KR101141025B1 - Lift pin drive device - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 기판안치대를 관통하는 다수의 리프트 핀을 상하로 구동시키는 장치에 있어서, 상기 기판안치대의 하부에 위치하며 상하로 운동하는 구동축; 상기 구동축에 구동력을 제공하는 구동력 발생원; 상기 구동축의 상단에 결합하는 리프트 핀 지지부재; 상기 기판안치대의 하부에 수직방향으로 서로 이격되어 설치되며, 상기 구동축과 결합하여 상기 구동축의 상하운동을 가이드하는 다수의 가이드부재; 상기 기판안치대의 하부에 고정되며, 상기 다수의 가이드부재와 연결되는 구동장치 지지대를 포함하는 리프트 핀 구동장치에 관한 것이다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for vertically driving a plurality of lift pins penetrating a substrate stabilizer, the apparatus comprising: a drive shaft positioned below the substrate stabilizer and moving up and down; A driving force generation source for providing a driving force to the driving shaft; A lift pin support member coupled to an upper end of the drive shaft; A plurality of guide members spaced apart from each other in a vertical direction at a lower portion of the substrate stabilizer and coupled to the driving shaft to guide vertical movement of the driving shaft; It is fixed to the lower portion of the substrate support, and relates to a lift pin drive device including a drive device support connected to the plurality of guide members.
본 발명에 따르면 리프트핀을 구동시키는 구동축의 상하 직선운동이 안정적으로 이루어지기 때문에 결과적으로 리프트 핀의 승강운동이 안정화되어 기판 배면의 손상이 줄어들게 된다. 또한 장비의 유지보수를 위해 기판안치대를 분리 또는 결합하는 시간도 줄어들게 된다.According to the present invention, since the up and down linear motion of the driving shaft for driving the lift pin is made stable, the lifting motion of the lift pin is stabilized as a result, thereby reducing damage to the back surface of the substrate. It also reduces the time it takes to remove or combine the substrate stabilizer for equipment maintenance.
리프트 핀, 브라켓 Lift pin, bracket
Description
도 1은 종래 기판처리장치의 구성도1 is a block diagram of a conventional substrate processing apparatus
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판처리장치의 구성도2 is a block diagram of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention;
도 3은 볼 스크류가 구동축을 가이드하는 모습을 나타낸 도면3 is a view showing a state in which the ball screw guides the drive shaft
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 브라켓을 나타낸 도면4 is a view showing a bracket according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판처리장치의 구성도5 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판처리장치의 구성도6 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* * Description of the symbols for the main parts of the drawings *
100 : 기판처리장치 101 : 챔버100: substrate processing apparatus 101: chamber
102 : 기판안치대 103 : 포커스링102: substrate support 103: focus ring
104 : 가스분배판 105 : 절연플레이트104: gas distribution plate 105: insulating plate
106 : RF안테나 107 : 매처 106: RF antenna 107: matcher
108 : RF전원 109 : 배기관108: RF power source 109: exhaust pipe
110 : 터보분자펌프 111 : 펜들럼밸브110: turbo molecular pump 111: pendulum valve
112 : 배기플레이트 113 : 배기홀112: exhaust plate 113: exhaust hole
114 : 리프트 핀 115 : 브라켓114: lift pin 115: bracket
116 : 핀 지지부 117 : 핀 벨로우즈116: pin support 117: pin bellows
118 : 구동축 119 : 벨로우즈118: drive shaft 119: bellows
120 : 구동장치 지지대 121 : 제1가이드부재 지지대120: drive device support 121: first guide member support
122 : 제2 가이드부재 지지대 124 : 제2 선형가이드122: second guide member support 124: second linear guide
131 : 제1 가이드부재 132 : 제2 가이드부재131: first guide member 132: second guide member
140 : 구동모터 142 : 제1 선형가이드140: drive motor 142: first linear guide
144 : 구동모터 지지대144: drive motor support
본 발명은 반도체소자의 제조장치에 관한 것으로서 구체적으로는 기판안치대의 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 구동장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a lift pin driving device for elevating and lifting a lift pin of a substrate set.
일반적으로 반도체소자는 기판에 소정의 박막을 증착하고 이를 식각하여 패턴을 형성하는 과정을 거쳐서 제조되는데, 이와 같은 박막증착 및 식각 공정은 해당공정을 위해 최적의 환경으로 설계된 기판처리장치의 내부에서 진행된다.In general, a semiconductor device is manufactured through a process of depositing a predetermined thin film on a substrate and etching the same to form a pattern. Such a thin film deposition and etching process is performed in a substrate processing apparatus designed for an optimal environment for a corresponding process. do.
기판에 박막을 증착하는 방법에는 물리기상증착(PVD: Physical Vapor Deposition), 화학기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposition), PECVD(Plasma Enhanced CVD), ALD(Atomic Layer Deposition) 등의 방법이 있으며, 증착된 박막을 식각하는 방법에는 식각액을 이용하는 습식식각과 플라즈마를 이용하는 건식식각 등의 방법이 있다.As a method of depositing a thin film on a substrate, there are methods such as physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), plasma enhanced CVD (PECVD), atomic layer deposition (ALD), and the like. As a method of etching the thin film, there are methods such as wet etching using an etchant and dry etching using plasma.
도 1은 플라즈마를 이용하여 박막증착 또는 식각공정을 수행하는 기판처리장치(10)의 일반적인 구성을 도시한 것으로서, 원료물질의 종류, 공정압력, RF전원의 종류, 바이어스전원의 유무 등에 따라서 박막증착장치로도 이용될 수 있고 식각장치로도 이용될 수 있다.1 illustrates a general configuration of a
상기 기판처리장치(10)를 살펴보면, 반응공간을 형성하는 챔버(1)의 내부에 기판안치대(2)가 설치되고, 기판안치대(2)의 주변부에는 포커스링(3)이 결합되며, 기판안치대(2)의 상부에는 원료물질을 분사하는 가스분배판(4)이 설치된다.Looking at the
챔버(1)의 상부에는 RF전원(8)에 연결된 RF안테나(6)가 설치되고, RF안테나(6)와 RF전원(8)의 사이에는 임피던스 정합을 위한 매처(7)가 설치된다.An
챔버(1)의 몸체는 통상 알루미늄 재질로 제조되지만, RF안테나(6)에 의해 발생한 RF자기장이 챔버 내부로 효율적으로 전달될 수 있도록 챔버 상면은 세라믹 재질의 절연플레이트(5)로 구성한다. 절연플레이트(5)의 하부에 가스분배판(4)이 설치되는 경우에는 가스분배판(4)도 절연재질이어야 한다.The body of the chamber 1 is usually made of aluminum, but the upper surface of the chamber is composed of an
포커스링(3)은 통상 세라믹 재질로 제조되며, 플라즈마의 영역을 기판(s)의 외측까지 확장시킴으로써 기판(s)의 표면전체가 균일한 플라즈마 영역내에 포함되도록 하는 역할을 한다.The
챔버(1)의 하부에는 잔류물질을 배출시키는 배기관(9)이 연결되며, 배기관 (9)에는 터보분자펌프(11)와 이를 개폐하는 펜들럼밸브(12)가 설치된다. 또한 챔버내부의 배기압력이 터보분자펌프(11) 쪽으로 편중되는 것을 방지하기 위하여 포커스링(3)의 주변부에는 배기홀(24)을 가지는 배기플레이트(23)가 설치된다.An
챔버(1)의 내부는 통상 진공상태를 유지하고 기판안치대(2)는 기판(s)을 안치한 채 상하로 승강하기도 하기 때문에 기판안치대(2)의 하부와 챔버(1)의 저면 사이에는 진공시일을 위한 벨로우즈(21)가 설치된다.Since the inside of the chamber 1 is usually maintained in a vacuum state, and the
한편, 기판처리공정은 기판안치대(2)에 기판(s)을 밀착시킨 상태에서 진행되지만 기판교환과정에서는 기판(s)이 기판안치대(2)로부터 분리되어야 하므로 기판안치대(2)에는 로봇암이 기판(s)을 내려놓거나 픽업할 수 있도록 기판안치대(2)의 상부로 돌출되는 리프트 핀(13)이 관통하여 설치된다.On the other hand, the substrate treatment process proceeds in a state where the substrate s is in close contact with the
리프트 핀(13)은 기판교환과정에서 기판안치대(2)에 대하여 상하로 승강하여야 하므로 리프트 핀(13)을 구동시키는 별도 구동수단이 필요하다.Since the
보다 상세히 설명하면, 기판안치대(2)의 하부에는 구동실린더(18)가 설치되고, 상기 구동실린더(18)에는 구동력을 전달하는 구동축(17)의 하단이 연결된다. In more detail, a driving
구동축(17)의 상단에는 다수의 분지를 가지는 브라켓(16)이 결합되며, 상기 브라켓(16)의 각 분지의 말단에는 핀 지지부(14)가 결합한다. 상기 핀 지지부(14)는 리프트 핀(13)의 하단을 지지하는데, 이때 핀 지지부(14)는 브라켓(16)의 각 분지 말단에 고정되지는 않고 통상적으로 어느 정도의 좌우 유동이 가능한 조인트(15)를 이용하여 결합한다.A
구동실린더(18)가 구동축(17)을 상승시키면, 구동축(17)의 상단에 결합된 브라켓(16)에 의해 핀 지지부(14)가 상승하면서 리프트 핀(13)을 상부로 이동시킨다. When the driving
기판안치대(2)의 하부에는 상기 브라켓(16), 핀 지지부(14) 및 구동축(17)의 일부를 둘러싸는 구동장치 지지대(19)가 결합되고, 상기 구동장치 지지대(19)의 저면에는 구동축(17)이 삽입되 부싱(20)이 설치된다. A lower portion of the
한편, 상기 구동장치 지지대(19)의 내부는 통상 대기압 상태이고 챔버(1) 내부는 진공 상태이므로 상하운동을 하는 리프트 핀(13)의 결합부위에 진공시일을 해야 한다. On the other hand, since the interior of the
이를 위해 핀 지지부(14)와 리프트 핀(13)의 결합부위를 둘러싸는 핀 벨로우즈(22)를 설치하며, 핀 벨로우즈(22)의 상단은 기판안치대(2)의 저면에 연결하고 하단은 핀 지지부(14)에 연결한다.To this end, a
이러한 구성을 가지는 기판처리장치(10)의 동작을 살펴보면 다음과 같다. Looking at the operation of the
먼저 기판에 대한 공정을 마치고 기판을 반출시키기 위해 기판안치대(2)가 하강하면 구동실린더(18)가 동작하여 구동축(17)을 상부로 구동시킨다.First, when the
이에 따라 구동축(17)의 상단에 연결된브라켓(16)과 핀 지지부(14)가 상승하면서 리프트 핀(13)을 상부로 밀어올리며, 리프트 핀(13)의 상단이 기판안치대(2)의 상부로 돌출되면서 기판(s)이 기판안치대(2)로부터 분리된다.Accordingly, the
이어서 미도시된 기판출입구를 통해 로봇암이 진입하여 처리된 기판(s)을 반출하고 새로운 기판을 리프트 핀(13) 위에 내려놓고 물러나면, 구동실린더(18)가 작동하여 구동축(17)을 하강시킨다.Subsequently, when the robot arm enters through the substrate entrance, not shown, and the processed substrate s is taken out and the new substrate is lowered on the
구동축(17)이 하강하면 리프트 핀(13)도 함께 하강하므로 리프트 핀(13)에 거치된 기판(s)이 기판안치대(2)에 안착된다.When the
새 기판(s)에 대한 공정을 위해 기판안치대(2)를 공정위치로 상승시킨 후 가스분배판(4)을 통해 원료물질을 공급하고 RF전원(8)을 인가하여 챔버(1)의 내부에 RF안테나(6)에 의해 유도되는 유도전기장을 형성한다.In order to process the new substrate s, the
유도전기장에 의해 가속된 전자가 중성기체와 충돌함으로써 이온 및 활성종의 혼합체인 플라즈마가 발생하고, 이렇게 생성된 이온 및 활성종이 기판(s)으로 입사하여 증착 또는 식각 공정을 진행하게 된다.When the electrons accelerated by the induced electric field collide with the neutral gas, a plasma, which is a mixture of ions and active species, is generated, and the ions and active species thus generated are incident on the substrate s to proceed with deposition or etching.
그런데 이와 같은 기판처리장치(10)에서는 구동축(17)의 상하운동이 완전히 수직방향으로 이루어지지 못하여 수평방향으로 약간씩 기울어지는 현상이 종종 발생할 뿐만 아니라 장비의 유지보수를 위해 기판안치대(2)를 상부로 들어올리는 경우에 구동축(17)의 길이가 길어서 취급상 불편하다는 문제점이 있다.However, in such a
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 리프트 핀을 구동시키는 구동축의 상하운동이 보다 안정적으로 이루어지도록 하고 장비의 유지보수를 보다 간편하게 하는데 목적이 있다.The present invention is to solve this problem, it is an object to make the vertical movement of the drive shaft for driving the lift pin more stable and to simplify the maintenance of the equipment.
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위해서, 기판안치대를 관통하는 다수의 리프트 핀을 상하로 구동시키는 장치에 있어서, 상기 기판안치대의 하부에 위치하며 상하로 운동하는 구동축; 상기 구동축에 구동력을 제공하는 구동력 발생원; 상기 구동축의 상단에 결합하는 리프트 핀 지지부재; 상기 기판안치대의 하부에 수직방향으로 서로 이격되어 설치되며, 상기 구동축과 결합하여 상기 구동축의 상하운동을 가이드하는 다수의 가이드부재; 상기 기판안치대의 하부에 고정되며, 상기 다수의 가이드부재와 연결되는 구동장치 지지대를 포함하는 리프트 핀 구동장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a device for driving a plurality of lift pins penetrating the substrate stabilizer up and down, the drive shaft located in the lower portion of the substrate stabilizer; A driving force generation source for providing a driving force to the driving shaft; A lift pin support member coupled to an upper end of the drive shaft; A plurality of guide members spaced apart from each other in a vertical direction at a lower portion of the substrate stabilizer and coupled to the driving shaft to guide vertical movement of the driving shaft; It is fixed to the lower portion of the substrate stabilizer, and provides a lift pin drive device including a drive device support connected to the plurality of guide members.
상기 구동장치 지지대는 상기 각 가이드부재가 설치되는 가이드부재 지지대를 다수 포함하고, 상기 다수의 가이드부재 지지대 중에서 적어도 하나는 상기 구동장치 지지대에 대하여 승강할 수 있다.The driving device support may include a plurality of guide member supports on which the guide members are installed, and at least one of the plurality of guide member supports may be elevated relative to the driving device support.
상기 구동장치 지지대에는 상기 가이드부재 지지대의 승강운동을 가이드하기 위한 선형가이드가 설치될 수 있다.A linear guide for guiding the lifting movement of the guide member support may be installed in the driving device support.
상기 가이드부재는 상기 구동축이 관통하는 부싱(bushing)일 수 있다.The guide member may be a bushing through which the drive shaft passes.
한편, 상기 구동력 발생원은 상기 구동축의 하단에 결합하는 구동모터이고, 상기 구동모터는 상기 구동장치지지대의 하부에 고정된 선형가이드에 결합하고, 상기 구동축과 상기 가이드부재는 나사결합하며, 상기 구동모터에 의해 상기 구동축이 회전하면 상기 구동모터가 상기 선형가이드를 따라 승강할 수 있다. 이때 상기 가이드부재는 볼 스크류(Ball Screw)이며, 상기 구동축은 상기 볼 스크류를 관통하 는 볼 스크류 샤프트인 것이 바람직하다.On the other hand, the driving force source is a drive motor coupled to the lower end of the drive shaft, the drive motor is coupled to a linear guide fixed to the lower portion of the drive device support, the drive shaft and the guide member is screwed, the drive motor When the drive shaft is rotated by the drive motor can be moved up and down along the linear guide. At this time, the guide member is a ball screw (Ball Screw), the drive shaft is preferably a ball screw shaft passing through the ball screw.
상기 리프트 핀 지지부재는, 상기 구동축의 상단에 연결되며 다수의 분지를 가지는 브라켓; 상기 브라켓의 각 분지의 말단에 고정되어 상기 리프트 핀의 하단을 지지하는 핀 지지부를 포함할 수 있으며, 이때 상기 브라켓은 하부가 개구된 원통형상의 몸체와 상기 몸체의 주변부에 대칭적으로 결합되는 다수의 분지를 포함할 수 있다.The lift pin support member may include a bracket connected to an upper end of the drive shaft and having a plurality of branches; It is fixed to the end of each branch of the bracket may include a pin support for supporting the bottom of the lift pin, wherein the bracket is a plurality of symmetrically coupled to the cylindrical body and the periphery of the body of the lower opening It may include branches.
상기 구동축은 상부의 제1 서브구동축과 하부의 제2 서브구동축이 결합수단에 의하여 결합된 것으로서 분리및 재결합이 가능한 것이 바람직하다.The drive shaft is coupled to the first sub-drive shaft of the upper and the second sub-drive shaft of the lower by the coupling means is preferably capable of separation and recombination.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제1 실시예First embodiment
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판처리장치(100)의 구성을 도시한 도면으로서, 상기 기판처리장치(100)는 종래의 기판처리장치와 마찬가지로, 반응공간을 형성하는 챔버(101)의 내부에 기판안치대(102)가 설치되고, 기판안치대(102)의 주변부에는 포커스링(103)이 결합되며, 기판안치대(102)의 상부에는 가스분배판(104)이 설치된다.2 is a view showing the configuration of the
또한 챔버리드를 이루는 절연플레이트(105)의 상부에는 RF전원(108)에 연결된 RF안테나(106)가 설치되고, RF안테나(106)와 RF전원(108)의 사이에는 임피던스 정합을 위한 매처(107)가 설치되며, 챔버 하부에는 터보분자펌프(110)와 펜들럼밸 브(111)가 설치된 배기관(109)이 연결되며, 배기압력을 분산시키기 위하여 다수의 배기홀(113)을 가지는 배기플레이트(112)가 포커스링(103)의 주변에 설치된다.In addition, an
또한 기판안치대(102)의 승강운동에도 불구하고 챔버(101) 내부를 진공으로 유지하기 위하여 기판안치대(102)와 챔버(101)의 저면 사이에는 진공시일을 위한 벨로우즈(119)가 설치된다. 또한 기판안치대(102)의 하부에는 리프트 핀(114), 핀 지지부(116) 및 브라켓(115) 등을 둘러싸는 구동장치 지지대(120)가 결합된다.In addition, a
본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치(100)는 리프트 핀을 승강시키는 구동축(118)의 운동을 가이드하기 위한 복수 개의 가이드부재를 사용하는 점에 특징이 있다.
즉, 기판안치대(102)의 하부에 고정되는 구동장치 지지대(120)에 수직방향으로 소정 거리 이격되는 제1,2 가이드부재(131,132)를 설치함으로써 구동축(118)이 수평방향으로 기울어지지 않고 안정적으로 지지될 수 있도록 한다.That is, by installing the first and
상기 제1,2 가이드부재(131,132)는 구동축(118)이 삽입되는 관통홀을 가지는 부싱(bushing)을 이용하는 것이 바람직하다. The first and
이때 구동장치 지지대(120)에는 상기 제1,2 가이드부재(131,132)를 설치하기 위해 상하방향으로 소정 거리 이격된 제1,2 가이드부재 지지대(121, 122)가 설치된다.At this time, the
이러한 가이드부재(131,132)는 반드시 2개만 설치되어야 하는 것은 아니므로 3개 이상이 설치될 수 있다.Since two
한편, 본 발명의 실시예에서는 구동축(118)의 하단을 팽창 및 수축운동하는 구동실린더에 연결시키는 것이 아니라, 구동모터(140)에 연결하고, 구동모터(140)가 구동장치 지지대(120)의 하부에 설치된 선형가이드(142)를 따라 승강할 수 있도록 구성하였다.Meanwhile, in the embodiment of the present invention, the lower end of the
즉, 구동장치 지지대(120)의 하부에 설치된 선형가이드(142)에 구동모터 지지대(144)를 이용하여 구동모터(140)를 결합시킨다.That is, the driving
이를 위해 상기 구동축(118)의 외주에 나사산을 형성하고, 상기 구동축(118)이 삽입되는 제1,2 가이드부재(131,132)의 내주면에도 이에 대응하는 나사산을 형성한다.To this end, a screw thread is formed on the outer circumference of the
제1,2 가이드부재(131,132)는 구동장치 지지대(120)에 대하여 고정되어 있으므로, 구동모터(140)에 의해 구동축(118)이 회전하면 구동축(118) 및 구동축(118)의 하단에 결합된 구동모터(140)가 함께 승강운동을 하게 된다.Since the first and
다만, 일반적인 나사산의 경우 마찰력이 커서 승강운동이 원활하게 이루어지지 않으므로, 도 3에 도시된 바와 같이 제1,2 가이드부재(131,132)의 내주면을 볼 스크류(Ball Screw)로 형성하고, 구동축(118)도 볼 스크류에 대응하여 부드러운 곡면형 나사산 또는 나사홈을 가지는 볼 스크류 샤프트를 이용한다. However, in the case of a general screw thread, since the friction force is large and the lifting movement is not smoothly performed, the inner circumferential surface of the first and
구동장치 지지대(120)의 하부에 고정된 선형가이드(142)는 이와 같이 구동모터(140)가 승강운동을 할 때 그 수직운동을 안정적으로 가이드하는 역할을 한다.The
또한 본 발명의 기판처리장치(100)에서는 구동축(118)의 상단에 결합되며 각 분지(115b)에 핀 지지부(116)가 고정 결합되는 브라켓(115)을 보다 강성이 뛰어난 형태로 개선하였다.In addition, in the
즉, 도 1에 도시된 바와 같이 종래 방식의 브라켓(16)은 막대 형상을 가지는 다수개의 분지가 각각의 일단이 서로 결합된 채 대칭적으로 배열된 형태인데 반하여, 본 발명의 실시예에 따른 브라켓(115)은 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이 하부가 개구된 원통형의 몸체(115a)와 상기 몸체(115a)의 주변부에 대칭적으로 결합하는 다수 개의 분지(115b)로 이루어지며, 각 분지(115b)와 몸체(115a)의 결합부위는 곡면으로 이루어진다.That is, as shown in FIG. 1, the
몸체(115a)는 얇은 판으로 이루어지고, 구동축(118)의 상단은 몸체(115a)의 개구부를 지나 바닥면에 결합한다.
기판안치대(102)로부터 기판(s)을 분리시키기 위하여 리프트 핀(114)을 상승시킬 때 기판안치대(102)와 기판(s) 사이의 정전기력으로 인하여 리프트 핀(114)에 상당한 하중이 가해진다. 따라서 본 발명의 실시예와 같은 구조의 브라켓(16)은 자체 탄성이 종래보다 강화되기 때문에 단순한 막대형상에 비하여 이러한 하중을 견디는데 유리하다. When the
핀 지지부(116)와 상기 브라켓의 분지는 종래처럼 조인트를 이용하여 결합하면 된다. 그러나 본 발명의 실시예와 같이 제1,2 가이드부재(131,132)를 이용하면 구동축(118)의 상하운동이 안정적으로 이루어지므로 오히려 조인트로 인해 핀 지지부(116)가 좌우로 유동할 가능성이 있다. 따라서 핀 지지부(116)와 브라켓 분지 (115b)를 일체형으로 제작하거나 볼트 등을 이용하여 고정할 수도 있다The
기판안치대(102)의 상부는 진공 상태이고 구동장치 지지대(120)의 내부는 대기압 상태이므로 기판안치대(102)를 관통하는 리프트 핀(114)의 주변에도 진공시일이 형성되어야 한다. 따라서 종래와 마찬가지로 리프트 핀(114)과 핀 지지부(116)의 결합부위를 둘러싸며, 일단은 기판안치대(102)의 저면에 결합되고 타단은 핀 지지부(116)에 결합하는 핀 벨로우즈(117)를 설치한다.Since the upper portion of the
제2 실시예Second embodiment
본 발명의 제1 실시예에서 2개의 가이드부재(131,132)를 이용하는 것은 구동축(118)의 승강운동을 안정시키기 위한 것이므로, 2개의 가이드부재(131,132)를 구동장치 지지대(120)에 반드시 고정적으로 설치하지 않아도 무방하다.Since the use of the two
즉, 도 5에 도시된 바와 같이 구동장치 지지대(120)에 제2의 선형가이드(124)를 설치하고 제1 가이드부재 지지대(121)를 구동장치 지지대(120)에 대하여 움직일 수 있도록 상기 제2 선형가이드(124)에 결합할 수 있다.That is, as shown in FIG. 5, the second
이와 같이 제1 가이드부재 지지대(121)가 제2 선형가이드(124)를 따라 승강할 수 있게 되면 구동축(118)이 보다 안정적으로 상하운동할 수 있다.As such, when the first
이 경우에는 제2 가이드부재(132)와 제2 선형가이드(124)가 구동축(118)의 상하운동을 가이드하기 때문에 제1 가이드부재(131)가 전술한 바와 같은 볼 스크류 형태가 아니어도 무방하다.In this case, since the
한편, 제1 가이드부재 지지대(121) 대신에 제2 가이드부재 지지대(122)가 구동장치 지지대(120)에 대하여 상하로 움직일 수 있도록 설치할 수도 있고, 제1,2 가이드부재 지지대(121,122)가 모두 움직일 수 있도록 설치하는 것도 가능하다.Meanwhile, instead of the first
다만, 제1,2 가이드부재 지지대(131,132) 중에서 어느 것이 움직이든지 간에 제1,2 가이드부재(131,132)의 폭이 지나치게 가까워지면 구동축(118)의 승강운동을 안정적으로 지지할 수 없으므로 이를 감안하여 제1,2 가이드부재 지지대(131,132)의 승강폭을 적절히 조절하여야 한다.However, if the width of the first and
제3 실시예Third embodiment
본 발명의 제3 실시예는 장비의 유지보수를 간편하게 하기 위하여 구동축(118)을 분리형으로 제작한 점에 특징이 있다.The third embodiment of the present invention is characterized in that the
즉, 도 6에 도시된 바와 같이, 구동축(118)을 상부의 제1 서브구동축(118a)과 하부의 제2 서브구동축(118b)으로 분리하여 제작하고, 이를 결합수단(118c)을 이용하여 결합한다. That is, as shown in FIG. 6, the
이때 상기 결합수단(118c)은 제1,2 구동축(118a,118b) 중 어느 하나의 단부에 형성되는 암나사와 이에 대응하는 수나사일 수도 있고, 제1,2 구동축(118a,118b) 중 어느 하나의 단부를 반대편의 단부로 삽입한 후 관통홀을 통해 체결하는 고정용 볼트일 수도 있으며, 기타 제1,2 구동축(118a,118b)이 서로 연결될 수 있는 어떠한 형태의 수단도 포함한다.In this case, the coupling means 118c may be a female screw formed at an end of one of the first and
따라서 장비를 해체하는 경우에 종래처럼 구동축(118)과 구동모터(140)를 분 리시키지 않고, 구동축(118)의 중간에서 제1,2 서브구동축(118a,118b)을 간편하게 분리시킬 수 있으며, 조립시에도 간편하게 재결합시킬 수 있기 때문에 장비의 유지관리시간이 단축된다.Therefore, when dismantling the equipment, the first and second
또한 기판안치대(102)을 위로 분리할 때에 구동축(118)의 전부가 아닌 상부의 제1 서브구동축(118a)까지만 들어올려지기 때문에 작업자의 조작이 간편해지는 장점이 있다. In addition, there is an advantage that the operator's operation is simplified because only the first
본 발명에 따르면 리프트핀을 구동시키는 구동축의 상하 직선운동이 안정적으로 이루어지기 때문에 결과적으로 리프트 핀의 승강운동이 안정화되어 기판 배면의 손상이 줄어들게 된다. 또한 장비의 유지보수를 위해 기판안치대를 분리 또는 결합하는 시간도 줄어들게 된다.According to the present invention, since the up and down linear motion of the driving shaft for driving the lift pin is made stable, the lifting motion of the lift pin is stabilized as a result, thereby reducing damage to the back surface of the substrate. It also reduces the time it takes to remove or combine the substrate stabilizer for equipment maintenance.
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