 디알릴프탈레이트, 글리콜, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜, 글리콜 에스테르, 예를 들어 트리에틸렌 글리콜 디아세테이트, 테트라에틸렌 글리콜 디아세테이트 및 디프로필렌 글리콜 디벤조에이트, 포스페이트 에스테르, 예를 들어 트리크레실 포스페이트, 트리페닐 포스페이트, 아미드, 예를 들어 p-톨루엔설폰아미드, 벤젠설폰아미드, N-n-부틸아세톤아미드, 지방족 이염기성 산 에스테르, 예를 들어 디이소부틸-아디페이트, 디옥틸아디페이트, 디메틸세바케이트, 디옥틸아젤레이트, 디부틸말레이트, 트리에틸시트레이트, 트리-n-부틸아세틸시트레이트, 부틸라우레이트, 디옥틸-4,5-디에폭시사이클로헥산-1,2-디카복실레이트 및 글리세린 트리아세틸에스테르가 포함되나, 이로만 한정되지 않는다.
임의로, 하나 이상의 유동제가 조성물에 포함될 수 있다. 유동제는 기판상에 평활하고 평탄한 코팅을 제공하는 화합물이다. 유동제는 조성물에 0.05 내지 5 중량%, 또는 예를 들어 0.1 내지 2 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 적합한 유동제는 알킬아크릴레이트의 코폴리머를 포함하나, 이로만 한정되지 않는다. 이러한 알킬아크릴레이트의 예에는 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸헥실 아크릴레이트의 코폴리머가 있다.
임의로, 하나 이상의 유기산이 조성물에 포함될 수 있다. 유기산은 조성물에 0.01 내지 5 중량%, 또는 예를 들어 0.5 내지 2 중량%의 양으로 사용될 수 있다. 적합한 유기산의 예에는 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르사느 카프론산, 카프릴산, 카프르산, 라우르산, 페닐아세트산, 벤조산, 프탈산, 이소 프탈산, 테레프탈산, 아디프산, 2-에틸헥산산, 이소부티르산, 2-메틸부티르산, 2-프로필헵탄산, 2-페닐프로피온산, 2-(p-이소부틸페닐)프로피온산 및 2-(6-메톡시-2-나프틸)프로피온산이 포함되나, 이로만 한정되지 않는다.
임의로, 하나 이상의 계면활성제가 조성물에 사용될 수 있다. 계면활성제는 조성물에 0.5 내지 10 중량%, 또는 예를 들어 1 내지 5 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 적합한 계면활성제는 비이온성, 이온성 및 양쪽성 계면활성제를 포함한다. 적합한 비이온성 계면활성제의 예에는 폴리에틸렌 옥사이드 에테르, 폴리에틸렌 옥사이드의 유도체, 방향족 에톡실레이트, 아세틸렌성 에틸렌 옥사이드 및 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 블록 코폴리머를 포함한다. 적합한 이온성 계면활성제의 예는 알킬 설페이트, 알킬 에톡시 설페이트 및 알킬 벤젠 설포네이트의 알칼리 금속, 알칼 토금속, 암모늄 및 알칸올 암모늄염을 포함한다. 적합한 양쪽성 계면활성제의 에에는 지방족 이차 및 삼차 아민의 유도체가 포함되며, 여기에서 지방족 래디칼은 직쇄 또는 측쇄일 수 있고, 하나 또는 다른 지방족 치환체는 8 내지 18 개의 탄소원자를 함유하며 하나는 카복시, 설포, 설페이토, 포스페이트 또는 포스포노와 같은 음이온성 수가용성 그룹을 함유한다. 이러한 양쪽 계면활성제의 특정 예는 3-도데실아미노프로피오네이트 및 소듐 3-도데실아미노프로판 설포네이트이다.
임의로, 증점제가 또한 조성물에 사용될 수 있다. 임의의 적합한 증점제가 사용될 수 있다. 적합한 증점제의 예는 화합 증점제이다. 이러한 증점제의 예에는 폴리우레탄, 소수성으로 변형된 알칼리 가용성 유제, 소수성으로 변형된 하이 드록시에틸 셀룰로즈 및 소수성으로 변형된 폴리아크릴아미드가 포함된다. 적합한 폴리우레탄 증점제의 예는 친수성 폴리에테르 그룹에 의해 상호 연결된 적어도 세개의 소수성 그룹을 가지는 저분자량 폴리우레탄이다. 이러한 증점제의 분자량은 10,000 내지 200,000이다. 증점제는 조성물에 0.5 내지 10 중량%, 또는 예를 들어 1 내지 5 중량%의 양으로 포함된다.
유동성 개선제가 통상적인 양으로 포함될 수 있다. 전형적으로, 유동성 개선제는 조성물에 0.5 내지 20 중량%, 또는 예를 들어 5 내지 15 중량%의 양으로 사용된다. 유동성 개선제의 예는 비닐 방향족 폴리머 및 아크릴 폴리머를 포함한다.
희석제가 다른 성분에 대한 부형제 또는 담체로 조성물에 포함된다. 희석제는 필요에 따라 첨가된다. 고체 희석제 또는 충전제가 전형적으로 조성물의 건조 중량을 100 중량%로 만들도록 첨가된다. 고체 희석제의 예는 셀룰로즈이다. 액체 희석제 또는 용매는 이미지화 조성물의 활성 성분들을 용액, 현탁액 또는 유제로 만들기 위해 사용된다. 용매는 수성, 유기 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 유기 용매의 예는 알콜, 예를 들어 메틸, 에틸, 및 이소프로필 알콜, 프로판올, 디이소프로필 에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 1,4-디옥산, 테트라하이드로푸란 또는 1,2-디메톡시 프로판, 및 에스테르, 예를 들어 부틸올락톤, 에틸렌 글리콜 카보네이트 및 프로필렌 글리콜 카보네이트, 에테르 에스테르, 예를 들어 메톡시에틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트, 1-메톡시프로필-2-아세테이트, 2-메톡시프로필-1-아세테이트, 1-에톡시프로필-2-아세테이트 및 2-에톡시프로필-1-아세테 이트, 케톤, 예를 들어 아세톤 및 메틸에틸 케톤, 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴 및 메톡시프로피오니트릴, 설폰, 예를 들어 설폴란, 디메틸설폰 및 디에틸설폰, 및 인산 에스테르, 예를 들어 트리메틸 포스페이트 및 트리에틸 포스페이트를 포함한다.
이미지화 조성물은 농축 형태일 수 있다. 이러한 농축물에서, 고체 함량은 80 내지 98 중량%, 또는 예를 들어 85 내지 95 중량%일 수 있다. 농축물은 물, 하나 이상의 유기 용매, 또는 물과 하나 이상의 유기 용매의 혼합물로 희석될 수 있다. 농축물은 고체 함량이 5 내지 80 중량% 미만, 또는 예를 들어 10 내지 70 중량%, 또는 20 내지 60 중량%이 되도록 희석될 수 있다.
이미지화 조성물은 스프레이 코팅, 롤러 코팅, 브로싱 또는 디핑에 의해 기판에 도포될 수 있다. 공기 건조 또는 온풍 드라이어 또는 오븐로부터 충분량의 열을 가하여 임의의 용매 또는 잔류 용매를 제거하여 조성물과 기판 사이에 접착을 이룰 수 있다.
임의로, 하나 이상의 접착 향상제를 이미지화 조성물에 포함시켜 이미지화 조성물과 기판 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이러한 접착 향상제는 이미지화 조성물에 0.5 내지 10 중량%, 또는 예를 들어 1 내지 5 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 이러한 적찹 향상제의 예에는 아크릴아미도 하이드록시 아세트산(수화 및 무수), 비아크릴아미도 아세트산, 3-아크릴아미도-3-메틸부탄산 및 이들의 혼합물이 포함된다.
이미지화 조성물이 코팅된 반대면에 도포되는 접착제로 이미지화 조성물을 필름 기판에 도포한다. 이러한 필름 기판의 한예는 접착 테이프이다. 이미지화 조성물을 필름 한면상에 0.5 nm 내지 10 ㎜, 또는 예를 들어 1 내지 5 ㎜의 두께로 코팅한다. 코팅은 스프레이 코팅, 롤러 코팅, 디핑 또는 브로싱과 같은 통상의 방법으로 수행될 수 있다. 접착제는 기판의 반대면에 5 내지 50 ㎛, 또는 예를 들어 10 내지 25 ㎛의 두께로 코팅된다.
임의의 적합한 접착제가 기판상에 사용될 수 있다. 접착제는 영구 접착제, 반영구, 장소이동 접착제, 박리식 접착제 또는 프리저(freezer) 범주의 접착제일 수 있다. 다수의 이들 접착제는 핫-멜트(hot-melt), 핫-멜트 압력 민감 및 압력 민감 접착제로 분류될 수 있다. 전형적으로, 박리식 접착제는 압력 민감 접착제이다. 이러한 박리식 압력 민감 접착제의 예에는 아크릴, 폴리우레탄, 폴리-알파-올레핀, 실리콘, 아크릴레이트 압력 민감 접착제와 열가소성 엘라스토머-기초 압력 민감 접착제의 배합물 및 점착성 천연 및 합성 고무가 있다.
열가소성 엘라스토머-기초 압력 민감 접착제와 배합된 아크릴레이트 압력 민감 접착제는 10 내지 90 중량%, 또는 예를 들어 30 내지 70 중량%의 아크릴레이트 압력 민감 접착제와 10 내지 90 중량%, 또는 예를 들어 30 내지 70 중량%의 열가소성 엘라스토머-기초 압력 민감 접착제를 포함한다. 적합한 아크릴레이트 압력 민감 접착제의 예는 폴리머의 Tg(유리전이온도)가 0 ℃ 이하인 적어도 하나의 중합 일작용성 (메트)아크릴산 에스테르, 및 임의로 호모폴리머의 Tg가 적어도 10 ℃인 적어도 하나의 공중합된 일작용성의 에틸렌적으로 불포화된 모노머로부터 유도된다. 에틸렌적으로 불포화된 일작용성 모노머는 접착제의 아크릴레이트 부분에 5 내지 10 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 열가소성 엘라스토머-기초 압력 민감 접착제 성분은 폴리스티렌과 폴리부타디엔 또는 폴리이소프렌 또는 이들 혼합물의 블록 코폴리머와 같은 방사 블록 코폴리머로 구성될 수 있다. 임의로, 가교결합제가 포함될 수 있다.
필름 기판에 적합한 재료의 대표적인 예는 폴리올레핀, 예컨대 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 선형 저밀도 폴리에틸렌 및 선형 초저밀도 폴리에틸렌을 포함한 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리부틸렌; 비닐 코폴리머, 예컨대 가소화 및 비가소화 폴리비닐 클로라이드 및 폴리비닐 아세테이트; 올레핀 코폴리머, 예컨대 에틸렌/메타크릴레이트 코폴리머, 에틸렌/비닐 아세테이트 코폴리머, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코폴리머 및 에틸렌/프로필렌 코폴리머; 아크릴 폴리머 및 코폴리머; 셀룰로즈; 폴리에스테르 및 이들의 배합물을 포함한다. 임의의 플라스틱 또는 플라스틱 및 엘라스토머 물질의 혼합물 또는 블렌드, 예를 들어 폴리프로필렌/폴리에틸렌, 폴리우레탄/폴리올레핀, 폴리우레탄/폴리카보네이트, 폴리우레탄/폴리에스테르가 사용될 수 있다.
이러한 필름 기판은 광에 불투명하다. 이와 같은 불투명성은 기판상의 패턴화 조성물의 바랜 부분과 비바랜 부분 사이에 향상된 콘트라스트를 제공한다. 전형적으로, 이러한 필름은 외관상 백색이다.
제품의 접착 부분은 환경으로부터 접착제를 보호하고 제품이 기판에 도포되기 전에 접착이 일어날 사태를 방지하는 박리식 릴리스층을 가질 수 있다. 박리 식 릴리스층은 두께가 1 내지 20 ㎜ 또는 예를 들어 5 내지 10 ㎜이다. 박리식 릴리스층은 셀룰로즈, 폴리머 및 코폴리머, 예를 들어 폴리에스테르, 폴리우레탄, 비닐 코폴리머, 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 에폭시 폴리머 및 이들의 배합물을 포함하나, 이로만 한정되지 않는다.
박리식 릴리스층은 접착제로부터 릴리스층이 즉시 게거가능하도록 릴리스 코팅 제제를 포함할 수 있다. 이러한 릴리스 제제는 전형적으로 실리콘-비닐 코폴리머를 활성 방출제로 포함한다. 이러한 코폴리머는 당업계에 공지되었으며, 통상의 양이 제품의 릴리스층에 포함된다.
보호 폴리머층은 필름 기판상의 이미지화 조성물상에 위치할 수 있다. 보호 폴리머는 광을 차단하여 기판상의 이미지화 조성물이 조기에 활성화하는 것을 방지한다. 보호 폴리머층은 기판과 동일한 재료일 수 있다.
도 1은 일례의 단면도이다. 제품 (10)은 이미지화 조성물 (20)로 한면에 코팅된 폴리에스테르 필름 베이스 (15)를 포함한다. 폴리에스테르 필름 베이스 반대면은 박리식 압력 민감 접착제 (25)로 코팅된다. 접착 코팅은 압력 민감 접착제로부터 릴리스층이 분리되도록 릴리스 코팅 제제를 포함하는 박리식 릴리스층 (30)에 의해 환경으로부터 보호된다. 이미지화 조성물은 불투명한 보호 폴리머층 (35)에 의해 환경으로부터 차폐된다. 이러한 보호 폴리머층은 전형적으로 폴리에틸렌으로 구성된다. 이러한 폴리머는 전형적으로 건조 필름 포토레지스트에 대한 보호층으로 작용하도록 사용된다.
이미지화 조성물을 구성하는 성분들은 당업계에 공지된 임의의 적절한 방법 으로 배합될 수 있다. 전형적으로, 성분들을 통상적인 장치를 이용하여 블렌딩 또는 혼합하여 고체 혼합물, 용액, 현탁액, 분산액 또는 유제를 형성한다. 제제 공정은 전형적으로 하나 이상의 성분들이 조기에 활성화하는 것을 방지하기 위하여 광 제어 환경하에 수행된다. 그후, 조성물은 나중의 사용을 위해 저장하거나, 제제화후 즉시 상기 언급된 방법중 임의의 한 방법으로 기판에 도포될 수 있다. 전형적으로, 조성물은 사용전에 광 제어 환경하에 저장된다. 예를 들어, 가시광에 의해 활성화되는 증감제를 가지는 조성물은 전형적으로 적색광하에 저장된다.
이미지화 조성물에 충분한 양의 에너지를 적용하면, 포토퍼기티브 또는 포토트로픽 응답이 발생한다. 에너지의 양은 0.2 mJ/㎠ 이상, 또는 예를 들어 0.2 내지 100 mJ/㎠, 또는 예를 들어 2 내지 40 mJ/㎠, 또는 예를 들어 5 내지 30 mJ/㎠일 수 있다.
이미지화 조성물은 5 mW 이하(즉, 0 mW 보다 큰), 또는 5 mW 내지 0.01 mW, 또는 4 mW 내지 0.05 mW, 또는 3 mW 내지 0.1 mW, 또는 2 mW 내지 0.25 mW, 또는 1 mW 내지 0.5 mW 전력의 에너지에 적용에 의해 색 또는 색조를 변화시킨다. 전형적으로, 이러한 전력은 가시역 광원에 의해 발생된다. 이미지화 조성물에 포함될 수 있는 그 외의 감광제 및 에너지 민감 성분은 가시역 이외의 광으로부터의 에너지에 노출시 색 또는 색조를 변화시킬 수 있다. 이러한 감광제 및 에너지 민감 화합물은 5 mW 이하 전력의 에너지 적용에 의해 유발되는 응답으로서 더 뚜렷한 색 또는 색조 콘트라스트를 제공하기 위해 포함된다. 전형적으로, 5 mW 이하 전력의 에너지에 의해 활성화된 감광제에 의해 색 또는 색조 콘트라스트를 형성하는 감광 제 및 에너지 민감 화합물이 포토트로픽(phototropic) 응답을 유도해낸다.
이론에 매이지는 않지만, 하나 이상의 색 또는 색조 변화 메커니즘은 에너지 적용후 색 또는 색조를 변화시키는 것과 관련이 있는 것으로 여겨진다. 예를 들어, 포토퍼기티브(photofugitive) 응답이 유도되는 경우, 하나 이상의 증감제는 자유 래디칼을 방출시켜 하나 이상의 환원제를 활성화시키고, 이 환원제는 하나 이상의 증감제를 환원시켜 조성물의 색 또는 색조 변화에 영향을 미친다. 포토트로픽 응답이 유도되는 경우, 예를 들어 하나 이상의 증감제로부터의 자유 래디칼은 하나 이상의 류코 타입(leuco-type) 화합물과 하나 이상의 산화제 사이의 산화환원반응을 유도하여 색 또는 색조를 변화시킨다. 일부 제제는 포토퍼기티브 및 포토트로픽 응답의 조합을 가진다. 예를 들어, 조성물을 인공 에너지, 즉 레이저 광에 노출시키면 하나 이상의 증감제로부터 자유래디칼이 발생하고, 이어 이것은 하나 이상의 환원제를 활성화시켜 증감제를 환원시킴으로써 포토퍼기티브 응답을 유발시키고, 그후 동일한 조성물을 주변광에 노출시켜 하나 이상의 산화제가 하나 이상의 류코 타입 화합물을 산화시키도록 야기한다.
포토퍼기티브 또는 포토트로픽 응답을 유도하기 위해 임의의 적합한 에너지원이 사용될 수 있다. 적합한 에너지원의 예로는 휴대형 레이저 및 3-D 이미지화 시스템으로부터 발생된 레이저를 비롯한 레이저, 및 플래쉬 램프가 포함되나 이에 한정되지 않는다. 레이저의 파장을 IR 내지 UV의 범위로 조작할 수 있다. 색 또는 색조를 변화시키는데 적합한 두 부류의 레이저가 기술된다.
엑시머 레이저는 UV 주파수 범위의 고플루언스 광을 발생시킬 수 있는 고출 력 레이저이다. 이것의 레이징 캐패시티(lasing capacity)는 특정의 2원자 기체 분자의 여기에 기초한다. 특히, 엑시머 레이저는 157 nm 내지 355 nm의 파장범위의 광을 방출하는 레이저의 패밀리를 구성한다. 가장 보편적인 엑시머 파장 및 각각의 2원자 가스는 XeCl(308 nm), KrF(248 nm) 및 ArF(193 nm)이다. 엑시머내에서의 지속적인 작용은 2원자 기체에 의해 형성된 여기(excited) 다이머의 반전분포(population inversion)의 결과이다. 펄스폭은 고에너지 단 펄스폭 펄스를 생성하는 10 ns 내지 100 ns이다.
고체상 레이저는 IR 내지 UV 파장 범위의 집중 광빔을 발생시킬 수 있는 고출력 레이저이다. 이들 고체상 레이저의 선택 부분은 이트륨-알루미늄 가넷(YAG), 이트륨-리튬-플루오라이드(YLF) 및 이트륨 바나데이트(YVO5)와 같은 재료에 바탕을 두며, 이와 같은 고체 호스트(host)에의 네오디뮴 도핑을 포함한다. 이러한 재료는 IR 범위(1.04 내지 1.08 미크론)의 기본파장에서 레이저를 발생시킨다. 레이징은 리튬 트리보레이트(LBO) 또는 포타슘 티타닐 포스페이트(KTP)와 같은 비선형 광학 결정의 사용을 통해 더 짧은 파장으로 확대될 수 있다. 예로서, 네오디뮴 도핑된 YAG 레이저로부터의 기본적인 1.06 미크론 방사선은 이러한 결정을 사용하여 532 nm의 파장으로 주파수를 증가시킬 수 있다.
엑시머 레이저에 대한 다른 광원의 예로는 단펄스 선형 엑시머, UV 플래쉬 램프가 있다. 이러한 램프는 직경 3 내지 20 mm의 내경 및 1 mm의 벽두께를 가진 투명 석영 램프 튜브를 포함한다. 플래쉬 램프는 30 cm 일 수 있다. 텅스텐으 로 만들어진 전극을 크세논과 같은 희가스로 충진된 램프 튜브의 말단으로 밀봉시킨다. 플래쉬 램프는 캐패시터 뱅크를 사용하여 전극에 5 KV 내지 40 KV 범위의 고전압을 인가함으로써 1 Hz 내지 20 Hz 범위로 펄스화한다. 전하는 크세논 원자를 이온화하여 파장범위 200 내지 800 nm의 광대역 방사선을 방출하는 플라즈마를 형성한다. 플래쉬 램프는 튜브 주위에 부분적으로 배치되어 램프로부터 마스크 또는 워크 피스(work piece)로 방사선을 안내하는 반사체를 포함할 수 있다.
선형 플래쉬 램프는 5 μsec의 비교적 짧은 펄스의 단파장에서 고전력, 고플루언스 에너지 출력을 생성할 수 있다. 예를 들어, 광대역 스펙트럼 출력을 가진 크세논 선형 플래쉬 램프는 2 내지 6 μsec의 펄스동안 1 내지 1.5 J/㎠의 유용한 에너지 밀도를 제공할 수 있다.
이미지화 조성물은 기판으로부터 원치않는 부분을 벗겨내거나 적합한 현상제 또는 박리제를 사용하여 전체 또는 일부를 기판으로부터 제거될 수 있다. 현상제 및 박리제는 수성 기제 또는 유기 기제일 수 있다. 예를 들어, 통상의 염기성 수용액이 산성 작용기를 가진 폴리머 바인더로서 이미지화 조성물을 제거하기 위해 사용될 수 있다. 이러한 염기성 수용액의 예로는 탄산나트륨 및 탄산칼륨 수용액과 같은 알칼리 금속 수용액이 있다. 워크 피스로부터 조성물을 제거하는데 사용되는 통상의 유기 현상제로는 벤질, 부틸, 및 알릴 아민과 같은 일차 아민, 디메틸아민과 같은 이차아민, 및 트리메틸아민 및 트리에틸아민과 같은 삼차아민이 포함되나 이에 한정되지 않는다.
제품은 워크 피스의 색 또는 색조를 변화시키거나, 항공 선박, 해양 선박 및 지구 운행체와 같은 워크 피스상에 이미지를 위치시키거나, 텍스타일상에 이미지를 형성하는데 신속하고 효율적인 수단을 제공한다. 제품을 적용한 후, 충분한 양의 에너지를 이미지화 조성물에 적용하여 그의 색 또는 색조를 변화시킨다. 일반적으로 색 또는 색조 변화는 안정하다. 안정이란 색 또는 색조 변화가 적어도 10 초, 또는 20 분 내지 2 일, 또는 30 분 내지 1 시간 지속되는 것을 의미한다.
다르게는, 에너지를 선택적으로 적용하여 이미지화된 패턴을 형성할 수 있고, 워크 피스를 추가로 처리하여 최종 제품을 형성할 수 있다. 예를 들어, 이미지는 예를 들어 연결 부품을 서로 묶기 위해 홀을 뚫거나, 비행기에 로고 또는 그림을 표시하기 위해 초안을 형성하거나, 선박 부품의 세그먼트를 정렬하기 위해 마크 또는 인디케이터로 사용될 수 있다. 제품은 워크 피스에 신속하게 적용될 수 있고 이미지가 색 또는 색조 콘트라스트를 형성하기 위한 에너지를 적용하여 신속히 형성될 수 있기 때문에, 작업자는 더 이상 제품 제조시에 휴대용 마커 또는 테이프로 피스를 마크 레이저 빔 이미지에 인접시킬 필요가 없다. 따라서, 작업자가 휴대형 마커 또는 테이프를 사용함으로써 야기되는 레이저 빔 차단 문제가 제거된다.
또한, 인간에 의한 에러 감소는 마킹의 정확도를 증가시킨다. 이는 마크가 제조시에 정확도가 기계의 신뢰성 및 안전한 조작에 결정적인 항공 선박, 해양 선박 또는 지구 운행체와 같은 부품의 정렬을 지정하는데 사용되는 경우 중요하다. 또한, 패턴 형성이 저전력의 광원(즉, 5 mW 이하)을 사용하여 수행될 수 있기 때문에, 작업자의 눈을 손상시킬 위험을 방지하거나, 적어도 감소시킨다.
제품(article)은 많은 생산품의 산업용 어셈블리 라인 조립에 적합하다. 예를 들어, 항공기 몸체와 같은 워크 피스는 조성물이 항공기 몸체의 표면에 도포되는 스테이션(station) 1을 통과하여 원하는 부분 또는 전체 표면이 피복된다. 제품은 적층화 또는 수동식 가압 도포에 의해 적용된다. 그후 에너지가 전체 표면에 적용되거나 선택적으로 적용되어 이미지를 형성하는 스테이션 2로 제품이 있는 항공기 몸체를 이동시킨다. 제 1 항공기 몸체가 스테이션 2에 있을 때, 제 2 몸체를 제품 도포를 위해 스테이션 1로 이동시킬 수 있다. 에너지는 레이저 빔을 이용하여 적용될 수 있으며, 이 빔은 항공기 몸체의 표면상에 색상 또는 색조 변화를 유발한다. 작업자에 의한 수동식 마킹이 배제되기 때문에, 그후 이미지가 있는 항공기 몸체를 현상 또는 제품의 원치않는 부분의 스트리핑, 또는 몸체에 다른 스테이션에서 부품의 배열을 위한 파스너용 홀의 천공과 같은 추가 공정을 위해 스테이션 3으로 신속히 이동시킨다. 추가로, 이미지화 스테이션에서 작업자를 제외시키면 항공기 표면상의 지정 위치로 레이저 빔 통로를 방해하는 작업자가 없으므로 이미지 형성의 정밀도를 개선한다. 따라서, 제품은 종래의 이미지화 및 배열 공정 보다 더 효율적인 제조 공정을 제공한다.
배열 공정에서 제품의 용도에 더하여, 제품은 보강 제품, 포토레지스트, 솔더마스크, 인쇄판, 및 다른 포토폴리머 제품을 제조하는데 사용될 수 있다.
이미지화 조성물은 또한 수성 및 유성 페인트와 같은 페인트에 사용될 수 있다. 조성물을 페인트에 사용할 때, 조성물은 최종 혼합물의 1 내지 25 중량%, 또는 5 내지 20 중량%, 또는 8 내지 15 중량%의 양으로 포함된다. 이미지화 조성물 을 기판상에 브러싱하고 건조시켜 제품을 형성할 수 있다.
실시예 1
포토퍼기키브 및 포토트로픽 응답
하기 표 1 및 2에 기재된 상이한 두 제제의 각 성분들을 적색광하에 20 ℃에서 함께 혼합하여 균질한 혼합물을 형성하였다. 제제를 제조하여 532 nm에 노광시 포토퍼기키브 응답과 포토트로픽 응답 간의 차이를 예증하였다.
성분 중량 퍼센트
n-헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,
n-부틸 아크릴레이트, 스티렌 및 메타크릴산의
코폴리머
55
디프로필렌 글리콜 디벤조에이트 16
헥사아릴비이미다졸 2
9,10-페난트레퀴논 0.2
트리에탄올아민 트리아세테이트 1.5
류코 크리스탈 바이올렛 0.3
사이클로펜타논, 2,5-비스[[4-(디에틸아미노)
페닐]메틸렌]-,(2E,5E)
0.1
메틸 에틸 케톤 제제를 100 중량%로 만들기에
충분한 양
29 중량% n-헥실 메타크릴레이트, 29 중량% 메틸메타크릴레이트, 15 중량% n-부틸 아크릴레이트, 5 중량% 스티렌 및 22 중량% 메타크릴산의 모노머로부터 코폴리머를 형성하였다. 45 중량%의 고체 혼합물을 형성하기에 충분한 양의 메틸 에틸 케톤을 사용하였다. 통상적인 자유-래디칼 중합으로 코폴리머를 형성하였다.
균질한 혼합물을 제조한 후, 이를 폴리에틸렌 필름상에 스프레이 코팅하였 다. 폴리에틸렌 필름은 30 ㎝ ×30 ㎝이고 두께는 250 미크론이었다. 균질 혼합물을 헤어 드라이어를 이용하여 건조시켜 메틸 에틸 케톤을 제거하였다.
폴리에틸렌 필름상의 건조 코팅은 도 2에 나타낸 바와 같이 UV 광하에서 붉은 갈색이었다. 코팅을 휴대용 레이저로부터 532 nm 광에 선택적으로 노광시켰을 때 포토퍼기키브 응답이 도출되었다. 노광 부분은 도 2에서 네개의 직사각형 패턴으로 보여진 바와 같이 밝은 회색으로 바랬다.
성분 중량 퍼센트
n-헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,
n-부틸 아크릴레이트, 스티렌 및 메타크릴산의
코폴리머
64
디프로필렌 글리콜 디벤조에이트 19
이불소화 티타노센 3
류코 크리스탈 바이올렛 1
메틸 에틸 케톤 제제를 100 중량%로 만들기에
충분한 양
표 1의 제제와 동일한 코폴리머를 사용하였다. 혼합물을 제조한 후, UV 광하에 폴리에틸렌 필름상에 스프레이 코팅하였다. 폴리에틸렌 필름은 30 ㎝ ×30 ㎝이고 두께는 250 미크론이었다. 폴리에틸렌상의 코팅을 헤어 드라이어를 이용하여 건조시켰다. 코팅은 도 3에 나타낸 바와 같이 UV 광하에서 황녹색 외관을 가졌다.
코팅에 휴대용 레이저로부터 532 nm 파장의 에너지를 선택적으로 적용하여 포토트로픽 응답을 유도하였다. 레이저로 형성된 네개의 직사각형 패턴은 도 3에 나타낸 바와 같이 어두워져 네개의 자주색 직사각형을 형성하였다.
실시예 2
감광성 제품
하기 표 3의 성분을 가지는 조성물을 제조하였다.
성분 중량 퍼센트
n-헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,
n-부틸 아크릴레이트, 스티렌 및 메타크릴산의
코폴리머
86
콘쥬게이트 사이클로펜타논 1
1,6-피렌퀴논 0.5
1,8-피렌퀴논 0.5
헥사아릴비이미다졸 3
류코 크리스탈 바이올렛 2
불소화 오늄염 3
이차 아민 2
트리에탄올아민 트리아세테이트 2
메틸 에틸 케톤 제제를 70 중량%의 고체 조성물로
만들기에 충분한 양
코폴리머는 실시예 1의 코폴리머와 동일하다. 제제를 20 ℃에서 적색광하에 제조하였다. 성분들을 통상적인 혼합장치를 사용하여 혼합하여 균질한 혼합물을 형성하였다.
균질한 혼합물을 40 ㎝ ×40 ㎝의 치수 및 2 ㎜의 두께를 가지는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 한쪽면에 롤러 코팅하였다. 반대면을 셀룰로즈 아세테이트의 박리가능한 보호 후면을 가지는 500 미크론 두께의 압력 민감 박리식 접착제로 코팅하였다. 보호 후면은 접착제로부터 보호 후면의 제거가 용이하도록 50 미크론 두께의 실리콘 비닐 코폴리머 릴리스층을 가진다. 압력 민감 릴리스 접착제는 통상적인 폴리우레탄 접착제이다.
코팅을 헤어 드라이어로 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름에 건조시켰다. 박리가능한 셀룰로즈 아세테이트 후면을 제거하고, 코팅을 가지는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 알루미늄 쿠폰에 60 ㎝ ×60 ㎝의 치수 및 5 ㎜의 두께가 되도록 손으로 압축하였다. UV 광하에 코팅은 호박색을 나타내었다.
휴대용 레이저로부터 532 nm 광 빔을 호박색 코팅에 선택적으로 적용하여 다섯개의 등거리 도트 패턴을 형성하였다. 광 빔의 선택적인 적용은 호박색을 퇴색시켜 5 개의 뚜렷한 도트를 형성하였다. 알루미늄에 홀을 천공하기 위한 통상적인 드릴을 이용하여 도트 위치에서 알루미늄을 통해 천공하였다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트 접착제를 알루미늄 쿠폰에서 손으로 벗겨내 세개의 등거리 홀을 가지는 알루미늄 쿠폰을 수득하였다.
실시예 3
접착성 향상제를 가지는 조성물
하기 표의 조성물을 적색광하에 20 ℃에서 제조하였다.
성분 중량 퍼센트
n-헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,
n-부틸 아크릴레이트, 스티렌 및 메타크릴산의
코폴리머
82
피렌퀴논 1
트리에탄올아민 트리아세테이트 1.5
류코 크리스탈 바이올렛 0.5
헥사아릴비이미다졸 5
비스아크릴아미도 아세트산 1
불소화 오늄염 3
삼차 아민 5
콘쥬게이트 사이클로펜타논 1
메틸 에틸 케톤 제제를 45 중량%의 고체 조성물로
만들기에 충분한 양
코폴리머는 실시예 1의 코폴리머와 동일하다. 성분들을 통상적인 혼합장치를 사용하여 혼합하여 균질한 혼합물을 형성하였다.
균질 혼합물을 셀룰로즈 릴리스층과 함께, 후면에 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 가지는 박리가능한 접착 테이프상에 롤러 코팅하였다. 비스아크릴아미드 아세트산 접착 향상제는 코팅과 박리가능한 접착 테이프 사이의 접착성을 향상시킬 것으로 예상된다.
레이저 빔으로 532 nm에서 광을 선택적으로 적용하여 광에 노광된 코팅 부분이 호박색으로부터 맑은 색으로 변화되도록 하였다.
실시예 4
페인트 제제내 감광성 조성물
하기 페인트 제제를 제조하였다.
성분 중량 퍼센트
TamolTM 731(25%) 분산제 1
프로필렌 글리콜 2
PatcoteTM 801(소포제) 1
이산화티탄-Pure R-900 23
OptiwhiteTM(China Clay) 9
AttagelTM 50(Attapulgite Clay) 1
아크릴 폴리머 바인더 32
TexanolTM 1
증점제 물 혼합물 21
제제를 100 중량%로 만들기에
충분한 양

감광제 조성물이 최종 제제의 5 중량%를 구성하도록 표 5의 페인트 제제를 실시예 3의 표 4의 감광제 조성물과 블렌딩하였다. 페인트 및 감광제 조성물을 20 ℃에서 통상적인 혼합 장치를 사용하여 혼합하여 균질 혼합물을 형성하였다. 적색광하에 혼합하였다.
페인트/감광제 조성물 혼합물을 박리가능한 접착제 및 박리가능한 후면을 가지는 테이프상에 브러싱하였다. 조성물을 실온에서 공기 건조시켰다. 박리가능한 후면을 제거하고 코팅 테이프를 80 ㎝ ×80 ㎝ 및 5 ㎜ 두께의 알루미늄 쿠폰상에 압축하였다. 혼합물과 알루미늄 쿠폰 사이에 우수한 접착력이 예상된다.
휴대용 레이저로부터 532 nm로 광을 선택적으로 적용하여 코팅의 선택 부분이 호박색에서 맑은 색으로 변하게 하였다.
실시예 5
속도 비교 시험
두개의 감광성 조성물을 제조하였다. 하나의 조성물은 표 6에 나타낸 바와 같이 촉진제를 포함하고, 두번째 조성물은 표 7에 나타낸 바와 같이 촉진제를 함유하지 않았다. 성분들을 적색광하에 20 ℃에서 통상적인 실험실 믹서로 혼합하여 각 조성물을 제조하였다.
촉진제를 포함하는 감광성 조성물
성분 중량 퍼센트
n-헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,
n-부틸 아크릴레이트, 스티렌 및 메타크릴산의
코폴리머
80
디프로필렌 글리콜 디벤조에이트 12
헥사아릴비이미다졸 2
9,10-페난트레퀴논 0.2
트리에탄올아민 트리아세테이트 1.5
류코 크리스탈 바이올렛 0.3
사이클로펜타논, 2,5-비스[[4-(디에틸아미노)
페닐]메틸렌]-, (2E,5E)-
0.1
O-프탈산 0.4
불소화 오늄염 1
이차 아민 2
유동제 0.5
아세톤 제제를 60 중량%의 고체 조성물로
만들기에 충분한 양
촉진제를 포함하지 않는 감광성 조성물
성분 중량 퍼센트
n-헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트,
n-부틸 아크릴레이트, 스티렌 및 메타크릴산의
코폴리머
80
디프로필렌 글리콜 디벤조에이트 12
헥사아릴비이미다졸 3
9,10-페난트레퀴논 1
류코 크리스탈 바이올렛 0.5
사이클로펜타논, 2,5-비스[[4-(디에틸아미노)
페닐]메틸렌]-, (2E,5E)-
0.5
O-프탈산 1
유동제 2
아세톤 제제를 60 중량%의 고체 조성물로
만들기에 충분한 양

각 제제를 별도의 60 ㎝ ×60 ㎝ 및 5 ㎜ 두께의 알루미늄 쿠폰상에 스프레이 코팅하였다. 헤어 드라이어를 이용하여 각 조성물로부터 아세톤 용매를 제거하였다.
각 코팅 쿠폰을 532 nm의 광 빔 파장을 가지는 레이저 빔에 선택적으로 노광하였다. 촉진제를 함유하는 조성물을 가지는 코팅이 촉진제를 함유하지 않는 코팅에 비해 2 내지 10 배 더 빨리 레이저 광 노광 부분의 호박색을 맑은 색으로 변화시킬 것으로 예상된다.

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  8. a) 5 mW 이하 전력에서 0.2 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠의 에너지 적용시에 색 또는 색조를 변화시키는 양의, 사이클로펜타논-기초 콘쥬게이트 화합물인 하나 이상의 증감제; 및 하나 이상의 퀴논 화합물과 하나 이상의 트리에탄올아민의 아실 에스테르의 조합인 환원제;를 포함하는 이미지화 조성물을 기판의 제 1 면상에 갖고, 기판의 제 2 면은 박리식 접착제를 포함하는 기판을 포함하는 제품을 제공하는 단계,
    b) 제품을 워크 피스에 적용하는 단계,
    c) 0.2 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠의 에너지를 5 mW 이하의 전력으로 이미지화 조성물에 적용하여 색 또는 색조를 변화시키는 단계,
    d) 색 또는 색조 변화에 따라서 워크 피스를 처리하여 워크 피스를 변형시키는 단계, 및
    e) 워크 피스로부터 제품을 제거하는 단계를 포함하는 이미지화 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 에너지가 이미지화 조성물에 선택적으로 적용되는 것을 특징으로 하는 이미지화 방법.
  10. 제 8 항에 있어서, 워크 피스가 항공 선박, 해양 선박, 지구 운행체 및 텍스타일로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 이미지화 방법.
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