KR101159916B1 - 처치 시스템, 및 처치 장치 - Google Patents

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Abstract

처치 시스템(10)은 에너지원(14), 한 쌍의 유지부(26), 출력부(56, 58), 및 제1 채널(84a, 84b)을 포함한다. 유지부들 중 적어도 하나는 다른 유지부에 대해 상대적으로 이동하도록 구성된다. 출력부는 한 쌍의 유지부들 중 적어도 하나 상에 배치되어 에너지원과 연결된다. 출력부는 에너지원으로부터 공급된 에너지에 의해 생체 조직으로부터 기체 및/또는 액체를 포함한 유체를 발생시키도록 구성된다. 제1 채널은 출력부에 가까운 위치에 배치된다. 제1 채널은 생체 조직으로부터 발생된 유체를 통과시키도록 구성된다.
처치 시스템, 생체 조직, 유체, 유지부, 고주파 전극, 장벽부

Description

처치 시스템, 및 처치 장치{TREATMENT SYSTEM, AND TREATMENT DEVICE}
본 발명은 생체 조직이 유지되는 동안 생체 조직에 에너지를 인가하는 처치 시스템, 및 처치 장치에 관한 것이다.
신체 외부에서 처치를 수행하기 위해 사람의 신체로부터 조직 등을 추출하는 개방 타입(open type) 및 처치를 수행하기 위해 복벽을 통해 복강(신체) 내로 삽입되는 복강경 타입(laparoscopic type)과 같은 사용 방법을 위한 다양한 처치 장치가 공지되어 있다.
예를 들어, EP 1 372 505 B1호는 열 확산을 감소시키는 전기-수술(electro-surgical) 기기를 개시한다. 순응성 재료(compliant material)로 만들어진 기계식 장벽이 전기-수술 기기의 단부 작동자(end effecter)의 전극 둘레에 배치된다. 장벽은 전극의 표면으로부터의 열의 방사 및 증기의 확산을 억제한다. 그러므로, 전기-수술 기기는 처치 목표인 생체 조직 둘레의 생체 조직으로의 열 확산을 감소시킬 수 있다.
그러나, 장벽 내부에서, 고온 증기 또는 액체와 같은 유체가 축적되기 쉽다. 장벽과 생체 조직 사이에 갭이 있으면, 고온 유체는 장벽 내부의 영역으로부터 열 확산할 수 있다. 이러한 경우에, 고온 유체는 장벽 외부에 존재하는 생체 조직에 대해 악영향을 미칠 수 있다.
본 발명의 목적은, 증기 또는 액체와 같은 유체가 처치 하의 생체 조직에 가까이 위치된 생체 조직에 영향을 주는 것을 신뢰할 수 있게 방지하기 위해, 생체 조직이 처치를 위한 고주파 전류와 같은 에너지를 받을 때, 유체가 처치 하의 생체 조직으로부터 효율적으로 토출되는 것을 가능케 하는 처치 시스템 및 처치 방법에 관한 것이다.
본 발명의 제1 태양에 따르면, 처치를 수행하기 위해 생체 조직에 에너지를 인가하는 처치 시스템이 제공된다. 처치 시스템은,
에너지를 공급하는 에너지원;
생체 조직을 유지하는 한 쌍의 유지부 - 유지부들 중 적어도 하나는 다른 유지부에 대해 상대적으로 이동하도록 구성됨 - ;
한 쌍의 유지부들 중 적어도 하나 상에 배치되어 에너지원과 연결되는 출력부 - 출력부는 에너지원으로부터 공급된 에너지에 의해 생체 조직으로부터 기체 및/또는 액체를 포함한 유체를 발생시키도록 구성됨 - ; 및
출력부에 가까운 위치에 배치된 적어도 하나의 제1 채널 - 제1 채널은 생체 조직으로부터 발생된 유체를 통과시키도록 구성됨 -
을 포함한다.
본 발명의 제2 태양에 따르면, 생체 조직에 에너지를 인가하는 처치 장치가 제공된다. 처치 장치는,
생체 조직을 유지하는 유지 섹션을 포함하고,
유지 섹션은,
서로에 대해 상대적으로 이동하는 제1 및 제2 유지부;
제1 유지부 및 제2 유지부 중 적어도 하나 상에 배치되어 에너지원에 연결되는 출력부 - 출력부는 생체 조직이 제1 유지부와 제2 유지부 사이에 유지될 때 에너지원으로부터 공급된 에너지에 의해 생체 조직으로부터 기체 및/또는 액체를 포함한 유체를 발생시키도록 구성됨 - ; 및
제1 및 제2 유지부들 중 적어도 하나 내에서 출력부를 구비한 유지부 상에 배치된 제1 채널 - 제1 채널은 출력부에 가까운 위치에 배치되고, 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 채널에 도달할 수 있게 하도록 구성됨 -
을 포함한다.
본 발명의 추가의 목적 및 장점은 다음의 상세한 설명에서 설명될 것이고, 상세한 설명으로부터 부분적으로 명백해지거나 본 발명의 실시에 의해 학습될 수 있다. 본 발명의 목적 및 장점은 이하에서 구체적으로 지시되는 실시 형태 및 조합에 의해 실현되고 얻어질 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 처치 시스템을 도시하는 개략도.
도 2A는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치에서, 샤프트와, 유지 섹션의 제1 유지부 및 제2 유지부가 폐쇄되어 있는 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 2B는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치에서, 샤프트와, 유지 섹션의 제2 유지부가 제1 유지부에 대해 개방되어 있는 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 3A는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 3B는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 3A의 선 3B-3B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 3C는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부 및 제2 유지부를 도시하는, 도 3A의 선 3C-3C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 처치 시스템의 변형예를 도시하는 개략도.
도 5A는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 3A의 선 3C-3C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 5B는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 3A의 선 3C-3C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 5C는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 및 제2 유지부의 변형예를 도시하는, 도 3A의 선 3C-3C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 5D는 제1 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 및 제2 유지부의 변형예를 도시하는, 도 3A의 선 3C-3C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 6A는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 6B는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도 시하는, 도 6A의 선 6B-6B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 6C는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 6A의 선 6C-6C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 7A는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 6A의 선 6C-6C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 7B는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 6A의 선 6C-6C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 7C는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 6A의 선 6C-6C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 7D는 제2 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 6A의 선 6C-6C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 8A는 제3 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 8B는 제3 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 8A의 선 8B-8B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 8C는 제3 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 8A의 선 8C-8C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 9A는 제4 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 9B는 제4 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도 시하는, 도 9A의 선 9B-9B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 9C는 제4 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 9A의 선 9C-9C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 10A는 제5 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 10B는 제5 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 10A의 선 10B-10B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 10C는 제5 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 10A의 선 10C-10C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 10D는 제5 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 유지부의 전극 배열부에 배열된 고주파 전극 및 장벽부를 도시하는 개략적인 사시도.
도 11A는 제6 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 11B는 제6 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 11A의 선 11B-11B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 11C는 제6 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 11A의 선 11C-11C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 11D는 제6 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 유지부의 전극 배열부에 배열된 고주파 전극 및 장벽부를 도시하는 개략적인 사시도.
도 12A는 제7 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 12B는 제7 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 12A의 선 12B-12B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 12C는 제7 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 12A의 선 12C-12C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 12D는 제7 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 유지부의 전극 배열부에 배열된 고주파 전극 및 장벽부를 도시하는 개략적인 사시도.
도 13A는 제8 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 13B는 제8 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 13A의 선 13B-13B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 13C는 제8 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 13A의 선 13C-13C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 13D는 제8 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 유지부의 전극 배열부에 배열된 고주파 전극 및 장벽부를 도시하는 개략적인 사시도.
도 14A는 제9 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 14B는 제9 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 14A의 선 14B-14B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 14C는 제9 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변 형예를 도시하는, 도 14A의 선 14B-14B를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 15A는 제10 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 15B는 제10 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 15A의 선 15B-15B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 16A는 제11 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 16B는 제11 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 및 제2 유지부를 도시하는, 도 16A의 선 16B-16B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 16C는 제11 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 및 제2 유지부의 본체의 말단 단부를 도시하는, 도 16A의 선 16B-16B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 17A는 제12 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 17B는 제12 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 및 제2 유지부를 도시하는, 도 17A의 선 17B-17B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 17C는 제12 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 및 제2 유지부의 본체의 말단 단부를 도시하는, 도 17A의 선 17B-17B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 18은 본 발명의 제13 실시예에 따른 처치 시스템을 도시하는 개략도.
도 19A는 제13 실시예에 따른 전기-수술 장치에서, 샤프트와, 유지 섹션의 제1 유지부와 제2 유지부가 폐쇄된 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 19B는 제13 실시예에 따른 전기-수술 장치에서, 샤프트와, 유지 섹션의 제2 유지부가 제1 유지부에 대해 개방된 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 20A는 제13 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 20B는 제13 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 20A의 선 20B-20B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 20C는 제13 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 20A의 선 20C-20C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 21A는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 21B는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 21A의 선 21B-21B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 21C는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 21A의 선 21C-21C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 22A는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 21A의 선 21C-21C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 22B는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 21A의 선 21C-21C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 22C는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 21A의 선 21C-21C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 22D는 제14 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 변형예를 도시하는, 도 21A의 선 21C-21C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 23A는 제15 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 23B는 제15 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 23A의 선 23B-23B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 23C는 제15 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 23A의 선 23C-23C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 23D는 제15 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제1 유지부의 전극 배열부에 배열된 고주파 전극 및 장벽부를 도시하는 개략적인 사시도.
도 24A는 제16 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션 내의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 24B는 제16 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 24A의 선 24B-24B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 24C는 제16 실시예에 따른 전기-수술 장치의 유지 섹션의 제1 유지부의 전극 배열부에 배치된 고주파 전극 및 장벽부를 도시하는 개략적인 사시도.
도 25A는 제17 실시예에 따른 레이저 처치 장치의 유지 섹션의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 25B는 제17 실시예에 따른 레이저 처치 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 25A의 선 25B-25B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 25C는 제17 실시예에 따른 레이저 처치 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 25A의 선 25C-25C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 26A는 제18 실시예에 따른 레이저 처치 장치의 유지 섹션의 제2 유지부에 가까운 측면 상의 제1 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 26B는 제18 실시예에 따른 레이저 처치 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 26A의 선 26B-26B를 따라 취한 개략적인 종단면도.
도 26C는 제18 실시예에 따른 레이저 처치 장치의 유지 섹션의 제1 유지부를 도시하는, 도 26A의 선 26C-26C를 따라 취한 개략적인 단면도.
도 27은 본 발명의 제19 실시예에 따른 처치 시스템을 도시하는 개략도.
도 28A는 제19 실시예에 따른 전기-수술 장치의, 본체측 유지부가 탈착 가능측 유지부와 맞물리고, 탈착 가능측 유지부가 본체측 유지부로부터 멀리 배치된 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 28B는 제19 실시예에 따른 전기-수술 장치의, 본체측 유지부가 탈착 가능측 유지부와 맞물리고, 탈착 가능측 유지부가 본체측 유지부에 가까이 배치된 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 29는 제19 실시예에 따른 전기-수술 장치의, 본체측 유지부와 탈착 가능측 유지부가 서로로부터 분리된 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
도 30은 제19 실시예에 따른 전기-수술 장치의 본체측 유지부를 도시하는 개 략적인 평면도.
도 31은 제20 실시예에 따른 전기-수술 장치의 본체측 유지부를 도시하는 개략적인 평면도.
도 32A는 제21 실시예에 따른 전기-수술 장치의, 본체측 유지부와 탈착 가능측 유지부가 서로로부터 분리된 상태를 도시하는 개략도.
도 32B는 제21 실시예에 따른 전기-수술 장치의, 본체측 유지부와 탈착 가능측 유지부가 서로로부터 분리된 상태를 도시하는 개략적인 종단면도.
본 발명을 수행하기 위한 최적 모드가 하기에서 도면을 참조하여 설명될 것이다.
[제1 실시예]
제1 실시예가 도 1 내지 5D를 참조하여 설명될 것이다.
여기서, 에너지 처치 장치의 일례로서, 예를 들어 복벽을 통해 처치를 수행하는 선형 쌍극 전기-수술 장치(linear type bipolar electro-surgical device)(12)가 설명될 것이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 처치 시스템(10)은 전기-수술 장치(치료용 처치 장치)(12) 및 에너지원(14)을 포함한다.
전기-수술 장치(12)는 핸들(22), 샤프트(24), 및 개폐 가능한 유지 섹션(26)을 포함한다. 핸들(22)은 케이블(28)을 거쳐 에너지원(14)과 연결된다. 에너지원(14)은 발 스위치 및 손 스위치(도시되지 않음)에 연결된다. 그러므로, 이러한 발 및 손 스위치는 에너지원(14)으로부터 전기-수술 장치(12)로의 에너지 공급의 온/오프를 절환하도록 조작자에 의해 조작된다.
핸들(22)은 실질적으로 L-형상으로 형성된다. 샤프트(24)는 핸들(22)의 일 단부 상에 배치된다. 케이블(28)은 샤프트(24)와 동축으로 배치된 핸들(22)의 기부측으로부터 연장된다.
한편, 핸들(22)의 타 단부는 조작자에 의해 유지되는 파지부(grip)이다. 핸들(22)은 핸들(22)의 타 단부 상에 배열된 유지 섹션 개폐 노브(32)를 포함한다. 유지 섹션 개폐 노브(32)는 실질적으로 핸들(22)의 중심에서 샤프트(24)의 후술하는 외피(44)의 기부 단부와 연결된다. 유지 섹션 개폐 노브(32)가 핸들(22)의 타 단부에 가까이 또는 그로부터 멀리 이동하도록 허용될 때, 외피(44)는 샤프트(24)의 축 방향을 따라 이동한다.
도 2A 및 2B에 도시된 바와 같이, 샤프트(24)는 원통형 부재(42)와, 원통형 부재(42) 외부에 활주 가능하게 배치된 외피(44)를 포함한다. 원통형 부재(42)의 기부 단부가 핸들(22)에 고정된다. 외피(44)는 원통형 부재(42)의 축 방향을 따라 활주 가능하다.
원통형 부재(42) 외부에서, 오목부(46)가 원통형 부재(42)의 축 방향을 따라 형성된다. 오목부(46)는 후술하는 제1 고주파 전극(56)에 연결되는 제1 전도 라인(92a)을 구비한다. 후술하는 제2 고주파 전극(58)에 연결되는 제2 전도 라인(92b)이 원통형 부재(42)를 통과한다.
또한, 샤프트(24)의 원통형 부재(42)와 외피(44)는, (후술하는) 증기(기체) 또는 액체(조직액)와 같은 유체가 토출되는 유체 토출 포트(48a, 48b)를 구비한다. 유체 토출 포트(48a, 48b)는 샤프트(24)의 기부 단부 상에 형성된다.
여기서, (도시되지 않음) 연결 마우스피스가 외피(44)의 유체 토출 포트(48b)에 배치될 수 있다. 이때, 이후에 토출되는 유체는 제1 유체 토출 홈(84a), 제2 유체 토출 홈(84b), 및 연결 마우스피스를 통해 토출된다. 이러한 경우에, 증기 또는 액체와 같은 유체가 연결 마우스피스를 통해 흡입될 때, 유체는 유체 토출 포트(48a, 48b)로부터 쉽게 토출될 수 있다.
유체 토출 포트(48a, 48b)가 샤프트(24)에 배열되는 것이 바람직하지만, 포트는 샤프트(24) 대신에 핸들(22)에 배열되는 것도 바람직하다는 것을 알아야 한다.
도 1 내지 2B에 도시된 바와 같이, 유지 섹션(26)은 샤프트(24)의 말단 단부에 배치된다. 도 2A 및 2B에 도시된 바와 같이, 유지 섹션(26)은 제1 유지부(52), 제2 유지부(54), 출력부 또는 에너지 방출부인 제1 고주파 전극(56), 및 다른 출력부 또는 다른 에너지 방출부인 제2 고주파 전극(58)을 포함한다.
제1 유지부(52)와 제2 유지부(54)가 각각 전체적으로 절연 특성을 갖는 것이 바람직하다. 특히, 후술하는 전극 배열부(86)의 주변 영역이 절연 특성을 갖도록 형성된다.
제1 유지부(52)는 제1 고주파 전극(56)을 구비한 제1 유지부 본체(하기에서, 주로 본체로 불림)(62) 및 본체(62)의 기부 단부에 배치된 기부(64)를 일체로 포함한다. 제2 유지부(54)는 제2 고주파 전극(58)을 구비한 제2 유지부 본체(66) 및 본체(66)의 기부 단부에 배치된 기부(68)를 일체로 포함한다.
제1 유지부(52)의 기부(64)는 샤프트(24)의 원통형 부재(42)의 말단 단부에 고정된다. 한편, 제2 유지부(54)의 기부(68)는 샤프트(24)의 축 방향과 직각으로 교차하는 방향으로 배치된 지지 핀(support pin)(72)에 의해 샤프트(24)의 원통형 부재(42)의 말단 단부에서 회전 가능하게 지지된다. 제2 유지부(54)는 지지 핀(72)의 축 둘레에서 회전하여, 제1 유지부(52)에 대해 개방 또는 폐쇄될 수 있다. 또한, 제2 유지부(54)는 판스프링(leaf spring)과 같은 탄성 부재(74)에 의해 제1 유지부(52)에 대해 개방되도록 압박된다.
도 3B 및 3C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62, 66)의 외측 표면은 매끄러운 만곡 표면으로 형성된다. 유사하게, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 외측 표면도 매끄러운 만곡 표면으로 형성된다. 제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)에 대해 폐쇄되어 있는 동안, 유지부들(52, 54)의 본체들(62, 66)의 단면들은 도 3C에 도시된 바와 같이, 각각 실질적으로 원형 또는 타원형 형상으로 형성된다. 제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)에 대해 폐쇄될 때, 기부들(64, 68)은 원통형 형상으로 형성된다. 이러한 상태에서, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체들(62, 66)의 기부 단부들 각각의 직경은 기부 단부들(64, 68) 각각의 직경보다 더 크게 형성된다. 또한, 단차부(76a, 76b)가 본체(62, 66)와 기부(64, 68) 사이에 각각 형성된다.
여기서, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)에서, 제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)에 대해 폐쇄되어 있는 동안, 유지부들(52, 54)의 기부들(64, 68)을 조합함 으로써 형성된 실질적으로 원형 또는 타원형 외주부 표면은 원통형 부재(42)의 말단 단부의 외주부 표면과 실질적으로 동일한 평면이거나, 외주부 표면의 직경은 원통형 부재(42)의 말단 단부의 외주부 표면의 직경보다 약간 더 크게 형성된다. 그러므로, 외피(44)는 원통형 부재(42)에 대해 활주되어, 외피(44)의 말단 단부에 의해 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)를 덮을 수 있다. 이러한 상태에서, 도 2A에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)는 탄성 부재(74)의 압박력에 대항하여 폐쇄된다. 한편, 외피(44)는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부들(64, 68)이 외피(44)의 말단 단부로 덮인 상태로부터 원통형 부재(42)의 기부 단부를 향해 활주된다. 이러한 경우에, 도 2B에 도시된 바와 같이, 제2 유지부(54)는 탄성 부재(74)의 압박력에 의해 제1 유지부(52)에 대해 개방된다.
도 3B 및 3C에 도시된 바와 같이, 제2 유지부(54)의 본체(66)에 가까운 제1 유지부(52)의 본체(62)의 측면 상에서, 생체 조직과 접촉하게 되는 모서리부(장벽부)(82a)의 표면(하기에서, 접촉 표면으로 불림)은 예를 들어, 편평한 형상으로 형성된다. 도 3A 내지 3C에 도시된 바와 같이, 증기 또는 고온 액체와 같은 유체의 채널로서 개방된 제1 유체 토출 홈(제1 채널)(84a)은 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 내측면 상에 형성된다. 제1 유체 토출 홈(84a)은 오목한 단면을 갖도록 환상 형상으로 형성된다. 또한, 제1 유지부(52)의 기부(64)는 증기 또는 액체와 같은 유체의 채널로서 개방되고 오목한 단면을 갖도록 형성된 제2 유체 토출 홈(84b)을 구비한다. 제2 유체 토출 홈(84b)은 샤프트(24)의 축 방향을 따라 제1 유체 토출 홈(84a)으로부터 연속적으로 형성된다.
본체(62) 내에 형성된 제1 유체 토출 홈(84a)의 내측면 상에서, 전극 배열부(86)가 제1 고주파 전극(56)이 배치되는 시트(seat)로서 형성된다. 전극 배열부(86)는 본체(62)의 모서리부(82a)의 접촉 표면보다 더 낮은 위치에 존재한다. 즉, 전극 배열부(86)는 본체(62)의 모서리부(82a)에 대해 만입된 상태로 형성된다.
제2 유지부(54)와 대면하는 생체 조직과 판형 제1 고주파 전극(56) 사이의 접촉 표면은 편평한 표면으로 형성되고, 제1 고주파 전극(56)은 전극 배열부(86)에 고정된다. 예를 들어, 제2 유지부(54)와 대면하는 측면에 대향한 측면 상의 제1 고주파 전극(56)의 기부 단부는 제1 전극 커넥터(88a)와 전기적으로 연결된다. 제1 전극 커넥터(88a)는 제1 전도 라인(92a)을 거쳐 핸들(22)로부터 연장되는 케이블(28)과 연결된다.
또한, 도 3B 및 3C에 도시된 바와 같이, 제1 고주파 전극(56)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 전극 배열부(86)에 배치된 상태에서, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면은 제1 고주파 전극(56)의 표면으로부터 돌출된다. 즉, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면은 제1 고주파 전극(56)의 표면보다 더 높은 위치에 존재한다. 접촉 표면과 표면 사이의 높이 차는 예를 들어, 약 0.5 mm로 적절하게 설정된다.
도시되지는 않았지만, 제2 유지부(54)의 본체(66) 및 제2 고주파 전극(58)은 제1 유지부(52)의 본체(62) 및 제1 고주파 전극(56)에 대해 대칭으로 형성된다는 것을 알아야 한다. 그러므로, 제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)에 대해 폐쇄될 때, 제1 유지부(52)의 본체(62)의 모서리부(82a)와 제2 유지부(54)의 본체(66)의 모서리부(82b)는 서로 맞닿지만(도 3C 참조), 공간(S)이 도 2A에 도시된 바와 같이 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에 형성된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
도 2A에 도시된 바와 같이, 제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)에 대해 폐쇄되어 있는 동안, 전기-수술 장치(12)의 유지 섹션(26)과 샤프트(24)는 복벽을 통해 복강 내로 삽입된다. 전기-수술 장치(12)의 유지 섹션(26)은 처치 목표인 생체 조직에 대향한다.
처치 목표인 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 파지될 때, 핸들(22)의 유지 섹션 개폐 노브(32)가 조작된다. 이때, 외피(44)는 원통형 부재(42) 상에서 샤프트(24)의 기부측을 향해 이동된다. 원통형 형상은 탄성 부재(74)의 압박력으로 인해 기부들(64, 68) 사이에서 유지될 수 없고, 제2 유지부(54)는 제1 유지부(52)로부터 개방된다.
또한, 처치 목표인 생체 조직은 제1 유지부(52)의 제1 고주파 전극(56)과 제2 유지부(54)의 제2 고주파 전극(58) 사이에 배치된다. 이러한 상태에서, 핸들(22)의 유지 섹션 개폐 노브(32)가 조작된다. 이때, 외피(44)는 원통형 부재(42)에 대해 샤프트(24)의 말단측을 향해 이동된다. 기부들(64, 68)은 탄성 부재(74)의 압박력에 대항하여 외피(44)에 의해 폐쇄되어, 기부들(64, 68) 사이에서 원통형 형상을 형성한다. 결과적으로, 기부(64)와 일체로 형성된 제1 유지부 본체(62)와 기부(68)와 일체로 형성된 제2 유지부 본체(66)가 폐쇄된다. 즉, 제2 유 지부(54)가 제1 유지부(52)에 대해 폐쇄된다. 결과적으로, 처치 목표인 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다.
이때, 처치 목표의 생체 조직은 제1 유지부(52)에 배치된 제1 고주파 전극(56) 및 제2 유지부(54)에 배치된 제2 고주파 전극(58) 모두와 접촉하게 된다. 처치 목표의 생체 조직의 주변 조직이 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 접촉 표면 모두와 밀접하게 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)은 케이블(28), 제1 및 제2 전도 라인(92a, 92b), 및 제1 및 제2 전도 커넥터(88a, 88b)를 거쳐, 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)에 에너지를 공급한다.
제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에서, 고주파 전류가 처치 목표의 생체 조직을 거쳐 전도된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에 파지된 생체 조직이 가열된다.
이때, 생체 조직의 가열된 부분이 액체 성분(수분)을 포함하므로, 유체, 예를 들어 고온 증기 또는 정상 온도 내지 고온의 체액(조직액)과 같은 액체가 발생된다.
여기서, 제1 고주파 전극(56)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 전극 배열부(86)에 고정될 때, 제2 유지부(54)측에 노출된 제1 고주파 전극(56)의 표면은 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 유사하게, 제2 고주파 전극(58)이 제2 유지부(54)의 본체(66)의 전극 배열부(86)에 고정될 때, 제1 유지부(52)측에 노출된 제2 고주파 전극(58)의 표면은 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 접촉 표면보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 그러므로, 생체 조직으로부터 발생된 증기 또는 액체와 같은 유체가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 내측 표면에 부딪힌다. 이때, 모서리부(82a, 82b)의 접촉 표면들이 처치 목표의 생체 조직의 주변 조직과 밀접 접촉하게 되므로, 모서리부(82a, 82b)의 내측 표면들은 증기 또는 액체와 같은 유체가 외부로 누출되는 것을 방지하는 장벽부(댐)의 기능을 수행한다.
이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 증기 또는 액체와 같은 유체가 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62, 66)의 모서리부(82a, 82b)의 내측 표면에 부딪혀서, 제1 유체 토출 홈(84a)에 도달한다. 또한, 유체는 제1 유체 토출 홈(84a)과 연통하는, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b)을 향해 유동한다.
또한, 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b)으로부터 원통형 부재(42)에 도달한다. 또한, 유체는 원통형 부재(42)의 유체 토출 포트(48a) 및 외피(44)의 유체 토출 포트(48b)를 통해 샤프트(24)로부터 배출된다.
처치를 종료하기 위해, 발 스위치 또는 손 스위치의 조작이 정지된다. 이러한 경우에, 에너지원(14)으로부터 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)으로의 에너지 공급이 정지된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 접촉 표면이 각각 생체 조직과 밀접 접촉하게 될 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 증기 또는 액체와 같은 유체가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)를 향해 유동하더라도, 유체는 이러한 모서리부들(82a, 82b)의 내측 측면 상의 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 도입될 수 있다.
즉, 제1 고주파 전극(56)이 제2 고주파 전극(58)과 접촉하지 않고, 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 파지된 경우에, 모서리부들(82a, 82b)이 생체 조직과 밀접 접촉할 때, 모서리부들(82a, 82b)은 장벽부로서 배열될 필요가 없다. 이러한 경우에도, 유체는 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 도입될 수 있다.
이러한 경우에, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 유지부(52)의 제1 고주파 전극(56)과 모서리부(82a) 사이 그리고 제2 유지부(54)의 제2 고주파 전극(58)과 모서리부(82b) 사이에 형성된 제1 유체 토출 홈(84a), 유지 섹션(26)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b), 샤프트(24)의 원통형 부재(42)의 유체 토출 포트(48a), 및 외피(44)의 유체 토출 포트(48b)를 통해, 전기-수술 장치(12)로부터 토출될 수 있다. 그러므로, 증기 또는 액체와 같은 유체가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변에서 누출되는 것이 방지될 수 있다. 결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도 된 부분으로부터 발생되는 증기에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
그러므로, 이러한 실시예에 따르면, 전술한 EP 1 372 505 B1호와 달리, 생체 조직으로부터 발생된 증기 또는 액체(고온 체액)와 같은 유체가 토출될 때, 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직은 증기 또는 액체(체액)와 같은 유체에 의해 영향을 받는 것이 확실하게 방지될 수 있다.
전술한 바와 같이, 생체 조직에 대한 열적 영향을 억제할 때, 증기 또는 액체와 같은 유체를 유체가 조직과 접촉하지 않는 위치로 안내하는 것이 중요하다. 조직이 유지 섹션(26)의 주변 영역이 덮일 정도로 유지 섹션(26)보다 더 큰 경우에, 열적 영향이 유지 섹션(26) 외부에 가해지는 것이 방지될 수 있는 특히 큰 효과를 얻는 것이 가능하다. 단지 작은 개방부(공간)가 유지 섹션(26) 내에 만들어지고, 증기 또는 액체와 같은 유체가 개방부로부터 누출될 때, 유체는 개방부로부터 토출되고, 유지 섹션(26) 주변의 생체 조직은 열적으로 영향을 받는다.
또한, 고주파 전극(에너지 방출부)(56, 58)의 주변 영역이 그러한 개방부를 제거하기 위해 장벽부(82a, 82b)로 덮일 때에도, 개방부는 발생되는 증기압과 같은 유체 압력에 의해 형성되고, 유체는 토출될 수 있다. 그러므로, 유체 압력의 상승으로 인한 유체의 불필요한 토출을 억제하고, 유체를 소정의 방향으로 안내하고 토출하는 채널(제1 유체 토출 홈(84a))을 배치하는 것이 유용한 수단이다.
또한, 전술한 바와 같이, 모서리부들(82a, 82b)의 접촉 표면들은 접촉 표면 들이 제1 및 제2 고주파 전극(56, 58)의 표면보다 더 높은 위치에 존재하도록 장벽부로서 배열되고, 생체 조직과 모서리부(82a, 82b) 사이의 밀접 접촉 특성이 개선될 수 있다. 그러므로, 증기 또는 액체와 같은 유체가 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 더 확실하게 도입될 수 있다.
본 실시예에서, 생체 조직 및 모서리부(82a, 82b)의 접촉 표면과 밀접 접촉하게 되는 고주파 전극(56, 58)의 표면들이 편평한 것으로 설명되었지만, 표면들은 처치 목표의 생체 조직의 형상에 따라, 예를 들어 주름진 표면, 만곡된 표면 등으로 다양하게 변화될 수 있다는 것을 알아야 한다.
본 실시예에서, 제1 유지부(52)가 제1 고주파 전극(56)을 구비하고, 제2 유지부(54)가 제2 고주파 전극(58)을 구비한, 쌍극 전기-수술 장치(12)가 설명되었다. 또한, 본 실시예는 고주파 전극이 예를 들어 제1 유지부(52) 또는 제2 유지부(54) 내에만 배치되거나 유지부들(52, 54)이 각각 동일한 극성의 전극을 구비한, 단극 전기-수술 장치(도시되지 않음)에 유사하게 적용되는 것이 바람직하다. 즉, 제1 유체 토출 홈(84a)이 유지 표면인 전극과 유지부(52, 54)의 모서리부(82a, 82b) 사이에 유사하게 형성되는 것이 바람직하다.
본 실시예에서, 단차부(76a)가 제1 유지부(52)의 본체(62)와 기부(64) 사이에 배치되고, 단차부(76b)가 제2 유지부(54)의 본체(66)와 기부(68) 사이에 배치되는 것으로 설명되었다. 또한, 이러한 단차부(76a, 76b)를 배열하는 대신에, 본체(62, 66)와 기부(64, 68)가 예를 들어, 끝이 뾰족해지는(tapered) 형상으로 형성되는 것도 바람직하다. 이러한 경우에, 당연히, 외피(44)의 기부 단부가 기부(64 또는 68)보다 더 큰 직경을 갖도록 형성된다. 이때, 외피(44)가 원통형 부재(42)의 말단 단부를 향해 이동하여 끝이 뾰족해지는 부분과 맞물릴 때, 유지 섹션(26)이 폐쇄된다. 외피(44)가 원통형 부재(42)의 기부 단부를 향해 이동하여 끝이 뾰족해지는 부분으로부터 멀어질 때, 유지 섹션(26)이 개방된다.
본 실시예에서, 복벽을 통해 (신체 내의) 복강 내의 생체 조직을 처치하기 위한 선형 전기-수술 장치(12)가 일례로 설명되었다. 그러나, 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 조직을 처치하기 위해 복벽을 통해 신체의 외부로 처치 목표 조직을 추출하는 개방형 선형 전기-수술 장치(치료용 처치 장치)(12a)가 사용될 수 있다.
전기-수술 장치(12a)는 핸들(22)과 유지 섹션(26)을 포함한다. 즉, 복벽을 통해 조직을 처치하기 위한 전기-수술 장치(12)와 달리, 샤프트(24)(도 1 참조)가 생략된다. 한편, 샤프트(24)와 유사한 기능을 갖는 부재가 핸들(22) 내에 배치된다. 그러므로, 장치는 도 1을 참조하여 전술한 전기-수술 장치(12)에서와 동일한 방식으로 사용될 수 있다.
예를 들어, 개방형 선형 전기-수술 장치(12a)가 이러한 방식으로 사용될 때, 증기와 같은 유체는 제1 유체 토출 홈(84a)을 통해 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 본체(62, 66)로부터 직접 생체 조직으로부터 토출될 수 있다. 즉, 제1 유체 토출 홈(84a)과 연통하는, 증기를 토출하기 위한 개방부를 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 본체(62, 66) 내에 배치하는 것이 바람직하다. 생체 조직이 증기와 같은 유체에 의해 열적으로 영향을 받으면, 유체는 생체 조직이 실질적으로 영향을 받지 않도록 선택적으로 배치된 유체를 토출하기 위한 개방부(도시되지 않음)를 갖는 전기-수술 장치(12a)의 사용에 의해 유지 섹션(26)으로부터 토출될 수 있다. 그러므로, 생체 조직 공동(living tissue cavity) 내의 생체 조직이 도 1에 도시된 전기-수술 장치(12)를 사용하여 처치되는 경우도 유지 섹션(26)과 생체 조직 사이의 위치 관계에 따라, 허용 가능하다. 이는 후술하는 제19 실시예(도 27 참조)의 원형 전기-수술 장치(12c)에도 적용된다.
도 5A 내지 5D의 예에서 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 구조는 다양하게 변형될 수 있다는 것을 알아야 한다.
도 5A는 전극 배열부(86)의 폭이 도 3C에 도시된 것보다 더 작게 형성된 상태를 도시한다. 즉, 제1 유체 토출 홈(84a)이 도 3C에 도시된 것보다 더 크게 형성된다. 제1 유체 토출 홈(84a)이 그러한 형상을 가지므로, 유체는 처치 중에 제1 유체 토출 홈(84a)에 쉽게 도달할 수 있다.
도 5B는 열 저항을 갖는 가요성 수지 재료(94)가 본체(62)의 모서리부(82a)에 배치된 상태를 도시한다. 그러므로, 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54)가 생체 조직을 유지하는 동안, 본체(62) 및 본체(66)의 모서리부(82a) 및 모서리부(82b)와 생체 조직 사이의 밀접 접촉 특성이 개선될 수 있다.
도 5C는 오목부(96a)가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 외부에 추가로 형성되고, 볼록부(96b)가 제2 유지부(54)의 모서리부(82b) 외부에 추가로 형성된 상태를 도시한다. 모서리부(82b) 외부에 배치된 볼록부(96b)는 모서리부(82b) 외부에 배치된 오목부(96a) 내로 끼워진다. 결과적으로, 생체 조직이 고주파 처치를 받는 경우에, 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지될 때의 유체의 누출이 효율적으로 방지될 수 있다.
도 5D는 볼록부(98a)가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)에 형성되고, 오목부(98b)가 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)에 형성된 상태를 도시한다. 볼록부(98a)는 오목부(98b) 내로 끼워진다. 결과적으로, 생체 조직이 고주파 처치를 받는 경우에, 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지될 때의 유체의 누출이 더 효율적으로 방지될 수 있다.
[제2 실시예]
다음으로, 제2 실시예가 도 6A 내지 7D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 실시예의 변형예이고, 제1 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 6A 및 도 6C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 모서리부(장벽부)(82a) 외부에, 기체 또는 액체(냉각수)와 같은 냉각 유체를 통과시키는 도관(제2 채널)(98)을 구비한 도관 배열부(96)가 형성된다. 도관 배열부(96)에 배치된 도관(98)은 예를 들어, 원통형 형상으로 형성된다. 도관(98)의 외주부 표면이 모서리부(82a)의 접촉 표면으로부터 가상으로 연장되는 표면과 접촉하도록 배치된다. 즉, 축 방향을 따른 도관(98)의 외주부 표면의 일부가 모서리부(82a)의 접촉 표면과 실질적으로 동일한 평면이다.
또한, 도관(98)은 예를 들어, 샤프트(24)의 원통형 부재(42)를 통과하거나, 오목부가 원통형 부재(42)의 외주부 표면에 형성된다. 결과적으로, 도관(98)은 예 를 들어, 핸들(22)로 연장된다. 도관(98)은 핸들(22)로부터 연장되고, 케이블(28)을 따라 배치되며, 펌프(도시되지 않음)와 연결된다. 결과적으로, 냉각수와 같은 유체가 도관(98)을 통해 순환될 수 있다.
도관(98)은 예를 들어, 높은 열 전도성을 갖는 금속 재료 등으로 형성된다. 그러므로, 유체가 도관(98)을 통과할 때, 유체의 온도는 도관(98)의 외주부 표면으로 전달된다. 즉, 도관(98)의 외주부 표면이 냉각된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 모서리부(장벽부)(82a)의 접촉 표면은 생체 조직과 밀접 접촉하게 되고, 생체 조직은 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)과 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82a) 및 모서리부(82b) 외부에 배치된 도관(98)과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)에 각각 에너지를 공급한다. 한편, 냉각수가 도관(98)으로 공급된다. 또한, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이의 생체 조직이 가열된다. 이때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
여기서, 제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 증기 또는 액체와 같은 유체가 제1 유체 토출 홈(84a)과 연통하는, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b)을 향해 유동한다.
유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b)으로부터 계속하여 원통형 부재(42)에 도달한다. 또한, 유체는 원통형 부재(42)의 유체 토출 포트(48a) 및 외피(44)의 유체 토출 포트(48b)를 통해 샤프트(24)로부터 배출된다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다. 즉, 생체 조직 내의 열이 생체 조직을 통해 전달된다. 그러므로, 생체 조직이 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 모서리부(82a, 82b)와 밀접 접촉하더라도, 열은 때때로 모서리부(82a, 82b)를 넘어 제1 및 제2 유지부(52, 54) 외부에 배치된 생체 조직으로 확산한다.
여기서, 냉각수는 각각 모서리부(82a, 82b) 외부에 배열된 도관(98)으로 공급된다. 그러므로, 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 생체 조직은 냉각된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 확산하는 열의 영향이 도관(98)과 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 조직으로 유도되는 열의 확산은 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직을 냉각시킬 때, 억제된다.
또한, 생체 조직과 모서리부(82a, 82b)의 접촉 표면 사이에 갭이 있으면, 유체는 생체 조직과 모서리부(82a, 82b) 사이의 갭으로부터 진출한다(exit). 이러한 경우에, 유체는 도관(98)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다. 예를 들어, 고온 유체가 이러한 방식으로 유지 섹션(26)으로부터 진출하더라도, 유체는 도관(98)과 접촉하고, 그러므로 냉각되어 유지 섹션(26)에 의해 파지된 생체 조직 주변의 생체 조직이 영향을 받는 것을 방지한다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직의 주변 영역으로 누출되는 것이 방지될 수 있다. 결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 전술한 바와 같이, 모서리부(82a, 82b)의 접촉 표면은 제1 및 제2 고주파 전극(56, 58)의 표면들보다 더 높은 위치에 존재하도록 장벽부로서 배열된다. 결과적으로, 생체 조직과 모서리부(82a, 82b) 사이의 밀접 접촉 특성이 개선될 수 있다. 그러므로, 유체는 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 더 확실하게 도입될 수 있다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 냉각용 유체가 각각 통과하는 제1 유지부(52)의 도관(98) 및 제2 유지부(54)의 도관(98)이 처치 목표의 생체 조직의 주변 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 도관(98)과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각될 수 있다. 그러므로, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생할 때의 영향이 도관(98)과 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 더 확실하게 방지될 수 있다.
냉각용 유체를 통과시킬 수 있는 도관(98)이 이러한 방식으로 유지 섹션(26) 외부에 배치될 때, 열 확산이 발생하는 영역은 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 모서리부(82a, 82b) 내로 확실하게 한정될 수 있다.
또한, 고온 유체가 생체 조직과 모서리부(82a, 82b) 사이의 갭을 통해 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하면, 유체는 도관(98)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다. 그러므로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
도 7A 내지 7D의 예에서 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 구조는 다양하게 변형될 수 있다는 것을 알아야 한다.
도 7A는 도관 배열부(96)에 배치된 도관(98)의 단면이 실질적으로 직사각형 형상으로 형성된 상태를 도시한다. 또한, 도관(98)의 측표면은 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면과 실질적으로 동일한 평면에 배치된다. 그러므로, 생체 조직과 도관(98) 사이의 접촉 면적은 더 넓어질 수 있다.
도 7B는 원통형 도관(98)이 모서리부(82a)의 접촉 표면 아래에 형성된 상태를 도시한다.
도 7C는 제1 고주파 전극(56)이 도관(98)과 접촉하여, 원통형 도관(98)이 절연 특성을 갖고, 도관(98)이 장벽부로서 기능하는 상태를 도시한다. 그러므로, 임의의 공간이 모서리부(82a, 82b)에 대해 요구되지 않으므로, 제1 유지부(92) 및 제2 유지부(54)의 폭은 감소될 수 있다. 대안적으로, 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)의 폭은 증가될 수 있다.
도 7D는 제2 유지부(54)로부터 먼 측면 상의 제1 유지부(52)의 본체가 방열기(방열 부재)(108)로 덮인 상태를 도시한다. 방열기(108)는 예를 들어, 높은 열 전도성을 갖는 금속 재료로 형성된다. 외부 공기 등과의 접촉 면적을 증가시키기 위해, 방열기(108)의 외주부 표면은 참조 번호 108a로 표시된 복수의 돌출부 또는 휜(fin)을 구비한다. 모서리부(82a, 82b) 및 도관(98)은 제1 유지부(52)의 제1 유체 토출 홈(84a)으로부터 생략된다는 것을 알아야 한다. 방열기(108)의 단부는 또한 장벽부(모서리부의 접촉 표면)의 기능을 수행한다.
그러므로, 열 확산으로 인해 열이 주변 생체 조직으로 전달되는 경우에, 생체 조직이 방열기(108)와 접촉하면, 생체 조직을 통해 전달되는 열은 방열기(108)로 전달된다. 방열기(108)가 외부와의 접촉 면적을 확대시키도록 형성되므로, 방열기와 외부 사이의 열 교환이 생체 조직으로부터 열을 효율적으로 방출시키도록 수행될 수 있다.
방열기(108)가 금속 재료로 형성되는 경우에, 방열기를 절연 코팅으로 코팅하는 것이 바람직하다는 것을 알아야 한다.
[제3 실시예]
다음으로, 제3 실시예가 도 8A 내지 8C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 실시예의 변형예이고, 제1 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 8C에 도시된 바와 같이, 제1 유체 토출 홈(84a)(도 3A 내지 3C 참조)은 제1 유지부(52)의 본체(62)의 모서리부(82a)로부터 제거된다. 또한, 제1 유지부(52)의 본체(62)의 모서리부(82a)에서, 제1 고주파 전극(56)을 구비하기 위한 시트(seat)로서 전극 배열부(86)가 모서리부(82a)에 인접하여 형성된다. 전극 배열부(86)는 본체(62)의 축 방향을 따라 제1 유체 토출 홈(112a)을 구비한다. 도 8B 및 8C에 도시된 바와 같이, 제1 유체 토출 홈(112a)은 제1 유지부(52)의 기부(64)의 제2 유체 토출 홈(112b)에 대해 연속적으로 형성된다.
도 8B 및 8C에 도시된 바와 같이, 단차부가 제1 고주파 전극(56)의 표면과 모서리부(82a)의 접촉 표면 사이에 형성된다. 모서리부(82a)의 접촉 표면은 제1 고주파 전극(56)의 표면보다 더 높은 위치에 배치된다. 이러한 단차부는 예를 들어, 약 0.5 mm이다.
제1 고주파 전극(56)은 본체(62)의 축 방향을 따라 소정의 간격으로 제1 고주파 전극(56)을 통해 연장되는 원형 구멍들(114)을 구비한다. 원형 구멍(114)은 전극 배열부(86)의 제1 유체 토출 홈(112a)과 연통한다. 여기서, 원형 구멍(114)이 설명되었지만, 타원형 구멍 및 다각형 구멍과 같은 다양한 형상의 구멍이 허용될 수 있다는 것을 알아야 한다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 파지된다. 이때, 모서리부(장벽부)(82a)의 접촉 표면은 생체 조직과 밀접 접촉하게 되고, 생체 조직은 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)과 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)에 각각 에너지를 공급한다. 또한, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에 유지되는 생체 조직이 가열된다.
전술한 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 고온의 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
여기서, 제1 고주파 전극(56)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 전극 배열부(86)에 고정될 때, 제2 유지부(54)측에 노출된 제1 고주파 전극(56)의 표면은 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 유사하게, 제2 고주파 전극(58)이 제2 유지부(54)의 본체(66)의 전극 배열부(86)에 고정될 때, 제1 유지부(52)측에 노출된 제2 고주파 전극(58)의 표면은 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 접촉 표면보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 그러므로, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)와 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)는 생체 조직으로부터 발생된 유체가 외부로 누출되는 것을 방지하는 장벽부(댐)의 기능을 수행한다.
이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 유지부(52)의 본체(62)의 제1 고주파 전극(56)의 원형 구멍(114) 및 제2 유지부(54)의 본체(66)의 제2 고주파 전극(58)의 원형 구멍(114)을 통해 제1 유체 토출 홈(112a)에 도달한다. 또한, 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64) 및 기부(68)의 제2 유체 토출 홈(112b)을 향해 유동한다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 접촉 표면은 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)를 향해 유동하더라도, 유체는 제1 및 제2 고주파 전극(56, 58)의 원형 구멍(114)의 내측면 상의 제1 유체 토출 홈(112a) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에서 고주파 전류가 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
본 실시예에서, 유체가 원형 구멍(114)을 통해 제1 유체 토출 홈(112a)에 도달하는 것이 설명되었지만, 제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 제1 유체 토출 홈(84a)(도 3A 참조)이 전극 배열부(86)와 제1 고주파 전극(56)과 모서리부(82a, 82b) 사이에 추가로 배치되는 것도 바람직하다는 것을 알아야 한다. 즉, 제1 유지부(52)의 본체(62)가 2개의 유체 토출 홈(84a, 112a)을 구비하는 것도 바람직하다. 이러한 경우에, 유체 토출 홈(84a)은 전극 배열부(86)에서 다른 유체 토출 홈(112a)과 연통한다.
[제4 실시예]
다음으로, 제4 실시예가 도 9A 내지 9C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 내지 제3 실시예의 변형예이고, 제1 내지 제3 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 9A 내지 9C에 도시된 바와 같이, 도관(98)이 제2 실시예(도 6A 내지 6C 참조)에서와 동일한 방식으로 배치된다. 다른 구조는 제3 실시예(도 8A 내지 8C 참조)와 유사하다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 파지된다. 이때, 모서리부(장벽부)(82a)의 접촉 표면이 생체 조직과 밀접 접촉하게 되고, 생체 조직은 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)과 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54) 외부에 배치된 도관(98)과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)에 각각 에너지를 공급한다. 한편, 냉각수가 도관(98)으로 공급된다. 또한, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에 유지되는 생체 조직이 가열된다.
증기 또는 액체와 같은 유체를 토출하는 기능은 제3 실시예와 유사하다. 그 러므로, 그의 설명은 생략된다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다.
여기서, 냉각수가 모서리부(82a, 82b) 외부에 각각 배열된 도관(98)으로 공급된다. 그러므로, 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산의 영향은 도관(98)과 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직이 냉각되어, 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 조직으로 유도되는 열 확산을 억제한다.
또한, 생체 조직과 모서리부(82a, 82b) 사이에 갭이 있으면, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직과 모서리부(82a, 82b) 사이의 갭으로부터 진출한다. 이러한 경우에, 유체는 도관(98)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)의 접촉 표면이 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)를 향해 유동하더라도, 유체는 제1 및 제2 고주파 전극(56, 58)의 원형 구멍(114)의 내측면 상의 제1 유체 토출 홈(112a) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 냉각용 유체가 통과하는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 도관들(98)은 각각 처치 목표의 생체 조직의 주변 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 도관(98)과 밀접 접촉하는 생체 조직은 냉각될 수 있다. 그러므로, 열이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 확산할 때의 영향은 도관(98)과 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 확실하게 방지될 수 있다.
그러므로, 제2 실시예에서 설명된 바와 같이, 냉각용 유체를 통과시킬 수 있는 도관(98)이 유지 섹션(26) 외부에 배치될 때, 열 확산이 발생하는 영역이 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 모서리부(82a, 82b)의 내측면 상의 영역으로 확실하게 한정될 수 있다.
또한, 제2 실시예에서와 동일한 방식으로, 고온 유체가 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하더라도, 유체는 도관(98)과 접촉하고, 냉각될 수 있다. 결과적으로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
[제5 실시예]
다음으로, 제5 실시예가 도 10A 내지 10D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 및 제3 실시예의 변형예이고, 제1 및 제3 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 10B 및 10C에 도시된 바와 같이, 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상의 제1 유지부(52)의 본체(62)는 편평하게 형성된다. 도 10A 내지 10C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)는 이산된(discrete) 방식으로 형성된 복수의 전극 배열부(오목부)(122)를 구비한다. 여기서, 전극 배열부(122)의 4개의 열(row)이 본체(62) 상에 지그재그 형태로 배열된다.
도 10A 및 10D에 도시된 바와 같이, 이러한 전극 배열부(122)는 장벽부(124)를 구비한다. 각각의 장벽부(124)의 내측면 상에, 전극의 중심에서 관통 구멍(126a)을 갖는 제1 고주파 전극(126)이 출력부 또는 에너지 방출부로서 배치된다. 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상의 제1 고주파 전극(126)의 표면은 장벽부(124)보다 더 낮은 위치에 존재한다. 즉, 장벽부(124)는 제1 고주파 전극(126)의 표면 위에 존재하고, 장벽부(124)와 제1 고주파 전극(126) 사이에 단차부가 있다.
도 10B 및 10C에 도시된 바와 같이, 본체(62)는 본체(62)의 축 방향을 따라 제1 유체 토출 홈(128a)을 구비한다. 제1 유체 토출 홈(128a)은 제1 고주파 전극(126)의 관통 구멍들(126a)과 각각 연통한다. 제1 유체 토출 홈(128a)은 제1 유 지부(52)의 기부(64)의 제2 유체 토출 홈(128b)에 대해 연속적으로 형성된다.
제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)와 유사한 구조를 가지므로, 장벽부 및 고주파 전극은 제1 유지부(52)에서 사용된 참조 번호로 표시되고, 그의 설명은 생략된다는 것을 알아야 한다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 장벽부(124)는 생체 조직과 밀접 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 고주파 전극(126) 및 제2 고주파 전극(126)과 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(126) 및 제2 고주파 전극(126)에 각각 에너지를 공급한다. 또한, 제1 고주파 전극(126)과 제2 고주파 전극(126) 사이의 생체 조직이 가열된다.
전술한 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 제1 고주파 전극(126)과 제2 고주파 전극(126) 사이의 생체 조직이 가열되고, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
여기서, 제1 고주파 전극(126)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 장벽부(124)에 고정될 때, 제2 유지부(54)측에 노출된 제1 고주파 전극(126)의 표면은 장벽부(124)보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 이는 또한 제2 고주파 전극(126)에도 적용된다. 또한, 장벽부(124)가 생체 조직과 밀접 접촉하므로, 유체는 외부로 누출되는 것이 방지될 수 있다. 이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 고주파 전극(126)의 관통 구멍(126a) 및 제2 고주파 전극(126)의 관통 구멍(126a)을 통해 제1 유체 토출 홈(128a)에 도달한다. 또한, 유체는 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(128b)을 향해 유동한다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 제1 유지부(52)의 장벽부(124) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(124)가 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 장벽부(124) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(124)를 향해 유동하더라도, 유체는 제1 고주파 전극(126)의 관통 구멍(126a)의 내측면 상의 제1 유체 토출 홈(128a) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 위치로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(126)과 제2 고주파 전극(126) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 본 실시예에 따른 전기-수술 장치(12)에서, 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54)가 이산된 방식으로 복수의 고주파 전극(126)을 구비하므로, 처치 목표가 제한될 수 있다. 즉, 처치 목표 영역은 각각의 장벽부(124) 내로 한정될 수 있고, 장벽부(124)의 주변부의 생체 조직은 정상 상태를 유지한다. 그러므로, 처치된 생체 조직은 조기에 치료될 수 있다.
본 실시예에서, 장벽부(124)와 제1 고주파 전극(126)이 무작위로 배열된 상 태가 설명되었지만, 이러한 장벽부(124)와 제1 고주파 전극(126)이 선을 형성하도록 배열되는 것이 바람직하다는 것을 알아야 한다.
[제6 실시예]
다음으로, 제6 실시예가 도 11A 내지 11D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1, 제2, 제4, 및 제5 실시예의 변형예이고, 제1, 제2, 제4, 및 제5 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 11A 내지 11C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)는 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)이 배치되는 도관 배열부(96)를 구비한다. 냉각판(146)이 도관(98) 상에 배치된다. 즉, 제1 유지부(52)의 본체(62)는 도관(98)을 덮기 위한 냉각판(146)을 구비한다. 냉각판(146) 내에, 2열의 원형 전극 배열부(122)가 소정의 간격으로 형성된다. 전극 배열부(122)는 장벽부(124)를 구비한다. 각각의 장벽부(124)의 내측면 상에, 전극의 중심에서 관통 구멍(126a)을 갖는 제1 고주파 전극(126)이 배치된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 장벽부(124)는 생체 조직과 밀접 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 고주파 전극(126) 및 제2 고주파 전극(126)과 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54) 외부에 배치된 냉각판(146)과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(126) 및 제2 고주파 전극(126)에 각각 에너지를 공급한다. 한편, 냉각수가 도관(98)으로 공급된다. 또한, 제1 고주파 전극(126)과 제2 고주파 전극(126) 사이의 생체 조직이 가열된다.
증기 또는 액체와 같은 유체를 토출하는 기능은 제5 실시예와 유사하다. 그러므로, 유체를 토출하는 기능의 설명은 생략된다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다.
이때, 제2 실시예에서 설명된 것과 유사한 기능에 따르면, 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 조직으로 유도되는 열 확산은 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직을 냉각시킬 때, 억제된다.
여기서, 냉각수가 제1 및 제2 유지부(52, 54) 외부에 각각 배열된 도관(98)으로 공급된다. 그러므로, 생체 조직은 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 냉각판(146)을 통해 냉각된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(126)과 제2 고주파 전극(126) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산의 영향은 냉각판(146)과 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산은 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직을 냉각시킬 때, 억제된다.
또한, 생체 조직과 장벽부(124) 사이에 갭이 있으면, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직과 장벽부(124) 사이의 갭으로부터 진출한다. 이러한 경우에, 유 체는 냉각판(146)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 제1 유지부(52)의 장벽부(124) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(124)는 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 장벽부(124) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(124)를 향해 유동하더라도, 유체는 제1 고주파 전극(126)의 관통 구멍(126a)의 내측면 상의 제1 유체 토출 홈(128a) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(126)과 제2 고주파 전극(126) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 대응하는 고주파 전류를 인가하는 경우에, 각각 냉각되는 제1 유지부(52)의 냉각판(146) 및 제2 유지부(54)의 냉각판(146)은 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 냉각판(146)과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각될 수 있다. 그러므로, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생할 때의 영향은 냉각판(146)과 접촉하는 부분 내에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 더 확실하 게 방지될 수 있다.
그러므로, 표면이 냉각될 수 있는 냉각판(146)이 유지 섹션(26) 상에 배치되는 경우에, 열 확산이 발생하는 영역은 제1 및 제2 유지부(52, 54) 내로 확실하게 한정될 수 있다.
또한, 제2 실시예에서 설명된 도관(98)에서와 동일한 방식으로, 고온 유체가 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하면, 유체는 냉각판(146)과 접촉하고, 냉각될 수 있다. 그러므로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
[제7 실시예]
다음으로, 제7 실시예가 도 12A 내지 12D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제5 실시예의 변형예이고, 제5 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 12B 및 12C에 도시된 바와 같이, 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상의 제1 유지부(52)의 본체(62)가 편평하게 형성된다. 도 12A 및 12C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)는 이산된 방식으로 형성된 복수의 전극 배열부(오목부)(132)를 구비한다. 각각의 전극 배열부(132)는 직사각형으로 형성된다. 여기서, 도 12A에 도시된 바와 같이, 4열의 전극 배열부(132)가 제1 유지부(52)의 본체(62) 상에 지그재그 형태로 형성된다.
도 12A 내지 12D에 도시된 바와 같이, 이러한 전극 배열부(132)는 직사각형 장벽부(134)를 구비한다. 각각의 장벽부(134)의 내측면 상에, 관통 구멍(136a)을 갖는 제1 고주파 전극(136)이 출력부 또는 에너지 방출부로서 배치된다. 관통 구멍(136a)은 예를 들어, 장벽부(134)에 인접한 위치에 형성된다. 이러한 경우에, 관통 구멍(136a)은 제1 고주파 전극(136)의 일 단부에 형성된다. 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상의 제1 고주파 전극(136)의 표면은 장벽부(134)보다 더 낮은 위치에 존재한다. 즉, 장벽부(134)는 제1 고주파 전극(136)의 표면 위에 존재하고, 장벽부(134)와 제1 고주파 전극(136) 사이에 단차부가 있다.
도 12B 및 도 12C에 도시된 바와 같이, 각각의 관통 구멍(136a)은 본체(62) 내에 형성된 제1 유체 토출 홈(128a)과 연통한다. 제1 유체 토출 홈(128a)은 제1 고주파 전극(136)의 관통 구멍들(136a)과 각각 연통한다. 제1 유체 토출 홈(128a)은 제1 유지부(52)의 기부(64)의 제2 유체 토출 홈(128b)에 대해 연속적으로 형성된다.
즉, 본 실시예에서, 제5 실시예(도 10A 내지 10C 참조)에서 설명된 원형 전극 배열부(122)는 직사각형 전극 배열부(132)로 대체된다. 원형 장벽부(124)는 직사각형 장벽부(134)로 대체되고, 원형 제1 고주파 전극(126)은 직사각형 제1 고주파 전극(136)으로 대체되고, 다른 구조는 동일하다. 그러므로, 본 실시예의 기능 및 효과의 설명은 생략된다.
[제8 실시예]
다음으로, 제8 실시예가 도 13A 내지 13D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1, 제2, 제4, 제6, 및 제7 실시예의 변형예이고, 제1, 제2, 제4, 제6, 및 제7 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상 세한 설명은 생략된다.
도 13A에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)가 소정의 간격으로 형성된 2열의 직사각형 전극 배열부(132)를 구비한다. 또한, 도관(98)과 제1 고주파 전극(136)이 제6 실시예(도 11A 내지 11C 참조)에서와 동일한 방식으로 배열된다.
본 실시예에서, 제6 실시예에서 설명된 원형 전극 배열부(122)는 직사각형 전극 배열부(132)로 대체된다. 원형 장벽부(124)는 직사각형 장벽부(134)로 대체되고, 원형 제1 고주파 전극(126)은 직사각형 제1 고주파 전극(136)으로 대체되고, 다른 구조는 동일하다. 그러므로, 본 실시예의 기능 및 효과의 설명은 생략된다.
[제9 실시예]
다음으로, 제9 실시예가 도 14A 내지 14C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제6 실시예의 변형예이고, 제6 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 14A 및 14B에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)가 제2 유지부(54)로부터 먼 측면 상에서 뚜껑부(142)를 구비한다. 복수의 핀형 제1 고주파 전극(144)이 출력부 또는 에너지 방출부로서 뚜껑부(142)에 고정된다. 본체(62)는 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상에서 편평한 냉각판(방열 부재)(146)을 구비한다. 냉각판(146)은 지그재그 꼭지점 위치에 배열된 복수의 원형 구멍(146a)을 구비한다. 각각의 원형 구멍(146a)으로부터, 본체(62)와 일체로 배치된 장벽부(148)가 돌출된다. 각각의 장벽부(148)는 중공 원통 형상(hollow cylindrical shape)으로 형성된다. 즉, 각각의 장벽부(148)는 장벽부의 중심 축을 따라 형성된 관통 구멍(148a)을 구비한다.
본체(62)가 뚜껑부(142)를 구비할 때, 핀 형상을 갖는 각각의 제1 고주파 전극(144)은 장벽부(148)의 관통 구멍(148a) 내에 배치된다. 여기서, 제1 고주파 전극들(144) 중에서, 제2 유지부(54)에 가까운 제1 고주파 전극의 단부는 제2 유지부(54)에 가까운 장벽부(148)보다 더 낮은 위치에 존재한다.
장벽부(148)와 제1 고주파 전극(144) 사이의 공간이 유체 토출 홈(유체 통로)(152)이다. 유체 토출 홈(152)은 제2 유지부(54)에 가까운 측면과 제2 유지부(54)로부터 먼 측면 사이를 연통시키고, 제2 유지부(54)로부터 먼 측면 상에서 개방된다.
또한, 도관 배열부(154)가 냉각판(146)의 후면 상에서 본체(62)의 측표면 상에 형성된다. 도관 배열부(154)는 냉각용 기체 또는 액체와 같은 유체를 통과시키는 도관(156)을 구비한다.
제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)와 유사한 구조를 가지므로, 장벽부 및 고주파 전극은 제1 유지부(52)에서 사용되는 참조 번호로 표시되고, 그의 설명은 생략된다는 것을 알아야 한다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 장벽부(148)가 생체 조직과 밀접 접촉하게 된다. 생체 조직은 제1 고주파 전극(144) 및 제2 고주파 전극(144)과 접촉하 게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62) 및 본체(66)에 배치된 냉각판(146)과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(144) 및 제2 고주파 전극(144)에 각각 에너지를 공급한다. 한편, 냉각수가 도관(156)으로 공급된다.
제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이에서, 고주파 전류가 생체 조직을 통해 전도된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이의 생체 조직이 가열된다.
처치 목표의 생체 조직이 이러한 방식으로 가열될 때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
여기서, 각각의 제1 고주파 전극(144)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 장벽부(148)의 내측면 상에 배치될 때, 제2 유지부(54)에 가까운, 제2 유지부(54)측에 노출된 제1 고주파 전극(144)의 단부는 장벽부(148)보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 유사하게, 제2 고주파 전극(144)은 장벽부(148)보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 그러므로, 제1 유지부(52)의 장벽부(148) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(148)는 생체 조직으로부터 발생된 유체가 관통 구멍(148a)을 통해 유체 토출 홈(152)에 도달할 수 있게 한다. 이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62, 66) 상에 각각 배치된 뚜껑부(142)의 유체 토출 홈(152)으로부터 토출된다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조 직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다.
여기서, 냉각수가 제1 및 제2 유지부(52, 54) 외부에 각각 배열된 도관들(156)로 공급된다. 그러므로, 생체 조직은 높은 열 전도성을 갖는 도관(156)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 냉각판(146)에 의해 냉각된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산의 영향은 냉각판(146)과 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산은 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직을 냉각시킬 때, 억제된다.
또한, 생체 조직과 장벽부(148) 사이에 갭이 있으면, 유체는 생체 조직과 장벽부(148) 사이의 갭으로부터 진출한다. 이러한 경우에, 유체는 냉각판(146)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때, 제1 유지부(52)의 장벽부(148) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(148)는 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 장벽부(148) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(148)를 향해 유동하더라도, 유체는 제1 고주파 전극(144)과 장벽부(148) 사이의 관통 구멍(148a)을 통해 제1 유체 토출 홈(152) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있 다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 각각 냉각되는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 냉각판(146)은 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 냉각판(146)과 밀접 접촉하는 생체 조직은 냉각될 수 있다. 그러므로, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 유도될 때의 영향은 냉각판(146)과 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
그러므로, 냉각될 수 있는 표면을 갖는 냉각판(146)이 유지 섹션(26)에 배치되는 경우에, 열 확산이 발생하는 영역은 제1 및 제2 유지부(52, 54) 내로 확실하게 한정될 수 있다.
또한, 제2 실시예에서 설명된 도관(98)에서와 동일한 방식으로, 고온 유체가 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하더라도, 유체는 냉각판(146)과 접촉하고, 따라서 냉각될 수 있다. 결과적으로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
또한, 본 실시예에 따른 전기-수술 장치(12)에서, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)는 이산된 방식으로 복수의 고주파 전극(144)을 구비한다. 그러므로, 처치 목표는 제한될 수 있다.
그러므로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 처치 영역이 각각의 장벽부(148)의 내부로 제한될 수 있고, 장벽부(148) 주변 부분의 생체 조직이 정상 상태를 유지하므로, 이는 조기 치료에 기여할 수 있다.
도 14C에 도시된 바와 같이, 장벽부(148)는 본체(62)의 일부 대신에 냉각판(146)의 일부로서 형성될 수 있다는 것을 알아야 한다.
[제10 실시예]
다음으로, 제10 실시예가 도 15A 및 15B를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제9 실시예의 변형예이고, 제9 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 15A에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)는 기체 또는 액체와 같은 유체가 본체에 도달할 수 있게 하는, 유입용 도관(162a)의 일 단부에 고정된다. 제1 유지부(52)의 본체(62)는 기체 또는 액체와 같은 유체가 토출되는, 유출용 도관(162b)의 일 단부에 고정된다. 본체(62)는 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상에서 가요성 시트형(sheet-like) 부재(방열 부재)(164)를 구비한다. 시트형 부재(164)는 예를 들어, 실리콘 재료 등으로 형성된다. 시트형 부재(164)의 내부와 본체(62) 사이의 공간은 냉각용 유체(예컨대, 냉각수)로 채워지고, 방수식으로 배치된다.
제1 고주파 전극(144)이 본체(62)의 종방향을 따라 소정의 간격으로 배열된 다. 제2 유지부(54)에 가까운 제1 고주파 전극(144)의 일 단부는 제2 유지부(54)에 가까운 각각의 장벽부(148)보다 더 낮은 위치에 존재한다.
제2 유지부(54)가 제1 유지부(52)와 유사한 구조를 가지므로, 장벽부 및 고주파 전극은 제1 유지부(52)에서 사용된 참조 번호로 표시되고, 그의 설명은 생략된다는 것을 알아야 한다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 장벽부(148)는 생체 조직과 밀접 접촉하게 되고, 생체 조직은 제1 고주파 전극(144) 및 제2 고주파 전극(144)과 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62) 및 본체(66) 상에 배열된 시트형 부재(164)와 밀접 접촉하게 된다. 시트형 부재(164)가 가요성 재료로 형성되므로, 부재는 생체 조직과 밀접 접촉하도록 생체 조직의 형상에 따라 변형된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(144) 및 제2 고주파 전극(144)에 각각 에너지를 공급한다. 한편, 냉각수가 도관(162a)을 통해 공급된다. 결과적으로, 본체(62)와 시트형 부재(164) 사이의 공간이 냉각수로 채워진다.
제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이에서, 고주파 전류가 생체 조직을 거쳐 전도된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이의 생체 조직이 가열된다.
처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
여기서, 제1 고주파 전극(144)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 장벽부(148) 내에 배열될 때, 제2 유지부(54)측에 노출된 제1 고주파 전극(144)의 단부는 장벽부(148)보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 제2 고주파 전극(144)과 장벽부(148) 사이에 유사한 관계가 있다. 그러므로, 유체는 관통 구멍(148a)을 통해 유체 토출 홈(152)으로부터 토출된다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다.
여기서, 냉각수가 제1 및 제2 유지부(52, 54) 외부에 각각 배치된 도관(162a)으로부터 공급되어, 도관(162b)으로부터 배수된다. 그러므로, 본체(62)와 시트형 부재(164) 사이의 갭이 도관(162a)으로부터의 냉각수로 채워진다. 그러므로, 시트형 부재(164)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각된다. 이러한 경우에, 제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터 확산하는 열의 영향이 시트형 부재(164)와 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직으로부터 유도되는 열 확산은 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직을 냉각시킬 때, 억제된다.
또한, 생체 조직과 장벽부(148) 사이에 갭이 있으면, 유체는 생체 조직과 장벽부(148) 사이의 갭으로부터 진출한다. 이러한 경우에, 유체는 시트형 부재(164)와 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때, 제1 유지부(52)의 장벽부(148) 및 제2 유지부(54)의 장벽부(148)는 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 고주파 전극(144)과 장벽부(148) 사이의 관통 구멍(148a)을 통해 제1 유체 토출 홈(152) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(144)과 제2 고주파 전극(144) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 각각 냉각되는 제1 유지부(52)의 시트형 부재(164) 및 제2 유지부(54)의 시트형 부재(164)가 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 시트형 부재(164)와 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각될 수 있다. 그러므로, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 유도될 때의 영향은 시트형 부재(164)와 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 더 확실하게 방지될 수 있다.
그러므로, 표면이 냉각될 수 있는 시트형 부재(164)가 유지 섹션(26) 상에 배치될 때, 열 확산이 발생하는 영역은 제1 및 제2 유지부(52, 54) 내로 확실하게 한정될 수 있다. 또한, 시트형 부재(164)가 가요성 재료로 형성되므로, 생체 조직에 대한 밀접 접촉 특성이 개선될 수 있다. 그러므로, 생체 조직이 더 효율적으로 냉각될 수 있다.
또한, 제1 실시예에서와 동일한 방식으로, 고온 유체가 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하더라도, 유체는 시트형 부재(164)와 접촉하고, 냉각될 수 있다. 결과적으로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
[제11 실시예]
다음으로, 제11 실시예가 도 16A 내지 16C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 실시예의 변형예이고, 제1 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 16A 내지 16C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62)가 볼록부(166a)를 갖는 제1 고주파 전극(166)을 구비한다. 한편, 도 16B 및 16C에 도시된 바와 같이, 제2 유지부(54)의 본체(66)가 오목부(168a)를 갖는 제2 고주파 전극(168)을 구비한다. 제2 고주파 전극(168)의 표면은 절연 특성을 갖는 탄성 부재(170)를 구비한다. 탄성 부재(170)는 제2 고주파 전극(168)의 표면은 물론 오목부(168a)의 내주부 표면 상에 배치된다.
유체 통과 구멍(유체 통로)(166b, 168b)이 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a) 및 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)에 각각 형성된다. 이러한 유체 통과 구멍(166b, 168b)은 제1 유체 토출 홈(128a)과 연통한다.
도 16C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54)가 폐쇄된 상태에서, 갭(S)이 제1 고주파 전극(166)의 편평부와 절연 탄성 부재(170) 사이에 형성된다. 갭(S)이 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)와 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a) 사이에 형성된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 제1 유지부(52)의 본체(62) 상에 배열된 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)가 생체 조직과 밀접 접촉하게 된다. 또한, 볼록부는 제2 유지부(54)의 본체(66) 상에 배열된 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)의 바닥부와 접촉하게 된다. 즉, 생체 조직은 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)와 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a) 사이의 갭(S) 내에 배치된다. 여기서, 제2 고주파 전극(168)의 표면 상에 배치된 탄성 부재(170)는 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이의 생체 조직을 부재들과 밀접 접촉하게 한다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(166) 및 제2 고주파 전극(168)에 각각 에너지를 공급한다.
제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이에서, 고주파 전류가 처치 목표의 생체 조직을 거쳐 전도된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이의 생체 조직이 가열된다.
처치 목표의 생체 조직이 이러한 방식으로 가열될 때, 증기 또는 액체와 같 은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다. 여기서, 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이에 배치된 생체 조직은 탄성 부재(170)와 밀접 접촉하게 된다. 그러므로, 제2 유지부(54)의 이러한 탄성 부재(170)는 생체 조직으로부터 발생된 유체가 외부로 누출되는 것을 방지하는 장벽부(댐)의 기능을 수행한다.
이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제2 유지부(54) 내의 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)의 유체 통과 구멍(168b)에 도달한다. 또한, 유체는 제1 유체 토출 홈(128a)을 거쳐 제2 유지부(54)의 기부(68)의 제2 유체 토출 홈(128b)을 향해 유동한다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때, 제1 유지부(52)의 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a) 및 제2 유지부(54)의 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)의 바닥부는 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 유체 통과 구멍(168b)을 통해 제2 유지부(54)의 기부(68) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
본 실시예에서, 유체 통과 구멍(166b, 168b)이 제1 고주파 전극(166) 및 제2 고주파 전극(168) 내에 배열되는 것으로 설명되었지만, 구멍들은 예를 들어, 볼록부(166a)를 갖는 제1 고주파 전극(166) 내에만 또는 오목부(168b)를 갖는 제2 고주파 전극(168) 내에만 배열되는 것도 바람직하다는 것을 알아야 한다.
[제12 실시예]
다음으로, 제12 실시예가 도 17A 내지 17C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제2 및 제11 실시예의 변형예이고, 제2 및 제11 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 17A 내지 17C에 도시된 바와 같이, 제1 유지부(52)의 본체(62) 및 기부(64)가 도관 배열부(96)를 구비한다. 도관 배열부(96)는 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)을 구비한다. 도관(98)은 냉각판(146)과 접촉하게 된다. 냉각판(146)은 제2 유지부(54)에 가까운 측면 상의 제1 유지부(52)의 본체(62) 및 기부(64)의 표면 상에 배치된다. 또한, 냉각판(146)은 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)가 배치되는 원형 구멍(166c)을 구비한다.
제2 유지부(54)의 본체(66) 및 기부(68)도 도관 배열부(96)를 구비한다. 도관 배열부(96)는 도관(98)을 구비한다. 도관(98)은 냉각판(146)과 접촉하게 된다. 냉각판(146)은 제1 유지부(52)에 가까운 측면 상의 제2 유지부(54)의 본체(66) 및 기부(68)의 표면 상에 배치된다. 또한, 냉각판(146)은 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)의 바닥부의 전극을 노출시키기 위한 원형 구멍(168c)을 구비한다. 냉각판(146)은 제2 고주파 전극(168)의 표면은 물론 오목부(168a)의 내주부 표면 상 에 배치된다는 것을 알아야 한다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 제1 유지부(52)의 본체(62)에 배치된 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)가 생체 조직과 밀접 접촉하게 되고, 또한 제2 유지부(54)의 본체(66) 상에 배치된 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)의 바닥부와 접촉하게 된다. 즉, 생체 조직은 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)와 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a) 사이의 갭(S) 내에 배치된다. 여기서, 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이의 생체 조직은 제1 및 제2 고주파 전극(166, 168)의 표면 상에 각각 배치된 냉각판(146)을 거쳐 유지부들과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(166) 및 제2 고주파 전극(168)에 각각 에너지를 공급한다.
제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이에서, 고주파 전류가 생체 조직을 거쳐 전도된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이의 생체 조직이 가열된다.
처치 목표의 생체 조직이 이러한 방식으로 가열될 때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다. 여기서, 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이에 배치된 생체 조직은 냉각판들(146)과 각각 밀접 접촉하게 된다. 그러므로, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 냉각판(146) 은 생체 조직으로부터 발생된 유체가 외부로 유출하는 것을 방지하는 장벽부(댐)의 기능을 수행한다.
이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 유지부(52)의 제1 고주파 전극(166)의 볼록부(166a)의 유체 채널(166b)에 도달하고, 제2 유지부(54)의 제2 고주파 전극(168)의 오목부(168a)의 유체 채널(168b)에 도달한다. 또한, 이러한 유체는 제1 유체 토출 홈(128a)을 거쳐 제1 유지부(52)의 기부(64) 및 제2 유지부(54)의 기부(68)의 제2 유체 토출 홈(128b)을 향해 유동한다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다.
여기서, 냉각수가 제1 및 제2 유지부(52, 54) 외부에 각각 배열된 도관(98)으로 공급된다. 그러므로, 생체 조직은 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 냉각판(146)을 거쳐 냉각된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산의 영향이 냉각판(146)과 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직은 냉각되어, 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산을 억제한다.
또한, 생체 조직과 냉각판(146) 사이에 갭이 있으면, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직과 냉각판(146) 사이의 갭으로부터 진출한다. 이러한 경우에, 유체는 냉각판(146)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가하는 경우에, 각각 냉각되는 제1 유지부(52)의 냉각판(146) 및 제2 유지부(54)의 냉각판(146)이 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 냉각판(146)을 향해 유동하더라도, 제2 유지부(54)의 본체(66)의 오목부(166b)에 배치된 냉각판(146)이 장벽부로서 기능한다. 결과적으로, 유체는 제1 고주파 전극(166)의 관통 구멍(166a)을 통해 제1 유체 토출 홈(128a) 내로 그리고/또는 제2 고주파 전극(168)의 관통 구멍(168a)을 통해 제1 유체 토출 홈(128a) 내로 도입될 수 있다.
그러므로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(166)과 제2 고주파 전극(168) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때, 각각 냉각되는 제1 유지부(52)의 냉각판(146) 및 제2 유지부(54)의 냉각판(146)은 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 냉각판(146)과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각될 수 있다. 그러므로, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생할 때의 영향이 냉각판(146)과 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 처치 목표의 생체 조직 으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 더 확실하게 방지될 수 있다.
그러므로, 표면이 냉각될 수 있는 냉각판(146)이 유지 섹션(26) 상에 배치되는 경우에, 열 확산이 발생하는 영역은 제1 및 제2 유지부(52, 54) 내로 확실하게 한정될 수 있다.
또한, 제2 실시예에서 설명된 도관(98)에서와 동일한 방식으로, 고온 유체가 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하더라도, 유체는 냉각판(146)과 접촉하고, 냉각될 수 있다. 결과적으로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
[제13 실시예]
다음으로, 제13 실시예가 도 18 내지 도 20C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 내지 제12 실시예의 변형예이고, 제1 내지 제12 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 18에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 전기-수술 장치(치료용 처치 장치)(12b)의 핸들(22)이 유지 섹션 개폐 노브(32)를 따라 배치된 절단기 구동 노브(34)를 구비한다.
도 19A 및 19B에 도시된 바와 같이, 구동 로드(driving rod)(172)가 샤프트(24)의 원통형 부재 내의 원통형 부재(42)의 축 방향을 따라 이동 가능하게 배치된다. 구동 로드(172)의 말단 단부가 박판형(thin-plate-like) 절단기(174)를 구비한다. 그러므로, 절단기 구동 노브(34)가 조작될 때, 절단기(보조 처치 장치)(174)가 구동 로드(172)를 통해 이동한다.
도 19A 및 19B에 도시된 바와 같이, 절단기(174)의 말단 단부가 칼날(174a)을 구비하고, 구동 로드(172)의 말단 단부는 절단기(174)의 기부 단부에 고정된다. 종방향 홈(174b)이 절단기(174)의 말단 단부와 기부 단부 사이에 형성된다. 이동 조절 핀(176)과 맞물리는 맞물림부(174c)가 종방향 홈(174b)의 일 단부에, 타 단부에, 및 일 단부와 타 단부 사이에 형성된다. 종방향 홈(174b) 내에서, 샤프트(24)의 축 방향과 직각으로 교차하는 방향으로 연장하는 이동 조절 핀(176)은 샤프트(24)의 원통형 부재(42)에 고정된다. 그러므로, 절단기(174)의 종방향 홈(174b)은 이동 조절 핀(176)을 따라 이동한다. 이러한 경우에, 절단기(174)는 선형으로 이동한다. 이때, 절단기(174)는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 절단기 안내 홈(유체 토출 홈)(182a, 182b, 184a, 184b)을 따라 배치된다.
도 20A 내지 20C에 도시된 바와 같이, 제1 실시예에서 설명된 제1 유체 토출 홈(도 3A 내지 3C 참조)(84a)은 제1 유지부(52)의 본체(62)의 모서리부(82a)로부터 제거되고, 제1 고주파 전극(56)이 배치되는 시트(seat)인 전극 배열부(86)가 모서리부에 인접하여 형성된다.
절단기(174)를 통과시키는 제1 절단기 안내 홈(182a)이 제1 유지부(52)의 본체(62)의 제1 고주파 전극(56) 및 전극 배열부(86) 내에 형성된다. 제1 유지부(52)의 기부(64)가 제1 절단기 안내 홈(182a)에 대해 연속적으로 형성된 제2 절단기 안내 홈(182b)을 구비한다. 이러한 제2 절단기 안내 홈(182b)은 샤프트(24)의 축 방향을 따라 형성된다.
그러므로, 절단기(174)는 제1 유지부(52) 내의 절단기 안내 홈(182a, 182b) 을 따라 이동 가능하다. 유사하게, 절단기(174)는 제2 유지부(54) 내의 절단기 안내 홈(184a, 184b)을 따라 이동 가능하다.
다른 구조는 제1 실시예에서 설명된 제1 유지부(52)의 구조와 유사하므로, 그의 설명은 생략된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 모서리부(82a)의 접촉 표면이 생체 조직과 밀접 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)과 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)에 각각 에너지를 공급한다.
제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이에서, 고주파 전류가 처치 목표의 생체 조직을 거쳐 전도된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(56)과 제2 고주파 전극(58) 사이의 생체 조직이 가열된다.
처치 목표의 생체 조직이 이러한 방식으로 가열될 때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
여기서, 제1 실시예에서 설명된 제1 유체 토출 홈(84a) 대신에, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 각각 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62) 및 본체(66)의 제1 절단기 안내 홈(182a, 184a)인 유체 토출 홈에 도달한다. 또한, 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64) 및 기부(68)의 제2 절단기 안내 홈(182b, 184b)을 향해 유동한다.
또한, 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 절단기 안내 홈(182b, 184b)으로부터 원통형 부재(42)에 도달한다. 또한, 유체는 원통형 부재(42)의 유체 토출 포트(48a) 및 외피(44)의 유체 토출 포트(48b)를 통해 샤프트(24)로부터 배출된다.
또한, 핸들(22)의 절단기 구동 노브(34)가 조작될 때, 절단기(174)는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 말단 단부를 향해 이동한다. 절단기(174)의 말단 단부가 칼날(blade)(174a)을 구비하므로, 처치된 생체 조직이 절단된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 제1 실시예에서 설명된 효과에 추가하여 얻어진다.
전기-수술 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 파지된 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때 발생되는 유체는 제1 절단기 안내 홈(유체 통로)(182a, 184a) 내로 도입될 수 있다. 즉, 절단기 안내 홈(182a, 182b, 184a, 184b)은 유체 토출 홈으로서 사용될 수 있다.
또한, 절단기(174) 및 절단기 안내 홈(182)은 상기한 제2 내지 제6 실시예에서 설명된 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54) 내에서 적절하게 사용될 수 있다.
[제14 실시예]
다음으로, 제14 실시예가 도 21A 내지 22D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제2 및 제13 실시예의 변형예이고, 제2 및 제13 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 21A에 도시된 바와 같이, 제13 실시예와 달리, 도관(98)이 제2 실시예(도 6A 내지 6C 참조)에서와 동일한 방식으로 배치된다. 다른 구조는 제13 실시예와 유사하다. 그러므로, 본 실시예의 기능 및 효과의 설명은 생략된다.
도 22A 내지 22D의 예에서 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 유지부(52, 54)의 구조는 다양하게 변형될 수 있다는 것을 알아야 한다. 이들은 제1 유체 토출 홈(84a)이 제거되고 절단기 안내 홈(182a)이 배치된 점을 제외하고는 제2 실시예의 도 7A 내지 7D에 대응한다.
도 22A는 도관 배열부(96)에 배치된 도관(98)의 단면이 실질적으로 직사각형 형상으로 형성된 상태를 도시한다. 또한, 도관(98)의 측표면이 제1 유지부(52)의 모서리부(82a)의 접촉 표면과 실질적으로 동일한 평면에 배치된다. 그러므로, 생체 조직과 도관(98) 사이의 접촉 면적이 더 넓어질 수 있다.
도 22B는 원통형 도관(98)이 모서리부(82a)의 접촉 표면 아래에 형성된 상태를 도시한다.
도 22C는 제1 고주파 전극(56)이 도관(98)과 접촉하게 되어, 원통형 도관(98)이 절연 특성을 가지며, 도관(98)이 장벽부로서 기능하는 상태를 도시한다. 그러므로, 모서리부(82a, 82b)를 위한 임의의 공간이 배치될 필요가 없으므로, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 폭이 감소될 수 있다. 대안적으로, 제1 고주파 전극(56) 및 제2 고주파 전극(58)의 폭은 증가될 수 있다.
도 22D는 제2 유지부(54)로부터 먼 측면 상의 제1 유지부(52)의 본체가 방열기(108)로 덮인 상태를 도시한다. 방열기(108)는 예를 들어, 높은 열 전도성을 갖 는 금속 재료로 형성된다. 외부 공기 등과의 접촉 면적을 증가시키기 위해, 방열기(108)의 외주부 표면은 참조 번호 108a로 표시된 복수의 돌출부 또는 휜을 구비한다. 모서리부(82a, 82b) 및 도관(98)이 제1 유지부(52)의 제1 유체 토출 홈(84a)으로부터 생략된다는 것을 알아야 한다. 방열기(108)의 일 단부는 또한 장벽부(모서리부의 접촉 표면)의 기능을 수행한다.
[제15 실시예]
다음으로, 제15 실시예가 도 23A 내지 23D를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제5, 제9, 및 제13 실시예의 변형예이고, 제5, 제9, 및 제13 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 23A 내지 23C에 도시된 바와 같이, 제9 실시예의 장벽부(148) 및 제5 실시예의 제1 고주파 전극(126)이 제13 실시예에 적용된다. 그러므로, 본 실시예의 기능 및 효과의 설명은 생략된다.
[제16 실시예]
다음으로, 제16 실시예가 도 24A 및 24B를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제5 및 제13 실시예의 변형예이고, 제5 및 제13 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 24A에 도시된 바와 같이, 제5 실시예의 전극 배열부(132), 장벽부(134) 및 제1 고주파 전극(136)이 제13 실시예에 적용된다. 그러므로, 본 실시예의 기능 및 효과의 설명은 생략된다.
제13 내지 제16 실시예에서, 도 18에 도시된 절단기(174)를 갖는 전기-수술 장치(12b)가 사용되는 것으로 설명되었지만, 절단기(174)는 도 4에 도시된 전기-수술 장치(12a) 내에 유사하게 배치되어 유사하게 처치를 수행할 수 있다는 것을 알아야 한다.
[제17 실시예]
다음으로, 제17 실시예가 도 25A 내지 25C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제1 실시예의 변형예이지만, 여기서는 생체 조직이 고주파 에너지 대신에 레이저 에너지를 사용하여 처치되는 경우가 설명될 것이다. 그러므로, 도시되지는 않았지만, 에너지원(14)(도 1 참조)이 후술하는 에너지 처치 장치(레이저 처치 장치)(12)의 섬유(198) 내로 레이저 광을 방출한다.
도 25A 내지 25C에 도시된 바와 같이, 전극 배열부(86)가 제1 유지부(52)의 본체(62)로부터 생략된다. 또한, 제1 고주파 전극(56)도 생략된다. 전극 배열부(86) 대신에, 열 전달판 배열부(192)가 배치된다. 열 전달판 배열부(192)는 전달판(194)이 출력부 또는 에너지 방출부로서 배치되는 시트(seat)로서 형성된다. 열 전달판 배열부(192)는 본체(62)의 모서리부(82a)로부터 만입된다.
전달판(194)은 제2 유지부(54)와 대면하는 측면 상에서 편평한 표면으로서 형성된 실질적으로 판 형상으로 형성되고, 열 전달판 배열부(192)에 고정된다.
오목한 홈(194a)이 전달판(194) 내에 형성된다. 전달판(194)의 오목한 홈(194a)은 출력부 또는 에너지 방출부로서 확산기(196)를 구비한다. 섬유(198)가 확산기(196)를 통과한다. 그러므로, 레이저 광이 섬유(198)에 입사할 때, 레이저 광은 확산기(196)로부터 외측으로 확산한다. 전달판이 레이저 광으로 인한 에너지로 조사될 때, 에너지는 열 에너지로 변환되어 전달된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 처치 목표의 생체 조직은 전달판(194) 및 확산기(196)와 밀접 접촉하게 된다. 처치 목표의 생체 조직의 주변 조직은 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)와 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)은 섬유들(198) 내로 각각 레이저 광을 방출한다.
그러므로, 레이저 광은 확산기(196)로부터 확산되고, 레이저 광으로 인한 에너지는 열 에너지로 변환되어 열을 전달판(194)으로 전달한다. 또한, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 전달판들(194) 사이의 생체 조직이 가열된다.
전술한 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62) 및 본체(66)의 제1 유체 토출 홈(84a)에 도달한다. 또한, 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b)을 향해 유동한다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
레이저 광을 사용하는 에너지 처치 장치(레이저 처치 장치)(12)가 유지 섹 션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 열을 인가하는 경우에, 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)는 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 모서리부(82a) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82b)를 향해 유동하더라도, 모서리부(82a, 82b)는 생체 조직과 밀접 접촉하게 되고, 유체는 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 도입될 수 있다. 즉, 열 전달판(194)으로부터 열을 발생시키기 위한 레이저 처치 장치가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직에 열 에너지를 인가할 때 발생된 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 모서리부(82a, 82b)의 내측 측표면에 인가되어, 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 열이 인가된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지되는 생체 조직으로 제한될 수 있다.
본 실시예에서, 레이저 광 에너지의 사용에 의한 생체 조직의 처치가 설명되었지만, 조직은 초음파 에너지를 사용하여 처치될 수 있다는 것을 알아야 한다. 이러한 경우에, 초음파 프로브(도시되지 않음)가 도 25A 내지 25C에 도시된 섬유(198) 대신에 사용될 수 있고, 진동판(도시되지 않음)이 전달판(194) 대신에 사용되어, 초음파 처치를 유사하게 수행할 수 있다. 또한, 고주파 전류가 초음파 프로브 내로 입력될 수 있다. 그러므로, 이러한 경우에, 초음파 처치와 고주파 처치 가 절환될 수 있다.
[제18 실시예]
다음으로, 제18 실시예가 도 26A 내지 26C를 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제17 실시예의 변형예이고, 제17 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 상세한 설명은 생략된다.
도 26A 내지 26C에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 제17 실시예에서 설명된 구조에 추가하여, 제1 및 제2 유지부(52, 54)가 도관(98)이 배열되는 도관 배열부(96)를 구비한다. 또한, 도관 배열부(96)는 도관(98)을 구비한다. 도관(98)은 장벽부로서도 사용된다. 즉, 모서리부(82a, 82b)가 제거된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지된다. 이때, 처치 목표의 생체 조직은 전달판(194) 및 확산기(196)와 밀접 접촉하게 된다. 또한, 생체 조직은 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54) 외부에 배치된 도관(98)과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)은 섬유들(198) 내로 각각 레이저 광을 방출한다. 한편, 냉각수가 도관(98)으로 공급된다.
그러므로, 레이저 광이 확산기(196)로부터 확산되고, 레이저 광으로 인한 에너지는 열 에너지로 변환되어 열을 전달판(194)으로 전달한다. 또한, 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 전달판들(194) 사이의 생체 조직이 가열된다.
전술한 바와 같이, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다.
이러한 경우에, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 본체(62, 66)의 제1 유체 토출 홈(84a)에 도달한다. 또한, 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 기부(64, 68)의 제2 유체 토출 홈(84b)을 향해 유동한다.
또한, 처치 목표의 생체 조직이 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다.
여기서, 냉각수는 제1 및 제2 유지부(52, 54) 외부에 각각 배열된 도관(98)으로 공급된다. 그러므로, 높은 열 전도성을 갖는 도관(98)의 외주부 표면과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각된다. 그러므로, 제1 유지부(52)의 전달판(194)과 제2 유지부(54)의 전달판(194) 사이의 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산의 영향이 도관(98)과 밀접 접촉하는 부분들에서 억제된다. 즉, 처치 목표의 생체 조직 주변의 생체 조직은 냉각되어, 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 조직으로 유도되는 열 확산을 억제한다.
또한, 생체 조직과 도관(장벽부)(98) 사이에 갭이 있으면, 유체는 생체 조직과 도관(98) 사이의 갭으로부터 진출한다. 이러한 경우에, 유체는 도관(98)과 접촉한다. 결과적으로, 유체가 냉각된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
레이저 광을 사용하는 에너지 처치 장치(레이저 처치 장치)(12)가 유지 섹 션(26)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 열을 인가할 때, 제1 유지부(52)의 도관(98) 및 제2 유지부(54)의 도관(98)은 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 제1 유지부(52)의 도관(98) 및 제2 유지부(54)의 도관(98)을 향해 유동하더라도, 유체는 도관(98)이 생체 조직과 밀접 접촉하기 때문에, 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 도입될 수 있다. 즉, 전달판(194)으로부터 열을 발생시키기 위한 에너지 처치 장치가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직에 열 에너지를 인가할 때 발생된 유체는 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54)의 도관(98)의 내측 측표면에 인가되어, 제1 유체 토출 홈(84a) 내로 도입될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 열이 인가된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 제1 유지부(52)와 제2 유지부(54) 사이에 유지되는 생체 조직으로 제한될 수 있다.
또한, 레이저 처치 장치(12)가 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 처치 목표의 생체 조직에 열을 인가하는 경우에, 각각 냉각용 유체가 통과하는 제1 유지부(52)의 도관(98) 및 제2 유지부(54)의 도관(98)은 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 결과적으로, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 조직으로 발생할 때, 도관(98)과 밀접 접촉하는 생체 조직은 냉각될 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로의 열 확산의 영향은 도관(98)과 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 이러한 경우에, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조 직의 처치 중에 열이 인가된 처치 목표의 생체 조직으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 확실하게 방지될 수 있다.
그러므로, 냉각용 유체를 통과시킬 수 있는 도관(98)이 유지 섹션(26) 외부에 배치될 때, 열 확산이 발생하는 영역은 도관(98)으로부터 내측으로 배열된 제1 및 제2 유지부(52, 54) 내로 확실하게 한정될 수 있다.
또한, 제1 실시예에서와 동일한 방식으로, 고온 유체가 제1 및 제2 유지부(52, 54)로부터 진출하더라도, 유체는 도관(98)과 접촉하고, 냉각될 수 있다. 결과적으로, 유지 섹션(26)에 의해 유지되는 생체 조직 주변의 생체 조직은 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
또한, 제1 내지 제18 실시예에서, 동일한 부재가 제1 유지부(52) 및 제2 유지부(54) 내에서 사용되는 것으로 설명되었지만, 상이한 부재들이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상이한 실시예들에서 설명된 구조들이 적절하게 조합될 수 있다.
또한, 처치 장치의 형상, 유지 섹션의 형상, 및 고주파 전극, 가열기 요소, 확산기 등의 형상 및 배열은 실시예들의 것으로 제한되지 않고, 다양하게 변형될 수 있다.
[제19 실시예]
다음으로, 제19 실시예가 도 27 내지 30을 참조하여 설명될 것이다. 여기서, 에너지 처치 장치의 일례로서, 예를 들어, 복벽을 통해 또는 복벽 외부에서 처치를 수행하는 원형 쌍극 전기-수술 장치(치료용 처치 장치)(12c)가 설명될 것이다.
도 27에 도시된 바와 같이, 전기-수술 장치(12c)는 핸들(202), 샤프트(204), 및 개폐 가능한 유지 섹션(206)을 포함한다. 핸들(202)은 케이블(28)을 통해 에너지원(14)과 연결된다.
핸들(202)은 유지 섹션 개폐 노브(212) 및 절단기 구동 레버(214)를 구비한다. 유지 섹션 개폐 노브(212)는 핸들(202)에 대해 회전 가능하다. 유지 섹션 개폐 노브(212)가 예를 들어, 핸들(202)에 대해 시계 방향으로 회전될 때, 후술하는 유지 섹션(206)의 탈착 가능측 유지부(224)가 본체측 유지부(222)로부터 멀어진다(도 28A 참조). 노브가 반시계 방향으로 회전될 때, 탈착 가능측 유지부(224)는 본체측 유지부(222)에 가까워진다(도 28B 참조).
샤프트(204)는 원통형 형상으로 형성된다. 이러한 샤프트(204)는 생체 조직 내로의 삽입 특성을 고려하여 적절하게 만곡된다. 물론, 샤프트(204)는 선형으로 형성될 수 있다.
샤프트(204)의 말단 단부에 유지 섹션(206)이 제공된다. 도 28A 내지 29에 도시된 바와 같이, 유지 섹션(206)은 샤프트(204)의 말단 단부에 형성된 본체측 유지부(제1 유지부)(222)와, 본체측 유지부(222)에 탈착 가능하게 부착되는 탈착 가능측 유지부(제2 유지부)(224)를 포함한다.
본체측 유지부(222)는 원통형 부재(232), 프레임(234) 및 전기 전도 파이프(236)를 포함한다. 원통형 부재(232) 및 프레임(234)은 절연 특성을 갖는다. 원통형 부재(232)는 샤프트(204)의 말단 단부와 연결된다. 프레임(234)은 원통형 부재(232)에 고정된다.
프레임(234)의 중심 축이 개방된다. 프레임(234)의 개방된 중심 축은 프레임(234)의 중심 축을 따라 소정의 영역 내에서 이동 가능한 전기 전도 파이프(236)를 구비한다. 유지 섹션 개폐 노브(212)가 회전될 때, 도 28A 및 28B에 도시된 바와 같이, 전기 전도 파이프(236)는 예를 들어, 볼 스크루(ball screw)(도시되지 않음)의 기능에 의해 소정의 영역 내에서 이동 가능하다. 전기 전도 파이프(236)는 후술하는 전기 전도 샤프트(262)의 연결부(262a)가 돌출부와 분리 가능하게 맞물리도록 직경 방향으로 내측으로 돌출하는 돌출부(236a)를 구비한다.
도 28A 및 28B에 도시된 바와 같이, 공간이 원통형 부재(232)와 프레임(234) 사이에 형성된다. 원통형 절단기(242)가 원통형 부재(232)와 프레임(234) 사이의 공간 내에 배치된다. 절단기(242)의 말단 단부가 샤프트(204) 내에 배치된 절단기용 푸셔(pusher)(244)의 말단 단부와 연결된다. 절단기(242)는 절단기용 푸셔(244)의 외주부 표면에 고정된다. 도시되지는 않았지만, 절단기용 푸셔(244)의 기부 단부가 핸들(202)의 절단기 구동 레버(214)와 연결된다. 그러므로, 핸들(202)의 절단기 구동 레버(214)가 조작될 때, 절단기(242)는 절단기용 푸셔(244)를 통해 이동한다.
제1 유체 유동 경로(유체 통로)(246a)가 절단기용 푸셔(244)와 프레임(234) 사이에 형성된다. 또한, 샤프트(204) 또는 핸들(202)은 제1 유체 유동 경로(246a)를 통과한 유체가 외부로 토출되는 유체 토출 포트(도시되지 않음)를 구비한다.
도 28A 내지 30에 도시된 바와 같이, 원통형 부재(232)의 말단 단부가 환형 전극 배열부(252)를 구비한다. 제1 고주파 전극(254)이 전극 배열부(252)에서 출 력부 또는 에너지 방출부로서 배치된다. 제1 전도 라인(254a)의 말단 단부가 제1 고주파 전극(254)에 고정된다. 제1 전도 라인(254a)은 본체측 유지부(222), 샤프트(204), 및 핸들(202)을 거쳐 케이블(28)에 연결된다.
환형 증기 토출 홈(256)이 제1 고주파 전극(254) 외부에 형성된다. 유체 토출 홈(256)은 제1 유체 유동 경로(246a)와 연결된다. 유체 토출 홈(256) 외부에, 모서리부(258)가 제1 고주파 전극(254)의 표면보다 더 높은 위치에 형성된다. 즉, 본체측 유지부(222)의 모서리부(258)는 제1 고주파 전극(254)의 표면보다 후술하는 탈착 가능측 유지부(224)의 헤드부(264)에 더 가까이 배치된다.
한편, 탈착 가능측 유지부(224)는 연결부(262a)를 갖는 전기 전도 샤프트(262)와, 헤드부(264)를 포함한다. 전기 전도 샤프트(262)는 원형 단면을 갖고, 샤프트의 일 단부는 끝이 뾰족하게 되도록 형성되고, 샤프트의 타 단부는 헤드부(264)에 고정된다. 연결부(262a)는 전기 전도 파이프(236)의 돌출부(236a)와 맞물릴 수 있도록 오목한 홈 형상으로 형성된다. 전기 전도 샤프트(262)의 연결부(262a) 이외의 부분의 외측 표면은 코팅 등으로 절연된다.
환형 절단기 수납부(270)가 헤드부(264)에 배치된다. 환형 전극 배열부(272)가 절단기 수납부(270) 외부에 형성된다. 전극 배열부(272)는 출력부 또는 에너지 방출부로서 제2 고주파 전극(274)을 구비한다. 제2 전도 라인(274a)의 일 단부가 제2 고주파 전극(274)에 고정된다. 제2 전도 라인(274a)의 타 단부는 전기 전도 샤프트(262)에 전기적으로 연결된다. 환형 유체 토출 홈(276)이 제2 고주파 전극(274) 외부에 형성된다. 유체 토출 홈(276) 외부에, 모서리부(278)의 접촉 표 면이 제2 고주파 전극(274)보다 더 높은 위치에 형성된다. 즉, 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(278)의 접촉 표면은 제2 고주파 전극(274)의 표면보다 본체측 유지부(222)에 더 가까이 배치된다.
또한, 유체 토출 홈(276)은 전기 전도 샤프트(262)의 헤드부(264) 및 유체 토출 경로(280)와 연결된다. 유체 토출 경로(280)는 전기 전도 파이프(236)의 제2 유체 유동 경로(유체 통로)(246b)와 연통한다. 샤프트(204) 또는 핸들(202)은 제2 유체 유동 경로(246b)를 통과한 유체가 토출되는 유체 토출 포트(도시되지 않음)를 구비한다.
전기 전도 파이프(236)는 샤프트(204) 및 핸들(202)을 거쳐 케이블(28)과 연결된다는 것을 알아야 한다. 그러므로, 탈착 가능측 유지부(224)의 전기 전도 샤프트(262)의 연결부(262a)가 전기 전도 파이프(236)의 돌출부(236a)와 맞물릴 때, 제2 고주파 전극(274)은 전기 전도 파이프(236)와 전기적으로 연결된다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
도 29에 도시된 바와 같이, 본체측 유지부(222)가 탈착 가능측 유지부(224)에 대해 폐쇄된 상태에서, 전기-수술 장치(12c)의 유지 섹션(206)과 샤프트(204)는 예를 들어, 복벽을 통해 복강 내로 삽입된다. 전기-수술 장치(12c)의 본체측 유지부(222) 및 탈착 가능측 유지부(224)는 처치되는 생체 조직에 대향된다.
핸들(202)의 유지 섹션 개폐 노브(212)는 처치되는 생체 조직을 본체측 유지부(222)와 탈착 가능측 유지부(224) 사이에 유지하도록 조작된다. 이때, 노브는 예를 들어, 핸들(202)에 대해 시계 방향으로 회전된다. 이러한 경우에, 도 28A에 도시된 바와 같이, 전기 전도 파이프(236)는 샤프트(204)의 프레임(234)에 대해 말단 단부를 향해 이동된다. 그러므로, 본체측 유지부(222)와 탈착 가능측 유지부(224)가 개방되고, 탈착 가능측 유지부(224)는 본체측 유지부(222)로부터 분리될 수 있다.
또한, 처치되는 생체 조직은 본체측 유지부(222)의 제1 고주파 전극(254)과 탈착 가능측 유지부(224)의 제2 고주파 전극(274) 사이에 배치된다. 탈착 가능측 유지부(224)의 전기 전도 샤프트(262)는 본체측 유지부(222)의 전기 전도 파이프(236) 내로 삽입된다. 이러한 상태에서, 핸들(202)의 유지 섹션 개폐 노브(212)는 예를 들어, 반시계 방향으로 회전된다. 그러므로, 탈착 가능측 유지부(224)는 본체측 유지부(222)에 대해 폐쇄된다. 이러한 방식으로, 처치 목표의 생체 조직이 본체측 유지부(222)와 탈착 가능측 유지부(224) 사이에 유지된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 케이블(28)을 거쳐 제1 고주파 전극(254) 및 제2 고주파 전극(274)에 각각 에너지를 공급한다. 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이에서, 고주파 전류가 처치 목표의 생체 조직을 거쳐 전도된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이의 생체 조직이 가열된다.
이때, 증기 또는 액체와 같은 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다. 여기서, 제1 고주파 전극(254)이 본체측 유지부(222)에 고정되는 동안, 탈착 가능측 유지부(224)측에 노출된 제1 고주파 전극(254)의 표면은 본체측 유지부(222)의 모서리부(258)보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 유사하게, 제2 고주 파 전극(274)이 탈착 가능측 유지부(224)에 고정되는 동안, 본체측 유지부(222)측에 노출된 제2 고주파 전극(274)의 표면은 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(278)보다 약간 더 낮은 위치에 존재한다. 그러므로, 본체측 유지부(222) 및 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(82a)는 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이의 전기 전도에 의해 생체 조직으로부터 발생된 유체를 유체 토출 홈(256, 276) 내로 도입하고, 외부로의 유체의 누출을 방지하는 장벽부(댐)의 기능을 수행한다.
이러한 경우에, 본체측 유지부(222)와 탈착 가능측 유지부(224)가 폐쇄된 상태에서, 본체측 유지부(222)의 모서리부(258)가 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(278) 상에 맞닿을 때, 생체 조직으로부터 발생된 유체는 유체 토출 홈(256, 276)에 각각 도달한다.
또한, 유체 토출 홈(256)에 도달한 유체는 절단기(274) 및 절단기용 푸셔(244)를 구비한 제1 유체 유동 경로(246a)를 통해 핸들(202)측을 향해 통과되고, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출된다.
한편, 유체 토출 홈(276)에 도달한 유체는 유체 토출 경로(280) 및 제2 유체 유동 경로(246b)를 통해 핸들(202)측을 향해 통과되고, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
전기-수술 장치(12c)가 유지 섹션(206)에 의해 파지된 처치 목표의 생체 조직에 고주파 전류를 인가할 때, 본체측 유지부(222)의 모서리부(258) 및 탈착 가능 측 유지부(224)의 모서리부(278)가 각각 생체 조직과 밀접 접촉할 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체가 본체측 유지부(222)의 모서리부(258) 및 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(278)를 향해 유동하더라도, 모서리부(258, 278)는 생체 조직과 밀접 접촉하게 된다. 그러므로, 유체는 모서리부(258, 278)의 내측 측표면에 부딪히게 되어, 유체 토출 홈들(256, 276) 내로 각각 도입될 수 있다.
이러한 경우에, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 고주파 전극(254)과 본체측 유지부(222)의 모서리부(258) 사이 그리고 프레임(234)과 절단기용 푸셔(244) 사이에 형성된 제1 유체 유동 경로(246a)와, 샤프트(204)와, 핸들(202)과, 유체 토출 포트를 통해, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출될 수 있다.
또한, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제2 고주파 전극(274)과 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(278) 사이에 형성된 유체 토출 홈(276)과, 유체 토출 경로(280)와, 제2 유체 유동 경로(246b)와, 샤프트(204)와, 핸들(202)과, 유체 토출 포트를 통해, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출될 수 있다.
그러므로, 유체는 유지 섹션(206)에 의해 유지되는 생체 조직의 주변 영역으로 누출되는 것이 방지될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
[제20 실시예]
다음으로, 제20 실시예가 도 31을 참조하여 설명될 것이다. 본 실시예는 제19 실시예의 변형예이고, 제19 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
도 31에 도시된 전기-수술 장치(12c)의 본체측 유지부(222) 내에, 전극 배열부(오목부)(282)가 원주부를 따라 소정의 간격으로 형성된다. 장벽부(284)가 이러한 전극 배열부(282) 내에 배치된다. 장벽부(284)는 본체측 유지부(222)에 대해 탈착 가능측 유지부(224)를 향해 약간 돌출된다. 중심 관통 구멍(286a)을 갖는 제1 고주파 전극(286)이 장벽부(284) 내에 배열된다. 탈착 가능측 유지부(224)에 가까운 측면 상의 제1 고주파 전극(286)은 장벽부(284)보다 더 낮은 위치에 존재한다. 즉, 장벽부(284)와 제1 고주파 전극(286) 사이에 단차부가 있다.
또한, 도시되지는 않았지만, 이러한 관통 구멍들(286a)은 제1 증기 유동 경로(246a)와 연결된다. 그러므로, 유체는 관통 구멍(286a) 및 제1 유체 유동 경로(246a)를 통해 전기-수술 장치(12c)로부터 토출된다.
한편, 탈착 가능측 유지부(224)의 전극 배열부, 장벽부, 및 관통 구멍을 갖는 제2 고주파 전극이 도시되지 않았지만, 이들은 유사하게 형성된다. 또한, 제2 고주파 전극의 관통 구멍들은 전기 전도 샤프트(262)의 유체 토출 경로(280) 및 전기 전도 파이프(236)의 제2 유체 유동 경로(246b)와 연결된다. 결과적으로, 탈착 가능측 유지부(224)측 상의 유체는 제2 고주파 전극의 관통 구멍, 유체 토출 경로(280) 및 제2 유체 유동 경로(246b)를 통해, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출된 다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제1 고주파 전극(286)의 관통 구멍(286a), 프레임(234)과 절단기용 푸셔(244) 사이에 형성된 제1 유체 유동 경로(246a), 샤프트(204), 핸들(202), 및 유체 토출 포트를 통해, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출될 수 있다.
또한, 처치 목표의 생체 조직으로부터 발생된 유체는 제2 고주파 전극의 관통 구멍, 유체 토출 경로(280), 제2 유체 유동 경로(246b), 샤프트(204), 핸들(202) 및 유체 토출 포트를 통해, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출될 수 있다.
그러므로, 유체는 유지 섹션(206)에 의해 유지되는 생체 조직의 주변 영역으로 누출되는 것이 방지될 수 있다.
결과적으로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터 발생되는 유체에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 고주파 전류가 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이에서 전도된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
제19 및 제20 실시예에서, 도 30 및 31에 도시된 고주파 전극들의 사용이 설명되었지만, 전극들의 형상 및 배열은 예를 들어, 제1 내지 제10 실시예에서 설명된 구성으로 다양하게 변화될 수 있다는 것을 알아야 한다.
[제21 실시예]
다음으로, 제21 실시예가 도 32A 및 32B를 참조하여 설명될 것이다. 본 실 시예는 제19 및 제20 실시예의 변형예이고, 제19 및 제20 실시예에서 설명된 것과 동일한 부재는 동일한 참조 번호로 표시되고, 그의 상세한 설명은 생략된다.
여기서, 제19 실시예에서 설명된 제1 고주파 전극(254)이 설명 시에 사용된다.
도 32A에 도시된 바와 같이, 제1 도관(292)이 샤프트(204) 및 유지 섹션(206) 외부에 형성된다. 제1 도관(292)은 본체측 유지부(222)의 선단 모서리부의 외주부 표면 둘레에서 한번 회전되고, 본체측 유지부(222)로부터 샤프트(204)의 기부 단부로 연장된다. 제1 도관(292)은 유체 공급(fluid supply)에 대해 참조 번호 292a로 표시된 측면 및 유체 배수(fluid drain)에 대해 참조 번호 292b로 표시된 측면을 갖는다는 것을 알아야 한다. 그러므로, 기체 또는 냉각수와 같은 유체가 제1 도관(292)에 대해 공급 또는 배수될 수 있다. 즉, 냉각수와 같은 유체가 제1 도관(292)을 통해 순환될 수 있다.
또한, 냉각수와 같은 유체를 공급하는 유체 공급 파이프(294a)가 전기 전도 파이프(236) 내에 배치된다. 유체 배수 파이프(294b)가 유체 공급 파이프(294a)에 인접하여 배치된다.
전기 전도 샤프트(262)가 유체 공급 파이프(294a) 및 유체 배수 파이프(294b)와 연결된 제2 도관(296)을 구비한다. 제2 도관(296)의 2개의 단부는 전기 전도 샤프트(262)의 하단부로부터 돌출한다. 제2 도관(296)은 유체 공급에 대해 참조 번호 296a로 표시된 측면 및 유체 배수에 대해 참조 번호 296b로 표시된 측면을 갖는다는 것을 알아야 한다. 제2 도관(296)은 전기 전도 샤프트(262)의 하 단부로부터 헤드부(264)의 정점(vertex)으로 연장한다. 제2 도관은 헤드부의 정점으로부터 헤드부(264)의 외측 모서리부 둘레에서 한번 회전되어, 다시 전기 전도 샤프트(262)를 통과하고, 전기 전도 샤프트(262)의 하단부 내로 삽입된다.
또한, 유체 공급용 제2 도관(296)의 단부는 유체 공급 파이프(294a)와 연결되고, 유체 배수용 제2 도관(296)의 단부는 유체 배수 파이프와 연결된다. 그러므로, 유체 공급 파이프(294a) 및 유체 배수 파이프(294b)가 제2 도관(296)과 연결되고, 냉각수 등이 유체 공급 파이프(294a)를 통과할 때, 냉각수는 제2 도관(296)을 통해 유체 배수 파이프(294b)로부터 배수될 수 있다. 즉, 냉각수와 같은 유체가 제2 도관(296)을 통해 순환될 수 있다.
다음으로, 본 실시예에 따른 처치 시스템(10)의 기능이 설명될 것이다.
처치 목표의 생체 조직이 본체측 유지부(222)와 탈착 가능측 유지부(224) 사이에 유지된다. 이때, 처치 목표의 생체 조직은 제1 고주파 전극(254) 및 제2 고주파 전극(274)과 접촉하게 된다. 처치 목표의 생체 조직의 주변 조직이 본체측 유지부(222) 및 탈착 가능측 유지부(224)의 모서리부(258, 278)와 제1 및 제2 도관(292, 296)과 밀접 접촉하게 된다.
이러한 상태에서, 발 스위치 및 손 스위치가 조작된다. 에너지원(14)이 케이블(28)을 거쳐 제1 고주파 전극(254) 및 제2 고주파 전극(274)에 각각 에너지를 공급한다. 또한, 냉각수가 제1 및 제2 도관(292, 296)을 통해 순환된다. 결과적으로, 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이의 생체 조직이 가열된다.
이때, 유체가 생체 조직의 가열된 부분으로부터 발생된다. 생체 조직으로부터 발생된 유체는 각각 전극(254, 274)의 관통 구멍(254a, 274a)을 거쳐 유체 토출 홈(256, 276)에 도달한다.
또한, 유체 토출 홈(256)에 도달한 유체는 절단기(174) 및 절단기용 푸셔(244)를 구비한 제1 유체 유동 경로(246a)를 통해 핸들(202)측을 향해 통과하여, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출된다. 한편, 유체 토출 홈(276)에 도달한 유체는 유체 토출 경로(280) 및 제2 유체 유동 경로(246b)를 통해 핸들(202)측을 향해 통과하여, 전기-수술 장치(12c)로부터 토출된다.
처치 목표의 생체 조직이 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이의 열 전도에 의해 가열될 때, 열 확산이 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로 발생한다. 이러한 현상은 생체 조직 내에서 발생한다. 그러므로, 생체 조직이 모서리부(258, 278)와 밀접 접촉하더라도, 열은 모서리부(258, 278)를 넘어 외측으로 확산한다. 이때, 냉각용 유체가 모서리부(258, 278) 외부에 배열된 제1 및 제2 도관(292, 296)을 통과한다. 그러므로, 높은 열 전도성을 갖는 제1 및 제2 도관(292, 296)과 밀접 접촉하는 생체 조직의 부분이 냉각된다. 그러므로, 제1 고주파 전극(254)과 제2 고주파 전극(274) 사이의 공간으로부터의 열 확산의 영향이 제1 및 제2 도관(292, 296)과 밀접 접촉하는 부분에서 억제된다.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 다음의 효과가 얻어진다.
제19 실시예의 설명이 본 실시예에 적용된다.
냉각용 유체가 처치 중에, 각각 모서리부(258, 278) 외부에 배열된 제1 및 제2 도관(292, 296)을 통과하므로, 제1 및 제2 도관(292, 296)과 밀접 접촉하는 생체 조직이 냉각될 수 있다. 그러므로, 처치 목표의 생체 조직으로부터 주변 생체 조직으로의 열 확산의 영향이 제1 및 제2 도관(292, 296)과 접촉하는 부분에서 억제될 수 있다. 그러므로, 목표 조직 이외의 주변 조직이 생체 조직의 처치 중에 고주파 전류가 전도된 부분으로부터의 열 확산에 의해 영향을 받는 것이 방지될 수 있다.
그러므로, 유체는 유지 섹션(206)으로부터의 누출이 방지된다. 또한, 열 확산은 처치 목표의 주변 조직이 처치에 의해 영향을 받는 것을 방지하도록 억제될 수 있다. 즉, 생체 조직의 처치 중에 영향을 받는 위치는 모서리부(258, 278)로부터 내측에 배치된 생체 조직으로 제한될 수 있다.
도시되지는 않았지만, 제1 도관(292) 및 제2 도관(296)과 접촉하는 냉각판이 제6 실시예에서 설명된 바와 같이 배열될 수 있다는 것을 알아야 한다. 결과적으로, 본체측 유지부(222) 및 탈착 가능측 유지부(224) 외부에 배치된 생체 조직은 열적으로 영향을 받는 것이 더 확실하게 방지될 수 있다.
또한, 전술한 제1 내지 제21 실시예에서, 고주파 전극들의 사용이 주로 설명되었다. 고주파 전극들 대신에, 초음파 진동기가 사용될 수 있다. 이러한 경우에, 예를 들어, 평판형, 환형 또는 스폿형 초음파 진동기가 초음파 진동될 때, 초음파 진동기의 표면과 접촉하는 생체 조직이 초음파 처치를 받을 수 있다.
또한, 가열기 요소(도시되지 않음)가 제2 유지부(54)에 가까운 제1 유지부(52)의 본체(62)의 표면 상에 배치되어, 유사하게 처치를 수행할 수 있다.
추가의 장점 및 변형예가 본 기술 분야의 통상의 기술자에게 자명할 것이다. 그러므로, 본 발명은 그의 더 광범위한 태양에서, 본원에서 도시되고 설명된 구체적인 상세 및 대표적인 실시예로 제한되지 않는다. 따라서, 다양한 변형예가 첨부된 청구의 범위 및 그의 등가물에 의해 한정되는 본 발명의 개념의 사상 또는 범주로부터 벗어남이 없이 이루어질 수 있다.

Claims (27)

  1. 생체 조직에 에너지를 인가하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c)로서,
    상기 생체 조직을 유지하는 유지 섹션(26; 206)을 포함하고,
    상기 유지 섹션은,
    서로에 대해 상대적으로 이동하는 제1 및 제2 절연 유지부(52, 54; 222, 224);
    상기 제1 유지부 및 상기 제2 유지부 중 적어도 하나 상에 배치되며, 에너지원과 연결된 출력부(56, 58; 126; 136; 144; 166, 168; 194, 196; 254, 274; 286) - 상기 출력부는, 상기 생체 조직이 상기 제1 유지부와 상기 제2 유지부 사이에 유지될 때에 상기 에너지원으로부터 공급된 에너지에 의해 상기 생체 조직으로부터 기체 및/또는 체액을 포함한 유체를 발생시키도록 구성됨 -; 및
    상기 제1 및 제2 유지부 중 적어도 하나 내에서 상기 출력부를 구비한 상기 유지부 상에 배치된 제1 채널(84a, 84b; 112a, 112b, 114; 126a; 128a; 128b; 136a; 148a, 152; 166b, 168b; 182a, 182b; 184a, 184b; 246a, 256; 246b, 276, 280; 286a) - 상기 제1 채널은, 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체가 상기 제1 채널에 도달할 수 있게 하도록 구성됨 -
    을 포함하며,
    상기 제1 채널은 상기 출력부에 배치되는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 채널은, 상기 제1 유지부와 상기 제2 유지부 사이에 유지되는 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체를 담는 오목부(84a, 84b; 112a, 112b; 122, 126a, 128a, 128b; 132, 136a; 148a; 166b, 168b; 182a, 182b, 184a, 184b)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b).
  3. 제1항에 있어서,
    상기 출력부는, 상기 에너지원으로부터 공급된 에너지를 방출하는 복수의 에너지 방출부(126; 136; 144; 166, 168; 286)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 채널(148a)은 상기 에너지 방출부들(144)의 외부에 배치되는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b).
  5. 제3항에 있어서,
    상기 제1 채널(84a, 84b; 112a, 112b, 114; 126a; 128a; 128b; 136a; 148a, 152; 166b, 168b; 182a, 182b; 184a, 184b; 246a, 256; 246b, 276, 280; 286a)은 상기 에너지 방출부들(126; 136; 144; 166, 168; 286)의 외측 모서리들로부터 내측으로 배치되는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 유지부들(52, 54; 222, 224) 중 적어도 하나 내에서 상기 출력부(56; 136; 144; 254; 274)를 구비한 상기 유지부는 상기 출력부의 상기 제1 채널의 외부에 모서리부(82a, 82b; 134; 148; 258; 278; 284)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  7. 제6항에 있어서,
    상기 출력부는 상기 생체 조직과 접촉하는 표면을 포함하며,
    상기 모서리부(82a, 82b; 124; 134; 148; 258; 278; 284)는 상기 출력부의 표면보다 더 큰 높이로 형성된 장벽부를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  8. 제6항에 있어서,
    상기 유지부들 중 적어도 하나의 상기 출력부(56; 136; 144; 254; 274)는 상기 에너지원으로부터 공급된 에너지를 방출하는 복수의 에너지 방출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 유지부 중 적어도 하나 내에서 상기 출력부를 구비한 상기 유지부는, 상기 생체 조직을 냉각시키기 위한 유체를 통과시키는 제2 채널(98; 156; 162a, 162b; 292, 296)을 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  10. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 유지부(52, 54; 222, 224) 중 적어도 하나 상에 배치되며, 상기 유지 섹션에 의해 유지된 상기 생체 조직을 보조적으로 처치하는 보조 처치 장치(174; 242); 및
    상기 제1 및 제2 유지부에 배치되고, 상기 보조 처치 장치를 안내하며(guide), 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체를 담는 안내 홈들(guide grooves)(182a, 182b, 184a, 184b; 246a)
    을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  11. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 유지부(52; 54) 중 적어도 하나 상에 배치되며, 상기 유지 섹션에 의해 유지된 상기 생체 조직을 보조적으로 처치하는 보조 처치 장치(174); 및
    상기 제1 및 제2 유지부 및 상기 출력부(56, 58)에 배치되고, 상기 보조 처치 장치를 안내하며, 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체를 담는 안내 홈들(182a, 182b, 184a, 184b)
    을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b).
  12. 제1항에 있어서,
    상기 제1 채널(114; 126a; 136a; 286a)은 상기 출력부(56; 126; 136; 286)를 통해 연장되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  13. 제12항에 있어서,
    상기 출력부(56; 126; 136; 286)는 상기 생체 조직과 접촉하는 표면을 포함하고,
    모서리부(124; 134; 284)가 상기 출력부의 외부에 배치되며,
    상기 모서리부는 상기 출력부의 상기 표면보다 더 큰 높이로 형성된 장벽부를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  14. 제1항에 있어서,
    상기 출력부는 고주파 전극(56, 58; 126; 136; 144; 166, 168; 254; 274; 286)인 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b; 12c).
  15. 제1항에 있어서,
    상기 출력부(194, 196) 자체가 열을 갖는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12; 12a; 12b).
  16. 제1항에 있어서,
    상기 제1 유지부(222)는, 말단 단부에 상기 출력부(254)가 배치된 원통형 부재(232), 및 상기 원통형 부재 내에 배치된 프레임(234)을 포함하며,
    상기 제1 채널(246a)은 상기 원통형 부재와 상기 프레임 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12c).
  17. 제16항에 있어서,
    상기 제1 채널(246a)에 배치되며, 상기 유지 섹션(26)에 의해 유지된 상기 생체 조직을 보조적으로 처치하는 보조 처치 장치(242)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12c).
  18. 제1항에 있어서,
    상기 제1 유지부(222)는, 원통형 부재(232)와, 상기 원통형 부재 내에 배치되며 상기 원통형 부재에 대해 상대적으로 이동되는 전도 파이프(236)를 포함하고,
    상기 제2 유지부(224)는, 상기 출력부(274)를 구비한 헤드부(264)와, 상기 헤드부를 상기 전도 파이프에 연결하는 전도 샤프트(conducting shaft)(262)를 포함하며,
    상기 제1 채널(246b, 280)은 상기 헤드부, 상기 전도 샤프트 및 상기 전도 파이프에 배치되는 것을 특징으로 하는 처치 장치(12c).
  19. 제1항에 있어서,
    상기 제1 채널은, 상기 유지부들 사이에 유지되는 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체를 통과시키는 도관(112b, 114; 126a, 128a, 128b; 136a; 246a, 246b, 256, 276, 280)을 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 유지부들은, 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체가 상기 유지부들로부터 상기 도관으로 토출되는(discharged) 개방부(112b, 114; 126a; 136a; 166b, 168b; 246a, 246b, 256, 276, 286a)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치.
  21. 제1항에 있어서,
    상기 유지부들은, 상기 생체 조직으로부터 발생된 상기 유체가 상기 유지부들로부터 상기 제1 채널로 토출되는 개방부(84a; 114; 126a; 136a; 148a; 166b, 168b; 182a, 184a; 256; 276; 286a)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치.
  22. 제1항에 있어서,
    상기 유지부(26; 206)에 배치되고, 상기 출력부(56, 58; 126; 136; 144; 166, 168; 194; 196; 254; 274; 286)의 외부에 배치되며, 제2 채널을 통해 냉각 매체를 통과시키는 상기 제2 채널(98; 156; 162a, 162b, 164; 292, 296)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 장치.
  23. 처치를 수행하기 위해 생체 조직에 에너지를 인가하는 처치 시스템(10)으로서,
    에너지를 공급하는 에너지원(14);
    제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 따른 처치 장치
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처치 시스템(10).
  24. 삭제
  25. 삭제
  26. 삭제
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