KR101176838B1 - Transfer for thin layers deposition system of oled - Google Patents

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Abstract

OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치가 개시된다. 본 발명의 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치는, 기판 또는 기판이 안착된 캐리어(carrier)의 상단부를 가이드하는 상부 롤러 가이드; 상부 롤러 가이드와 함께 기판 또는 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시키는 하부 이송 롤러; 및 기판 또는 캐리어의 기울인 상태를 지지하는 기울임 가이드 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있다.Disclosed is a transfer apparatus of a thin film deposition system for manufacturing an OLED. The transfer apparatus of the thin film deposition system for manufacturing an OLED of the present invention, the upper roller guide for guiding the upper end of the substrate (carrier) on which the substrate or substrate is seated; A lower conveying roller for conveying the substrate or carrier together with the upper roller guide in an upright state inclined at an angle with respect to the gravity direction; And an inclination guide roller for supporting an inclined state of the substrate or the carrier. According to the present invention, since the substrate can be transferred in a standing state inclined at a certain angle with respect to the gravity direction, even if particles are attached to the surface of the mask or the substrate during transfer, the particles attached to the surface of the mask or the substrate are automatically dropped. In addition, the contact between the mask and the substrate may be more easily performed in a state in which the deposition of the organic material between the fine gaps during the deposition process may be reduced than before.

Description

OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치{TRANSFER FOR THIN LAYERS DEPOSITION SYSTEM OF OLED}Transfer device for thin film deposition system for manufacturing OLEDs {TRANSFER FOR THIN LAYERS DEPOSITION SYSTEM OF OLED}

본 발명은, OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer apparatus for a thin film deposition system for manufacturing an OLED, and more particularly, to transfer a substrate in a standing state inclined at an angle with respect to the gravity direction. Even if it is attached, particles adhered to the surface of the mask or the substrate may automatically fall, and the deposition between the mask and the substrate may be more easily performed in a state in which organic matter is deposited between the fine gaps during the deposition process. The present invention relates to a transfer device of a thin film deposition system for manufacturing an OLED that can be in close contact.

일반적으로 평판표시소자인 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 디스플레이 장치로서 주목받고 있다.In general, organic light emitting display (OLED), which is a flat panel display element, is an ultra-thin display device that realizes color images by self-emission of organic materials. It is attracting attention as a display device.

OLED는 애노드와 캐소드 그리고, 애노드와 캐소드 사이에 개재된 유기막들을 포함하고 있다. 여기서 유기막들은 최소한 발광층을 포함하며, 발광층 이외에도 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층을 더 포함할 수 있다.The OLED includes an anode and a cathode, and organic layers interposed between the anode and the cathode. The organic layers may include at least a light emitting layer, and may further include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer.

이러한 OLED는 유기막 특히, 발광층을 이루는 물질에 따라서 고분자 유기발광소자와 저분자 유기발광소자로 나누어질 수 있다. 풀 칼라(full color)를 구현하기 위해서는 발광층을 패터닝해야 하는데, 대형 OLED를 제작하는 방식으로는 FMM(Fine Metal Mask, 이하 마스크라 함)을 이용한 직접 패터닝 방식과 LITI(Laser Induced Thermal Imaging) 공법을 적용한 방식, 컬러 필터(color filter)를 이용하는 방식 등이 있다.The OLED may be classified into a polymer organic light emitting device and a low molecular organic light emitting device according to an organic layer, in particular, a light emitting layer. In order to realize full color, the light emitting layer needs to be patterned. In order to manufacture a large OLED, a direct patterning method using a fine metal mask (FMM) and a laser induced thermal imaging (LITI) method are used. There is a method applied, a method using a color filter.

한편, OLED 공정에서 가장 중요한 이슈(Issue) 사항은 파티클 이슈(Particle Issue)이다. 전술한 바와 같이, OLED는 증착 공정 중에 유기물을 증착하며 이렇게 증착된 유기물에 의해 발광되는 원리로 디스플레이를 구현하기 때문에 유기물 증착 공정 중에 파티클이 발생하게 되면 완제품에 결함의 요소가 되어 큰 문제가 된다.Meanwhile, the most important issue in the OLED process is the particle issue. As described above, the OLED deposits organic material during the deposition process and implements a display based on the principle of emitting light by the deposited organic material. Thus, when particles are generated during the organic material deposition process, it becomes a problem of defects in the finished product.

이러한 문제를 고려하여 즉 파티클 이슈(Particle Issue)를 최소화하기 위하여 컨베이어 이송시스템 혹은 자기부상 시스템에 의해 수직으로 마스크(mask)를 이송하여 수직으로 세워진 마스크에 기판을 부착시켜서 증착 공정을 적용하는 것을 고려하고 있다.In consideration of this problem, that is, in order to minimize particle issues, consider applying a deposition process by attaching a substrate to a vertically mounted mask by transferring a mask vertically by a conveyor conveying system or a magnetic levitation system. Doing.

그러나 이 경우 수직으로 세워진 마스크와 기판 사이에 미세한 갭(gap)이 발생될 수 있고, 증착 공정 중에 마스크와 기판 사이의 미세한 갭(gap)으로 사이로 유기물이 증착되는 현상이 발생되어 원하는 패턴을 형성시키기 어려운 문제가 발생되므로 이에 대한 대책이 요구된다.However, in this case, a fine gap may be generated between the mask and the substrate standing vertically, and a phenomenon in which an organic material is deposited between the mask and the substrate during the deposition process may occur to form a desired pattern. Since a difficult problem occurs, a countermeasure is required.

참고로, 마스크와 기판 간에 미세한 갭이 발생되는 원인을 분석해보면, 마스크가 수직으로 세워졌을 때 액자 구조로 되어 있는 마스크의 내부 따진 부분에서 시간이 지남에 따라 볼록하게 배가 부르는 현상이 나타나는데 이러한 현상에 의한 변형으로 마스크와 기판 간에 미세한 갭이 발생하게 되는 것으로 알려지고 있으며, 실제 측정 결과 에지(edge) 부위와 배부른 부위와의 평판도 차이는 약 300μm가 발생되는 것으로 관찰된 바 있다.For reference, when analyzing the cause of the minute gap between the mask and the substrate, when the mask is standing vertically, the convex bulge occurs over time in the inner part of the mask having a frame structure. It is known that a small gap is generated between the mask and the substrate due to the deformation, and the difference in the flatness between the edge and the filled region has been observed to be about 300 μm as a result of the actual measurement.

또한 마스크와 기판을 수직으로 이송시키는 경우에는 이송 중에 마스크 또는 기판의 표면에 부착된 파티클(Particle)이 그대로 잔존하게 되는 문제점이 있으므로 이에 대한 대책이 요구된다.In addition, when the mask and the substrate are vertically transferred, there is a problem that particles adhered to the surface of the mask or the substrate remain intact during the transfer, so that countermeasures are required.

본 발명의 목적은, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is that, even when particles are attached to the surface of the mask or the substrate during transfer, the particles are automatically attached to the surface of the mask or the substrate because the substrate can be transferred in an upright state inclined at an angle to the direction of gravity. A transfer device of a thin film deposition system for manufacturing OLEDs, which can fall down and can be brought into close contact between a mask and a substrate more easily in a state in which organic matters can be reduced between fine gaps during the deposition process. To provide.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 기판 또는 상기 기판이 안착된 캐리어(carrier)의 상단부를 가이드하는 상부 롤러 가이드; 상기 상부 롤러 가이드와 함께 상기 기판 또는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시키는 하부 이송 롤러; 및 상기 기판 또는 상기 캐리어의 기울인 상태를 지지하는 기울임 가이드 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치에 의해 달성된다.The object, according to the present invention, the upper roller guide for guiding the upper end of the substrate (carrier) on which the substrate or the carrier is seated; A lower transfer roller configured to transfer the substrate or the carrier together with the upper roller guide in an upright state inclined at an angle with respect to the gravity direction; And an inclination guide roller for supporting an inclined state of the substrate or the carrier.

여기서, 상기 기울임 가이드 롤러는 상기 하부 이송 롤러에 인접하게 배치되는 하부 기울임 가이드 롤러일 수 있다.Here, the tilt guide roller may be a lower tilt guide roller disposed adjacent to the lower transfer roller.

상기 하부 이송 롤러에 결합되어 상기 하부 이송 롤러의 각도를 조절하는 하부 각도 조절 플레이트를 더 포함할 수 있다.It may further include a lower angle adjusting plate coupled to the lower conveying roller to adjust the angle of the lower conveying roller.

상기 상부 롤러 가이드에 결합되어 상기 상부 롤러 가이드의 각도를 조절하는 상부 각도 조절 플레이트를 더 포함할 수 있다.It may further include an upper angle adjusting plate coupled to the upper roller guide to adjust the angle of the upper roller guide.

동력을 제공하는 구동모터; 및 상기 구동모터에 의해 구동되며, 상기 하부 이송 롤러와 연결되는 베벨 기어를 더 포함할 수 있다.A drive motor for providing power; And a bevel gear driven by the driving motor and connected to the lower feed roller.

상기 이송 장치는 발생 가능한 파티클이 중력 방향인 하부 방향으로 떨어질 수 있도록 증착면이 하향되는 방향을 향하도록 상기 기판 또는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시킬 수 있다.The transfer device may transfer the substrate or the carrier in an upright state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction so that the particles may fall in the downward direction, which is the gravity direction.

상기 이송 장치는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시킬 수 있다.The conveying apparatus may convey the carrier in an upright state inclined at an angle with respect to the gravity direction.

상기 일정각도는 70도 내지 89도일 수 있다.The predetermined angle may be 70 degrees to 89 degrees.

한편, 상기 목적은, 본 발명에 따라, 마그네트 가이드; 상기 마그네트 가이드와 함께 기판 또는 상기 기판이 안착된 캐리어(carrier)를 자기 부상시키는 자기 부상모듈; 및 상기 기판 또는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 자기 부상시키도록 자기 부상모듈을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치에 의해서도 달성된다.On the other hand, the above object, according to the present invention, the magnet guide; A magnetic levitation module for magnetic levitation of a substrate or a carrier on which the substrate is mounted together with the magnet guide; And a control unit for controlling the magnetic levitation module to magnetically float the substrate or the carrier in a standing state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction.

여기서, 상기 마그네트 가이드는 각도 조절 가능하되 상기 제어부에 의해 제어될 수 있다.Here, the magnet guide is adjustable in angle but can be controlled by the controller.

상기 일정각도는 70도 내지 89도일 수 있다.The predetermined angle may be 70 degrees to 89 degrees.

본 발명에 따르면, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있다.According to the present invention, since the substrate can be transported in an upright state inclined at a certain angle with respect to the direction of gravity, even if particles are attached to the surface of the mask or the substrate during transport, the particles attached to the surface of the mask or the substrate are automatically dropped. In addition, the contact between the mask and the substrate may be more easily performed in a state in which the deposition of the organic material between the fine gaps during the deposition process may be reduced than before.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치가 적용될 수 있는 OLED 제조용 박막 증착 시스템에 적용되는 챔버의 사시도이다.
도 2 및 도 3은 증착 과정을 단계적으로 도시한 도 1의 개략적인 측면 구조도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치의 개략적인 측면 구조도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치의 개략적인 측면 구조도이다.
도 6은 기울어짐에 따른 변위 계산을 위한 모식도이다.
1 is a perspective view of a chamber applied to a thin film deposition system for manufacturing an OLED to which a transfer device according to a first embodiment of the present invention may be applied.
2 and 3 are schematic side structural diagrams of FIG. 1 showing the deposition process step by step.
4 is a schematic side structure diagram of a transfer apparatus of a thin film deposition system for manufacturing OLED according to a first embodiment of the present invention.
5 is a schematic side structure diagram of a transfer device of a thin film deposition system for manufacturing OLED according to a second embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram for calculation of displacement according to tilting.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치가 적용될 수 있는 OLED 제조용 박막 증착 시스템에 적용되는 챔버의 사시도이고, 도 2 및 도 3은 증착 과정을 단계적으로 도시한 도 1의 개략적인 측면 구조도이며, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치의 개략적인 측면 구조도이다.1 is a perspective view of a chamber applied to a thin film deposition system for manufacturing an OLED to which a transfer device according to a first embodiment of the present invention may be applied, and FIGS. 2 and 3 are schematic side views of FIG. 4 is a schematic side view of a transfer apparatus of a thin film deposition system for manufacturing an OLED according to a first embodiment of the present invention.

이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치(160, 도 4 참조)는, 도 1 내지 도 3에 도시된 OLED 제조용 박막 증착 시스템에 적용될 수 있다.As shown in these drawings, the transfer device 160 (refer to FIG. 4) according to the first embodiment of the present invention can be applied to the thin film deposition system for manufacturing OLED shown in FIGS. 1 to 3.

즉 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치(160)가 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태의 마스크(120, Fine Metal Mask, FMM)와 기판을 챔버(100) 내로 이송함으로써, 비로소 증착 공정이 진행될 수 있다.That is, the transfer device 160 according to the first embodiment of the present invention transfers the mask 120 (Fine Metal Mask, FMM) and the substrate in the standing state, which are inclined at an angle with respect to the gravity direction, into the chamber 100, and then the deposition process. This can be done.

결과적으로 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치(160)가 적용될 수 있는 OLED 제조용 박막 증착 시스템은, 종래와는 달리 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태의 마스크(120, Fine Metal Mask, FMM)와 기판을 챔버(100) 내로 이송하여 해당 위치에 배치시킨 다음, 마스크(120)와 기판이 상호 접면되어 상호 정밀한 평탄도를 유지하도록 한 후에, 소스(150, source)가 마스크(120)를 통해 기판 상으로 증착 물질을 제공함으로써 증착 공정이 진행될 수 있도록 하는 것이다.As a result, a thin film deposition system for manufacturing an OLED to which the transfer device 160 according to the first embodiment of the present invention can be applied, unlike in the prior art, the mask 120 in a standing state inclined at an angle with respect to the gravity direction (Fine Metal Mask, FMM) ) And the substrate are transported into the chamber 100 and placed in the respective positions, and then the mask 120 and the substrate are brought into contact with each other to maintain precise flatness, and then the source 150 controls the mask 120. By providing a deposition material on the substrate through the deposition process can proceed.

여기서, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태의 각도는 70도 내지 89도일 수 있는데, 70도보다 작으면 이송에 어려움이 있고, 89도보다 크면 파티클이 낙하되는 효과와 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 감소시키기 어려울 수 있다. 그리고 정밀한 평탄도라 함은 마스크(120)와 기판이 상호 전체 면적에 걸쳐서 균일하게 접촉하는 것을 말하며, 기판은 전술한 바와 같이, 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)일 수 있다.Here, the angle of the standing state inclined by a certain angle with respect to the gravity direction may be 70 degrees to 89 degrees. If the angle is less than 70 degrees, it is difficult to transfer. If the angle is larger than 89 degrees, the particles fall and the fine gap during the deposition process. It can be difficult to reduce the deposition of organic material between the layers. The precision flatness means that the mask 120 and the substrate are in uniform contact with each other over the entire area. The substrate may be an organic light emitting display (OLED) as described above.

이하, 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치(160)가 적용될 수 있는 OLED 제조용 박막 증착 시스템에 대해 먼저 설명한 후에, 도 4를 참조하여 이송 장치(160)에 대해 자세히 알아보도록 한다.Hereinafter, after the thin film deposition system for manufacturing an OLED to which the transfer device 160 according to the first embodiment of the present invention can be applied, the transfer device 160 will be described in detail with reference to FIG. 4.

OLED 제조용 박막 증착 시스템은 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 증착 공정이 진행되는 챔버(100)와, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 마스크(120)를 지지하는 마스크 지지유닛(121)과, 마스크(120)를 마스크 지지유닛(121) 측으로 접근시키는 마스크 구동부(미도시)와, 마스크(120)에 대향되며 챔버(100) 내부로 공급된 기판을 파지한 후 마스크(120)에 대하여 기판을 얼라인하는 기판 파지 얼라인 유닛(130)과, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태의 마스크(120)와 기판이 접촉된 때 마스크(120)를 통하여 기판 상에 증착 물질을 제공하여 박막을 형성시키는 소스(150, source)를 포함한다.As shown in FIGS. 1 to 4, a thin film deposition system for manufacturing an OLED includes a mask support unit 121 that supports a chamber 100 in which a deposition process is performed, and a mask 120 in an upright state inclined at an angle with respect to a gravity direction. ), A mask driver (not shown) for approaching the mask 120 toward the mask support unit 121, and a substrate opposed to the mask 120 and supplied into the chamber 100, and then held on the mask 120. The deposition material is provided on the substrate through the substrate holding alignment unit 130 for aligning the substrate with respect to the substrate, and the mask 120 when the substrate is in contact with the mask 120 in a standing state inclined at an angle with respect to the gravity direction. And a source 150 for forming the thin film.

챔버(100)는, 기판에 대한 증착 공정이 진행되는 장소를 이룬다. 통상적으로 프로세스 챔버(process chamber)라 불리기도 한다.The chamber 100 forms a place where the deposition process for the substrate proceeds. It is also commonly referred to as a process chamber.

이러한 챔버(100)의 내부는 기판에 대한 증착 공정이 신뢰성 있게 진행될 수 있도록 진공 분위기를 형성한다. 따라서 도시하지는 않았지만 챔버(100)의 일측에는 챔버(100) 내의 공기를 흡입하여 챔버(100) 내를 진공 유지시키기 위한 진공 펌프가 연결될 수 있다.The interior of the chamber 100 forms a vacuum atmosphere so that the deposition process on the substrate can be performed reliably. Therefore, although not shown, a vacuum pump may be connected to one side of the chamber 100 to suck the air in the chamber 100 to maintain the vacuum in the chamber 100.

챔버(100)의 일측에는 기판의 출입 통로를 이루는 게이트 밸브(101)가 결합된다. 게이트 밸브(101)가 열리거나 닫히면서 챔버(100)의 내부 및 외부로 기판이 출입될 수 있다.One side of the chamber 100 is coupled to the gate valve 101 forming the access passage of the substrate. As the gate valve 101 opens or closes, the substrate may enter and exit the chamber 100.

다음으로, 마스크(120)는, 기판의 표면에 미리 결정된 패턴(pattern)으로 증착을 진행하기 위하여 기판의 표면에 접촉 지지된다. 자세히 도시하지는 않았지만 마스크(120)에는 소스(150)로부터의 증착 물질이 통과되는 다수의 통공(미도시)이 마련된다.Next, the mask 120 is contacted and supported on the surface of the substrate in order to proceed with deposition in a predetermined pattern on the surface of the substrate. Although not shown in detail, the mask 120 is provided with a plurality of through holes (not shown) through which the deposition material from the source 150 passes.

본 실시예의 경우, 마스크(120) 역시 기판과 나란하게, 즉 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송된 후 챔버(100) 내의 해당 위치, 즉 마스크 지지유닛(121)에 지지된다. 이처럼 마스크(120)가 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송된 후 마스크 지지유닛(121)에 지지되는 구조를 가질 경우, 마스크(120)의 사이즈가 커지더라도 마스크(120)의 사이즈 대비 처짐을 종래 보다 현저히 감소시킬 수 있고 챔버(100)의 공간도 종래보다 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 기판과 마스크(120)의 얼라인이 정밀하게 이루어질 수 있어 특히, 대형 OLED 양산 제조에 적합하게 적용될 수 있다.In the present embodiment, the mask 120 is also transported in parallel with the substrate, that is, in an upright state inclined at an angle with respect to the gravity direction, and then supported at the corresponding position in the chamber 100, that is, the mask support unit 121. As such, when the mask 120 has a structure supported by the mask support unit 121 after being transported in an upright state inclined at an angle with respect to the gravity direction, the mask 120 sags relative to the size of the mask 120 even though the size of the mask 120 increases. It can be significantly reduced than the conventional and the space of the chamber 100 can be reduced as well as the conventional alignment of the substrate and the mask 120 can be made precisely, in particular, it can be applied to large-scale OLED mass production .

도시하지는 않았지만 마스크 구동부는 마스크(120)를 마스크 지지유닛(121) 측으로 접근시키는 역할을 한다. 이러한 마스크 구동부는 실린더(cylinder)나 리니어 모터(linear motor), 혹은 모터(motor)와 볼스크루(ball screw)의 조합, 혹은 로봇(robot) 등으로 적용될 수도 있고, 후술할 이송 장치(160)의 구조가 그대로 전용될 수도 있다.Although not shown, the mask driving unit serves to approach the mask 120 toward the mask support unit 121. The mask driving unit may be applied to a cylinder, a linear motor, or a combination of a motor and a ball screw, a robot, or the like. The structure may be dedicated as it is.

그리고 도면에 극히 개략적은 도시한 마스크 지지유닛(121)은 실린더(cylinder)나 액추에이터(actuator) 등으로 적용될 수 있으며 마스크(120)의 최종 이동 위치에 배치되어 위치 이동이 완료된 마스크(120)가 임의로 자리 이탈되거나 위치 변경되지 않도록 마스크(120)를 지지, 혹은 척킹하는 역할을 한다. 한편, 본 실시예의 경우, 도 2 및 도 3처럼 기판이 마스크(120) 쪽으로 이동되어 마스크(120)와 접면되고 있으나 일정 거리 정도는 마스크(120)가 기판 쪽으로 이동할 수도 있을 것이다.In addition, the mask support unit 121 illustrated in the drawings may be applied as a cylinder or an actuator, and the mask 120 having the position movement completed at the final movement position of the mask 120 may be arbitrarily selected. It serves to support or chuck the mask 120 so as not to be displaced or repositioned. Meanwhile, in the present exemplary embodiment, the substrate is moved toward the mask 120 to be in contact with the mask 120 as shown in FIGS. 2 and 3, but the mask 120 may be moved toward the substrate for a predetermined distance.

다음으로, 기판 파지 얼라인 유닛(130)은, 마스크(120)를 중심으로 소스(150)에 대향되게 배치되며, 마스크(120)와 나란하게 배치되는 기판 즉 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태의 기판을 파지한 상태에서 마스크(120)에 대하여 기판을 얼라인시키는 역할을 한다.Next, the substrate holding alignment unit 130 is disposed to face the source 150 with respect to the mask 120, and is standing up at a predetermined angle with respect to the substrate disposed in parallel with the mask 120, that is, the gravity direction. It serves to align the substrate with respect to the mask 120 in the state of holding the substrate.

본 실시예에서 적용되는 기판 파지 얼라인 유닛(130)은 수직되게 세워진 상태를 유지하고 있지 않고 도 2 및 도 3처럼 중력방향에 대해 일정각도 기울임 각을 가지고 배치되며, 기판을 장착한 제1 캐리어(141, 도 4 참조)로부터 기판을 파지한 후에 마스크(120)에 대하여 기판을 얼라인한다.The substrate holding alignment unit 130 applied in the present embodiment is not maintained vertically and is disposed with a predetermined angle of inclination with respect to the gravity direction as shown in FIGS. 2 and 3, and the first carrier having the substrate mounted thereon. After holding the substrate from 141 (see FIG. 4), the substrate is aligned with respect to the mask 120.

이러한 기판 파지 얼라인 유닛(130)은, 유닛 본체(131)와, 유닛 본체(131)에 상대 이동 가능하게 결합되고 마스크(120)를 향한 일측에서 기판이 지지되는 기판 지지용 플레이트(132)와, 기판 지지용 플레이트(132)에 접촉되는 기판을 해당 위치에서 파지하는 기판 파지부(133)와, 유닛 본체(131)와 연결되어 마스크(120)에 대한 기판의 얼라인 작업을 진행하는 기판 얼라이너(134)를 포함한다.The substrate holding alignment unit 130 may include a unit main body 131, a substrate supporting plate 132 coupled to the unit main body 131 so as to be relatively movable, and having a substrate supported on one side toward the mask 120. In addition, the substrate holding part 133 holding the substrate in contact with the substrate supporting plate 132 at the corresponding position, and the substrate aligning operation of the substrate with respect to the mask 120 connected to the unit body 131. Liner 134.

유닛 본체(131)는, 기판 지지용 플레이트(132)를 마스크(120) 쪽으로 이동시키거나 반대의 원위치로 복귀시키기 위한 부품들이 설치된 곳으로서 일 영역은 챔버(100)의 내부에, 그리고 나머지 영역은 챔버(100)의 외부에 배치될 수 있다.The unit body 131 is provided with components for moving the substrate support plate 132 toward the mask 120 or returning to the opposite original position. One unit is inside the chamber 100 and the other is It may be disposed outside the chamber 100.

기판 지지용 플레이트(132)는, 표면에서 기판이 지지되는 장소이다. 앞서 기술한 바와 같이, 기판은 별도의 제1 캐리어(141)를 통해 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 챔버(100) 내로 이송시키는 이송 장치(160, 도 4 참조)에 의해 이송될 수 있으며, 이송된 후에는 기판 지지용 플레이트(132)의 표면에 배치된다. 전술한 바와 같이, 기판은 마스크(120)와 마찬가지로 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 공급된 후에 기판 지지용 플레이트(132)의 표면에 지지되기 때문에 기판 지지용 플레이트(132)의 표면 역시 마스크(120)와 나란한 상태를 유지한다.The substrate support plate 132 is a place where the substrate is supported on the surface. As described above, the substrate may be transferred by a transfer device 160 (see FIG. 4) for transferring the substrate 100 into the chamber 100 in a state inclined at an angle to the gravity direction through a separate first carrier 141, After the transfer, it is disposed on the surface of the substrate supporting plate 132. As described above, the substrate is also supported on the surface of the substrate support plate 132 after being supplied in an upright state inclined at an angle with respect to the direction of gravity as with the mask 120, so that the surface of the substrate support plate 132 is also masked. Maintain parallel with 120.

본 실시예에서 기판 지지용 플레이트(132)는 쿨링 플레이트(132, cooling plate)로 적용될 수 있다. 쿨링 플레이트(132)로 적용될 수 있는 기판 지지용 플레이트(132)는 기판의 표면에서 실제 증착 공정이 이루어지기 전에 기판의 온도를 하강시킴으로써 증착 효율을 향상시킬 수 있도록 한다. 물론, 본 발명의 권리범위가 이에 제한될 필요는 없으므로 기판 지지용 플레이트(132)가 쿨링 플레이트(132)로 마련되는 대신에 기판 지지용 플레이트(132) 내에 냉각수나 혹은 냉각공기 주입 라인을 배치하는 것도 충분히 가능하다. 그리고 기판 지지용 플레이트(132)가 반드시 쿨링 플레이트(132)일 필요도 없다.In this embodiment, the substrate support plate 132 may be applied as a cooling plate 132. The substrate supporting plate 132, which may be applied to the cooling plate 132, may improve the deposition efficiency by lowering the temperature of the substrate before the actual deposition process is performed on the surface of the substrate. Of course, since the scope of the present invention does not need to be limited thereto, instead of providing the substrate supporting plate 132 as the cooling plate 132, the cooling water or the cooling air injection line is disposed in the substrate supporting plate 132. It is also possible enough. The substrate support plate 132 does not necessarily need to be the cooling plate 132.

기판 지지용 플레이트(132)의 내부에는 금속 재질의 마스크(120)가 기판에 밀착되면서 면접촉될 수 있도록 기판을 사이에 두고 마스크(120)를 유닛 본체(131) 쪽으로 끌어당기는 자력을 발생시키는 마그네트 어레이(135)가 더 마련된다. 즉 마그네트 어레이(134)는 마스크(120)와 기판이 접촉할 때 자장 형성을 통해 금속 재질인 마스크(120)가 기판에 보다 확실히 밀착하도록 하여 마스크(120)와 기판 사이의 들뜸 현상 등으로 인해 증착 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있도록 한다. 마그네트 어레이(134)는 수의 단위 마그네트(미도시)의 배열 구조에 의해 마련될 수 있으나 반드시 그러할 필요는 없다.The magnet for generating a magnetic force that pulls the mask 120 toward the unit body 131 with the substrate interposed therebetween so that the metal mask 120 may be in surface contact with the substrate while being in contact with the substrate. The array 135 is further provided. That is, the magnet array 134 is deposited due to the lifting phenomenon between the mask 120 and the substrate such that the mask 120, which is a metal material, is more closely adhered to the substrate through magnetic field formation when the mask 120 is in contact with the substrate. To prevent the occurrence of defects. The magnet array 134 may be provided by an arrangement structure of a number of unit magnets (not shown), but it is not necessary.

기판 파지부(133)는, 기판 지지용 플레이트(132)의 표면에 배치된 기판을 해당 위치에서 파지하는 수단이다. 특히, 본 실시예의 경우, 기판은 기울여져 공급되고, 또한 기판은 대형 기판이기 때문에 기판이 흔들림 없이 파지되어야 한다. 본 실시예에서는 기판을 탄성적으로 지지할 수 있는 구조를 개략적으로 도시하고 있으나 본 발명의 권리범위가 이에 제한될 필요는 없다. 즉 기판 파지부(133)의 형태는 정전척이나 흡착척으로 대체될 수도 있다.The board | substrate holding part 133 is a means for holding the board | substrate arrange | positioned at the surface of the board | substrate support plate 132 in the said position. In particular, in the case of this embodiment, the substrate is inclined and supplied, and since the substrate is a large substrate, the substrate should be held without shaking. In this embodiment, the structure capable of elastically supporting the substrate is schematically illustrated, but the scope of the present invention is not necessarily limited thereto. That is, the shape of the substrate holding part 133 may be replaced by an electrostatic chuck or an adsorption chuck.

이러한 기판 파지부(133)를 마련함에 있어 도 2 및 도 3처럼 기판은 마스크(120)와 실질적으로 면접촉 지지되어야 하기 때문에, 기판 파지부(133)가 이를 방해해서는 곤란하다. 따라서 기판 파지부(133)의 선단부가 기판의 표면보다 마스크(120) 쪽으로 더 돌출되는 형태로 마련되는 것은 바람직하지 않다.In the provision of the substrate holding part 133, since the substrate must be substantially in surface contact with the mask 120 as shown in FIGS. 2 and 3, it is difficult for the substrate holding part 133 to interfere with it. Therefore, it is not preferable that the distal end portion of the substrate holding part 133 protrude more toward the mask 120 than the surface of the substrate.

기판 얼라이너(134)는, 유닛 본체(131)와 연결되어 마스크(120)에 대한 기판의 얼라인 작업을 진행한다. 도 1에는 상대적으로 자세하게, 그리고 도 2 및 도 3에는 개략적인 박스(box) 구조로 도시되어 있는데, 이러한 기판 얼라이너(134)는 유닛 본체(131)를, 혹은 유닛 본체(131)와 연결되어 실질적으로 기판이 접촉지지되는 기판 지지용 플레이트(132)를 X축, Y축, θ축 중에서 선택된 적어도 어느 한 방향으로 이동시킬 수 있도록 구동력을 제공하는 UVW 구동력 제공부(미도시)를 포함할 수 있다. 실제, 유닛 본체(131)를, 혹은 유닛 본체(131)와 연결되어 실질적으로 기판이 접촉지지되는 기판 지지용 플레이트(132)를 X축, Y축, θ축 중에서 선택된 적어도 어느 한 방향으로 이동시키기 위한 구조는, 실린더나 모터, 기어의 조합에 의해 다양하게 구현할 수 있으므로 이에 대한 구체적인 설명은 생략하도록 한다.The substrate aligner 134 is connected to the unit main body 131 and performs alignment of the substrate with respect to the mask 120. In FIG. 1, a relatively detailed box structure is shown in FIG. 2 and FIG. 3. The substrate aligner 134 is connected to the unit body 131 or to the unit body 131. It may include a UVW driving force providing unit (not shown) for providing a driving force to move the substrate support plate 132, which is substantially in contact with the substrate in at least one direction selected from the X-axis, Y-axis, θ axis have. In practice, the unit main body 131 or the substrate supporting plate 132 connected to the unit main body 131 to be substantially supported by the substrate is moved in at least one direction selected from among X, Y, and θ axes. The structure for the present invention may be variously implemented by a combination of a cylinder, a motor, and a gear, so a detailed description thereof will be omitted.

이처럼 기판 얼라이너(134)를 통해 마스크(120)에 대한 기판의 얼라인 작업을 진행되기 때문에, 기판 얼라이너(134)는 마스크(120)에 형성되는 얼라인 마크(align mark)를 촬영하는 비젼부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 비젼부에 의해 촬영된 영상 정보는 도시 않은 제어부로 전송되고, 제어부는 기판 얼라이너(134)에 마련되는 UVW 구동력 제공부의 제어를 통해 유닛 본체(131)를, 혹은 유닛 본체(131)와 연결되어 실질적으로 기판이 접촉지지되는 기판 지지용 플레이트(132)를 X축, Y축, θ축 중에서 선택된 적어도 어느 한 방향으로 이동시킴으로써 마스크(120)에 대한 기판의 얼라인 작업이 진행될 수 있도록 한다.Since the alignment of the substrate with respect to the mask 120 is performed through the substrate aligner 134 as described above, the substrate aligner 134 captures an image of alignment marks formed on the mask 120. It may further include a portion (not shown). The image information photographed by the vision unit is transmitted to a controller (not shown), and the controller is connected to the unit main body 131 or the unit main body 131 through the control of the UVW driving force providing unit provided in the substrate aligner 134. Substantially moving the substrate supporting plate 132 to which the substrate is in contact with the substrate in at least one direction selected from among the X-axis, Y-axis, and θ-axis allows the alignment of the substrate with respect to the mask 120 can proceed.

소스(150)는 마스크(120)의 일측에 배치되어 증착에 요구되는 소정의 증착 물질을 마스크(120)를 통해 기판으로 제공한다. 소스(150)는 고정된 위치에서 기판을 향해 증착 물질을 제공할 수도 있다. 하지만, 본 실시예처럼 마스크(120)와 기판이 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태인 경우에는 고정형 소스를 사용하기 곤란할 수도 있다. 예컨대, 고정형 소스를 사용하게 되면, 기판의 전체 표면에 대한 소스(150)와의 상대적인 변위가 달라지기 때문에 균일한 증착막을 얻기 어려울 수 있는데, 이러한 경우에는 별도의 소스 얼라인 유닛(미도시)을 마련하여 이에 소스(150)를 연결시켜 소스(150)를 기판의 전체 표면으로 이동시키되 기판의 전체 표면에 대하여 소스(150)와의 상대적인 변위가 실질적으로 동일해질 수 있도록 소스(150)를 얼라인 이동시키면 된다.The source 150 is disposed on one side of the mask 120 to provide a predetermined deposition material required for deposition to the substrate through the mask 120. Source 150 may provide the deposition material towards the substrate at a fixed location. However, when the mask 120 and the substrate are in the standing state inclined at an angle with respect to the gravity direction as in the present embodiment, it may be difficult to use the fixed source. For example, when using a fixed source, it is difficult to obtain a uniform deposition film because the relative displacement with the source 150 relative to the entire surface of the substrate is different, in which case a separate source alignment unit (not shown) is provided. By connecting the source 150 to move the source 150 to the entire surface of the substrate, the source 150 is aligned so that the relative displacement with the source 150 with respect to the entire surface of the substrate is substantially the same do.

한편, 전술한 OLED 제조용 박막 증착 시스템에 적용될 수 있는 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치(160)는, 반복해서 설명하는 것처럼 기판을 장착한 제1 캐리어(141)를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 챔버(100) 내로 이송시키는 역할을 한다.On the other hand, the transfer device 160 according to the first embodiment of the present invention that can be applied to the above-described thin film deposition system for manufacturing an OLED, as described repeatedly, the first carrier 141 on which the substrate is mounted is fixed with respect to the gravity direction. It serves to transfer into the chamber 100 in an inclined angle.

다시 말해, 본 발명의 제1 실시예에 따른 이송 장치(160)에 의해 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크(120) 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크(120) 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크(120)와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있게 된다.In other words, since the substrate can be transferred in a standing state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction by the transfer apparatus 160 according to the first embodiment of the present invention, the particles are formed on the surface of the mask 120 or the substrate during transfer. ) May be automatically dropped particles attached to the surface of the mask 120 or the substrate, and the mask 120 in a state that can reduce the deposition of organic matter between the fine gaps during the deposition process than in the prior art ) And the substrate can be in close contact with each other more easily.

이러한 이송 장치(160)는, 기판이 안착된 제1 캐리어(141)의 상단부를 가이드하는 상부 롤러 가이드(161)와, 상부 롤러 가이드(161)와 함께 기판을 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시키는 하부 이송 롤러(162)와, 기판의 기울인 상태를 지지하는 기울임 가이드 롤러(163)를 구비한다.The transfer device 160 is a standing state in which the upper roller guide 161 guides the upper end of the first carrier 141 on which the substrate is seated, and the substrate is inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction together with the upper roller guide 161. And a lower guide roller 162 for feeding the sheet, and a tilting guide roller 163 for supporting an inclined state of the substrate.

이때, 기울임 가이드 롤러(163)는 하부 이송 롤러(162)에 인접하게 배치되는 하부 기울임 가이드 롤러(163)로 마련된다. 하지만, 기울임 가이드 롤러(163)는 상부 롤러 가이드(161) 측에 마련될 수도 있다.At this time, the tilt guide roller 163 is provided with a lower tilt guide roller 163 disposed adjacent to the lower feed roller 162. However, the tilt guide roller 163 may be provided on the upper roller guide 161 side.

실제, 기판은 하부 이송 롤러(162)에 의해 이송되며, 상부 롤러 가이드(161)와 기울임 가이드 롤러(163)는 기판의 이송을 가이드하는 역할을 한다.In practice, the substrate is conveyed by the lower feed roller 162, and the upper roller guide 161 and the tilt guide roller 163 serve to guide the transfer of the substrate.

하부 이송 롤러(162)에 의해 기판이 이송되기 위해, 본 실시예의 이송 장치(160)는, 동력을 제공하는 구동모터(166)와, 구동모터(166)에 의해 구동되며, 하부 이송 롤러(162)와 연결되는 베벨 기어(167)를 구비한다.In order to transfer the substrate by the lower feed roller 162, the transfer device 160 of the present embodiment is driven by the drive motor 166 for providing power, the drive motor 166, and the lower feed roller 162. And a bevel gear 167 connected thereto.

도시된 것처럼 구동모터(166) 역시 일정각도 기울여진 상태로 조립될 수 있다. 구동모터(166)에는 구동축(166a)이 회전 가능하게 연결되며, 이 구동축(166a)의 단부와 하부 이송 롤러(162)의 롤러축(162a) 사이에 베벨 기어(167)가 마련된다. 따라서 구동모터(166)의 구동축(166a)이 회전하면, 베벨 기어(167)에 의해 그 회전방향이 바뀌어 롤러축(162a)에 전달되고, 이로써 하부 이송 롤러(162)가 회전함으로서 그에 지지된 제1 캐리어(141)는 상부 롤러 가이드(161)와 기울임 가이드 롤러(163)에 의해 가이드되면서 이송될 수 있게 된다.As shown, the driving motor 166 may also be assembled at a predetermined angle. The drive shaft 166a is rotatably connected to the drive motor 166, and a bevel gear 167 is provided between the end of the drive shaft 166a and the roller shaft 162a of the lower feed roller 162. Therefore, when the drive shaft 166a of the drive motor 166 rotates, its rotation direction is changed by the bevel gear 167 to be transmitted to the roller shaft 162a, whereby the lower feed roller 162 rotates to be supported by it. The first carrier 141 may be transported while being guided by the upper roller guide 161 and the tilt guide roller 163.

한편, 이송 장치(160)는 증착면이 하향되는 방향을 향하도록 기판을 기울이는데, 이는 발생될 수 있는 파티클들이 중력 방향인 하부 방향으로 떨어질 수 있도록 하기 위함이다.On the other hand, the transfer device 160 tilts the substrate so that the deposition surface is directed downward, in order to allow particles to be generated to fall in the downward direction in the direction of gravity.

본 실시예의 이송 장치(160)에는 하부 이송 롤러(162)에 결합되어 하부 이송 롤러(162)의 각도를 조절하는 하부 각도 조절 플레이트(164)와, 상부 롤러 가이드(161)에 결합되어 상부 롤러 가이드(161)의 각도를 조절하는 상부 각도 조절 플레이트(165)가 더 마련된다. 물론, 하부 각도 조절 플레이트(164)와 상부 각도 조절 플레이트(165) 모두가 반드시 마련되어야 하는 것은 아니다.The conveying device 160 of the present embodiment is coupled to the lower conveying roller 162 to adjust the angle of the lower conveying roller 162, the lower angle adjusting plate 164, the upper roller guide 161 is coupled to the upper roller guide The upper angle adjusting plate 165 for adjusting the angle of 161 is further provided. Of course, not all of the lower angle adjustment plate 164 and the upper angle adjustment plate 165 need be provided.

하부 각도 조절 플레이트(164)는 이송 장치(160)의 하부에 마련되는 하부 베드(171)에 각도 조절 가능하게 장착되며, 하부 이송 롤러(162), 기울임 가이드 롤러(163) 등을 지지한다.The lower angle adjustment plate 164 is mounted on the lower bed 171 provided at the lower portion of the transfer device 160 so that the angle can be adjusted, and supports the lower transfer roller 162 and the tilt guide roller 163.

마찬가지로 상부 각도 조절 플레이트(165)는 이송 장치(160)의 상부에 마련되는 상부 베드(172)에 각도 조절 가능하게 장착되며, 상부 롤러 가이드(161)를 지지한다.Similarly, the upper angle adjusting plate 165 is mounted on the upper bed 172 provided on the upper portion of the transfer device 160 to be adjustable in angle, and supports the upper roller guide 161.

하부 각도 조절 플레이트(164)와 상부 각도 조절 플레이트(165)는 각각 하부 베드(171) 및 상부 베드(172)에 대해 각도 조절이 가능하기 때문에, 본 실시예처럼 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 기판 또는 기판을 실은 제1 캐리어(141)를 이송시킬 수 있다.Since the lower angle adjustment plate 164 and the upper angle adjustment plate 165 can adjust the angle with respect to the lower bed 171 and the upper bed 172, respectively, the standing state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction as in the present embodiment. The first carrier 141 carrying the substrate or the substrate may be transferred.

물론, 필요에 따라 기판 또는 제1 캐리어(141)를 수직되게 세워서 이송시켜야 하는 경우라면 하부 각도 조절 플레이트(164)와 상부 각도 조절 플레이트(165)를 각각 하부 베드(171) 및 상부 베드(172)에 대해 각도 조절시켜 제1 캐리어(141)가 세워질 수 있도록 하면 된다.Of course, if it is necessary to transfer the substrate or the first carrier 141 upright as necessary, the lower angle adjustment plate 164 and the upper angle adjustment plate 165, respectively, the lower bed 171 and the upper bed 172 The first carrier 141 may be raised by adjusting the angle with respect to the first carrier 141.

이처럼 하부 각도 조절 플레이트(164)와 상부 각도 조절 플레이트(165)가 마련됨으로써 하부 이송 롤러(162)와 상부 롤러 가이드(161)의 각도를 조절할 수 있고, 이로써 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 기판을 이송시킬 수 있게 된다.As such, the lower angle adjusting plate 164 and the upper angle adjusting plate 165 are provided to adjust the angles of the lower feed roller 162 and the upper roller guide 161, thereby inclining the substrate at a predetermined angle with respect to the direction of gravity. Can be transferred.

이러한 구성을 갖는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 작용에 대해 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the thin film deposition system for manufacturing an OLED having such a configuration as follows.

도 4처럼 이송 장치(160)에 의해 기판이 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 챔버(100) 내로 이송된다. 즉 구동모터(166)가 동작되어 베벨 기어(167)의 작용에 의해 하부 이송 롤러(162)가 회전됨으로써 기판은 하부 이송 롤러(162)를 따라 이송하게 되며, 이때 상부 롤러 가이드(161)와 기울임 가이드 롤러(163)는 기판의 이송을 가이드한다.As illustrated in FIG. 4, the substrate is transferred into the chamber 100 with the substrate inclined at an angle with respect to the gravity direction. That is, the driving motor 166 is operated so that the lower feed roller 162 is rotated by the action of the bevel gear 167 to transfer the substrate along the lower feed roller 162, and tilts the upper roller guide 161. The guide roller 163 guides the transfer of the substrate.

이송 장치(160)에 의해 기판이 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 챔버(100) 내로 이송되어 기판 지지용 플레이트(132)의 표면에 배치되면 기판 파지부(133)가 기판 지지용 플레이트(132)의 표면으로 기판을 파지한다.When the substrate is transferred into the chamber 100 by being inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction by the transfer device 160 and disposed on the surface of the substrate supporting plate 132, the substrate holding part 133 is the substrate supporting plate 132. The substrate is held on the surface of the substrate.

기판이 제위치를 찾는 과정과 병행하여 혹은 그 전 또는 그 후에, 마스크(120) 역시 마스크 구동부(미도시)에 의해 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 챔버(100) 내로 이송되어 마스크 지지유닛(121)에 지지됨으로써 마스크(120)와 기판은 상호 나란한 상태를 유지한다.In parallel with or before or after the process of finding the substrate, the mask 120 is also transferred into the chamber 100 by a mask driver (not shown) in an inclined angle with respect to the direction of gravity to provide a mask support unit ( By being supported by 121, the mask 120 and the substrate remain in parallel with each other.

도 2처럼 기판과 마스크(120)가 제위치에 배치되면, 기판 얼라이너(134)에 마련된 비젼부(미도시)가 마스크(120)에 형성되는 얼라인 마크(align mark)를 촬영한다. 그러면 제어부가 이 정보를 토대로 유닛 본체(131)를, 혹은 유닛 본체(131)와 연결되어 실질적으로 기판이 접촉지지되는 기판 지지용 플레이트(132)를 X축, Y축, θ축 중에서 선택된 적어도 어느 한 방향으로 이동시킴으로써 마스크(120)에 대한 기판의 얼라인 작업을 진행한다.As shown in FIG. 2, when the substrate and the mask 120 are disposed in position, a vision mark (not shown) provided on the substrate aligner 134 photographs an alignment mark formed on the mask 120. Then, the controller controls the unit main body 131 or the substrate supporting plate 132 which is connected to the unit main body 131 to substantially support the substrate, and is selected from at least one of an X axis, a Y axis, and a θ axis. By moving in one direction, the substrate is aligned with respect to the mask 120.

얼라인 작업이 완료되면, 유닛 본체(131)가 기판 지지용 플레이트(132)를 도 3처럼 이동시켜 마스크(120)와 기판이 상호간 면접촉될 수 있도록 한다. 이때, 마그네트 어레이(134)는 마스크(120)와 기판이 얼라인 완료되어 접촉된 때 자장 형성을 통해 금속 재질인 마스크(120)가 기판에 보다 확실히 밀착하도록 하여 마스크(120)와 기판 사이의 들뜸 현상 등으로 인해 증착 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있도록 한다.When the alignment operation is completed, the unit body 131 moves the substrate support plate 132 as shown in FIG. 3 so that the mask 120 and the substrate may be in surface contact with each other. At this time, the magnet array 134 is a magnetic field forming when the mask 120 and the substrate is in contact with the alignment is completed to make the mask 120 of the metal material more tightly adhered to the substrate to lift up between the mask 120 and the substrate. It is possible to prevent the deposition failure due to the phenomenon.

증착을 위한 모든 준비가 완료되면, 즉 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 기립 배치된 마스크(120)와 기판 간의 정밀한 평탄도를 맞추고 나면, 소스(150)를 통해 증착 물질이 제공되어 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 기립 배치된 마스크(120)를 통해 역시 중력방향에 대해 일정각도 기울인 상태로 기립 배치된 기판의 표면으로 증착된다.Once all the preparation for deposition is complete, that is to say the precise flatness between the substrate 120 and the standing mask inclined at an angle to the direction of gravity, the deposition material is provided through the source 150 to provide the direction of gravity. It is deposited on the surface of the substrate, which is also standing at a predetermined angle with respect to the gravity direction, through the mask 120 which is standing at a predetermined angle with respect to the gravity direction.

이와 같이, 본 실시예에 따르면, 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크(120) 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크(120) 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크(120)와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있게 된다.As described above, according to the present exemplary embodiment, since the substrate may be transferred in an upright state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction, even if particles are attached to the surface of the mask 120 or the substrate during the transfer, the mask 120 or the substrate Particles adhered to the surface of the particles can automatically fall, and in close contact between the mask 120 and the substrate more easily in a state that it is possible to reduce the deposition of organic matter between the fine gaps during the deposition process than in the prior art. You can do it.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치의 개략적인 측면 구조도이고, 도 6은 기울어짐에 따른 변위 계산을 위한 모식도이다.FIG. 5 is a schematic side view structural diagram of a transfer apparatus of a thin film deposition system for manufacturing an OLED according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a schematic diagram for displacement calculation according to tilting.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 OLED 제조용 박막 증착 시스템에 적용되는 이송 장치(260)는, 마그네트 가이드(261)와, 마그네트 가이드(261)와 함께 기판을 수직 상태로 안착시키는 캐리어(142, carrier)를 자기 부상시키는 자기 부상모듈(262)과, 캐리어(142)를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 자기 부상시키도록 부상모듈(262)을 제어하는 제어부(미도시)를 구비한다.Referring to FIG. 5, a transfer device 260 applied to a thin film deposition system for manufacturing an OLED according to a second exemplary embodiment of the present invention seats a substrate in a vertical state together with a magnet guide 261 and a magnet guide 261. Control unit (not shown) to control the magnetic levitation module 262 to magnetically levitate the carrier 142, and the levitation module 262 to magnetically levitate the carrier 142 in a standing state inclined at an angle with respect to the gravity direction. ).

이때, 마그네트 가이드(261)는 그 각도 조절이 가능하되 제어부에 의해 제어될 수 있다. 부연하면, 기울어진 각도에 따른 변위의 값(B)은 도 6을 포함한 아래의 [수식 1]에 의해 계산될 수 있는데, 계산된 데이터를 기반으로 제어부에서 자기 부상모듈(262)의 변위를 변경함으로써 자기부상의 각도 조절이 가능해진다. 이때, 마그네트 가이드(261)는 제어부에 의해서 자기 부상모듈(262)의 변위 변경에 따른 각도 조절이 가능해진다.At this time, the magnet guide 261 can be adjusted by the angle control, but can be controlled by the controller. In other words, the value B of the displacement according to the inclined angle may be calculated by the following Equation 1 including FIG. 6, and the displacement of the magnetic levitation module 262 is changed by the controller based on the calculated data. This makes it possible to adjust the angle of the magnetic injury. At this time, the magnet guide 261 is able to adjust the angle according to the displacement change of the magnetic levitation module 262 by the control unit.

[수식 1][Equation 1]

Figure 112010050010090-pat00001
Figure 112010050010090-pat00001

도 5와 같은 이송 장치(260)가 적용되어 하나의 OLED 제조용 박막 증착 시스템을 구성하더라도 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태에서 기판을 이송할 수 있기 때문에 이송 중에 마스크(120) 또는 기판의 표면에 파티클(Particle)이 부착되더라도 마스크(120) 또는 기판의 표면에 부착된 파티클이 자동으로 낙하될 수 있으며, 또한 증착 공정 중에 미세한 갭(gap) 사이로 유기물이 증착되는 것을 종래 보다 감소시킬 수 있는 상태로 마스크(120)와 기판 사이를 보다 용이하게 밀착 접촉시킬 수 있게 된다.Even if the transfer device 260 as shown in FIG. 5 is applied to form a thin film deposition system for manufacturing an OLED, the substrate can be transferred in an upright state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction. Even when particles are attached, the particles adhered to the surface of the mask 120 or the substrate may automatically fall, and the organic matter may be deposited between the fine gaps during the deposition process. The mask 120 and the substrate can be brought into close contact with each other more easily.

100 : 챔버 120 : 마스크
130 : 기판 파지 얼라인 유닛 131 : 유닛 본체
132 : 기판 지지용 플레이트 133 : 기판 파지부
134 : 기판 얼라이너 135 : 마그네트 어레이
141 : 제1 캐리어 150 : 소스
160 : 이송 장치 161 : 상부 롤러 가이드
162 : 하부 이송 롤러 163 : 기울임 가이드 롤러
164 : 하부 각도 조절 플레이트 165 : 상부 각도 조절 플레이트
166 : 구동모터 167 : 베벨 기어
100: chamber 120: mask
130: substrate holding alignment unit 131: unit body
132: substrate support plate 133: substrate holding part
134: substrate aligner 135: magnet array
141: first carrier 150: source
160: conveying device 161: upper roller guide
162: lower feed roller 163: tilt guide roller
164: lower angle adjustment plate 165: upper angle adjustment plate
166: drive motor 167: bevel gear

Claims (11)

기판 또는 상기 기판이 안착된 캐리어(carrier)의 상단부를 가이드하는 상부 롤러 가이드;
상기 상부 롤러 가이드와 함께 상기 기판 또는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시키는 하부 이송 롤러;
상기 기판 또는 상기 캐리어의 기울인 상태를 지지하는 기울임 가이드 롤러;
상기 하부 이송 롤러에 결합되어 상기 하부 이송 롤러의 각도를 조절하는 하부 각도 조절 플레이트;
상기 상부 롤러 가이드에 결합되어 상기 상부 롤러 가이드의 각도를 조절하는 상부 각도 조절 플레이트; 및
상기 기울임 가이드 롤러는 상기 하부 이송 롤러에 인접하게 배치되는 하부 기울임 가이드 롤러인 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치.
An upper roller guide for guiding an upper end of a substrate or a carrier on which the substrate is mounted;
A lower transfer roller configured to transfer the substrate or the carrier together with the upper roller guide in an upright state inclined at an angle with respect to the gravity direction;
An inclination guide roller supporting an inclined state of the substrate or the carrier;
A lower angle adjusting plate coupled to the lower conveying roller to adjust an angle of the lower conveying roller;
An upper angle adjusting plate coupled to the upper roller guide to adjust an angle of the upper roller guide; And
And the tilt guide roller is a lower tilt guide roller disposed adjacent to the lower transfer roller.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
동력을 제공하는 구동모터; 및
상기 구동모터에 의해 구동되며, 상기 하부 이송 롤러와 연결되는 베벨 기어를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치.
The method of claim 1,
A drive motor for providing power; And
And a bevel gear driven by the drive motor and connected to the lower transfer roller.
제1항에 있어서,
상기 이송 장치는 발생 가능한 파티클이 중력 방향인 하부 방향으로 떨어질 수 있도록 증착면이 하향되는 방향을 향하도록 상기 기판 또는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시키는 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치.
The method of claim 1,
The transfer device for OLED manufacturing, characterized in that for transferring the substrate or the carrier in an upright state inclined at an angle to the gravity direction so that the deposition surface is directed downward so that possible particles can fall in the downward direction of the gravity direction Transfer device of thin film deposition system.
제6항에 있어서,
상기 이송 장치는 상기 캐리어를 중력방향에 대해 일정각도 기울인 기립 상태로 이송시키는 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치.
The method of claim 6,
The transfer device is a transfer device of the thin film deposition system for manufacturing an OLED, characterized in that for transporting the carrier in a standing state inclined at a predetermined angle with respect to the gravity direction.
제1항에 있어서,
상기 일정각도는 70도 내지 89도인 것을 특징으로 하는 OLED 제조용 박막 증착 시스템의 이송 장치.
The method of claim 1,
The constant angle is a transfer device of the thin film deposition system for manufacturing OLED, characterized in that 70 degrees to 89 degrees.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
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