KR101168701B1 - Eching Apparatus With Guide Blade - Google Patents

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KR101168701B1 KR1020100113154A KR20100113154A KR101168701B1 KR 101168701 B1 KR101168701 B1 KR 101168701B1 KR 1020100113154 A KR1020100113154 A KR 1020100113154A KR 20100113154 A KR20100113154 A KR 20100113154A KR 101168701 B1 KR101168701 B1 KR 101168701B1
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박재신
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(주)에프아이에스
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Abstract

본 발명은 화면표시장치용 글라스를 식각하기 위한 식각장치에 있어서, 길이방향을 따라 길게 형성되며 상호 이격되는 제 1, 2 측면부를 구비하되, 상기 제 1, 2 측면부는 길이방향과 수직 하방으로 갈수록 그 간격이 좁아지게 형성되는 안내 날개; 및 상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부의 길이방향을 따라 위치되며, 상기 제 1, 2 측면부로 식각액을 분사하는 분사 수단을 포함하고, 상기 안내 날개의 하방에 상기 글라스가 수직으로 위치되어, 상기 분사수단에서 상기 제 1, 2 측면부로 분사되는 식각액이 상기 제 1, 2 측면부를 타고 상기 글라스의 표면으로 유도되는 것을 특징으로 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치는 분사수단의 안내홀에서 안내 날개로 고속으로 분사되는 식각액이 안내 날개에 부딪히며 고압에서 고속 흐름으로 바뀌게 되어, 글라스 표면으로 고속으로 유도되므로, 분사수단의 안내홀에 슬러지가 침전되지 않도록 하고, 안내 날개 및 글라스에 슬러지가 부착되지 않도록 하게 되는 효과가 있다.The present invention provides an etching apparatus for etching a glass for a screen display device, wherein the first and second side portions are formed to extend in a longitudinal direction and are spaced apart from each other, and the first and second side portions are vertically downward in a longitudinal direction. Guide vanes formed to have a narrower gap therebetween; And spraying means positioned along a length direction of the first and second side portions of the guide vane, and spraying an etchant to the first and second side portions, wherein the glass is vertically positioned below the guide vane. An etching apparatus having guide vanes characterized in that the etching liquid injected from the jetting means to the first and second side portions is guided to the surface of the glass on the first and second side portions.
In the etching apparatus having a guide vane according to the present invention, the etching liquid injected at high speed from the guide hole of the jetting unit to the guide vane strikes the guide vane and changes from high pressure to high speed flow, leading to high speed on the glass surface. The sludge is prevented from settling in the guide hole, and the sludge is not attached to the guide vane and glass.

Description

안내 날개를 구비하는 식각 장치{Eching Apparatus With Guide Blade}Etching device with guide blades {Eching Apparatus With Guide Blade}

본 발명은 안내 날개를 구비하는 식각 장치에 대한 것으로, 보다 상세하게는 안내 날게 및 글라스에 슬러지가 부착되지 않도록 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an etching apparatus having guide vanes, and more particularly, to an etching apparatus having guide vanes for preventing sludge from adhering to the guide blade and glass.

일반적으로 TFT-LCD 패널 제조 공정 중, TFT/CF(Thin-film transistor/Color Filter) 글라스(Glass) 합착 후, LCD(Liquid Crystal Ddisplay) 자체의 두께를 줄이기 위하여, 합착된 글라스를 얇게 식각(Etching)하는 공정을 하게 된다. 글라스를 식각하는 종래 방법으로는 글라스의 양측면에 식각액을 분사시키는 스프레이(Spray) 타입 식각 방법 및 식각액을 블레이드를 따라 하방으로 흘러보내는 블레이드(Blade) 타입 식각 방법 등이 있다.
In general, after bonding TFT / CF (Thin-film transistor / Color Filter) glass during TFT-LCD panel manufacturing process, in order to reduce the thickness of LCD (Liquid Crystal Ddisplay) itself, the bonded glass is etched thinly. ) Process. Conventional methods of etching the glass include a spray type etching method for spraying the etching liquid on both sides of the glass, and a blade type etching method for flowing the etching liquid downward along the blade.

도 1은 글라스를 식각하는 종래 방법을 설명하기 위하여 개략적으로 도시한 도면이다. 먼저, 도 1의 (a)는 종래 스프레이 타입 식각 방법을 도시한 도면으로, 식각하고자 하는 글라스(100)를 수직으로 고정시키는 고정부(미도시)와, 상기 고정부에 고정된 글라스(100)의 양측부에 배치되어 글라스(100)의 양측면에 식각액을 골고루 분사시키는 분사 수단(210)을 포함하여 구성된다.1 is a view schematically showing a conventional method for etching a glass. First, Figure 1 (a) is a view showing a conventional spray type etching method, a fixing portion (not shown) for fixing the glass 100 to be etched vertically, and the glass 100 fixed to the fixing portion Is disposed on both sides of the glass 100 is configured to include a spray means 210 for evenly spraying the etching solution on both sides of the glass.

그러나 이러한 종래 스프레이 타입 식각 방법은 식각액이 글라스(100)의 표면에 분사될 때, 상대적으로 글라스(100)의 표면에 식각액이 적게 분사되는 부분이 있어, 식각된 글라스(100)의 두께가 비교적 좋지 않게 되는 문제점이 있으며, 식각 과정에서 발생되는 슬러지가 분사 수단(210)의 노즐(215)을 막게 되어, 노즐(215)을 주기적으로 보수 및 교체해야 하는 등, 유지 비용이 많이 드는 문제점이 있다.
However, in the conventional spray type etching method, when the etchant is sprayed on the surface of the glass 100, there is a relatively small portion of the etchant sprayed on the surface of the glass 100, so that the thickness of the etched glass 100 is relatively good. There is a problem in that the sludge generated during the etching process to block the nozzle 215 of the injection means 210, there is a problem that the maintenance cost, such as maintenance and replacement of the nozzle 215 periodically.

그리고 도 1의 (b)는 종래 불레이드 타입 식각 방법을 도시한 도면으로, 길이방향을 따라 장형으로 형성되며 내부에 식각액이 수용되며 상단에 개방부(252)가 형성되는 식각액 수용부(250)와, 상기 식각액 수용부(250)로 식각액을 공급하는 식각액 공급부(미도시)와, 상기 식각액 수용부(250)의 하단에서 그 하측으로 갈수록 좁아지는 형상으로 형성되는 블레이드(260)를 포함하여 구성된다. 그리고 상기 식각액 공급부에서 식각액 수용부(250)로 식각액이 공급되면, 식각액 수용부(250)로 수용되는 식각액이 개방부(252)를 통하여 식각액 수용부(250) 외측으로 흐르게 되고, 이어서 블레이드(260)를 타고 하방으로 흐르면서 블레이드(260)의 하측에 위치되는 글라스(100)의 표면을 식각시키게 된다.And (b) of Figure 1 is a view showing a conventional blade-type etching method, it is formed in an elongate form along the longitudinal direction, the etching liquid is accommodated therein, the etching solution receiving portion 250 is formed with an open portion 252 at the top And an etching solution supply unit (not shown) for supplying an etching solution to the etching solution receiving unit 250, and a blade 260 formed in a shape that becomes narrower from the lower end of the etching solution receiving unit 250 toward the lower side thereof. do. When the etchant is supplied from the etchant supply unit to the etchant receiving unit 250, the etchant received by the etchant receiving unit 250 flows outward through the opening 252 to the etchant receiving unit 250, and then the blade 260. While riding downward, the surface of the glass 100 positioned below the blade 260 is etched.

그러나 이러한 종래 블레이드 타입 식각 방법은 식각액 수용부(250)에서 블레이드로 공급되는 식각액의 속도가 중력에 의한 영향을 받게 되어, 블레이드(260) 및 글라스(100)를 타고 흐르는 식각액의 속도가 상대적으로 느리게 되는데, 이처럼 식각액이 느린 속도로 블레이드(260) 및 글라스(100)를 타고 흐르게 되면, 식각 과정에서 발생되는 슬러지가 블레이드(260) 및 글라스(100)에 부착되는 문제점이 있다.However, in the conventional blade type etching method, the speed of the etchant supplied to the blade from the etchant receiving part 250 is affected by gravity, so that the speed of the etchant flowing through the blade 260 and the glass 100 is relatively slow. When the etching solution flows on the blades 260 and the glass 100 at a slow speed, sludge generated in the etching process may be attached to the blades 260 and the glass 100.

또한, 종래 블레이드 타입 식각 방법은 식각액 수용부(250)에 수용되는 식각액의 이동속도가 빠르지 않기 때문에, 식각액에 포함된 슬러지가 식각액 수용부(250) 내벽에 침전되므로, 이를 제거하기 위한 유지 및 보수 비용이 많이 드는 문제점이 있다.
In addition, in the conventional blade type etching method, since the moving speed of the etching solution accommodated in the etching solution accommodating part 250 is not fast, the sludge included in the etchant is deposited on the inner wall of the etching solution accommodating part 250, thereby maintaining and repairing the same. There is a costly problem.

상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 분사수단에 슬러지가 침전되지 않도록 하고, 안내 날개 및 글라스에 슬러지가 부착되지 않도록 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 제공하도록 하는 데 있다.
An object of the present invention for solving the problems of the prior art as described above is to provide an etching apparatus having a guide blade to prevent the sludge is deposited on the injection means, the guide blade and the sludge is not attached to the glass. .

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 화면표시장치용 글라스를 식각하기 위한 식각장치에 있어서, 길이방향을 따라 길게 형성되며 상호 이격되는 제 1, 2 측면부를 구비하되, 상기 제 1, 2 측면부는 길이방향과 수직 하방으로 갈수록 그 간격이 좁아지게 형성되는 안내 날개; 및 상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부의 길이방향을 따라 위치되며, 상기 제 1, 2 측면부로 식각액을 분사하는 분사 수단을 포함하고, 상기 안내 날개의 하방에 상기 글라스가 수직으로 위치되어, 상기 분사수단에서 상기 제 1, 2 측면부로 분사되는 식각액이 상기 제 1, 2 측면부를 타고 상기 글라스의 표면으로 유도되는 것을 특징으로 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an etching apparatus for etching a glass for a screen display device, wherein the first and second side portions are formed long in the longitudinal direction and are spaced apart from each other. A guide vane that is formed such that its gap becomes narrower in a direction perpendicular to the direction downward; And spraying means positioned along a length direction of the first and second side portions of the guide vane, and spraying an etchant to the first and second side portions, wherein the glass is vertically positioned below the guide vane. It provides an etching apparatus having guide vanes, characterized in that the etching liquid injected from the injection means to the first and second side portions are guided to the surface of the glass riding on the first and second side portions.

또한, 상기 분사 수단은 상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부에서 그 길이방향을 따라 설치되며 식각액을 공급받는 분사관과, 상기 분사관에서 상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부 방향으로 천공되어 형성되는 분사홀을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 제공한다.In addition, the injection means is installed along the longitudinal direction of the first and second side portions of the guide vane and the injection pipe is supplied with an etching liquid, and the injection tube is drilled in the direction of the first and second side portions of the guide vane It provides an etching apparatus having a guide blade, characterized in that configured to include a spray hole formed.

또한, 상기 분사 수단으로 식각액을 공급하는 공급관을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분사 수단을 구비하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 제공한다.
In addition, the present invention provides an etching apparatus having guide vanes having an injection means, characterized in that it further comprises a supply pipe for supplying the etching liquid to the injection means.

본 발명에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치는 분사수단의 안내홀에서 안내 날개로 고속으로 분사되는 식각액이 안내 날개에 부딪히며 고압에서 고속 흐름으로 바뀌게 되어, 글라스 표면으로 고속으로 유도되므로, 분사수단의 안내홀에 슬러지가 침전되지 않도록 하고, 안내 날개 및 글라스에 슬러지가 부착되지 않도록 하게 되는 효과가 있다.In the etching apparatus having a guide vane according to the present invention, the etching liquid injected at high speed from the guide hole of the jetting unit to the guide vane strikes the guide vane and changes from high pressure to high speed flow, leading to high speed on the glass surface. The sludge is prevented from settling in the guide hole, and the sludge is not attached to the guide vane and glass.

또한, 본 발명에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치는 고압으로 분사되는 식각액이 안내 날개에 가이드 되어, 글라스 표면으로 유도되도록 하여, 글라스 표면에 발생되는 슬러지가 빠르게 제거되고, 식각 속도가 향상되는 효과가 있다.
In addition, the etching apparatus having a guide blade according to the present invention is guided by the etching liquid is injected to the guide blade, the high pressure is guided to the glass surface, the sludge generated on the glass surface is quickly removed, the effect of the etching speed is improved There is.

도 1은 글라스를 식각하는 종래 방법을 설명하기 위하여 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 설명하기 위하여 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치에서 식각액이 안내 날개에 가이드 되어 글라스에 흐르는 상태를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치에서 식각액이 안내 날개에 가이드 되어 글라스에 균일하게 흐르는 상태를 설명하기 위하여 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 설명하기 위하여 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing a conventional method for etching a glass.
2 is a view illustrating an etching apparatus having guide vanes according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a view showing a state in which the etching liquid is guided to the guide vanes flowing in the glass in the etching apparatus having a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a view illustrating an etching liquid being guided to the guide vanes uniformly flowing through the glass in the etching apparatus having the guide vanes according to the preferred embodiment of the present invention.
5 is a view schematically illustrating an etching apparatus having guide vanes according to a preferred embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 더욱 상세히 설명한다.
Hereinafter, an etching apparatus having a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings will be described in more detail.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 설명하기 위하여 도시한 도면이고, 도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치에서 식각액이 안내 날개에 가이드 되어 글라스에 흐르는 상태를 도시한 도면이다.FIG. 2 is a view illustrating an etching apparatus having a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an etching solution in an etching apparatus including a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention. It is a figure which shows the state which flows in glass by being guided to.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치는 화면표시장치용 글라스(5) 등을 식각하기 위한 것으로, 식각액이 식각하고자 하는 글라스(5)로 유도되어 흘러가도록 하는 안내 날개(10)와, 안내 날개(10)로 식각액을 분사하는 분사수단(20)을 포함하여 구성된다.2 and 3, an etching apparatus having a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention is for etching a glass 5 or the like for a screen display device, and the etching solution is a glass 5 to be etched. It comprises a guide vane 10 to guide and flow, and the injection means 20 for injecting the etching liquid to the guide vane 10.

안내 날개(10)는 길이방향으로 길게 형성되며 상호 이격되는 제 1 측면부(12)와 제 2 측면부(12')를 구비한다. 그리고 상기 제 1 측면부(12)와 제 2 측면부(12')는 길이방향과 수직 하방 즉, 중력방향으로 갈수록 그 간격이 좁아지게 형성되어, 하방으로 경사지도록 형성된다.The guide vane 10 is elongated in the longitudinal direction and has a first side portion 12 and a second side portion 12 'spaced apart from each other. In addition, the first side portion 12 and the second side portion 12 ′ are formed to be inclined downward in a vertical direction, that is, the interval thereof becomes narrower toward the gravity direction.

분사수단(20)은 공급탱크(42)로부터 식각액을 공급받아 안내 날개(10)의 제 1, 2 측면부(12, 12')로 분사하는 것으로, 안내 날개(10)의 제 1 측면부(12)와 제 2 측면부(12')의 길이방향을 따라 각각 설치되며 후술하는 공급탱크(42)로부터 식각액을 공급받는 분사관(22)과, 상기 분사관(22)의 길이방향을 따라 안내 날개(10)의 제 1, 2 측면부(12, 12') 방향으로 천공되어 형성되는 다수의 분사홀(24, 24')을 포함하여 구성된다. 여기서 분사홀(24, 24')의 구경은 3㎜ 정도의 대구경으로 구성되고, 식각액이 고압으로 분사관(22)에서 분사홀(24, 24')로 공급된다. 이처럼 고압으로 공급되는 식각액에 의하여, 식각액에 포함된 슬러지가 분사홀(24, 24')을 막지 못하게 된다.The injection means 20 receives the etching liquid from the supply tank 42 and injects the first and second side portions 12 and 12 'of the guide vane 10, and the first side 12 of the guide vane 10. And injection pipes 22 installed along the longitudinal direction of the second side portion 12 ′ and receiving the etching liquid from the supply tank 42 to be described later, and guide vanes 10 along the longitudinal direction of the injection pipe 22. And a plurality of injection holes 24 and 24 'which are formed by drilling in the direction of the first and second side portions 12 and 12'. Here, the diameters of the injection holes 24 and 24 'are composed of a large diameter of about 3 mm, and the etchant is supplied from the injection pipe 22 to the injection holes 24 and 24' at high pressure. As such, by the etching solution supplied at a high pressure, the sludge contained in the etching solution does not block the injection holes 24 and 24 '.

그리고 분사홀(24, 24')에서 제 1, 2 측면부(12, 12') 방향으로 식각액이 분사되면, 분사되는 식각액이 경사진 제 1, 2 측면부(12, 12')를 따라 하방으로 떨어지게 된다. 이때, 안내 날개(10)의 하방에는 글라스(5)가 수직으로 위치되어, 제 1, 2 측면부(12, 12')에서 하방으로 떨어지는 식각액이 글라스(5)의 양 측면으로 균일하게 흐르게 된다.
When the etchant is injected toward the first and second side portions 12 and 12 'from the injection holes 24 and 24', the sprayed etchant drops downward along the inclined first and second side portions 12 and 12 '. do. At this time, the glass 5 is vertically positioned below the guide vane 10 so that the etching liquid falling downward from the first and second side parts 12 and 12 ′ flows uniformly to both sides of the glass 5.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치에서 식각액이 안내 날개에 가이드 되어 글라스에 균일하게 흐르는 상태를 설명하기 위하여 도시한 도면이다.FIG. 4 is a view illustrating an etching liquid being guided to the guide vanes uniformly flowing through the glass in the etching apparatus having the guide vanes according to the preferred embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 분사홀(24, 24')에서 제 1, 2 측면부(12, 12') 방향으로 고압으로 분사되는 식각액은 제 1, 2 측면부(12, 12')에 충돌하는 순간, 원형의 형태로 와류를 형성하게 된 후, 방향이 전환되면서 제 1, 2 측면부(12, 12')를 따라 하방으로 고속으로 흐르게 된다. 이때, 일 분사관(22)의 길이방향을 따라 형성되는 다수 개의 분사홀(24, 24') 간의 간격을 조절하면, 상기 원형의 형태가 서로 중첩되면서, 제 1, 2 측면부(12, 12') 전체에 걸쳐서 균일하게 흐르게 된다. 이처럼 식각액이 제 1, 2 측면부(12, 12') 전체에 균일하게 흐르게 되므로, 글라스(5)가 균일하게 식각되도록 구성된다.Referring to the drawings, the etching liquid injected at high pressure in the direction of the first and second side parts 12 and 12 'from the injection holes 24 and 24' impinges upon the first and second side parts 12 and 12 '. After the vortex is formed in the form of, the direction is changed and flows at a high speed downward along the first and second side portions 12 and 12 ′. At this time, if the interval between the plurality of injection holes (24, 24 ') formed in the longitudinal direction of the one injection pipe 22 is adjusted, the circular shape overlaps each other, the first, second side portions (12, 12') ) Flows uniformly throughout. Thus, since the etchant flows uniformly throughout the first and second side portions 12 and 12 ', the glass 5 is configured to be uniformly etched.

이때, 종래에는 분사수단(미도시)에 노즐(미도시)을 구비하여, 별도로 상기 노즐에 쌓인 슬러지를 청소해야 하는 번거로움이 있었는데, 본 발명은 식각액이 다수 개의 분사홀(24, 24')을 통하여 고압으로 제 1, 2 측면부(12, 12')로 분사되므로, 분사홀(24, 24')이 슬러지에 의하여 막히지 않게 되어, 별도로 노즐을 청소하지 않아도 되는 장점이 있다.In this case, conventionally, the nozzle (not shown) is provided in the injection means (not shown), and there is a hassle to clean the sludge accumulated in the nozzle separately, and the present invention has a plurality of injection holes 24 and 24 '. Since it is injected into the first and second side portions 12 and 12 'at a high pressure through, the injection holes 24 and 24' are not blocked by sludge, and there is an advantage of not having to clean the nozzle separately.

또한, 분사홀(24, 24')에서 제 1, 2 측면부(12, 12')로 분사되는 식각액은 고속으로 제 1, 2 측면부(12, 12')로 흐르게 되므로, 글라스(5) 표면에 발생되는 슬러지가 빠르게 제거되고, 식각 속도가 향상되며, 이처럼 제 1, 2 측면부(12, 12') 및 글라스(5)에 유도되는 식각액의 빠른 흐름에 의하여, 슬러지가 제 1, 2 측면부(12, 12') 및 글라스(5)에 부착되지 않게 되는 장점이 있다.
In addition, since the etching liquid injected from the injection holes 24 and 24 'to the first and second side parts 12 and 12' flows to the first and second side parts 12 and 12 'at high speed, The sludge generated is quickly removed, and the etching speed is improved, and as a result of the rapid flow of the etchant induced in the first and second side portions 12 and 12 ′ and the glass 5, the sludge is first and second side portions 12. 12 ') and the glass 5 has the advantage that it is not attached.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치의 작용에 대하여 설명한다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the operation of the etching apparatus having a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치를 설명하기 위하여 개략적으로 도시한 도면이다.5 is a view schematically illustrating an etching apparatus having guide vanes according to a preferred embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 안내 날개를 구비하는 식각 장치는 다수 개의 안내 날개(10)의 하방에 식각하고자 하는 글라스(5)가 각각 수직으로 배치된다.Referring to the drawings, in the etching apparatus having a guide vane according to a preferred embodiment of the present invention, the glass 5 to be etched below the plurality of guide vanes 10 is disposed vertically.

그 후, 공급탱크(미도시) 등에 수용된 식각액을 공급관(30)을 통하여 분사수단(20)으로 공급하여, 분사홀(24, 24')에서 식각액이 고압으로 안내 날개(10)의 제 1, 2 측면부(12, 12')로 분사되도록 한다. 그러면 식각액이 제 1, 2 측면부(12, 12') 전체에 걸쳐서 그 하방으로 균일하게 흐르게 되면서, 글라스(5)가 균일하게 식각이 진행된다. 이때, 제 1, 2 측면부(12, 12')로 분사되는 식각액은 고압으로 분사되므로, 제 1, 2 측면부(12, 12') 및 글라스(5)로 유도되는 식각액 또한 빠른 속도로 흐르게 되며, 이에 따라, 식각과정에서 글라스(5) 표면에 발생되는 슬러지 등이 빠르게 제거된다.Thereafter, the etchant contained in the supply tank (not shown) is supplied to the injection means 20 through the supply pipe 30, so that the etchant is injected at high pressure in the injection holes 24 and 24 '. 2 to be injected into the side portions (12, 12 '). Then, while the etching liquid flows uniformly downward over the first and second side portions 12 and 12 ', the glass 5 is uniformly etched. At this time, since the etchant injected into the first and second side portions 12 and 12 'is injected at a high pressure, the etchant induced into the first and second side portions 12 and 12' and the glass 5 also flows at a high speed. Accordingly, sludge generated on the surface of the glass 5 in the etching process is quickly removed.

본 발명은 상기 실시예에서 상세히 설명되었지만, 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

5: 글라스 10: 안내 날개
12: 제 1 측면부 12': 제 2 측면부
20: 분사 수단 22: 분사관
24, 24': 분사홀 30: 공급관5: glass 10: guide wing
12: first side portion 12 ': second side portion
20: injection means 22: injection pipe
24, 24 ': injection hole 30: supply pipe

Claims (3)

화면표시장치용 글라스를 식각하기 위한 식각장치에 있어서,
길이방향을 따라 길게 형성되며 상호 이격되는 제 1, 2 측면부를 구비하되, 상기 제 1, 2 측면부는 길이방향과 수직 하방으로 갈수록 그 간격이 좁아지게 형성되는 안내 날개; 및
상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부의 길이방향을 따라 위치되며, 상기 제 1, 2 측면부로 식각액을 분사하는 분사 수단을 포함하고,
상기 안내 날개의 하방에 상기 글라스가 수직으로 위치되어, 상기 분사수단에서 상기 제 1, 2 측면부로 분사되는 식각액이 상기 제 1, 2 측면부를 타고 상기 글라스의 표면으로 유도되는 것을 특징으로 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치.
In the etching apparatus for etching the glass for the display device,
A guide blade formed along the longitudinal direction and having first and second side portions spaced apart from each other, wherein the first and second side portions are formed such that their spacing becomes narrower in a vertical direction downward; And
Located along the longitudinal direction of the first and second side portions of the guide vane, and includes a spray means for injecting an etchant to the first and second side portions,
The glass is positioned vertically below the guide vanes, guide vane, characterized in that the etching liquid injected from the jetting means to the first and second side portions are guided to the surface of the glass on the first and second side portions. Etching apparatus having a.
제 1 항에 있어서,
상기 분사 수단은 상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부에서 그 길이방향을 따라 설치되며 식각액을 공급받는 분사관과, 상기 분사관에서 상기 안내 날개의 상기 제 1, 2 측면부 방향으로 천공되어 형성되는 다수의 분사홀을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치.
The method of claim 1,
The injection means is installed along the longitudinal direction at the first and second side portions of the guide vanes and is formed by being punched in the direction of the first and second side portions of the guide vanes from the injection tube and the etching liquid supplied; Etching apparatus having a guide vane characterized in that it comprises a plurality of injection holes.
제 1 항에 있어서,
상기 분사 수단으로 식각액을 공급하는 공급관을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분사 수단을 구비하는 안내 날개를 구비하는 식각 장치.The method of claim 1,
Etching apparatus having a guide blade having an injection means characterized in that it further comprises a supply pipe for supplying the etching liquid to the injection means.
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