KR101150371B1 - 가스 차단부재를 포함하는 광휘소둔로 - Google Patents

Abstract

본 발명은 스트립을 광휘소둔처리하는 광휘소둔로를 제공한다. 본 발명에 의하면, 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부의 전방에는 스트립 반입부가 배치되고, 후방에는 스트립 반출부가 배치된다. 스트립 반입부 및 스트립 반출부에 형성된 이송통로에는 공정처리부의 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이기 위한 제1차단부재가 공정처리부를 향하는 방향으로 경사지게 설치된다. 또한, 상기 이송통로에는 외부공기가 이송통로로 유입되는 것을 줄이기 위한 제2차단부재가 상기 제1차단부재와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공된다. 이에 의하여, 분위기 가스의 유출 및 외부공기의 유입이 효과적으로 차단되며, 분위기 가스가 안정적으로 유지되는 상태에서 광휘소둔이 수행될 수 있다.

광휘소둔, 스트립, 분위기 가스, 외부공기, 차단, 열처리

Description

가스 차단부재를 포함하는 광휘소둔로{BRIGHT ANNEALIN GFURNACE INCLUDING GAS BLOCKING MEMBER}

본 발명은 스트립을 광휘소둔처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가스의 유출을 차단하는 차단부재를 갖는 광휘소둔로에 관한 것이다.

일반적으로 광휘소둔(BRIGHT ANNEALIN)는 냉간 압연된 스트립(STRIP)을 소재로 강 표면에 산화탈탄을 막고 금속적 광택을 잃지 않도록 환원성이나 비산화성 가스의 기류 내에서 소둔을 행하고, 소둔 후에 그대로 냉각하는 것으로, 냉각 후 강 표면의 광택이 상실되지 않고 처음 그대로 유지되는 특성이 있다.

광휘소둔은 열처리 중에 발생하는 산화와 광택도 저하를 방지하기 위해 환원성 분위기 가스인 수소가스를 사용한다. 수소가스는 분자크기가 작고, 고온에서 분자 움직임이 활발하기 때문에 광휘소둔로에서 쉽게 유출되는 문제가 있다. 분위기 가스의 유출을 방지하기 위해 종래의 광휘소둔로는 스트립의 반입 및 반출되는 위치에 진공로를 설치하거나, 스트립이 이송되는 통로를 차단하는 차단도어를 설치하였다.

그러나, 진공로 또는 차단도어는 수소가스의 유출을 효과적으로 막지못해 광 휘소둔공정에서 많은 양의 수소가스가 소모되는 문제가 있다. 또한, 차단도어의 경우, 이송되는 스트립과 직접 접촉하게 되므로, 스트립에 스크레치(SCRATCH)가 발생되는 문제가 있다.

본 발명의 목적은 가스의 소모량을 줄일 수 있는 광휘소둔로를 제공한다.

본 발명의 목적은 외부공기의 유입을 효과적으로 차단할 수 있는 광휘소둔로를 제공한다.

본 발명의 목적은 분위기 가스를 안정적으로 유지할 수 있는 광휘소둔로를 제공한다.

본 발명은 안전한 광휘소둔을 수행할 수 있는 광휘소둔로를 제공한다.

본 발명의 목적은 금속성 광택이 우수한 스트립을 생산할 수 있는 광휘소둔로 및 광휘소둔방법을 제공한다.

본 발명은 스트립을 광휘소둔처리하는 광휘소둔로를 제공한다. 본 발명의 실시예에 의하면, 광휘소둔로는 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및 상기 공정처리부의 전방에 배치되고 상기 공정처리부로 상기 스트립을 반입시키는 스트립 반입부를 포함하되, 상기 스트립 반입부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하며, 상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재가 설치되는 것을 특징으로 한다.

다른 실시예에 의하면, 광휘소둔로는 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및 상기 공정처리부의 후방에 배치되며, 상기 공정처리부로부터 상기 스트립을 반출시키는 스트립 반출부를 포함하되, 상기 스트립 반출부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하며, 상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재가 설치되는 것을 특징으로 한다.

상기 제1차단부재는 상기 이송통로의 내부에 설치되며, 상기 이송통로의 내벽으로부터 멀어질수록 상기 공급처리부를 향하는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트를 포함한다.

상기 제1차단부재는 이송통로를 제공하는 벽에서 이송 통로의 안쪽으로 갈수록 상기 공정처리부를 향하는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.

상기 제1차단부재는 상기 이송통로에 배치되며, 상기 이송통로보다 좁은 개구를 가지며, 상기 개구로부터 멀어질수록 상기 공정처리부와 멀어지도록 경사지어진 플레이트를 포함한다.

상기 제1차단부재는 상기 이송통로내 상부에 설치되는 상부유출차단판; 및

상기 이송통로내 하부에 설치되는 하부유출차단판을 포함하되, 상기 개구는 상기 이송통로의 안쪽에 위치하는 상기 상부유출차단판의 끝단 및 그와 이격된 상기 하부유출차단판의 끝단간의 간격에 의해 형성된다.

상기 제1차단부재는 직사각의 판형상으로 상기 이송통로의 내벽에 고정설치되는 고정단, 상기 통로 내에 위치하는 자유단을 가지며, 상기 자유단은 상기 고정단에 비하여 상기 공정처리부에 가깝게 제공되는 것을 특징으로 한다.

상기 제1차단부재는 상기 가스가 상기 제1차단부재를 따라 상기 이송통로의 내벽으로 이동되도록 경사지되, 상기 이송통로의 내벽에 설치되는 일단에서부터, 타단으로 갈수록 상기 공정처리부와 가까워지는 것을 특징으로 한다.

상기 플레이트의 일단은 상기 벽에 접촉되도록 설치된다. 상기 플레이트는 상기 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능한 것을 특징으로 한다.

상기 제1차단부재는 상기 이송통로내 상부에 설치되는 상부유출차단판; 및 상기 이송통로내 하부에 설치되며, 상기 이송통로의 길이방향 중심을 지나는 선을 기준으로 상기 상부유출차단판과 대칭되도록 배치되는 하부유출차단판을 포함한다.

상기 제1차단부재는 상기 이송통로의 길이방향을 따라 복수개 제공되며, 서로 나란하도록 배치되는 것을 특징으로 한다.

상기 제1차단부재를 기준으로 상기 공정처리부의 반대쪽에 위치되도록 상기 이송통로에 설치되며, 외부공기가 상기 이송통로로 유입되는 것을 줄이도록 제공되는 제2차단부재를 포함하되, 상기 제2차단부재는 상기 이송통로를 제공하는 벽에서 상기 이송 통로의 안쪽으로 갈수록 상기 제1차단부재와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트를 포함한다.

상기 제1차단부재와 상기 공정처리부간의 간격보다 더 큰 간격을 갖도록 상기 이송통로에 설치되며, 외부공기가 상기 이송통로로 유입되는 것을 줄이도록 제공되는 제2차단부재를 포함하되, 상기 제2차단부재는 상기 이송통로보다 좁은 개구를 가지며, 상기 개구로부터 멀어질수록 상기 공정처리부와 가까워지도록 경사지게 제공되는 플레이트를 포함한다. 상기 플레이트의 일단은 상기 벽에 접촉되도록 설 치되며, 상기 제2플레이트는 상기 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능한 것을 특징으로 한다.

상기 제2차단부재는 상기 이송통로의 상부에 설치되는 상부유입차단판; 및

상기 이송통로의 하부에 설치되며, 상기 상부유출차단판과 나란하게 배치되는 하부유입차단판을 포함한다. 상기 제2차단부재는 상기 이송통로의 길이방향을 따라 복수개 제공되며, 서로 나란하도록 배치되는 것을 특징으로 한다.

상기 공정처리부와 상기 제1차단부재 사이에 배치되고, 상기 이송통로를 차단하는 차단도어를 더 포함한다.

상기 공정 처리부는 상기 스트립에 복사열을 제공하여 가열하는 가열로; 및 상기 가열로의 후방에 배치되며, 가열된 상기 스트립을 냉각하는 냉각처리부를 포함하되,상기 가열로는 상기 스트립을 상기 공정처리부의 길이방향을 따라 이동시키는 스트립 이송부; 및 상기 스트립 이송부의 상부 및 하부에 각각 배치되며, 상기 스트립으로 복사열을 제공하여 가열시키는 버너 노즐부를 포함한다.

본 발명에 의하면, 분위기 가스의 유출을 효과적으로 차단하여 가스의 소모량을 줄일 수 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 광휘소둔내로 외부공기의 유입을 효과적으로 차단할 수 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 가스 유출이 효과적으로 차단되므로, 안정적으로 분위기 가스를 유지하면서 광휘소둔을 수행할 수 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 금속성 광택이 우수한 스트립을 생산할 수 있다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 6을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.

도 1는 본 발명의 실시예에 따른 광휘소둔로를 나타내는 단면도이다.

도 1를 참조하면, 광휘소둔로(10)는 공정처리부(200)의 전방에 배치되고 스트립(srtip, S)을 공정처리부(200)로 반입시키는 스트립 반입부(100), 내부공간을 가지며, 내부공간으로 이송되는 스트립의 열처리를 수행하는 공정처리부(200), 그리고 공정처리부(200)의 후방에 배치되며, 공정처리부(200)로부터 스트립(S)을 반출시키는 스트립 반출부(500)를 포함한다. 공정처리부(200)는 복사열을 제공하여 스트립(S)을 가열하는 가열로(300), 가열된 스트립(S)을 냉각하는 냉각처리부(400)를 포함한다. 이하, 각 구성에 대하여 상세히 설명한다.

도 2a는 스트립 반입부의 구성을 간략하게 나타내는 단면도이고, 도 2b는 스트립 반입부의 개구를 나타내는 사시도이고, 도 2c는 분위기 가스의 이동경로를 나타내는 도면이고 도 2d는 외부 공기의 이동경로를 나타내는 도면이다.

도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 스트립 반입부(100)는 공정처리부(200)의 전 방에 배치되며, 스트립(S)을 권취하는 권취부(미도시)로부터 스트립(S)을 제공받아 공정처리부(200)로 스트립(S)을 반입시킨다. 스트립 반입부(100)는 이송통로(111)가 형성된 반입 몸체(110) 및 반입 몸체(110)를 지지하는 지지 프레임(140)을 포함한다.

반입 몸체(110)는 그 길이방향으로 스트립(S)이 이송되는 이송통로(111)가 형성되며, 이송통로(111)는 공정처리부(200)의 내부공간과 연결된다. 실시예에 의하면, 이송통로(111)는 이송되는 스트립(S)의 폭보다 큰 폭을 갖지며, 단면이 직사각형으로 형상된 통로로 제공된다. 이송통로(111)는 반입 몸체(110)의 길이방향을 따라 이송통로(111)의 높이를 달리한다. 구체적으로, 후설하는 차단부재(120)가 설치되는 위치에서의 이송통로(111a)의 높이는 샤프트(112)가 설치되는 위치에서의 이송통로(111b)의 높이보다 낮게 형성된다. 이송통로(111)는 공정처리부(200)의 내부공간으로부터 분위기 가스가 유출되는 것을 줄이고, 외부공기가 유입되는 것을 줄이기 위하여 가능한 높이를 낮게 하는 것이 바람직하다. 하지만, 스트립(S)을 지지하는 샤프트(112)가 설치되는 공간이 이송통로(111)내에 제공되어야 하므로, 이송통로(111)는 샤프트(112)가 설치되는 위치(111b)에서의 높이가 차단부재(120)가 설치되는 위치(111a)에서의 높이보다 높게 제공되도록 단차진다. 반입 몸체(110)의 양단에는 각각 개구(114a, 114b)가 형성되며, 일단에 형성된 개구(114a)를 통하여 스트립(S)이 이송통로(111)로 반입되고, 타단에 형성된 개구(114b)를 통하여 스트립(S)이 이송통로(111)로부터 반출된다. 스트립(S)이 이송통로(111)로 반입되는 개구(114a)의 외측에는 이송되는 스트립(S)을 안내 지지하는 가이드롤러(113)가 설치 된다. 가이드롤러(113)는 상하방향으로 서로 마주보는 한 쌍의 롤러로 제공되며, 각각 이송되는 스트립(S)의 상면과 하면에 접하도록 설치된다. 이송통로(111)에는 가스와 외부공기의 유입 및 출입을 차단하는 차단부재(120), 및 이송되는 스트립(S)을 지지하는 샤프트(112)가 설치된다.

차단부재(120)는 공정처리부(200)의 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재(121), 외부공기가 이송통로(111)로 유입되는 것을 줄이도록 제공되는 제2차단부재(122), 그리고 이송통로(111)를 차단하는 차단도어(123)를 포함한다.

제1차단부재(121)는 스트립(S)이 반입되는 개구(114a)와 가깝게 이송통로(111)에 배치되며, 공정처리부(200)내에 머무르는 가스가 이송통로(111)를 통하여 외부로 유출되는 경우, 가스의 흐름을 방해하여 가스의 소모량을 감소시킨다. 제1차단부재(120)는 이송통로(111)를 제공하는 벽에서 이송 통로(111)의 안쪽으로 갈수록 공정처리부(200)를 향하는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트를 포함한다. 제1차단부재(121)는 공정처리부(200)를 향하도록 경사지게 제공되므로, 유출되는 가스는 제1차단부재(121)를 따라 이송통로(111)의 내벽으로 이동되고, 내벽과 인접한 공간에서 머무른다.(도 2c참조)

실시예에 의하면, 제1차단부재(121)는 이송통로(111)내 상부에 설치되는 상부유출차단판(121a) 및 이송통로(111)내 하부에 설치되는 하부유출차단판(121b)을 포함한다. 하부유출차단판(121b)은 이송통로(111)의 길이방향 중심을 지나는 선을 기준으로 상부유출차단판(121a)과 대칭되도록 배치된다. 구체적으로, 상부유출차단 판(121a)은 일단이 이송통로(111)의 상벽과 결합되고, 타단이 이송되는 스트립(S)의 상면과 인접하도록 제공된다. 하부유출차단판(121b)은 일단이 이송통로(111)의 하벽과 결합하고, 타단이 스트립(S)의 하면과 인접하도록 제공된다.

다른 실시예에 의하면, 제1차단부재(121)는 이송통로(111)의 길이방향을 따라 복수개 제공되며, 각각의 제1차단부재(121)는 서로 나란하도록 배치된다. 이로 인하여, 플레이트(121)의 끝단과 스트립(S)간의 이격된 공간으로 유출된 가스는 그 후방에 위치하는 플레이트(121)에 의하여 흐름이 방해되고, 후방에 위치한 플레이트(120)를 따라 이송통로(111)의 내벽으로 이동한다. 이와 같이, 유출되는 가스는 제1차단부재(120)에 의해 흐름이 방해되므로 가스의 유출량은 급격히 감소된다.(도 2c참조)

다른 실시예에 의하면, 제1차단부재(121)의 플레이트는 일단이 이송통로(111)의 벽에 접촉되도록 설치되며, 플레이트(121)는 차단부재 구동부(124)의 구동에 의하여 이송통로(111)의 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능하도록 제공된다. 이로 인하여, 공정이 진행되는 동안에는 플레이트(121)가 공정처리부(200)를 향하는 방향으로 경사지게 제공되어 가스의 유출을 방해할 수 있고, 공정이 진행되지 않는 동안에는 이송통로(111)의 길이방향과 나란하도록 플레이트(121)를 회전시켜, 스트립 반입부(100)의 유지 보수를 용이하게 할 수 있다.

제2차단부재(122)는 제1차단부재(121)를 기준으로 공정처리부(200)의 반대쪽에 위치되도록 이송통로(111)에 설치되며, 외부공기가 이송통로를 통하여 공정처리부로 유입되는 경우, 외부공기의 흐름을 방해한다. 제2차단부재(122)는 제1차단부 재(121)와 공정처리부(200)간의 간격보다 더 큰 간격을 갖는다. 제2차단부재(122)는 이송통로(111)를 제공하는 벽에서 이송 통로(111)의 안쪽으로 갈수록 제1차단부재(121)와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트(122)를 포함한다. 제2차단부재(122)는 제1차단부재(121)와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되므로, 유입된 외부공기는 제2차단부재(122)를 따라 이송통로(111)의 내벽으로 이동되며, 내벽과 인접한 공간에서 머무른다.(도 2c참조)

실시예에 의하면, 제2차단부재(122)는 이송통로(111)내 상부에 설치되는 상부유입차단판(122a) 및 이송통로(111)내 하부에 설치되는 하부유입차단판(122b)을 포함한다. 하부유입차단판(122b)은 이송통로(111)의 길이방향 중심을 지나는 선을 중심으로 상부유입차단판(122a)과 대칭되도록 배치된다. 구체적으로, 상부유입차단판(122a)은 일단이 이송통로(111)의 상벽과 결합되고, 타단이 이송되는 스트립(S)의 상면과 인접하도록 제공된다. 하부유입차단판(122b)은 일단이 이송통로(111)의 하벽과 결합하고, 타단이 스트립(S)의 하면과 인접하도록 제공된다.

다른 실시예에 의하면, 제2차단부재(122)는 이송통로(111)의 길이방향을 따라 복수개 제공되며, 각각의 제2차단부재(122)는 서로 나란하도록 배치된다. 이로 인하여, 제2차단부재(122)의 끝단과 스트립(S)간의 이격된 공간으로 유출된 가스는 그 후방에 위치하는 제2차단부재(122)에 의하여 흐름이 방해되며, 후방에 위치한 제2차단부재(122)를 따라 이송통로(111)의 내벽으로 이동된다. 이와 같이, 이송통로(111)로 유입된 외부공기는 제2차단부재(122)에 의해 흐름이 방해되므로 유입되는 외부공기량은 급격히 감소한다.(도 2c참조)

다른 실시예에 의하면, 제2차단부재(122)의 플레이트는 일단이 이송통로의 벽에 접촉되도록 설치되며, 플레이트(122)는 차단부재 구동부(124)의 구동에 의하여 이송통로(111)의 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능하도록 제공된다. 이로 인하여, 공정이 진행되는 동안에는 플레이트(122)가 제1차단부재(121)와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되어 외부공기의 유입을 줄일 수 있으며, 공정이 진행되지 않는 동안에는 이송통로(111)의 길이방향과 나란하도록 플레이트(121)를 회전시켜, 스트립 반입부(100)의 유지 보수를 용이하게 할 수 있다.

차단도어(123)는 공정처리부(200)와 제1차단부재(121) 사이에 배치되고, 이송통로(111)를 차단한다. 구체적으로, 차단도어(123)는 낮은 높이를 갖는 이송통로상(111a)에 단차지는 영역과 인접하도록 설치된다. 차단도어(123)는 이송통로(111)의 폭에 대응하는 너비를 갖는 직사각의 판형상으로, 이송통로(111)의 길이방향에 수직하게 배치된다. 차단도어(123)의 상단에는 차단도어(123)와 차단도어 구동부(126)를 연결하는 링크부재(125)가 수직방향으로 구비된다. 링크부재(125)는 차단도어 구동부(126)의 구동에 의하여 차단도어(123)를 상하방향으로 구동시켜 이송통로(111)를 개폐한다. 차단도어(123)는 비상정지 또는 기타원인으로 공정 진행을 일시 중단해야 하는 경우, 이송통로(111)를 차단시켜 외부에서 공기 침입을 예방한다. 차단도어(123)의 하부는 스트립(S)과 접촉하더라도 스트립(S)의 표면에 흠이 발생되지 않도록 흑연 또는 흑연펠트로 이루어진다.

샤프트(112)는 이송통로(111)를 통하여 이송되는 스트립(S)을 지지한다. 샤프트(112)는 이송통로(111)의 폭방향으로 설치되며, 구동부(미도시)에 의하여 회전 가능하도록 제공된다. 샤프트(112)는 상대적으로 높이가 높게 제공되는 이송통로(111b)상에 설치되며, 필요에 따라 하나 또는 복수개 제공될 수 있다.

지지프레임(140)은 반입 몸체(110)의 하부에 제공되며 반입 몸체(110)를 지지한다. 지지프레임(140)은 수직하게 제공되며 반입 몸체(110)의 하단과 결합하는 복수개의 수직 로드(141) 및 수직로드(141)의 하단과 결합하는 지지 플레이트(142)를 포함한다. 지지 프레임(140)은 설치된 가이드 레일(152)을 따라 이동가능하도록 제공된다.

다시 도 1를 참조하면, 공정처리부(200)는 내부공간을 가지며, 내부공간으로 이송되는 스트립(S)의 열처리를 수행한다. 공정처리부(200)는 이송되는 스트립(S)에 복사열을 제공하여 스트립(S) 가열하는 가열로(300), 가열로(300)의 후방에 배치되며 가열된 스크립(S)을 냉각하는 냉각처리부(400)를 포함한다. 이하 각 구성에 대해 상세히 설명한다.

도 3a는 본 발명의 가열로를 나타내는 평면도이고, 도 3b는 본 발명의 가열로를 나타내는 정단면도이고, 도 3c는 본 발명의 가열로를 나타내는 측단면도이다.

도 3a 내지 3c를 참조하면, 가열로(300)는 반입된 스트립(S)을 그 길이방향으로 이송하며, 복사열을 제공하여 스트립(S)을 가열한다. 가열로(S)는 몸체(310), 스트립 이송부(320), 버너 노즐부(330), 그리고 온도 센서(350)를 포함한다.

몸체(310)는 그 길이방향으로 내부공간(311)을 갖는다. 내부공간(311)은 스트립 반입부(100)의 이송통로(111) 및 후설하는 제1냉각로(410)의 내부공간(411)과 연결된다. 몸체(310)는 그 길이방향을 따라 배치되며 지면에 수직한 제1측 벽(310a), 제1측벽(310a)과 마주보도록 배치되는 제2측벽(310b), 제1, 2측벽(310a, 310b)에 수직하며 스트립(S)이 반입되는 제3측벽(310c), 제3측벽(310c)과 마주보도록 배치되며 스트립(S)이 반출되는 제4측벽(310d), 제1 내지 4측벽(310a~310d)의 상단에 배치되며, 지면과 나란한 상부벽(310e), 그리고 상부벽(310e)과 마주보도록 배치되는 하부벽(310f)을 포함한다. 제1 내지 4 측벽(310a~310d) 및 상?하부벽(310e, 310f)의 내측에는 후술하는 버너 노즐부(330)에서 제공된 복사열이 내부공간(311)으로부터 방출되는 것을 억제하는 단열블럭(313)이 구비된다. 내부공간(311)에는 수소(H₂)와 질소(N₂)가 일정한 비율로 혼합된 환원성 분위기 가스가 제공된다. 몸체(310)의 길이방향 양단에는 스트립(S)이 반입 및 반출되는 개구(312a, 312b)가 각각 형성된다.

스트립 이송부(320)는 내부공간(311)에 구비되며, 내부공간(311)에 반입된 스트립(S)을 몸체(310)의 길이방향을 따라 이동시킨다. 스트립 이송부(320)는 서로 이격하여 배치되며 스트립(S)을 지지하는 샤프트(321)들을 포함한다. 샤프트(321)는 이송도중 스트립(S)의 처짐현상을 방지하기 위하여 몸체(310)의 양단에 형성된 개구들(312a, 312b)과 동일 높이에 설치된다. 각각의 샤프트(321)들은 하부 노즐(335)에서 제공되는 복사열이 샤프트(321)들에 의해 차단되지 않고 스트립(S)으로 충분히 전달될 수 있도록 후설하는 안전부재(340)의 상단에 대응되도록 배치된다. 각각의 샤프트(321)들은 샤프트 구동부(322)의 구동에 의하여 그 길이방향의 중심을 지나는 선을 축으로 회전가능하도록 제공된다.

버너 노즐부(330)는 이송되는 스트립(S)으로 복사열을 제공하여 스트립(S)을 가열시킨다. 버너 노즐부(330)는 그 길이방향이 몸체(310)의 길이방향과 상이하도록 몸체(310)의 내부공간(311)에 제공된는 복수개의 버너(331, 335)들을 포함한다. 바람직하게, 각각의 버너들(331, 335)은 그 길이방향이 몸체(310)의 길이방향과 수직하도록 제공된다. 각각의 버너들(331, 335)은 버너 바디(332), 라디언트 튜브(radiant tube, 333)를 포함한다. 버너 바디(332)의 일단에는 스파크(spark)를 발생시키는 점화장치(334)가 구비되어 연소가스의 점화를 수행한다. 라디언트 튜브(333)는 버너 바디(332)를 감싸며 그 내부에 연소가스의 연소가 일어나는 연소공간을 갖는다. 라디언트 튜브(333)는 내부공간(331)에 구비되며, 연소공간과 내부공간(311)을 분리한다. 라디언트 튜브(333)는 세라믹 재질로 이루어진다. 버너 바디(332)에는 연소가스를 제공하는 연소가스공급관(미도시)이 그 길이방향으로 삽입된다. 연소공간으로 공급된 연소가스는 점화장치(334)에서 발생한 스파크에 의해 연소된다. 연소가스의 연소에 의해 발생 된 복사열은 스트립(S)으로 제공된다. 버너 노즐부(330)는 내부공간(311)내 상부에 구비되는 상부 버너(331)들 및 내부공간내 하부에 구비되는 하부 버너(335)들을 포함한다.

상부 버너(331)들은 몸체(310)의 길이방향을 따라 서로 이격하여 스트립 이송부(320)의 상부에 구비되며, 스트립(S)의 상면으로 복사열을 제공한다. 상부 버너(331)들은 제1측벽(310a)을 관통하여 내부공간(311)으로 제공된다. 각각의 상부 버너(331)들은 내부공간(311) 내에서 그 끝단이 제2측벽(310b)에 인접하도록 제공된다. 각각의 상부 버너(331)들은 그 끝단이 막혀있다.

하부 버너(335)들은 몸체(310)의 길이방향을 따라 서로 이격하여 스트립 이송부(320)의 하부에 구비되며, 스트립(S)의 하면으로 복사열을 제공한다. 하부 버너(335)들은 제2측벽(310b)을 관통하여 내부공간(311)으로 제공된다. 각각의 하부 버너(335)들은 내부공간(311) 내에서 그 끝단이 제1측벽(310a)에 인접하도록 제공된다. 각각의 하부 버너(335)들은 그 끝단이 막혀있다.

안전부재(340)는 내부공간(311)의 폭에 대응하는 너비를 갖는 사각기둥형상으로 내부공간(311)내에 제공된다. 구체적으로 안전부재(340)는 인접하는 하부 버너(335)들 사이에 각각 배치되며, 내부공간(311) 내의 하부로부터 수직방향으로 설치된다. 안전부재(340)는 그 상단이 하버 버너(335)들의 상단보다 높게 제공된다. 스트립(S)은 표면에 묻은 이물질로 인하여 이송 과정에서 쏠림현상이 발생할 수 있다. 이물질로 인하여, 스트립(S)이 일측으로 쏠려 스트립(S)의 에지부가 주변 장치와 접촉되면 스트립(S)은 파단될 수 있다. 스트립(S)이 내부공간(311)에서 파단되는 경우, 파단된 끝단은 그 무게에 의하여 처짐현상이 발생하며, 하부 버너(335)를 파손시키는 원인이 된다. 본 발명은 인접하는 하부 버너(335)들 사이에 안전부재(340)가 각각 배치되고, 안전부재(340)의 상단이 하부 버너(335)들의 상단보다 높게 제공되므로, 스트립(S)이 이송중 파단되더라도 파단된 끝단은 하부 버너(335)와 충돌하지 않고 안전부재(340)의 상단에 의해 지지되어 하부노즐(335)의 파손을 예방한다.

온도센서(350)는 버너 노즐부(330)에 의해 발생되는 복사열의 온도를 측정한다. 온도센서(350)는 상부벽(310e)을 관통하여 내부공간(311)으로 제공되며, 센 서(351)가 상부 노즐(331)과 스트립(S) 사이의 공간에 위치한다. 온도센서(350)는 몸체(310)의 길이방향을 따라 서로 이격하여 복수개 구비될 수 있다.

도 4는 본 발명의 냉각처리부를 나타내는 단면도이다.

도 4를 참조하면, 냉각처리부(400)는 가열로(300)의 후방, 즉 가열로(300)와 스트립 반출부(500) 사이에 배치되며 가열된 스트립(S)을 냉각시킨다. 냉각처리부(400)는 제1냉각로(410)와 제2냉각로(420)를 포함한다. 제1냉각로(410)는 가열로(300)의 후방에 배치되며 가열된 스트립(S)을 1차 냉각시킨다. 제2냉각로(420)는 제1냉각로(410)와 스트립 반출부(500) 사이에 배치되며, 1차 냉각된 스트립(S)을 2차 냉각시킨다. 제1,2냉각로(410,420)에는 상호간에 연결되는 내부공간(411,421)이 각각 형성되며, 제1,2냉각로(410,420)의 내부공간(411,421)은 가열로(300)의 내부공간(311) 및 스트립 반출부(500)의 이송통로(511)와 연결된다. 스트립(S)은 가열로(300)의 내부공간(311) 및 제1,2냉각로(410,420)의 내부공간(411,421)으로 이송되면서 열처리된다. 제1냉각로(410)의 내부공간(411)에는 가열된 스트립(S)을 550℃까지 냉각시킬 수 있는 제1냉각부재(412)가 설치된다. 제2냉각로(420)의 내부공간(421)에는 1차 냉각된 스트립(S)을 70℃까지 냉각시킬 수 있는 제2냉각부재(422)가 설치된다.

도 5a는 스트립 반입부의 구성을 간략하게 나타내는 단면도이고, 도 5b는 스트립 반출부의 개구를 나타내는 사시도이다.

도 5a 내지 5b를 참조하면, 스트립 반출부(500)는 공정처리부(200)의 후방에 배치되고 공정처리부(200)로부터 이송된 스트립(S)이 권취부(미도시)에 권취되도록 스트립(S)을 반출시킨다. 스트립 반출부(S)는 이송통로(511)가 형성된 반출 몸체(510) 및 반출 몸체(510)를 지지하는 지지 프레임(540)을 포함한다.

반출 몸체(510)는 그 길이방향으로 스트립(S)이 이송되는 이송통로(511)가 형성되며, 이송통로(511)는 공정처리부(200)의 내부공간과 연결된다. 실시예에 의하면, 이송통로(511)는 이송되는 스트립(S)의 폭보다 큰 폭을 가지며, 단면이 직사각형으로 형상된 통로로 제공된다. 이송통로(511)는 스트립 반입부(100)의 이송통로(111)와 동일한 이유에서 반출 몸체(510)의 길이방향을 따라 이송통로(511)의 높이를 달리하도록 단차진다. 구체적으로, 차단부재(520)가 설치되는 위치에서의 이송통로(511a)의 높이는 샤프트(512)가 설치되는 위치에서의 이송통로(511b)의 높이보다 낮게 형성된다. 반출 몸체(510)의 양단에는 각각 개구(514a,514b)가 형성되며, 일단에 형성된 개구(514a)를 통하여 공정처리부(200)로부터 스트립(S)이 이송되고, 타단에 형성된 개구(514b)를 통하여 스트립(S)이 반출된다. 스트립(S)이 반출되는 개구(514b)의 외측에는 이송되는 스트립(S)을 안내 지지하는 가이드롤러(513)가 설치된다. 가이드롤러(513)는 상하방향으로 서로 마주보는 한 쌍의 롤러로 제공되며, 반출되는 스트립(S)의 상면 및 하면에 각각 접하도록 설치된다. 이송통로(511)에는 가스 및 외부공기의 유출입을 차단하는 차단부재(520) 및 이송되는 스트립(S)을 지지하는 샤프트(512)가 설치된다.

차단부재(520)는 공정처리부(200)의 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재(521), 외부공기가 이송통로(511)로 유입되는 것을 줄이도록 제공되는 제2차단부재(522), 그리고 이송통로(511)를 차단하는 차단도어(523)를 포 함한다.

제1차단부재(521)는 스트립(S)이 반출되는 개구(514b)와 가깝게 이송통로(511a)에 배치되며, 공정처리부(200)내에 머무르는 가스가 이송통로(511)를 통하여 외부로 유출되는 경우, 가스의 흐름을 방해하여 가스의 소모량을 감소시킨다. 제1차단부재(521)는 이송통로(511)를 제공하는 벽에서 이송 통로(511)의 안쪽으로 갈수록 공정처리부(200)를 향하는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트(521)를 포함한다. 제1차단부재(521)는 공정처리부(200)를 향하도록 경사지게 제공되므로, 유출되는 가스는 제1차단부재(521)를 따라 이송통로의 내벽으로 이동되며, 내벽과 인접한 공간에서 머무른다.

실시예에 의하면, 제1차단부재(521)는 이송통로(511)내 상부에 설치되는 상부유출차단판(521a) 및 이송통로(511)내 하부에 설치되는 하부유출차단판(521b)을 포함한다. 하부유출차단판(521b)은 이송통로(511)의 길이방향 중심을 지나는 선을 중심으로 상부유출차단판(521a)과 대칭되도록 배치된다. 구체적으로, 상부유출차단판(521a)은 일단이 이송통로(511)의 상벽과 결합되고, 타단이 이송되는 스트립(S)의 상면과 인접하도록 제공된다. 하부유출차단판(521b)은 일단이 이송통로(511)의 하벽과 결합하고, 타단이 스트립(S)의 하면과 인접하도록 제공된다.

다른 실시예에 의하면, 제1차단부재(521)는 이송통로(511)의 길이방향을 따라 복수개 제공되며, 각각의 제1차단부재(521)는 서로 나란하도록 배치된다. 이로 인하여, 플레이트(521)의 끝단과 스트립(S)간의 이격된 공간으로 유출된 가스는 그 후방에 위치하는 플레이트(521)에 의하여 흐름이 방해되고, 후방에 위치한 플레이 트(521)를 따라 이송통로(511)의 내벽으로 이동한다. 이와 같이, 유출되는 가스는 제1차단부재(521)에 의해 흐름이 방해되므로 가스의 유출량은 급격히 감소된다.

다른 실시예에 의하면, 제1차단부재(521)의 일단이 이송통로(511)의 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능하도록 제공된다. 이로 인하여, 공정이 진행되는 동안에는 플레이트(521)가 공정처리부(200)를 향하는 방향으로 경사지게 제공되어 가스의 유출을 방해할 수 있고, 공정이 진행되지 않는 동안에는 이송통로(511)의 길이방향과 나란하도록 플레이트(521)를 회전시켜, 스트립 반출부(500)의 유지 보수를 용이하게 할 수 있다.

제2차단부재(522)는 공정처리부(200)로부터 제1차단부재(521)보다 더 이격되어, 제1차단부재(521)와 스트립(S)이 반출되는 개구(514b) 사이의 이송통로(511)에 설치된다. 따라서, 제2차단부재(522)는 제1차단부재(521)와 공정처리부(200)간의 간격보다 더 큰 간격을 갖도록 이송통로(511)에 설치된다. 제2차단부재(522)는 이송통로(511)를 제공하는 벽에서 이송 통로(511)의 안쪽으로 갈수록 제1차단부재(521)와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트(522)를 포함한다. 제2차단부재(522)는 제1차단부재(521)와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되므로, 유입된 외부공기는 제2차단부재(522)를 따라 이송통로(511)의 내벽으로 이동되며, 내벽과 인접한 공간에서 머무른다.

실시예에 의하면, 제2차단부재(522)는 이송통로(511)내 상부에 설치되는 상부유입차단판(522a) 및 이송통로(511)내 하부에 설치되는 하부유입차단판(522b)을 포함한다. 하부유입차단판(522b)은 이송통로(511)의 길이방향 중심을 지나는 선을 중심으로 상부유입차단판(522a)과 대칭되도록 배치된다. 구체적으로, 상부유입차단판(522a)은 일단이 이송통로(511)의 상벽과 결합되고, 타단이 이송되는 스트립(S)의 상면과 인접하도록 제공된다. 하부유입차단판(522b)은 일단이 이송통로(511)의 하벽과 결합하고, 타단이 스트립(S)의 하면과 인접하도록 제공된다.

다른 실시예에 의하면, 제2차단부재(522)는 이송통로(511)의 길이방향을 따라 복수개 제공되며, 각각의 제2차단부재(522)는 서로 나란하도록 배치된다. 이로 인하여, 제2차단부재(522)의 끝단과 스트립(S)간의 이격된 공간으로 유출된 가스는 그 후방에 위치하는 제2차단부재(522)에 의하여 흐름이 방해되며, 후방에 위치한 제2차단부재(522)를 따라 이송통로(511)의 내벽으로 이동된다. 이와 같이, 이송통로(511)로 유입된 외부공기는 제2차단부재(522)에 의해 흐름이 방해되므로 유입되는 외부공기량은 급격히 감소한다.

다른 실시예에 의하면, 제2차단부재(522)의 플레이트는 일단이 이송통로(511)의 벽에 접촉되도록 설치되며, 플레이트(522)는 이송통로(511)의 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능하도록 제공된다. 이로 인하여, 공정이 진행되는 동안에는 플레이트(522)가 제1차단부재(521)와 점점 멀어지는 방향으로 경사지게 제공되어 외부공기의 유입을 줄일 수 있으며, 공정이 진행되지 않는 동안에는 이송통로(511)의 길이방향과 나란하도록 플레이트(522)를 회전시켜, 스트립 반출부(500)의 유지 보수를 용이하게 할 수 있다.

차단도어(523)는 공정처리부(200)와 제1차단부재(521) 사이에 배치되며, 이송통로(511)를 차단한다. 구체적으로, 차단도어(523)는 낮은 높이를 갖는 이송통로 상(511a)에 상이한 높이로 단차지는 영역과 인접하도록 설치된다. 차단도어(523)는 이송통로(511)의 폭에 대응하는 너비를 갖는 직사각의 판형상으로, 이송통로(511)의 길이방향에 수직하게 배치된다. 차단도어(523)의 상단에는 차단도어(523)와 차단도어 구동부(526)를 연결하는 링크부재(525)가 수직방향으로 구비된다. 링크부재(525)는 차단도어 구동부(526)의 구동에 의하여 차단도어(523)를 상하방향으로 구동시켜 이송통로(511)를 차단한다. 차단도어(523)는 비상정지 또는 기타원인으로 공정 진행을 일시 중단해야 하는 경우, 이송통로(511)를 차단시켜 외부에서 공기 침입을 예방한다. 차단도어(523)의 하부는 스트립(S)과 접촉하더라도 스트립(S)의 표면에 흠이 발생되지 않도록 흑연과 흑연펠트로 이루어진다.

샤프트(512)는 이송통로(511)를 통하여 이송되는 스트립(S)을 지지한다. 샤프트(512)는 이송통로(511)의 폭방향으로 설치되며, 구동부(미도시)에 의하여 회전가능하도록 제공된다. 샤프트(512)는 상대적으로 높이가 높게 제공되는 이송통로(511)상에 설치되며, 필요에 따라 하나 또는 복수개 제공될 수 있다.

지지프레임(540)은 반출 몸체(510)의 하부에 제공되며 반출 몸체(510)를 지지한다. 지지프레임(540)은 수직하게 제공되며 반출 몸체(510)의 하단과 결합하는 복수개의 수직 로드(541) 및 수직로드(541)의 하단과 결합하며 수직로드(541)를 지지하는 지지 플레이트(542)를 포함한다. 지지 프레임은 설치된 가이드 레일(552)을 따라 이동가능하도록 제공된다.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 광휘소둔로(10)를 이용하여 광휘소둔방법에 대해 설명하면 다음과 같다.

광휘소둔방법은 가열로(300)의 내부공간(311)으로 이송되는 스트립(S)에 복사열을 제공하여 스트립(S)을 가열하는 가열공정 및 가열된 스트립(S)을 냉각하는 냉각공정을 포함한다.

광휘소둔과정이 일어나는 일련의 과정을 설명하면, 먼저, 권출부(미도시)에 권취된 스트립(S)이 스트립 반입부(100)로 반입되어 이송통로(111)를 통하여 가열로(300)의 내부공간(311)으로 이송되어 가열공정이 진행된다. 도 6을 참조하면, 스트립(S)은 가열로(300)의 내부공간(311)을 통과하는 동안 버너노즐부(330)로부터 복사열을 제공받아 가열된다. 버너 노즐(331,335)들의 연소공간으로 공급된 연소가스의 연소에 의하여 스트립(S)으로 직접 복사열이 제공된다. 스트립(S)은 버너 노즐(331,335)들이 제공되는 공간에 직접 노출되어 이동된다. 이와 같이, 버너 노즐(331,335)들이 제공되는 공간(311)에 스트립(S)이 직접 노출되므로, 버너노즐(331,335)들에서 발생 된 복사열은 직접 스트립(S)으로 전달되어 스트립(S)이 효율적으로 가열된다.

가열공정은 스트립(S)의 상부에서 복사열을 제공하는 것을 포함한다. 이송되는 스트립(S)의 상부에는 서로 이격되어 상부 버너(331)들이 내부공간의 길이방향과 수직하도록 배치된다. 각각의 상부 버너(331)들에서 발생된 복사열은 이송되는 스트립(S)의 상면으로 제공되어 스트립(S)을 가열시킨다.

가열공정은 스트립(S)의 하부에서 복사열을 제공하는 것을 포함한다. 이송되는 스트립(S)의 하부에는 서로 이격되어 하부 버너(335)들이 내부공간의 길이방향 과 수직하도록 배치된다. 각각의 하부 버너(335)들에서 발생된 복사열은 이송되는 스트립(S)의 하면으로 제공되어 스트립(S)을 가열시킨다.

가열로(300)의 내부공간에서 가열된 스트립(S)은 냉각처리부(400)로 이송되어 냉각공정이 진행된다. 먼저, 가열된 스트립(S)은 제1냉각로(410)의 내부공간(411)을 통과하면서 1차 냉각된다. 가열된 스트립(S)은 제1냉각로(410)에서 550℃까지 냉각가능하다. 1차 냉각된 스트립(S)은 제2냉각로(420)의 내부공간을 통과하면서 2차 냉각된다. 스트립(S)은 제2냉각로(420)에서 70℃까지 냉각가능하다.

냉각공정이 완료된 스트립(S)은 스트립 반출부(500)의 이송통로(511)를 지나 권취부(미도시)로 이송되어 권취부에 권취된다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

도 1는 본 발명의 실시예에 따른 광휘소둔로를 나타내는 단면도이다.

도 2a는 스트립 반입부의 구성을 간략하게 나타내는 단면도이다.

도 2b는 스트립 반입부의 개구를 나타내는 사시도이다.

도 2c는 분위기 가스의 이동경로를 나타내는 도면이다.

도 2d는 외부 공기의 이동경로를 나타내는 도면이다.

도 3a는 본 발명의 가열로를 나타내는 평면도이다.

도 3b는 본 발명의 가열로를 나타내는 정단면도이다.

도 3c는 본 발명의 가열로를 나타내는 측단면도이다.

도 4는 본 발명의 냉각처리부를 나타내는 단면도이다.

도 5a는 스트립 반출부의 구성을 간략하게 나타내는 단면도이다.

도 5b는 스트립 반출부의 개구를 나타내는 사시도이다.

도 6은 본 발명의 가열공정을 나타내는 도면이다.

Claims (19)

1. 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및

   상기 공정처리부의 전방에 배치되고 상기 공정처리부로 상기 스트립을 반입시키는 스트립 반입부를 포함하되,

   상기 스트립 반입부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하고,

   상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재가 설치되며,

   상기 제1차단부재는 상기 가스가 상기 제1차단부재를 따라 상기 이송통로의 내벽으로 이동되도록 경사지되, 상기 이송통로의 내벽에 설치되는 일단에서부터, 타단으로 갈수록 상기 공정처리부와 가까워지는 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.
2. 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및

   상기 공정처리부의 후방에 배치되며, 상기 공정처리부로부터 상기 스트립을 반출시키는 스트립 반출부를 포함하되,

   상기 스트립 반출부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하고,

   상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재가 설치되며,

   상기 제1차단부재는 상기 가스가 상기 제1차단부재를 따라 상기 이송통로의 내벽으로 이동되도록 경사지되, 상기 이송통로의 내벽에 설치되는 일단에서부터, 타단으로 갈수록 상기 공정처리부와 가까워지는 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.
3. 삭제
4. 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및

   상기 공정처리부의 전방에 배치되고 상기 공정처리부로 상기 스트립을 반입시키는 스트립 반입부를 포함하되,

   상기 스트립 반입부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하고,

   상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공되고, 상기 이송통로를 제공하는 벽에서 상기 이송 통로의 안쪽으로 갈수록 상기 공정처리부를 향하는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트를 갖는 제1차단부재가 설치되며,

   상기 플레이트는 일단이 상기 벽에 접촉되도록 설치되며, 상기 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능한 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.
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10. 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및

    상기 공정처리부의 후방에 배치되며, 상기 공정처리부로부터 상기 스트립을 반출시키는 스트립 반출부를 포함하되,

    상기 스트립 반출부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하며,

    상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공되고, 상기 이송통로를 제공하는 벽에서 상기 이송 통로의 안쪽으로 갈수록 상기 공정처리부를 향하는 방향으로 경사지게 제공되는 플레이트를 갖는 제1차단부재가 설치되며,

    상기 플레이트는 일단이 상기 벽에 접촉되도록 설치되며, 상기 벽과 접촉되는 지점을 중심으로 회전가능한 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.
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18. 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및

    상기 공정처리부의 전방에 배치되고 상기 공정처리부로 상기 스트립을 반입시키는 스트립 반입부를 포함하되,

    상기 스트립 반입부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하며,

    상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재가 설치되고,

    상기 공정 처리부는

    상기 스트립을 상기 공정처리부의 길이방향을 따라 이동시키는 스트립 이송부와, 상기 스트립 이송부의 상부 및 하부에 각각 배치되며, 상기 스트립으로 복사열을 제공하여 가열시키는 버너 노즐부를 갖는 가열로; 및

    상기 가열로의 후방에 배치되며, 가열된 상기 스트립을 냉각하는 냉각처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.
19. 내부공간을 가지며, 상기 내부공간으로 이송되는 스트립(strip)의 열처리를 수행하는 공정처리부; 및

    상기 공정처리부의 후방에 배치되며, 상기 공정처리부로부터 상기 스트립을 반출시키는 스트립 반출부를 포함하되,

    상기 스트립 반출부는 상기 내부공간과 연결되며 상기 스트립이 이송되는 이송통로를 형성하며,

    상기 이송통로에는 상기 내부공간으로부터 가스의 유출을 줄이도록 제공된 제1차단부재가 설치되고,

    상기 공정 처리부는

    상기 스트립을 상기 공정처리부의 길이방향을 따라 이동시키는 스트립 이송부와, 상기 스트립 이송부의 상부 및 하부에 각각 배치되며, 상기 스트립으로 복사열을 제공하여 가열시키는 버너 노즐부를 갖는 가열로; 및

    상기 가열로의 후방에 배치되며, 가열된 상기 스트립을 냉각하는 냉각처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광휘소둔로.

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