KR101147349B1 - 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 네온 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치는 내부에 피처리 샘플이 수용되며 플라즈마가 형성되는 챔버, 상기 챔버 내부를 진공 상태로 유지하기 위한 배기부, 상기 챔버 내에 고정되며 양극과 음극이 서로 대향하여 설치되는 플라즈마 발생 전극, 상기 챔버 외부에 설치되며 상기 플라즈마 발생 전극에 전원을 공급하는 가변 전원 공급기, 상기 가변 전원 공급기와 상기 플라즈마 발생 전극 사이에 설치되며, 플라즈마 전극에 인가하는 전압과 전류를 조절하는 네온 변압기를 포함함으로써, 플라즈마를 안정적으로 발생시킬 수 있으며, 플라즈마 처리 장치를 보다 단순화하였다.

Description

누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치{PLASMA PROCESSING EQUIPMENT WITH A LEAKAGE CURRENT TRANSFORMER}
본 발명은 누설 전류형 변압기를 이용한 진공 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 진공 반응기와 누설 전류형 변압기의 하나인 네온 변압기를 사용하여 식각, 증착, 에칭 등의 표면처리가 가능하도록 한 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.
플라즈마(plasma)란 이온화된 가스를 의미한다. 원자 또는 분자로 이루어진 가스에 전기 에너지를 이용하여 방전시키면 전자, 이온, 분해된 가스, 및 광자(photon) 등으로 이루어진 플라즈마가 형성된다.
이러한 플라즈마를 이용하여 표면을 처리하는 것이 플라즈마 표면처리 방법이다. 플라즈마 표면처리법은 산소 등 소정의 원료가스를 플라즈마 가스화하고, 이를 처리 대상물의 표면과 물리화학적으로 반응시켜서 그 표면을 개질하는 표면처리방법이다.
플라즈마를 이용한 건식 표면처리방법은 습식에 의한 방법보다 표면을 더 균일하고 정밀하게 처리할 수 있으며 제어가 용이한 이점이 있다. 또한, 플라즈마 표면 처리 방법은 산소와 아르곤 등 가스를 사용하므로 습식 표면처리방법에 비교하여 오염 물질 발생이 거의 없다는 장점이 있다.
이하, 플라즈마에 의한 표면처리장치에 대해 개략적으로 설명한다.
플라즈마 표면처리장치는 플라즈마 발생 전극의 종류에 따라 축전결합 플라즈마(Capacitively Coupled Plasma) 방식과 유도결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma) 방식 등으로 분류할 수 있다. 이 중에서 널리 사용되고 있는 것은 축전 결합방식이고 이를 사용하여 플라즈마를 발생시키는 장치를 축전결합형 플라즈마(Capacitively Coupled Plasma, CCP) 발생장치라 한다.
축전결합형 플라즈마 발생장치는 콘덴서의 전하 축전 원리를 이용하며, 챔버 내부에서 2개의 전극을 대향시켜, 한쪽 전극에 고주파전력이나 저주파전력, 직류전력, 혹은 이들 전력을 시간 변조한 펄스 전력을 인가할 수 있는 구조로 만들 수 있다.
축전결합형 전극의 구조는 2개의 전극 간의 정전계(靜電界)에 의해 전자와 이온 등 하전입자를 가속하여 하전입자와 하전입자 또는 하전입자와 전극의 충돌에 의한 상호작용에 따라 플라즈마를 생성유지한다. 이때 플라즈마가 발생할 수 있도록 두 전극 간에 충분한 전압차이가 생길 수 있도록 만드는 것이 중요하다. 일반적으로 한쪽 전극은 직접 접지한다. 혹은 한쪽 전극을 콘덴서, 코일(인덕터), 콘덴서와 코일의 조합을 통하여 접지하고 있는 것도 있다.
종래의 경우 축전결합형 플라즈마 발생에 있어, 특히 건식 식각, 화학적 증착, 표면 개질 등에 있어, 교류를 발생시키는 교류 전원 공급기 또는 라디오파 (Radio frequency)에 의한 플라즈마 발생용 전력 전달방법이 산업과 연구 분야에서 가장 일반적으로 사용되어 왔다. 그 이유는 교류 대신 직류 전원을 사용하는 경우, 단점은 열 발생과 아크 발생이 많으며 안정적인 저온 플라즈마 발생이 상대적으로 어렵기 때문이다. 그러나 플라즈마 발생을 위해 산업적으로 기활용되고 있는 교류 전원 공급기와 라디오파는 구입과 유지 비용에 많은 경제적 부담이 있다. 특히, 라디오파를 사용하는 경우,고가의 라디오파 발생장치와 또 별도로 부가적 매칭 박스를 함께 사용하여 전원장치의 임피던스를 최적화하게 된다. 일반적으로 별도의 부가적 매칭 박스를 사용하지 않고 라디오파 플라즈마를 안정적으로 발생시키기 어렵다. 따라서 본 발명에서는 비용 절감 효과가 뛰어나며 주변에서 쉽게 구할 수 있는 누설 전류형 변압기인 네온 변압기를 이용한 플라즈마 발생장치에 대한 연구가 진행중이다.
누설 전류형 변압기(Leakage current transformer)는 자기회로상에 누설철심을 이용하여 자속의 누설다리를 연결하여 2차 전류의 세기를 조절할 수 있는 변압기이다. 네온변압기는 대표적인 누설 전류형 변압기로서 차량이나 옥내외 네온 싸인에 4, 000 ~ 1,5000V의 고전압 전원을 공급하는데 사용한다. 네온 변압기는 누설 전류 원리를 이용하여 2차 전원부에 50 mA 이내의 일정한 정전류(constant current)를 공급한다.
종래의 경우 네온 변압기는 대기압 플라즈마 개발에 집중적으로 사용되었으며 대기압 및 수중에서 플라즈마를 발생시키는 장치에 대한 보고가 많이 있다(대한민국 공개특허 제2006-0091869호, 일본국 공개특허 제2004-311251호). 그러나 종래의 경우처럼 네온 변압기를 사용하여 대기압 상태에서 플라즈마를 발생시키는 경우, 1) 대기압 상태에서는 두 개의 플라즈마 전극 사이의 간격에 제한을 받았다. 즉, 플라즈마 방전에 있어, Paschen의 법칙에 따르면 압력이 높을수록 전극간의 거리가 가까워져야 플라즈마 방전이 용이하다. 따라서 대기압의 경우에는 전극간의 거리가 수 미리미터 정도로 극히 가까워져야만 한다는 문제가 있다. 또한 네온변압기를 이용하여 대기압에서의 플라즈마 방전을 위해서는 양 전극에 상대적으로 높은 전압이 인가되어야하며, 이때에는 금속 또는 전도성 전극 간에 아크가 발생하기 쉽다. 플라즈마 장치에서 높은 전압(약 5,000V 이상)에 의해 아크가 발생하는 경우에 고전압, 고전류의 전기 흐름에 의해 장치의 전자회로가 쉽게 고장나며, 불안정해진다. 따라서 대기압에서 네온 변압기를 이용한 플라즈마 발생기에는 두 플라즈마 전극 사이에 세라믹이나 플라스틱류의 절연체를 삽입하는 경우가 일반적이다. 위의 두 문제의 기술적 문제, 즉, 1) 대기압의 경우 플라즈마 전극 사이에 높은 전압이 인가되어야 하는 점, 2) 높은 전압이 인가되면 아크가 발생하여, 전자 회로를 고장낼 수 있으므로 절연체가 플라즈마 전극 사이에 삽입되어야 한다는 문제를 해결하기 위해 종래의 경우에는 네온 변압기를 이용하는 경우 플라즈마 전극 사이를 수 미리미터 정도로 가급적 좁히고, 그 사이에 절연체를 삽입하여 대기압 플라즈마를 발생시켰다.
그러나 플라즈마 전극 간격이 너무 좁으면, 플라즈마를 이용한 다양한 크기의 소재 표면 처리에 한계가 있다. 예를 들어, 소재의 두께가 10cm 이상이거나, 소재의 표면이 굴곡이 있는 형상을 가지고 있는 경우 대기압 플라즈마에 의한 처리는 한계가 있다. 또한 도우넛 형태의 소재의 경우 안쪽 표면의 플라즈마 처리에 문제가 있다.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 누설 전류형 변압기와 가변 전원 공급기를 이용하여 교류 플라즈마를 안정적으로 발생시킴으로서 구조가 간단하고, 가정용 전원이나 차량용 전원으로도 간단하게 산업의 요구에 맞는 새로운 플라즈마 장치을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 과제를 해결하기 위하여 본 발명은, 내부에 피처리 샘플이 수용되며 플라즈마가 형성되는 챔버, 상기 챔버 내부를 진공 상태로 유지하기 위한 배기부, 상기 챔버 내에 고정되며 양극과 음극이 서로 대향하여 설치되는 플라즈마 발생 전극, 상기 챔버 외부에 설치되며 상기 플라즈마 발생 전극에 전원을 공급하는 가변 전원 공급기, 상기 가변 전원 공급기와 상기 플라즈마 발생 전극 사이에 설치되며, 플라즈마 전극에 인가하는 전압과 전류를 조절하는 네온 변압기를 포함한다.
상기 플라즈마 발생 전극은 상기 피처리 샘플을 탑재할 수 있는 고정장치가 마련될 수 있다.
상기 플라즈마 발생 전극은 상기 양극 또는 음극 중 어느 하나가 상기 챔버의 상부에 설치되고 나머지 하나가 상기 챔버의 하부에 설치될 수 있다.
상기 챔버의 하부에 설치되는 전극에는 상기 피처리 샘플을 고정하기 위한 고정장치가 마련될 수 있다.
상기 누설 전류형 변압기는 네온 변압기일 수 있다.
상기 양극 또는 음극 중 적어도 어느 하나가 복수로 형성될 수 있다.
상기 네온 변압기는 복수 개가 병렬로 설치될 수 있다.
상기 네온 변압기는 1~500V의 입력 전압과 1~25,000V의 출력 전압을 사용할 수 있다.
상기 가변 전원 공급기는 상기 네온 변압기에 인가되는 전압 및 전류의 세기를 아날로그 또는 디지털 방식으로 조절할 수 있는 조광기(dimmer)를 포함할 수 있다.
상기 가변 전원 공급기는 상기 네온 변압기에 인가되는 1차 전원을 표시하는 전류계 및 전압계를 포함할 수 있다.
상기 플라즈마 처리 장치는 상기 챔버 내에 설치되며 상기 챔버를 접지할 수 있는 접지 전극을 더 포함할 수 있다.
상기 접지 전극은 표면에 피처리 샘플을 탑재, 고정할 수 있는 고정장치가 마련될 수 있다.
상기 플라즈마 처리 장치는 상기 피처리 샘플의 온도를 제어할 수 있는 온도 제어 장치를 더 포함할 수 있다.
상기 배기부는 상기 챔버의 압력을 조절할 수 있도록 하나 이상의 압력 조절 밸브와, 로터리 펌프, 부스터 펌프, 드라이 펌프를 포함하는 저진공 펌프, 터보 분자 펌프, 확산 펌프, 크라이오 펌프를 포함하는 고진공 펌프 중 하나 이상의 진공 펌프를 포함할 수 있다.
상기 양극과 음극 사이의 간격은 1mm 이상으로 할 수 있다.
상기 챔버 내부에는 상기 플라즈마 발생 전극에 의해 발생하는 플라즈마의 밀도와 세기를 조절하는 부전극이 추가로 설치될 수 있다.
본 발명은 누설 전류형 변압기와 가변 전원 공급기를 이용하여 교류 플라즈마를 안정적으로 발생시킴으로서 첫째, 고가의 부가적 매칭 박스를 제거하고 주변에서 쉽게 구할 수 있는 부품들을 사용하여 플라즈마 처리 장치를 보다 단순화하였다. 둘째, 전압 계측기와 전류 계측기를 1차 전원에 설치하여 플라즈마 처리 중에 보다 우수한 전원 제어 조건을 보조적으로 제공하였다. 셋째, 단상의 상용 전원을 1차 전원으로 이용하여, 가정용 전원이나 차량용 전원으로도 간단하게 산업의 요구에 맞는 새로운 플라즈마 장치을 제공한다. 넷째, 한 개의 가변 전원 공급기와 플라즈마 전극부 사이에 복수개의 네온 변압기를 병렬로 연결함으로써 인가 전류를 조절할 수 있다. 다섯째, 진공 중에서 복수 개의 전극부를 사용하여 교류 플라즈마를 발생시킴으로 샘플이 놓여있는 전극부에 인가되는 전압을 낮게 하면서도 반응기 내부의 플라즈마 밀도를 높이는 효과를 가질 수 있다. 여섯째, 본 발명을 통하여 종래의 플라즈마 장치보다 경제적이고 유지 보수가 쉬우면서, 소재의 다양한 표면처리 공정이 가능한 플라즈마 장치를 제공한다.
도 1은 본 발명의 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치의 일실시예를 나타낸 구성도이다.
도 2 내지 도 6은 본 발명의 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치의 다른 실시예들을 나타낸 구성도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부된 도 1 내지 도 6을 참고하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예들은 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 설명하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예들은 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 상세하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에 나타난 각 요소의 형상은 보다 분명한 설명을 강조하기 위하여 과장될 수 있다. 또한 본 발명에서 사용되는 누설 전류형 변압기는 전기식과 전자식이 있으며 그 사용 방식에 제한이 없다.
도 1에 본 발명의 네온 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치의 일실시예를 나타낸 구성도이다. 본 발명의 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치는 챔버(1), 플라즈마 발생 전극(9, 10), 가스 공급부(40), 네온 변압기(60) 및 가변 전원 공급기(70)를 포함한다.
챔버(1)는 외부와 장치 내부를 구분하는 공간이다. 챔버(1)의 외부는 스테인레스강이나 알루미늄 등 도체로 할 수도 있지만, 석영, 테플론을 이용한 부도체로 할 수도 있다. 챔버(1)는 O2, SF6, Cl2 , SiH4 등 반응성 가스 사용에 유리한 환경을 제공하는 진공으로 유지되며, 가스공급부(40) 및 배기부(50)와 연결되어 있고, 진공압이 걸릴 수 있게 밀폐구조로 되어 있다. 또한, 챔버(1)에는 진공 압력계(5)가 연결되어 있다.
챔버(1) 내부의 하부에는 접지 전극(11)이 설치되고, 그 내부에는 필요에 따라 열을 공급할 수 있게 전기 저항식 열선(31)이 삽입된다. 전기 저항식 열선(31)은 열 전원 공급기(30)와 연결하여 온도를 제어하며, 할로겐 램프로 대체될 수 있다. 온도 조절장치는 PID제어방법을 사용하고 있으나, 필요에 따라 파지회로를 병용하거나 PID제어나 단순한 ON/OFF제어를 채용하여도 된다. 저온 유지가 필요한 경우에는 열 교환기를 사용할 수도 있다.
챔버(1)에 열 공급을 하는 경우, 상기와 같이 챔버(1) 내부에서 할 수도 있지만 챔버(1) 재료가 석영인 경우에는 챔버(1) 외부에서 챔버(1)를 전부 또는 부분적으로 감싸는 열원을 이용하여 할 수도 있다.
챔버(1) 내부의 상부에는 플라즈마 발생 전극(9, 10)과 척(12)이 배치되어 있고, 상기 플라즈마 발생 전극(9, 10)은 네온 변압기(60)에 접속되어 있다.
플라즈마 발생 전극(9, 10)은 양극과 음극이 서로 대항하고 있는 형태이며, 절연체(14)에 의해 챔버(1)에서 전기적으로 절연되어 있다. 전극의 모양은 원형, 사각 등에 제한이 없다. 여기서 중요한 것은 종래의 라디오파에서는 플라즈마 발생 전극이 1개, 접지 전극이 1개이면 필요 조건을 만족했지만, 네온 변압기를 사용하는 경우에는 플라즈마 발생 전극이 독립적으로 2개가 필요하다. 두 개의 플라즈마 발생 전극의 간격은 챔버의 크기와 장치 최적화에 따라 정해질 수 있지만, 두 개의 전극이 전기적으로 분리되어 있는 한 특별한 제한은 없다.
네온 변압기(60)는 대표적인 누설 전류형 변압기의 일종으로 1차 입력 전원으로는 보통 1~500V 정도의 전원을 사용하며, 바람직하게는 12~220V 정도를 사용한다. 출력전압은 보통 1~20,000V 정도이다. 이때 발생하는 출력 전압의 크기는 가변 전원 공급기(70)를 사용하여 조절할 수 있다.
가변 전원 공급기(70)는 트랜지스터 등을 이용하여 제작할 수도 있고, 상용의 슬라이 닥스나 조광기(dimmer) 등을 이용할 수 있다. 본 실시예에서는 가변형 전원 공급기로 조광기를 이용하였다. 조광기는 슬라이닥스에 비해 저렴하고 부피가 적으며, 고장시에 보다 쉽게 수리할 수 있는 장점이 있다. 가변 전원 공급기(70)와 네온 변압기(60) 사이에는 전류계(71)와 전압계(72)를 연결하여 네온 변압기(60)로 인가되는 1차 전압과 전류의 값을 정확히 표시된다.
본 장치에서 처리하고자 하는 샘플은 플라즈마 발생 전극(9, 10)에 놓이거나, 아니면 접지 전극(11)에 놓일 수 있다. 상온에서 플라즈마 식각이나 증착의 경우는 샘플은 플라즈마 발생 전극(9, 10)에 위치하는 것이 일반적이며, 고온에서 표면 개질이나 증착을 위해서는 샘플은 가열된 접지 전극(11) 위에 놓인다. 그러나 본 발명 장치에서 피처리 샘플의 위치는 제한이 없으며 플라즈마 발생 전극(9, 10)과 접지 전극(11)위에 임의로 놓을 수 있다. 이를 위해 피처리 샘플을 고정하기 위한 고정장치(미도시)가 플라즈마 발생 전극(9, 10) 또는 접지 전극(11)에 마련된다.
한편, 챔버(1) 내에 반응가스를 공급하기 위한 가스 공급부(40)는 가스공급라인(41), 가스유량조절기(42), 가스탱크(43) 및 기화기(44)로 구성된다. 가스는 가스공급라인(41)에 산소 등 기체 상태의 가스를 가스탱크(43)를 이용하여 그대로 연결하여 사용하거나, 증착, 식각 등 표면 처리를 위해 전구체로 사용하는 액체나 고체 상태의 물질을 기화기(44)에 넣고 기화시켜 사용할 수 있다. 상기 가스는 가스유량 조절기(Mass flow meter)(42)에 의해 그 압력과 흐름을 조절할 수 있다. 가스는 O2, N2O등 산소 성분을 포함하는 가스, CF4, SF6등 불소 성분을 포함하는 가스, Cl2, BCl3등 염소 성분을 포함하는 가스, SiH4, NH3 등 증착 가스, Ar, N2등의 불활성 가스를 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
배기부(50)는 챔버의 내부 압력을 조절할 수 있는 하나 이상의 압력조절밸브(53), 진공펌프(51) 및 배기라인(52)으로 구성된다. 진공펌프(51)는 로터리 펌프, 부스터 펌프, 드라이 펌프 등의 저진공 펌프 또는 터보분자 펌프, 확산 펌프, 크리이오 펌프 등의 고진공 펌프 중 하나 이상의 펌프가 사용될 수 있다. 배기부(50)는 챔버(1)를 진공으로 유지하거나 챔버(1) 내의 가스를 배기한다.
도 2 내지 도 6은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 플라즈마 처리장치를 설명하기 위한 구성도들이다.
도 2가 도시하는 실시예에서는, 플라즈마 발생 전극(9, 10)이 챔버(1)의 상하에 대향하여 설치된다. 하부의 플라즈마 발생 전극(9)은 기판을 고정하기 위한 척 기능 포함할 수 있도록 형성된다. 플라즈마 발생 전극(9, 10)이 연결되는 네온 변압기(60), 가변 전원 공급기(70), 전류계(80), 전압계(90) 등의 구성은 이전 실시예와 동일하다.
도 3은 또 다른 실시예로서, 챔버(1) 내부에서 한 개의 플라즈마 발생 전극(10)은 상단에 장착되며, 복수의 플라즈마 발생 전극(9)이 하단에 장착된다. 각각 전극의 크기와 모양은 임의로 제어될 수 있다. 플라즈마 발생 전극(9, 10)은 동일한 네온 변압기(60)에서 전원을 공급한다.
도 4와 5에서는, 챔버(1) 내부의 플라즈마 발생 전극(9,10)에 전원을 공급하는 네온변압기(60)를 병렬로 연결하여 더욱 많은 양의 전원을 공급할 수 있는 구성을 나타낸다.
도 6에서는, 챔버(1) 내부에 플라즈마 발생 전극(9,10)과 별도로 플라즈마 밀도와 세기를 조절하는 부전극(99,100)을 추가한 구성을 나타낸다. 부전극(99, 100)의 크기, 모양, 개수 및 위치는 임의로 정할 수 있다. 부전극(99, 100)에 전원을 공급하는 네온 변압기(600)와 가변 전원 공급기(700)도 추가된다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 의하여 실험한 결과 두 개의 플라즈마 발생 전극 사이에 전극면을 대항하는 절연체를 삽입하지 않아도, 플라즈마가 매우 안정적으로 발생하였음을 확인하였다. 또한, 플라즈마 발생 전극 간격을 20㎝ 이상으로 하여도 플라즈마가 안정적으로 발생하였다. 더 나아가 두 전극 사이에 전극과 병렬로 세라믹을 삽입하거나 제거하여도 플라즈마는 균일하게 발생하였다. 앞에 언급한 두 경우에서 두 전극 간의 아크는 보이지 않았다. 또한, 플라즈마의 발생 세기도 가변형 전압 공급기를 사용하여 쉽게 조절이 가능하였으며, 실제로 네온 변압기의 입력 전압이 수십 볼트의 낮은 전압에서도 소재의 식각 실험을 성공적으로 실시할 수 있었으며, 아크릴의 식각시에 공기 플라즈마 분위기에서 약 50㎚/min 이상의 식각 속도를 쉽게 얻을 수 있었다.
또한, 대량의 소재 처리를 위해 다층 전극이 필요한 경우에도, 진공을 사용시 반응기 내부에서 전극의 간격에 제한받지 않으며 또한 전극의 층수에도 제한 받지 않는다.
이상, 도면을 참조하여 본 발명의 누설 전류 변압기인 네온 변압기와 가변 전원 공급기를 이용하여, 물질의 증착, 식각, 표면 개질이 가능한 플라즈마 처리장치를 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변형이 가능할 것이다.
1: 챔버 5: 진공 압력계
9, 10: 플라즈마 발생 전극 11: 접지전극판
12: 척 14: 절연체
30: 열 전원 공급기 31: 전기 저항 열선
40: 가스공급부 41: 가스공급라인
42: 가스유량조절기 43: 가스탱크
44: 기화기 50: 배기부
51: 진공펌프 52: 배기라인
53: 밸브 60, 600: 네온 변압기
70, 700: 가변 전원 공급기 80: 전류계
90: 전압계 99, 100: 보조전극

Claims (16)

  1. 내부에 피처리 샘플이 수용되며 플라즈마가 형성되는 챔버;
    상기 챔버 내부를 진공 상태로 유지하기 위한 배기부;
    상기 챔버 내에 고정되며 양극과 음극이 서로 대향하여 설치되는 플라즈마 발생 전극;
    상기 챔버 외부에 설치되며 상기 플라즈마 발생 전극에 전원을 공급하는 가변 전원 공급기;
    상기 가변 전원 공급기와 상기 플라즈마 발생 전극 사이에 설치되며, 플라즈마 전극에 인가하는 전압과 전류를 조절하는 누설 전류형 변압기;를 포함하고,
    상기 가변 전원 공급기는 상기 누설 전류형 변압기에 인가되는 1차 전원을 표시하는 전류계 및 전압계를 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생 전극은 상기 피처리 샘플을 탑재할 수 있는 고정장치가 마련되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생 전극은 상기 양극 또는 음극 중 어느 하나가 상기 챔버의 상부에 설치되고 나머지 하나가 상기 챔버의 하부에 설치되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 챔버의 하부에 설치되는 전극에는 상기 피처리 샘플을 고정하기 위한 고정장치가 마련되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 누설 전류형 변압기는 네온 변압기인 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 양극 또는 음극 중 적어도 어느 하나가 복수로 형성되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 네온 변압기는 복수 개가 병렬로 설치되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  8. 제 5항에 있어서,
    상기 네온 변압기는 1~500V의 입력 전압과 1~25,000V의 출력 전압을 사용하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  9. 제 5항에 있어서,
    상기 가변 전원 공급기는 상기 네온 변압기에 인가되는 전압 및 전류의 세기를 아날로그 또는 디지털 방식으로 조절할 수 있는 조광기(dimmer)를 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  10. 삭제
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리장치는 상기 챔버 내에 설치되며 상기 챔버를 접지할 수 있는 접지 전극을 더 포함하는 것을 특징을 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 접지 전극은 표면에 피처리 샘플을 탑재, 고정할 수 있는 고정장치가 마련되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  13. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리 장치는 상기 피처리 샘플의 온도를 제어할 수 있는 온도 제어 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  14. 제 1항에 있어서,
    상기 배기부는 상기 챔버의 압력을 조절할 수 있도록 하나 이상의 압력 조절 밸브와, 로터리 펌프, 부스터 펌프, 드라이 펌프를 포함하는 저진공 펌프, 터보 분자 펌프, 확산 펌프, 크라이오 펌프를 포함하는 고진공 펌프 중 하나 이상의 진공 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  15. 제 1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 양극과 음극 사이의 간격은 1㎜ 이상인 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치.
  16. 제 1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버 내부에는 상기 플라즈마 발생 전극에 의해 발생하는 플라즈마의 밀도와 세기를 조절하는 부전극이 추가로 설치되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치.



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