KR101139749B1 - Adhesive and bonded body - Google Patents

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아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
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Abstract

[과제]
저온에서 가열 경화시켜도, 초기 및 신뢰성 시험 후의 접착성이 우수한 접착제를 제공하는 것
[해결 수단]
점착 특성을 갖는 실리콘 화합물, 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 경화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제를 사용한다. 도전 입자를 0.1 체적% 이상 30 체적% 미만 함유시킴으로써 이방 도전성 접착제로 할 수 있고, 도전 입자를 30 체적% 이상 80 체적% 이하 함유시킴으로써 도전성 접착제로 할 수 있다. 도전 입자의 평균 입경은, 1 ~ 20 ㎛ 로 하는 것이 바람직하다.
[assignment]
Providing an adhesive excellent in adhesiveness after initial and reliability test even when heat-hardened at low temperature
[Workaround]
An adhesive is used which contains a silicone compound having an adhesive property, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a curing agent. It can be set as an anisotropic conductive adhesive by containing conductive volume 0.1 volume% or more and less than 30 volume%, and it can be set as a conductive adhesive by containing 30 volume% or more and 80 volume% or less. It is preferable that the average particle diameter of electroconductive particle shall be 1-20 micrometers.

Description

접착제 및 접합체 {ADHESIVE AND BONDED BODY}Adhesives & Bonders {ADHESIVE AND BONDED BODY}

본 발명은 회로 기판끼리의 전기적인 접속 등에 사용되는 접착제에 관한 것이다. This invention relates to the adhesive agent used for the electrical connection of circuit boards, etc.

종래부터, 도전 입자를 함유하는 접착제로는, 이방 도전성 접착제나 도전성 접착제가 공지되어 있다. 그 중에서도, 이방 도전성 접착제는 목적으로 하는 접속 전극과 피접속 전극을 도전 입자를 통하여 접속시킬 수 있다. 특히 가열, 가압으로 도전 입자를 어느 정도 변형시켜 전극간 (접속 전극 및 피접속 전극) 을 접속시키는데, 이 때 동시에 도전 입자를 분산시켜 접착제의 경화에 의해 접합체가 얻어지는 것이다. Conventionally, as an adhesive agent containing electroconductive particle, an anisotropically conductive adhesive agent and an electroconductive adhesive agent are known. Especially, an anisotropically conductive adhesive can connect the connection electrode and the to-be-connected electrode made into the target via electroconductive particle. In particular, the conductive particles are deformed to some extent by heating and pressing to connect the electrodes (connected electrodes and the electrodes to be connected). At this time, the conductive particles are dispersed at the same time to obtain a bonded body by curing the adhesive.

이방 도전성 접착제에 사용되는 접착제로는, 에폭시 수지나 페녹시 수지, 잠재성 경화제를 사용하여 이루어지는 접착제가 공지되어 있다 (예를 들어, 특허 문헌 1 및 2).As an adhesive agent used for an anisotropically conductive adhesive agent, the adhesive agent using an epoxy resin, a phenoxy resin, and a latent hardening | curing agent is known (for example, patent document 1 and 2).

이방 도전성 접착제를 사용한 경우의 접속 전극과 피접속 전극의 접속 방법을 설명한다. 먼저, 접속 전극을 갖는 기판, 예를 들어 플렉시블 기판이나 유리 패널 상에 이방 도전성 접착제를 탑재하고, 피접속 전극을 갖는 기재, 예를 들어 IC 칩이나 폴리이미드 FPC (플렉시블 프린트 배선판) 를 탑재하여, 구조체로 한다. 이어서, 그 구조체에 의해 서로 다른 기판의 전극간의 접속은 취하면서, 이웃하는 전극간은 절연을 유지할 수 있다.The connection method of a connection electrode and a to-be-connected electrode at the time of using an anisotropic conductive adhesive is demonstrated. First, an anisotropic conductive adhesive is mounted on a substrate having a connecting electrode, for example, a flexible substrate or a glass panel, and a substrate having a connected electrode, for example, an IC chip or a polyimide FPC (flexible printed wiring board) is mounted. It is a structure. Subsequently, the structure allows connection between electrodes of different substrates, while maintaining insulation between neighboring electrodes.

특정한 플렉시블 기재, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름이나 폴리카보네이트 (PC) 와 같은, 투명성은 높지만 내열성이 없는 필름 기재를 사용하는 경우에는 낮은 온도에서 접착할 필요가 있다. Certain flexible substrates, such as polyethylene terephthalate (PET) films and polycarbonates (PCs), need to be bonded at low temperatures when using film substrates with high transparency but no heat resistance.

그러나, 저온에서 접착시킨 경우에는 접속 전극을 갖는 기판이나 피접속 전극을 갖는 기재의 접착성이 떨어진다는 문제가 있었다. However, when bonding at low temperature, there existed a problem that the adhesiveness of the board | substrate which has a connection electrode or the base material which has a to-be-connected electrode is inferior.

일본 공개특허공보 평8-315885호Japanese Patent Laid-Open No. 8-315885 일본 공개특허공보 평5-320610호Japanese Patent Laid-Open No. 5-320610

본 발명의 목적은 상기 문제점을 극복하여, 150 ℃ 이하라는 저온에서 가열 경화시켜도, 초기 및 신뢰성 시험 후의 접착성 또는 도전성이 우수한 접착제를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to overcome the above problems and to provide an adhesive having excellent adhesiveness or conductivity after initial and reliability tests, even when heat-cured at 150 ° C. or lower.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 접착제가 점착 특성을 갖는 실리콘 화합물, 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 경화제를 성분으로서 함유함으로써, 상기 목적에 적합한 접착제를 얻을 수 있다는 지견을 얻어 본 발명을 완성하기에 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors discovered that the adhesive suitable for the said objective can be obtained by containing as a component the silicone compound which has an adhesive characteristic, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a hardening | curing agent. Thus, the present invention was completed.

즉, 본 발명은 이하와 같다. That is, this invention is as follows.

(1) 점착 특성을 갖는 실리콘 화합물, 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 경화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제(1) An adhesive comprising a silicone compound having an adhesive property, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a curing agent

(2) 추가로, 도전 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 접착제(2) Furthermore, the adhesive agent as described in (1) characterized by containing electroconductive particle.

(3) 상기 에폭시 수지가 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 (1) 또는 (2) 에 기재된 접착제.(3) The adhesive according to (1) or (2), wherein the epoxy resin contains a tetramethylbiphenol type epoxy resin.

(4) 상기 에폭시 수지가 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(4) The adhesive according to any one of (1) to (3), wherein the epoxy resin contains a dicyclopentadiene type epoxy resin.

(5) 상기 실리콘 화합물의 평균 중량 분자량이 100 만 이하인 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(5) The average weight molecular weight of the said silicone compound is 1 million or less, The adhesive in any one of (1)-(4) characterized by the above-mentioned.

(6) 상기 실리콘 화합물의 평균 중량 분자량이 60 만 이하인 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(6) The adhesive according to any one of (1) to (5), wherein the average weight molecular weight of the silicone compound is 600,000 or less.

(7) 상기 실리콘 화합물이 에폭시 변성 실리콘이 아닌 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(7) The adhesive according to any one of (1) to (6), wherein the silicone compound is not epoxy modified silicone.

(8) 상기 도전 입자가 평균 입자 직경 1 내지 20 ㎛ 의 도전 입자인 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(8) The adhesive according to any one of (1) to (7), wherein the conductive particles are conductive particles having an average particle diameter of 1 to 20 µm.

(9) 상기 경화제가 잠재성 경화제인 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(9) The adhesive according to any one of (1) to (8), wherein the curing agent is a latent curing agent.

(10) 도전 입자를 0.1 체적% 이상 30 체적% 미만 함유하고, 이방 도전성을 나타낼 수 있는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(10) The adhesive according to any one of (1) to (9), wherein the conductive particles contain 0.1 vol% or more but less than 30 vol% and exhibit anisotropic conductivity.

(11) 도전 입자를 30 체적% 이상 80 체적% 이하를 함유하는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 접착제.(11) The adhesive according to any one of (1) to (10), wherein the conductive particles contain 30% by volume to 80% by volume.

(12) (1) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 접착제를 도전 전극을 갖는 기재 또는 도전 전극 상에 배치하고, 전자 부품을 가열 압착하는 것을 특징으로 하는 접합체의 제조 방법.(12) A method for producing a joined body, wherein the adhesive according to any one of (1) to (11) is disposed on a substrate having a conductive electrode or a conductive electrode, and the electronic component is heat-pressed.

(13) (12) 에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 접합체.(13) A conjugate produced by the production method described in (12).

본 발명의 접착제는 150 ℃ 이하라는 저온에서 가열 경화시켜도, 초기 및 신뢰성 시험 후에 접착력이 우수하고, 또는 또한 도전성이 우수하다는 효과를 갖는다.Even if the adhesive agent of this invention is heat-hardened at 150 degrees C or less at low temperature, it has the effect that it is excellent in adhesive force after an initial stage and a reliability test, or also excellent in electroconductivity.

본 발명의 접착제는, 적어도 점착 특성을 갖는 실리콘 화합물, 에폭시 수지, 페녹시 수지 및 경화제를 함유한다. The adhesive agent of this invention contains the silicone compound, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a hardening | curing agent which have at least adhesive characteristics.

점착 특성을 갖는 실리콘 화합물로는, 실리콘 점착제를 사용한다. 그 점착 특성은, 150 내지 1800 g/inch 인 것이 바람직하다. 점착 특성의 평가 조건은, 50 ㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름에, 경화 후에 40 ㎛ 가 되도록 실리콘 점착제를 도포하여 점착 시트를 제조하고, 스테인리스판에 점착 시트의 실리콘 점착제로 이루어지는 층을 접착시켜, 23 ℃ 에서 30 분 방치한 후, 0.3 m/min 으로 160 °로 박리할 때의 값이다. As a silicone compound which has adhesive characteristics, a silicone adhesive is used. It is preferable that the adhesive characteristic is 150-1800 g / inch. The conditions for evaluation of the adhesion characteristics were to apply a silicone pressure-sensitive adhesive to a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 μm so as to be 40 μm after curing, to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet, and to adhere a layer of the silicone pressure-sensitive adhesive of the pressure-sensitive adhesive sheet to a stainless steel plate. It is the value at the time of peeling at 160 degree at 0.3 m / min, after leaving at 23 degreeC for 30 minutes.

점착 특성을 갖는 실리콘 화합물로는, 예를 들어, 부가 반응형 실리콘 점착제, 과산화물 경화형 실리콘 점착제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘 점착제란, 80 ~ 120 ℃ 에서 1 ~ 5 분만에 경화되는 특성을 갖는 실리콘 점착제이다. 그 중에서도, 부가 반응형 실리콘 점착제가 바람직하다. 부가 반응형 실리콘 점착제로는, 예를 들어 토오레 다우코닝사 제조의 SD4580, SD4581, SD4584, SD4585, SD4586, SD4587, SD4890, SD4592, SD4560, BY24-738, BY24-740 을 들 수 있다. 본 발명에서 말하는 점착 특성을 갖는 실리콘 화합물은 에폭시 변성 실리콘이 아닌 것이 바람직하다. 실리콘 점착제의 평균 중량 분자량은 100 만 이하가 바람직하고, 60 만 이하가 적당한 점착성을 부여하기 때문에 더욱 바람직하다. 바람직하게는, 평균 중량 분자량이 1000 내지 60 만이다. 실리콘 점착제의 배합량은, 접착제 중에 0.01 ~ 20 체적% 함유하는 것이 바람직하고, 0.1 ~ 15 체적% 가 더욱 바람직하다. 접착성의 효과 발현의 관점에서 0.01 체적% 이상이 바람직하고, 에폭시 수지의 경화 저해를 방지한다는 관점에서 20 체적% 이하가 바람직하다. 본 발명에서 말하는 실리콘 점착제와 에폭시 수지도 병용함으로써 도전 입자의 고정화에 의한 도전성 확보와 우수한 접착력을 동시에 만족할 수 있다.As a silicone compound which has adhesive characteristics, an addition reaction type silicone adhesive and a peroxide curable silicone adhesive are mentioned, for example. An addition reaction type silicone adhesive is a silicone adhesive which has the characteristic of hardening in 80 to 120 degreeC in 1 to 5 minutes. Especially, an addition reaction type silicone adhesive is preferable. As addition reaction type silicone adhesive, Toray Dow Corning Corporation SD4580, SD4581, SD4584, SD4585, SD4586, SD4587, SD4890, SD4592, SD4560, BY24-738, BY24-740 are mentioned, for example. It is preferable that the silicone compound which has the adhesive characteristic mentioned in this invention is not epoxy modified silicone. As for the average weight molecular weight of a silicone adhesive, 1 million or less are preferable, and since 600,000 or less provide moderate adhesiveness, it is more preferable. Preferably, the average weight molecular weight is 1000 to 600,000. It is preferable to contain 0.01-20 volume% in an adhesive agent, and, as for the compounding quantity of a silicone adhesive, 0.1-15 volume% is more preferable. 0.01 volume% or more is preferable from a viewpoint of an adhesive effect expression, and 20 volume% or less is preferable from a viewpoint of preventing hardening inhibition of an epoxy resin. By using together the silicone adhesive and epoxy resin which are used in this invention, electroconductivity by the immobilization of electroconductive particle and excellent adhesive force can be satisfied simultaneously.

에폭시 수지란, 1 분자 중에 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물로서, 구체적으로는 비스페놀 A 형 수지, 비스페놀 F 형 수지, 나프탈렌형 수지, 비스페놀 S형 수지, 페놀 노볼락형 수지, 크레졸 노볼락형 수지, 지환식형 수지, 비페닐형 수지, 디시클로펜타디엔형 수지, 글리시딜아민형 수지, 글리시딜에스테르형 수지 등을 포함하는 것을 들 수 있다. An epoxy resin is a compound which has two or more epoxy groups in 1 molecule, specifically, a bisphenol-A resin, bisphenol F-type resin, naphthalene-type resin, bisphenol S-type resin, phenol novolak-type resin, cresol novolak-type resin, The thing containing alicyclic type resin, biphenyl type resin, dicyclopentadiene type resin, glycidylamine type resin, glycidyl ester type resin, etc. are mentioned.

그 중에서도 비스페놀 A 형 수지, 비스페놀 F 형 수지, 디시클로펜타디엔형 수지, 테트라메틸비페놀형 수지를 포함하는 것이 고접착성, 도전성의 고습도 신뢰성 시험하에서의 안정성 관점에서 더욱 바람직하다. 이들 수지는, 복수로 사용하는 것이 바람직하다.Among them, it is more preferable to include bisphenol A resin, bisphenol F resin, dicyclopentadiene type resin, and tetramethylbiphenol type resin from the viewpoint of stability under high adhesion and conductivity high humidity reliability test. It is preferable to use these resin in plurality.

테트라메틸비페놀형 에폭시 수지로는, 예를 들어 YX4000K, YX4000, YX4000H, YL612H, YL6640, YL6677 등을 들 수 있다. 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지로는, 비페닐 구조가 에테르 결합을 통하여 2 개 결합하여 이루어지는 구조를 갖는 것이 바람직하다. 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지의 배합량은, 접착제 성분 중 0.1 체적% 이상 40 체적% 이하가 바람직하다. As a tetramethyl biphenol type epoxy resin, YX4000K, YX4000, YX4000H, YL612H, YL6640, YL6677, etc. are mentioned, for example. The tetramethylbiphenol type epoxy resin preferably has a structure in which two biphenyl structures are bonded via an ether bond. As for the compounding quantity of tetramethyl biphenol type epoxy resin, 0.1 volume% or more and 40 volume% or less are preferable in an adhesive agent component.

또, 본 발명의 접착제는, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 함유함으로써, 고습도하에서 접속 신뢰성의 저하를 방지할 수 있다. 또, 이방 도전성 접착제나 도전성 접착제로서 사용하는 경우에는, 흡습에 의한 도전성 입자의 열화도 억제할 수 있다는 점에 있다. 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지의 배합량은, 접착제 중에 1 ~ 40 체적% 가 바람직하다.Moreover, it is preferable that the adhesive agent of this invention contains a dicyclopentadiene type epoxy resin. By containing a dicyclopentadiene type epoxy resin, the fall of connection reliability can be prevented under high humidity. Moreover, when using as an anisotropically conductive adhesive agent or an electroconductive adhesive agent, it exists in the point that deterioration of the electroconductive particle by moisture absorption can also be suppressed. As for the compounding quantity of a dicyclopentadiene type epoxy resin, 1-40 volume% is preferable in an adhesive agent.

본 발명의 접착제는, 페녹시 수지를 함유한다. 페녹시 수지로는, 분자량 10000 내지 200000 이하를 함유하고 있는 것이 용해성이나 취급성에서 바람직하다. 구체적으로는, 비스페놀 A 형 페녹시 수지, 비스페놀 F 형 페녹시 수지, 카프로락탐 변성 페녹시 수지, 폴리올 변성 페녹시 수지를 들 수 있다. 또, 필요에 따라 아크릴 수지, 에폭시 변성 아크릴 수지 등을 첨가하여 사용할 수도 있다. 페녹시 수지의 배합량은, 접착제 성분 중 5 ~ 70 체적% 가 바람직하다. The adhesive agent of this invention contains a phenoxy resin. As a phenoxy resin, what contains molecular weight 10000-20000 or less is preferable at the solubility and the handleability. Specific examples include bisphenol A type phenoxy resins, bisphenol F type phenoxy resins, caprolactam modified phenoxy resins, and polyol modified phenoxy resins. Moreover, an acrylic resin, an epoxy modified acrylic resin, etc. can also be added and used as needed. As for the compounding quantity of phenoxy resin, 5-70 volume% is preferable in an adhesive component.

본 발명의 접착제에 사용하는 경화제는, 상기 에폭시 수지를 경화시킬 수 있는 것이면 된다. 본 발명의 접착제는 가열 경화를 실시하는 경우에는, 사용 개시까지의 보존성을 위하여 잠재성 경화제를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 예를 들어 산무수물, 폴리아민, 아민 화합물, 페놀 화합물, 이미다졸류를 사용하는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 마이크로 캡슐화 경화제가 보다 바람직하다.The hardening | curing agent used for the adhesive agent of this invention should just be what can harden the said epoxy resin. When performing the heat-hardening of the adhesive agent of this invention, it is more preferable to use a latent hardening | curing agent for the storage property until a use start. For example, it is preferable to use an acid anhydride, a polyamine, an amine compound, a phenol compound, and imidazole. Especially, a microcapsule hardening | curing agent is more preferable.

경화제의 배합량은, 에폭시 수지 총량 100 체적% 에 대하여 5 ~ 400 체적% 가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5 ~ 300 체적% 이다. As for the compounding quantity of a hardening | curing agent, 5-400 volume% is preferable with respect to 100 volume% of epoxy resin total amounts, More preferably, it is 5-300 volume%.

또, 필요에 따라, 공지된 실란 커플링제나 티타늄 커플링제, 알루미늄 커플링제를 사용할 수 있다. 실란 커플링제로는, 예를 들어 KBM403, KBE403, KBE9103, KBM9103, KBM903, KBE903, KBE573, KBM573 등을 사용할 수 있다. 커플링제로는, 접착제 100 체적% 당 0.01 내지 10 체적% 가 바람직하다. Moreover, a well-known silane coupling agent, a titanium coupling agent, and an aluminum coupling agent can be used as needed. As a silane coupling agent, KBM403, KBE403, KBE9103, KBM9103, KBM903, KBE903, KBE573, KBM573, etc. can be used, for example. As a coupling agent, 0.01-10 volume% is preferable per 100 volume% of adhesive agents.

또한, 본 발명의 접착제는, 도전 입자를 함유하는 것이다. 도전 입자로는, 그 평균 입자 직경이 1 ~ 20 ㎛ 인 것이 바람직하다. 또, 접착제로서 필름 형상으로 한 경우의 취급성의 관점에서, 20 ㎛ 이하가 바람직하다. 가열 접속시에 접속 전극간에서의 높이 불균일을 흡수하여, 충분한 전기적인 접속을 얻는다는 관점에서, 평균 입자 직경은 1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 2 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이다. 도전 입자의 평균 입자 직경은, 기류식 입도 분포계 (RODOS SR) 의 레이저 회절에 의해 측정된 체적 적산 입도 분포의 적산값 50 % 에 있어서의 값을 사용한다.In addition, the adhesive agent of this invention contains electroconductive particle. As electroconductive particle, it is preferable that the average particle diameter is 1-20 micrometers. Moreover, 20 micrometers or less are preferable from a viewpoint of the handleability at the time of making into a film form as an adhesive agent. From a viewpoint of absorbing the height nonuniformity between connection electrodes at the time of a heating connection, and obtaining sufficient electrical connection, 1 micrometer-10 micrometers are more preferable in average particle diameter. More preferably, they are 2 micrometers or more and 10 micrometers or less. The average particle diameter of an electrically-conductive particle uses the value in 50% of the integrated value of the volume integrated particle size distribution measured by the laser diffraction of an airflow particle size distribution system (RODOS SR).

도전 입자로는, 공지된 도전 입자를 사용할 수 있다. 도전 입자로는, 예를 들어 플라스틱 입자 상에 니켈이나 금, 구리, 은을 도금한 입자나, 구리, 은, 니켈, 금, 주석, 땜납, 납프리 땜납 가루나 이들 입자 상에 도금한 입자를 사용할 수 있다. 그 중에서도 금속 입자, 특히 구리, 은, 구리 또는 은의 합금이 유연하고 또한 비파괴성이기 때문에 바람직하고, 그 때문에 0.5 ㎫ 이하의 저압에서의 접속도 가능하며, 플렉시블 기재 상의 ITO 나 IZO 전극을 파괴하지 않는다는 이점을 갖는다.As the conductive particles, known conductive particles can be used. Examples of the conductive particles include particles coated with nickel, gold, copper, and silver on plastic particles, copper, silver, nickel, gold, tin, solder, lead-free solder powder, and particles plated on these particles. Can be used. Among them, metal particles, in particular copper, silver, copper or silver alloys, are preferred because they are flexible and non-destructive, and therefore connection at low pressures of 0.5 MPa or less is also possible, and does not destroy ITO or IZO electrodes on the flexible substrate. Has

본 발명의 접착제는, 접착제 중에 도전 입자를 0.1 체적% 이상 30 체적% 미만 함유시키는 경우에는, 이방 도전성을 나타낼 수 있는 도전성 접착제 (이하, 「이방 도전성 접착제」라고 한다) 로서 사용할 수 있다. 도전 입자의 함유량은, 0.5 ~ 15 체적% 로 하는 것이 보다 바람직하다. 도전 입자의 체적% 는, 접착제의 질량을 측정하고, 또한 비중으로부터 환산할 수 있다. 또, 이방 도전성 접착제는 페이스트 형상, 혹은 필름 형상 중 어느 형태로 사용해도 된다.The adhesive agent of this invention can be used as a conductive adhesive (henceforth an "anisotropic conductive adhesive") which can exhibit anisotropic conductivity, when it contains 0.1 volume% or more and less than 30 volume% in electroconductive particle in an adhesive agent. As for content of electroconductive particle, it is more preferable to set it as 0.5-15 volume%. The volume% of the conductive particles measures the mass of the adhesive and can be converted from specific gravity. Moreover, you may use an anisotropically conductive adhesive in any form of paste shape or film shape.

필름 형상으로 사용하는 경우에는 접착제의 두께는 10 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 13 ㎛ 이상 35 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. When using in film form, it is preferable that they are 10 micrometers or more and 50 micrometers or less, and, as for the thickness of an adhesive agent, it is more preferable that they are 13 micrometers or more and 35 micrometers or less.

페이스트 형상으로 사용하는 경우에는, 적당한 용제 또는 반응성 희석제를 사용하여 적당한 점도로 조정한 후 사용하는 것이 바람직하다. 희석제로는, 액상의 비스페놀 A 형 에폭시 수지나 비스페놀 F 형 에폭시 수지나 경화제에 영향을 주지 않는 용제를 사용하는 것이 바람직하다. 용제로는, 예를 들어 톨루엔, 아세트산에틸, γ-부티로락톤 등을 포함하는 것이 바람직하다. 용제 등은, 본 발명에서 말하는 접착제의 주입 체적% 로부터는 제외된다. When using in paste form, it is preferable to use after adjusting to a suitable viscosity using a suitable solvent or a reactive diluent. As a diluent, it is preferable to use the solvent which does not affect a liquid bisphenol-A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, and a hardening | curing agent. As a solvent, it is preferable to contain toluene, ethyl acetate, (gamma) -butyrolactone, etc., for example. A solvent etc. are excluded from the injection volume% of the adhesive agent in this invention.

제 1 도전 전극을 갖는 기재, 예를 들어 FPC, 또는 전자 부품, 예를 들어 IC 칩으로 대표되는 전자 부품을 제 2 도전 전극을 갖는 기재 상에 이방 도전성 접착제를 사용하여 접속시키는 경우에는, 제 2 도전 전극을 갖는 기재 상에 디스펜서나 시린지를 사용하여 이방 도전성 접착제를 적당량 도포하고, 제 1 도전 전극을 갖는 기재 또는 전자 부품과, 제 2 도전 전극을 갖는 기재의 대향 전극의 위치를 맞춘 후에 제 1 도전 전극을 갖는 기재 또는 전자 부품측으로부터 가열하여 경화시키는 방법이 바람직하다. 또한, 이 방법에 의해, 제 1 도전 전극을 갖는 기재와 제 2 도전 전극을 갖는 기재의 접합체가 얻어진다.When connecting the base material which has a 1st conductive electrode, for example FPC, or an electronic component represented by an electronic component, for example, an IC chip, using an anisotropic conductive adhesive on the base material which has a 2nd conductive electrode, After apply | coating an appropriate amount of anisotropic conductive adhesives on a base material with a conductive electrode using a dispenser or syringe, and after adjusting the position of the counter electrode of the base material or electronic component which has a 1st conductive electrode, and the base material which has a 2nd conductive electrode, The method of hardening by heating from the base material or electronic component side which has a conductive electrode is preferable. Moreover, by this method, the joined body of the base material which has a 1st conductive electrode, and the base material which has a 2nd conductive electrode is obtained.

이방 도전성을 갖는 접착제를 필름 형상으로 사용하는 경우에도 동일하게 하여, 제 2 도전 전극을 갖는 기재 상에 필름을 붙이고, 110 ~ 150 ℃ 의 가열, 0.2 ~ 3 ㎫ 의 가압에 의해 경화시키는 방법이 바람직하다. 또, 이 방법에 의해, 제 1 도전 전극을 갖는 기재와 제 2 도전 전극을 갖는 기재의 접합체가 얻어진다.Also in the case of using an adhesive having an anisotropic conductivity in the form of a film, a method of attaching a film on a substrate having a second conductive electrode and curing by heating at 110 to 150 ° C. and pressing at 0.2 to 3 MPa is preferable. Do. Moreover, by this method, the joined body of the base material which has a 1st conductive electrode, and the base material which has a 2nd conductive electrode is obtained.

제 1 도전 전극을 갖는 기재, 전자 부품, 및 제 2 도전 전극을 갖는 기재에 형성된 전극은, ITO, 구리, 금, 은, 알루미늄, 탄탈, 주석, 땜납, 티타늄, 니켈, IZ0 에서 선택된 1 종류 이상의 성분을 함유하여 이루어지는 전극인 것이 바람직하다. 이 경우에는, 제 1 도전 전극과 제 2 도전 전극은 동일해도 되고 상이해도 된다.The electrode formed on the substrate having the first conductive electrode, the electronic component, and the substrate having the second conductive electrode may be at least one selected from ITO, copper, gold, silver, aluminum, tantalum, tin, solder, titanium, nickel, and IZ0. It is preferable that it is an electrode containing a component. In this case, the first conductive electrode and the second conductive electrode may be the same or different.

또한, 본 발명의 이방 도전성 접착제는, 제 1 도전 전극을 갖는 기재, 및 제 2 도전 전극을 갖는 기재의 적어도 일방이 내열성이 부족한 플렉시블 기재에서도 사용할 수 있다. 내열성이 부족한 플렉시블 기재란, 160 ℃ 이상에서의 가열에 견딜 수 없는 기재이며, 예를 들어 PET 필름, PC 필름이다. Moreover, the anisotropically conductive adhesive agent of this invention can be used also in the flexible base material in which at least one of the base material which has a 1st conductive electrode, and the base material which has a 2nd conductive electrode lacks heat resistance. The flexible base material lacking heat resistance is a base material which cannot endure heating at 160 degreeC or more, for example, PET film and PC film.

또한, 본 발명의 접착제는, 접착제 중에 도전 입자를 30 ~ 80 체적% 함유시켜 도전성 접착제로서 사용할 수 있다. 도전 입자의 함유량은, 40 체적% ~ 60 체적% 로 하는 것이 보다 바람직하다. In addition, the adhesive agent of this invention can contain 30-80 volume% of conductive particles in an adhesive agent, and can be used as a conductive adhesive agent. As for content of electroconductive particle, it is more preferable to set it as 40 volume%-60 volume%.

제 1 도전 전극을 갖는 기재, 예를 들어 FPC, 또는 전자 부품, 예를 들어 IC 칩으로 대표되는 전자 부품을, 제 2 도전 전극을 갖는 기재 상에 도전성 접착제를 사용하여 접속시키는 경우에는, 도전성 접착제를 제 1 도전 전극을 갖는 기재, 또는 전자 부품이나, 제 2 도전 전극을 갖는 기재의 전극 상에 도포나 인쇄에 의해 바르고, 110 ~ 150 ℃ 에서 가열 경화시키는 방법을 사용할 수 있다. 이 때에는, 필요에 따라 0.2 ~ 3 ㎫ 로 가압할 수도 있다. 또한, 이 방법에 의해, 제 1 도전 전극을 갖는 기재, 제 2 도전 전극을 갖는 기재, 및 접착제를 갖는 접합체가 얻어진다. In the case of connecting a substrate having a first conductive electrode, for example, an FPC or an electronic component represented by an electronic component, for example, an IC chip, using a conductive adhesive on a substrate having a second conductive electrode, a conductive adhesive Can be applied by coating or printing on a substrate having a first conductive electrode, an electronic component, or a substrate having a second conductive electrode by coating or printing, and a method of heating and curing at 110 to 150 ° C can be used. At this time, you may pressurize to 0.2-3 Mpa as needed. Moreover, by this method, the base material which has a 1st conductive electrode, the base material which has a 2nd conductive electrode, and the bonding body which has an adhesive agent are obtained.

예를 들어, 내열성이 부족한 필름을 사용한 플렉시블 기재 상의 ITO 전극 접속에 있어서, 150 ℃ 이하라는 저온에서 접속시킨 경우에도 접착성이 우수한 접합체가 생성되게 되었다. For example, in the ITO electrode connection on the flexible base material using the film lacking heat resistance, even when it connected at 150 degrees C or less, the joined body which was excellent in adhesiveness was produced.

특히, 접속 전극을 갖는 기판으로서 폴리이미드 수지층에 구리박을 적층시킨 구성을 갖는 2 층 폴리이미드 플렉시블 기판을, 피접속 전극을 갖는 기재로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름이나 폴리카보네이트 (PC), 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN), 폴리에틸렌술파이드 (PES) 와 같은 투명성은 높지만 내열성이 낮은 필름 기재 (특히, PET, PC 필름) 를 사용한 기재끼리를 본 발명의 접착제를 사용하여 접합시키는 것에 적합하다.In particular, a two-layer polyimide flexible substrate having a structure in which a copper foil is laminated on a polyimide resin layer as a substrate having a connecting electrode is used, and a polyethylene terephthalate (PET) film, polycarbonate (PC), It is suitable for joining substrates using film substrates (particularly PET and PC films) having high transparency but low heat resistance, such as polyethylene naphthalate (PEN) and polyethylene sulfide (PES), using the adhesive of the present invention.

이하에 본 발명의 실시형태의 구체예를 실시예에 기초하여 설명한다.The specific example of embodiment of this invention is described below based on an Example.

실시예 및 비교예에서 사용한 접착제의 원료 성분은 이하와 같다. The raw material component of the adhesive agent used by the Example and the comparative example is as follows.

비스페놀 A 형 에폭시 수지 (아사히 화성 케미컬즈 (주) 제조, AER2600) Bisphenol A epoxy resin (manufactured by Asahi Chemical Chemicals, Ltd., AER2600)

비스페놀 F 형 에폭시 수지 (닛폰 카야쿠 (주) 제조 RE-303S)Bisphenol F type epoxy resin (RE-303S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

나프탈렌형 에폭시 수지 (다이닛폰 잉크 (주) 제조 HP-4032D)Naphthalene type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink, Inc. HP-4032D)

테트라메틸비페놀형 에폭시 수지 (재팬 에폭시 레진사 제조 YX4000K)Tetramethylbiphenol type epoxy resin (YX4000K made in Japan epoxy resin company)

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 (다이닛폰 잉크 (주) 제조 HP7200)Dicyclopentadiene type epoxy resin (HP7200 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)

비스페놀 A 형 페녹시 수지 (인케무 (주) 제조 PKHC, PKFE, PKHB)Bisphenol A type phenoxy resin (PKHC, PKFE, PKHB manufactured by Inkemu Co., Ltd.)

폴리올 변성 페녹시 수지 (인케무 (주) 제조 PKHM301)Polyol modified phenoxy resin (PKHM301 manufactured by Inkemu Co., Ltd.)

잠재성 경화제 (아사히 화성 케미컬즈 (주) 제조 HX3932HP 마이크로 캡슐형 이미다졸 (잠재성 경화제))Latent curing agent (HX3932HP microcapsule imidazole (as latent curing agent) manufactured by Asahi Chemicals Co., Ltd.))

실란 커플링제 (신에츠 화학 (주) 제조 KBM403, KBM903) Silane coupling agent (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product KBM403, KBM903)

실리콘 점착제 (토오레 다우코닝 제조 SD4580, SD4560) (평균 중량 분자량 20 내지 50 만) Silicone Adhesive (SD4580, SD4560 manufactured by Toray Dow Corning) (Average weight molecular weight 20-500,000)

KMP594 실리콘 고무 입자 (신에츠 화학사 제조) (평균 중량 분자량 > 100 만)KMP594 silicone rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (average weight molecular weight> 1 million)

에폭시 변성 실리콘 수지 (토오레 다우코닝사 제조 BY16-855) Epoxy Modified Silicone Resin (TO16 Dow Corning, BY16-855)

아크릴 수지 (미츠비시 레이온사 제조 다이야날) Acrylic resin (Diatal manufactured by Mitsubishi Rayon)

(도전 입자) (Conductive particles)

은 구리 합금 가루 평균 3 ㎛ Silver Copper Alloy Powder Average 3 ㎛

금 도금 플라스틱 입자 평균 8 ㎛ Gold Plated Plastic Particles Average 8 μm

금/니켈 도금 구리 입자 평균 10 ㎛Gold / Nickel Plated Copper Particles Average 10 μm

<실시예 1 ~ 4, 비교예 4 및 5 > <Examples 1-4, Comparative Examples 4 and 5>

[표 1] 에 나타내는 비율로 조성 1, 2, 3, 4, 5, 6 을 아세트산에틸 용제를 사용하여 두께 50 ㎛ 의 PET 상에 도포하고, 60 ℃ 10 분 공기 중 건조시켜, 아세트산에틸의 용제를 비산시켰다. 이렇게 하여, 35 ㎛ 두께의 이방 도전성 접착제를 제조하였다. Compositions 1, 2, 3, 4, 5, and 6 were applied onto a 50 μm thick PET using an ethyl acetate solvent at a ratio shown in Table 1, dried at 60 ° C. for 10 minutes in air, and a solvent of ethyl acetate. Was scattered. In this way, an anisotropically conductive adhesive having a thickness of 35 μm was prepared.

또, 시험 접속 기재로서, 다음의 기재를 사용하였다. In addition, the following description was used as a test connection base material.

(제 1 도전 전극을 갖는 기재) (Base material having first conductive electrode)

구리박 부착 폴리이미드 플렉시블 기판 (2 층 타입) (200 ㎛ 피치 구리박 배선 상에 니켈 금 도금을 표면에 실시한 것) Polyimide flexible substrate with copper foil (two-layer type) (thing which performed nickel gold plating on the surface on 200 micrometer pitch copper foil wiring)

(제 2 도전 전극을 갖는 기재) (Base material having second conductive electrode)

PET 필름 상에 IT0 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/실시예 1Substrate (300 GPa sheet resistance) on which PET electrode was formed on PET film / Example 1

PET 필름 상에 ITO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/실시예 2Substrate (300 GPa sheet resistance) with ITO electrode formed on PET film / Example 2

PC 필름 상에 IZO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/실시예 3Substrate (300 GPa sheet resistance) with IZO electrode formed on PC film / Example 3

PC 필름 상에 IZO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/실시예 4Substrate (300 kW sheet resistance) with IZO electrode formed on PC film / Example 4

PC 필름 상에 IZO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/비교예 4Base material with IZO electrode formed on PC film (300 전극 sheet resistance) / Comparative Example 4

PC 필름 상에 IZO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/비교예 5Substrate with IZO electrode formed on PC film (300 Ω sheet resistance) / Comparative Example 5

상기한 제 1 도전 전극을 갖는 기재와 제 2 도전 전극을 갖는 기재를 이방 도전성 접착제를 사용하여 접합시켰다. The base material which has said 1st conductive electrode, and the base material which has a 2nd conductive electrode were bonded together using an anisotropic conductive adhesive.

접합은, 제 2 도전 전극을 갖는 기재에 필름 형상의 이방 도전성 접착제를 붙이고, 제 1 도전 전극을 갖는 기재인 상기 플렉시블 기재측으로부터 130 ℃, 30 초, 1.5 ㎫ 로 1.5 ㎜ 헤드로 가열 가압함으로써 실시하였다. Bonding is performed by attaching a film-shaped anisotropic conductive adhesive to a substrate having a second conductive electrode and heating and pressing it with a 1.5 mm head at 130 ° C., 30 seconds, and 1.5 MPa from the flexible substrate side which is the substrate having the first conductive electrode. It was.

이와 같이 하여 얻은 접합체에 대하여 초기 접속 저항값 및 접속 신뢰성 테스트 후 (85 ℃ 85 % 에서 200 시간 방치 후) 의 저항값을 평가하였다.Thus, the resistance value after the initial stage connection resistance value and the connection reliability test (after leaving for 200 hours at 85 degreeC 85%) was evaluated about the joined body thus obtained.

접속 저항은 히오키 9455 형 멀티미터를 사용하여 4 단자법으로 측정하였다. 측정은, 폴리이미드측의 1 쌍의 구리박의 저항을 4 쌍 측정하여 평균값을 구하였다. 결과를 [표 2] 에 나타낸다.Connection resistance was measured by the 4-probe method using a Hioki 9455 type multimeter. The measurement measured 4 pairs of resistance of a pair of copper foil on the polyimide side, and calculated | required the average value. The results are shown in [Table 2].

초기 접속 저항값에 대해서는, 50 Ω 이하인 경우를 「양호」로 하고, 50 Ω 을 초과하는 경우에는 「불량」으로 하였다. About the initial stage connection resistance value, it set it as "good | favorableness" when it was 50 kPa or less, and made it "bad" when it exceeded 50 kV.

접속 신뢰성 테스트 후의 저항값에 대해서는, 접속 저항값이 100 Ω 을 초과하는 경우, 접속 신뢰성은 「불량」으로 하고, 100 Ω 이하인 경우에는 접속 신뢰성은 「양호」로 하였다. Regarding the resistance value after the connection reliability test, when the connection resistance value exceeded 100 kV, the connection reliability was "bad", and when it was 100 kV or less, the connection reliability was "good".

접착성 시험에 대해서는, 초기 접착성 및 상기 접속 신뢰성 테스트 후 접착성을 시마즈 제작소 제조 오토그래프 AGS-50 을 사용하여 인장 속도 100 ㎜/min 으로, 90 도 박리 조건으로 측정하였다. 이 때, 초기 접착성은, 0.5 kgf/㎝ 이상인 경우를 「양호」로 하고, 접속 신뢰성 테스트 후의 접착성은, 0.4 kgf/㎝ 이상인 경우를 「양호」로 하였다.About the adhesion test, the adhesiveness after the initial stage adhesiveness and the said connection reliability test was measured on 90 degree peeling conditions by the tensile speed of 100 mm / min using Shimadzu Corporation Autograph AGS-50. At this time, initial adhesiveness was made into "good" the case of 0.5 kgf / cm or more, and adhesiveness after the connection reliability test was made into "good" the case of 0.4 kgf / cm or more.

<비교예 1, 2><Comparative Examples 1 and 2>

[표 1] 에 나타내는 비율로 조성 7, 8 을 제조하고, 두께 50 ㎛ 의 PET 필름 상에 바 코트를 사용하여 도포하고, 60 ℃ 10 분간 건조시켜 35 ㎛ 두께의 필름 형상의 이방 도전성 접착제를 얻었다. Compositions 7 and 8 were prepared at the ratios shown in Table 1, applied using a bar coat on a 50 μm-thick PET film, and dried at 60 ° C. for 10 minutes to obtain a 35 μm-thick film-shaped anisotropic conductive adhesive. .

시험 접속 기재로서, 다음의 기재를 사용하였다. The following description was used as a test connection base material.

(제 1 도전 전극을 갖는 기재) (Base material having first conductive electrode)

구리박 부착 폴리이미드 플렉시블 기판 (200 ㎛ 피치로 구리박 상에 니켈 금 도금을 표면에 실시한 것) Polyimide flexible substrate with copper foil (nickel gold plating on the surface of copper foil at 200 μm pitch)

(제 2 도전 전극을 갖는 기재) (Base material having second conductive electrode)

PC 필름 상에 IZO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/비교예 1Base material with IZO electrode formed on PC film (300 O sheet resistance) / Comparative Example 1

PC 필름 상에 IZO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/비교예 2Base material with IZO electrode formed on PC film (300 전극 sheet resistance) / Comparative Example 2

실시예 1 과 동일하게 하여, 상기한 제 1 도전 전극을 갖는 기재와 제 2 도전 전극을 갖는 기재를 접합시키고, 얻어진 접합체에 대하여 초기 접속 저항값 및 접속 신뢰성 테스트 후의 저항값을 평가하였다. 결과를 [표 2] 에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, the substrate having the first conductive electrode and the substrate having the second conductive electrode were bonded together, and the obtained bonded body was evaluated for the initial connection resistance value and the resistance value after the connection reliability test. The results are shown in [Table 2].

<실시예 7, 8><Example 7, 8>

[표 3] 에 나타내는 비율로 조성 9 및 10 을 제조하여, 도전성 접착제를 얻었다.Compositions 9 and 10 were produced at the ratio shown in Table 3, and a conductive adhesive was obtained.

시험 접속 기재로서, 다음의 기재를 사용하였다. The following description was used as a test connection base material.

(제 1 도전 전극을 갖는 기재) (Base material having first conductive electrode)

칩 콘덴서/실시예 7Chip Capacitors / Example 7

IC (금 스터드 범프)/실시예 8IC (gold stud bump) / Example 8

(제 2 도전 전극을 갖는 기재)(Base material having second conductive electrode)

PET 필름 상에 ITO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/실시예 7Substrate (300 GPa sheet resistance) with ITO electrode formed on PET film / Example 7

PET 필름 상에 ITO 전극이 형성된 기재 (300 Ω 시트 저항)/실시예 8Substrate With ITO Electrode Formed On PET Film (300 GPa Sheet Resistance) / Example 8

접합은, 제 2 도전 전극을 갖는 기재에 도전성 접착제를 도포하고, 제 1 도전 전극을 갖는 기재인 상기 플렉시블 기재측으로부터 130 ℃, 60 초, 0.5 ㎫ 로 1.5 ㎜ 헤드로 가압 가열함으로써 실시하였다. Bonding was apply | coated by apply | coating a conductive adhesive to the base material which has a 2nd conductive electrode, and heating by pressurizing with a 1.5 mm head at 130 degreeC, 60 second, and 0.5 Mpa from the said flexible base material side which is a base material which has a 1st conductive electrode.

이와 같이 하여 얻어진 접합체에 대하여 실시예 1 과 동일하게 하여 초기 접속 저항값 및 신뢰성 테스트 후의 저항값을 평가하였다. 결과를 [표 4] 에 나타낸다. 동일하게, 조성 7 을 사용한 실험 결과를 [표 4] 의 비교예 3 에 나타낸다. Thus, the initial stage connection resistance value and the resistance value after the reliability test were evaluated like Example 1 about the obtained bonded body. The results are shown in [Table 4]. Similarly, the experimental result using the composition 7 is shown in the comparative example 3 of [Table 4].

도전성 접착제 평가 기준으로는, 초기 접속 저항값에 대해서는, 1 Ω 이하인 경우를 「양호」로 하고, 1 Ω 을 초과한 경우를 「불량」으로 하였다. 접속 신뢰성 테스트 후 (85 ℃ 습도 85 % 에서 200 시간 방치 후) 의 저항값에 대해서는, 접속 저항값이 10 Ω 을 초과하는 경우에는, 접속 신뢰성은 「불량」으로 하고, 10 Ω 이하인 경우, 접속 신뢰성은 「양호」로 하였다. As an electroconductive adhesive evaluation standard, about the initial stage connection resistance value, the case where it was 1 Pa or less was made into "good | favorableness", and the case exceeding 1 Pa was made into "bad." Regarding the resistance value after the connection reliability test (after being left for 200 hours at 85 ° C humidity of 85%), when the connection resistance value exceeds 10 kV, the connection reliability is "bad", and when it is 10 kPa or less, the connection reliability Was "good".

접착성 시험에 대해서는, 초기 접착성 및 상기 접속 신뢰성 테스트 후의 접착성을 시마즈 제작소 제조 오토그래프 AGS-50 을 사용하여 인장 속도 100 ㎜/min 으로, 90 도 박리 조건으로 측정하였다. 이 때, 초기 접착성은, 1 kgf/㎝ 이상인 경우를 양호로 하고, 접속 신뢰성 테스트 후의 접착성은, 0.5 kgf/㎝ 이상인 경우를 양호로 하였다.About the adhesive test, the initial stage adhesiveness and the adhesiveness after the said connection reliability test were measured on 90 degree peeling conditions at the tensile speed of 100 mm / min using Shimadzu Corporation Autograph AGS-50. At this time, initial adhesiveness was made into the case of 1 kgf / cm or more favorable, and adhesiveness after the connection reliability test made the case of 0.5 kgf / cm or more favorable.

Figure 112010006023691-pct00001
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Figure 112010006023691-pct00003
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Figure 112010006023691-pct00004
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본 발명의 접착제는 전자 페이퍼, 웨어러블 디스플레이, 유기 EL 이나 액정의 플렉시블 디스플레이, 전자 부품의 플렉시블 기재에 대한 실장 등에 사용할 수 있다.The adhesive agent of this invention can be used for electronic paper, a wearable display, the flexible display of organic electroluminescent or liquid crystal, the mounting to the flexible base material of an electronic component, etc.

Claims (13)

점착 특성이 150 내지 1800 g/inch 인 실리콘 화합물, 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 경화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제.An adhesive comprising a silicone compound having an adhesive property of 150 to 1800 g / inch, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a curing agent. 제 1 항에 있어서,
추가로, 도전 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제.
The method of claim 1,
The adhesive further contains conductive particles.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 에폭시 수지가 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 접착제.
The method according to claim 1 or 2,
And the epoxy resin comprises a tetramethylbiphenol type epoxy resin.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 에폭시 수지가 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 접착제.
The method according to claim 1 or 2,
Adhesive according to claim 1, wherein the epoxy resin comprises a dicyclopentadiene type epoxy resin.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 실리콘 화합물의 평균 중량 분자량이 100 만 이하인 것을 특징으로 하는 접착제.
The method according to claim 1 or 2,
An adhesive having an average weight molecular weight of the silicone compound of 1 million or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 실리콘 화합물의 평균 중량 분자량이 60 만 이하인 것을 특징으로 하는 접착제.
The method according to claim 1 or 2,
An adhesive having an average weight molecular weight of the silicone compound of 600,000 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 실리콘 화합물이 에폭시 변성 실리콘이 아닌 것을 특징으로 하는 접착제.
The method according to claim 1 or 2,
Adhesives, characterized in that the silicone compound is not epoxy modified silicone.
제 2 항에 있어서,
상기 도전 입자가 평균 입자 직경 1 내지 20 ㎛ 의 도전 입자인 것을 특징으로 하는 접착제.
The method of claim 2,
The said electrically-conductive particle is an adhesive agent characterized by the above-mentioned electrically-conductive particle of 1-20 micrometers of average particle diameters.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 경화제가 잠재성 경화제인 것을 특징으로 하는 접착제.
The method according to claim 1 or 2,
And the curing agent is a latent curing agent.
제 2 항에 있어서,
도전 입자를 0.1 체적% 이상 30 체적% 미만 함유하고, 이방 도전성을 나타낼 수 있는 것을 특징으로 하는 접착제.
The method of claim 2,
The adhesive agent containing conductive volume 0.1 volume% or more and less than 30 volume% and can show anisotropic conductivity.
제 2 항에 있어서,
도전 입자를 30 체적% 이상 80 체적% 이하를 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제.
The method of claim 2,
The adhesive agent containing 30 volume% or more and 80 volume% or less of electroconductive particle.
제 1 도전 전극을 갖는 기재, 제 2 도전 전극을 갖는 기재, 및 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 접착제를 갖는 접합체.The joined body which has the base material which has a 1st conductive electrode, the base material which has a 2nd conductive electrode, and the adhesive agent of Claim 1 or 2. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 접착제를, 도전 전극을 갖는 기판 또는 도전 전극 상에 배치하고, 전자 부품을 가열 압착하는 것을 특징으로 하는 접합체의 제조 방법.The adhesive agent of Claim 1 or 2 is arrange | positioned on the board | substrate or conductive electrode which has a conductive electrode, and the electronic component is heat-compression-bonded, The manufacturing method of the joined body characterized by the above-mentioned.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008041657A1 (en) * 2008-08-28 2010-03-04 Robert Bosch Gmbh Method for bonding components to form a temperature-resistant adhesive layer
JP2011057793A (en) * 2009-09-08 2011-03-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Adhesive composition, and sheet for forming semiconductor protective film using the same
JP5651625B2 (en) * 2012-03-21 2015-01-14 京都エレックス株式会社 Heat curable conductive paste composition
JP6382228B2 (en) * 2014-08-29 2018-08-29 古河電気工業株式会社 Conductive adhesive film
JP2016108461A (en) * 2014-12-08 2016-06-20 信越化学工業株式会社 Adhesive, die-bonding material composed of the adhesive, conductive connection method using the adhesive, optical semiconductor device obtained by the method
JP6352374B2 (en) * 2016-12-01 2018-07-04 ダウ・コーニング・タイワン・インコーポレイテッドDow Corning Taiwan Inc Pressure-sensitive adhesive sheets and methods for producing them
JP6800129B2 (en) 2017-11-07 2020-12-16 古河電気工業株式会社 Manufacturing method of semiconductor package using film-like adhesive and film-like adhesive
WO2020189579A1 (en) * 2019-03-18 2020-09-24 株式会社スリーボンド Adhesive composition, cured material and composite
CN114208034A (en) * 2019-07-29 2022-03-18 株式会社村田制作所 Crystal resonator, electronic component, and electronic device
KR20230100416A (en) * 2021-12-28 2023-07-05 주식회사 노피온 Anisotropic conductive adhesive for flexible circuit boards

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006028521A (en) * 2005-08-19 2006-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Addhesive for circuit connection

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0517729A (en) * 1991-07-11 1993-01-26 Nitto Denko Corp Adhesive tape
JPH06220413A (en) * 1993-01-21 1994-08-09 Murata Mfg Co Ltd Conductive adhesive and infrared detector made by using the same
TW392179B (en) * 1996-02-08 2000-06-01 Asahi Chemical Ind Anisotropic conductive composition
JP3417354B2 (en) * 1999-08-19 2003-06-16 ソニーケミカル株式会社 Adhesive material and circuit connection method
JP4433564B2 (en) * 2000-05-17 2010-03-17 日立化成工業株式会社 Adhesive for circuit connection
JP2003147287A (en) * 2001-11-14 2003-05-21 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film for connecting circuit
JP2004018720A (en) * 2002-06-18 2004-01-22 Mitsui Chemicals Inc Adhesive for semiconductor device
JP2004196991A (en) * 2002-12-19 2004-07-15 Shin Etsu Polymer Co Ltd Transparent silicone adhesive member for optical display and transparent laminate
JP4565821B2 (en) * 2003-07-08 2010-10-20 日本化薬株式会社 Adhesive composition
WO2005054388A1 (en) * 2003-12-04 2005-06-16 Asahi Kasei Emd Corporation Anisotropic conductive adhesive sheet and coupling structure
JP4626495B2 (en) * 2005-11-16 2011-02-09 日立化成工業株式会社 Adhesive for circuit connection

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006028521A (en) * 2005-08-19 2006-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Addhesive for circuit connection

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