KR101133017B1

KR101133017B1 - 원통형 고압처리기

Info

Publication number: KR101133017B1
Application number: KR1020100043660A
Authority: KR
Inventors: 유기풍; 이철수; 한갑수
Original assignee: 서강대학교산학협력단
Priority date: 2010-05-10
Filing date: 2010-05-10
Publication date: 2012-04-09
Also published as: WO2011142499A1; KR20110124079A

Abstract

본 발명은 원통형 고압처리기에 관한 것으로, 상하 개폐되며, 원통형의 처리공간부를 제공하는 내부챔버와, 상기 내부챔버가 닫힌 상태에서 상기 내부챔버의 기밀 상태를 견고하게 지지하며, 좌우개폐되는 외부챔버와, 상기 내부챔버를 상하 개폐하는 내부챔버구동부와, 상기 외부챔버를 좌우 개폐하는 외부챔버구동부와, 상기 내부챔버구동부와 상기 외부챔버구동부 및 상기 내부챔버의 일측을 고정 지지하는 지지프레임을 포함한다. 이와 같은 구성의 본 발명은 챔버 자체를 개폐하는 도어를 사용하지 않고, 챔버를 상부와 하부로 나누어 구성하고, 그 상부챔버 또는 하부챔버를 이동시켜 처리실을 개방 또는 밀폐시킬 수 있도록 구성함으로써, 고압처리가 이루어지는 처리실의 내부 공간을 완전한 원통형의 공간으로 제공할 수 있으며, 따라서 고압이 특정 위치에서 집중되는 것을 방지하여 누설방지특성을 향상시킴과 아울러 장치의 수명 단축을 방지하고, 안전성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

원통형 고압처리기{Cylindrical high-pressure treating device}

본 발명은 원통형 고압처리기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 내부 압력의 누설을 방지하고 압력의 집중 현상을 방지할 수 있는 원통형 고압처리기에 관한 것이다.

일반적으로, 고압 처리기는 이산화탄소를 사용하는 초임계 건식세정 및 건조에 사용되는 장치이며, 내부의 압력이 최대 300bar 정도가 된다. 따라서 이와 같은 고압을 유지할 수 있는 구조가 요구된다.

종래 고압 처리기는 이러한 고압의 유지 및 밀폐가 용이하지 않았으며, 특히 게이트 밸브를 챔버에 삽입하는 구조, 즉 챔버를 개폐하는 도어를 가지는 구조의 종래 고압 처리기는 장치의 크기가 증가하고, 가공비용이 많이 드는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 처리실 공간이 완전한 원통형의 구조를 가질 수 있는 원통형 고압처리기를 제공함에 있다.

또한 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 동시에 고압 처리할 수 있는 웨이퍼의 수량을 상대적으로 적은 공간에서 증가시킬 수 있는 원통형 고압처리기를 제공함에 있다.

아울러 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 보다 안전성을 높임과 아울러 누설방지의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 원통형 고압처리기를 제공함에 있다.

그리고 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 별도의 가열 수단을 외부에 부착하지 않고도 충분한 열을 공급하여 고압처리가 이루어질 수 있도록 하는 원통형 고압처리기를 제공함에 있다.

또한 본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는, 고압의 유체의 혼합을 보다 용이하게 하며, 열전달 효율을 개선할 수 있는 원통형 고압처리기를 제공함에 있다.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 상하 개폐되며, 원통형의 처리공간부를 제공하는 내부챔버와, 상기 내부챔버가 닫힌 상태에서 상기 내부챔버의 기밀 상태를 견고하게 지지하며, 좌우개폐되는 외부챔버와, 상기 내부챔버를 상하 개폐하는 내부챔버구동부와, 상기 외부챔버를 좌우 개폐하는 외부챔버구동부와, 상기 내부챔버구동부와 상기 외부챔버구동부 및 상기 내부챔버의 일측을 고정 지지하는 지지프레임을 포함한다.

상기와 같이 구성되는 본 발명 원통형 고압처리기는, 챔버 자체를 개폐하는 도어를 사용하지 않고, 챔버를 상부와 하부로 나누어 구성하고, 그 상부챔버 또는 하부챔버를 이동시켜 처리실을 개방 또는 밀폐시킬 수 있도록 구성함으로써, 고압처리가 이루어지는 처리실의 내부 공간을 완전한 원통형의 공간으로 제공할 수 있으며, 따라서 고압이 특정 위치에서 집중되는 것을 방지하여 누설방지특성을 향상시킴과 아울러 장치의 수명 단축을 방지하고, 안전성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한 본 발명 원통형 고압처리기는, 상기 챔버를 외부에서 지지하고, 밀폐 시키는 외부챔버를 더 포함하여 안전성을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

그리고 본 발명 원통형 고압처리기는, 상기 원통형 처리공간을 제공하는 챔버의 높이에 따라 처리할 수 있는 웨이퍼의 수가 결정되는 구조로서, 안전성 및 공정안정성을 확보한 상태로 상대적으로 더 많은 웨이퍼를 동시에 처리함이 가능하기 때문에 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

그리고 본 발명 원통형 고압처리기는, 챔버의 벽면 등에 직접 히터를 삽입 설치하여 고압처리에 필요한 열을 공급하며, 혼합기재를 사용하여 고압 유체를 챔버 내에서 혼합하여, 그 챔버의 외부에서 가열을 하는 방식 및 비혼합방식에 비하여 열전달효율이 우수하여 사용되는 에너지를 줄일 수 있으며, 장치의 크기를 보다 줄일 수 있는 효과가 있다.

도 1 내지 도 3은 각각 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원통형 고압처리기의 닫힌 상태 사시도, 열린상태 사시도 및 저면측 사시도이다.
도 4는 도 2에서 A-A 방향의 단면 구성도이고, 도 5는 도 2에서 B-B 방향의 단면 구성도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 상부내부챔버의 일부 단면 구성도이다.
도 7과 도 8은 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 상부내부챔버의 일부 단면 구성도이다.
도 9은 상부내부챔버의 다른 실시예의 구성도이다.
도 10는 본 발명의 다른 실시예에 따른 원통형 고압처리장치의 구성도이다.
도 11은 도 11의 일부 상세 구성도이다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명 원통형 고압처리장치의 구성과 작용을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 1 내지 도 3은 각각 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원통형 고압처리기의 닫힌 상태 사시도, 열린상태 사시도 및 저면측 사시도이다.

도 1 내지 도 3을 각각 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원통형 고압처리기는, 적어도 일측면이 오픈된 지지프레임(100)과, 상기 지지프레임(100)의 내측에 수용되어 외부챔버구동부(310)의 구동력을 연결부(120)를 통해 전달받아 이송가이드(110) 및 이송홈(140)을 따라 각각 좌우로 구동되는 제1외부챔버(210) 및 제2회부챔버(220)를 포함하는 외부챔버(200)와, 상기 외부챔버(200)의 내측에 위치하여 내부에 원통형 처리공간을 제공하며, 상기 지지프레임(100)의 상부에 위치하는 내부챔버구동부(330)에 상하 개폐되는 내부챔버(300)를 포함하여 구성된다.

상기 내부챔버(300)는 상기 내부챔버구동부(330)의 구동에 의해 상하 이동하는 상부내부챔버(310)와, 상기 지지프레임(100)의 바닥면에 고정되며 다수의 웨이퍼(400)를 실장하는 웨이퍼지지부(340)가 내부에 구비된 하부내부챔버(320)를 포함하여 구성된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원통형 고압처리기의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.

먼저, 지지프레임(100)은 상판, 하판 및 그 상판과 하판을 각각 연결하는 측면판을 구비하되, 웨이퍼(400)의 로딩 및 언로딩을 위하여 일측면부가 개방된 구조를 가질 수 있다.

도면에 도시한 바와 같이 오픈된 측면부와 마주하는 측면부 역시 개방된 형태가 바람직하다. 이는 장치의 유지 보수와 공정유체의 공급에 유리한 구조이다.

이와 같은 지지프레임(100)은 각 구성요소를 지지 및 가이드하는 것으로, 도면에 도시한 구성 이외에 다양한 변형된 실시예를 가질 수 있다. 예를 들어 설치 공간에 따라 상호 연결된 구조의 상판, 하판 및 측면판을 사용하지 않고, 상판과 하판만을 사용할 수도 있다.

상기 지지프레임(100)의 하판의 상면에는 상기 외부챔버(200)를 이루는 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)를 각각 안정적으로 직선이동시킬 수 있는 이송가이드(110)가 마련되어 있다. 이 이송가이드(110)는 LM 가이드 등 알려진 레일을 사용할 수 있다.

또한 그 지지프레임(100)의 하판에는 이송홈(140)이 마련되어 그 하판의 저면에 고정된 외부챔버구동부(130)의 작용에 의해 상기 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)가 각각 직선이동할 수 있도록, 그 제1외부챔버(210)와 외부챔버구동부(130)의 구동축, 제2외부챔버(220)와 구동부(130)의 구동축을 연결하는 연결부(120)가 이동할 수 있는 공간을 제공한다.

상기 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)의 형상은 상호 접한 상태에서 양측으로 상기 내부챔버(300)의 일부가 노출되도록 양측이 개방된 프레임 구조를 가지고 있으며, 이는 이후에 상세히 설명될 외부챔버(200)의 기능을 수행하면서 중량을 줄이고, 장치의 부피를 줄일 수 있는 구조이다.

그 다음, 상기 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)의 내측에 위치하는 내부챔버(300)는 상부내부챔버(310)와 하부내부챔버(320)로 이루어져 있다. 상기 상부내부챔버(310)는 상기 지지프레임(100)의 상판에 고정되는 내부챔버구동부(330)에 의해 상하 이동하며, 하부내부챔버(320)는 상기 지지프레임(100)의 하판 상에 고정되어 있다.

도면과 이후의 설명에서는 하나의 바람직한 실시예의 설명을 위하여 하부내부챔버(320)가 고정되고, 상부내부챔버(310)가 상하 이동하는 것으로 설명하겠지만, 그 반대로 하부내부챔버(320)가 상하 이동가능하고, 상부내부챔버(310)가 고정된 형태나, 하부내부챔버(320)와 상부내부챔버(310)가 모두 상하 이동하는 구조도 가능하다.

상기 하부내부챔버(320)와 상부내부챔버(310)의 형상은 그 외형이 원통형의 구조이며, 별도의 도어가 설치되지 않기 때문에 내부의 고압처리공간도 완전한 원통형의 구조를 가지고 있다.

이러한 원통형의 고압처리공간은 압력의 부분적인 집중현상을 방지하여 누설 및 장치의 수명단축을 방지할 수 있는 구조이다.

상기 하부내부챔버(320)에는 다수의 웨이퍼(400)를 고정하는 웨이퍼지지부(340)가 고정설치되어 있으며, 상기 상부내부챔버(310)가 상향 이동하고, 상기 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)가 오픈된 상태에서 다수의 웨이퍼(400)가 그 웨이퍼지지부(340)에 로딩 또는 언로딩 된다.

상기 하부내부챔버(320)에는 저면으로부터 내부까지 관통되는 혼합구동축(150)이 마련되어 있으며, 그 혼합구동축(150)을 통해 내부의 공정유체를 배출할 수 있는 배기노즐(160)이 마련되며, 도 1 내지 도 3에서는 도시되지 않았지만 이후에 상세히 설명할 공급노즐이 설치될 수 있다.

상기 설명과 같이 본 발명은 별도의 도어를 설치하지 않고, 고압처리공간을 제공하는 내부챔버(300)를 상호 상하 분리되는 상부내부챔버(310)와 하부내부챔버(320)를 포함하여 구성함으로써, 원통형의 고압처리공간을 제공하는 것이 용이하게 된다.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원통형 고압처리장치의 보다 구체적인 구성과 실링구조, 작용에 관하여 보다 더 상세하게 설명한다.

도 4는 도 2에서 A-A 방향의 단면 구성도이고, 도 5는 도 2에서 B-B 방향의 단면 구성도이다.

도 4 및 도 5를 각각 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원통형 고압처리장치는, 상기 상부내부챔버(310)의 구성은 상기 내부챔버구동부(330)에 의해 상하 이동되는 원판형의 이동블록(311)과, 상기 이동블록(311)과는 유격이 존재하는 상태로 결합되어 하향으로 연장되는 원통형의 유지블록(312)으로 구성된다.

또한 그 유지블록(312)에는 주공급노즐(350)이 관통되어 있어 외부에서 공정유체를 공급할 수 있도록 구성되어 있다. 이 주공급노즐(350) 이외에 보다 효율적인 공정유체의 공급을 위하여 상기 하부내부챔버(320)의 저면측에서 공정유체를 공급하는 공급노즐(170)이 마련될 수 있다.

상기 주공급노즐(350)과 공급노즐(170)을 통해 공급된 공정유체는 상기 웨이퍼(400)의 상부 및 하부측에서 공정유체를 공급하거나, 상기 웨이퍼(400)를 지지하는 웨이퍼지지부(340)에 마련된 공급로를 통해 웨이퍼(400)의 상부로 공급할 수 있는 방식을 사용할 수 있으나, 이러한 공급방식의 차이에 의해 본 발명은 한정되는 것은 아니다.

상기 혼합구동축(150)의 상부 끝단에는 임펠러(360)가 구비되어 있어 혼합구동축(150) 내의 회전축의 회전에 따라 공급된 공정유체를 혼합하여 보다 균일한 고압처리가 이루어질 수 있도록 한다.

도면에서는 기계적으로 구동되는 임펠러(360)를 혼합수단의 예로 들었으나, 임펠러(360) 이외에 외부 순환펌프를 이용하여 순환혼합하거나, 초음파(ultrasonic wave) 장치를 이용하여 강한 진동을 주거나, 공정유체의 압력을 급격하게 조절하여 공정유체를 유동시키는 구조의 혼합기재를 사용할 수 있다.

아울러 고압처리가 완료된 웨이퍼(400)를 언로딩하기 위해서는 공정유체를 배출할 필요가 있으며, 이를 위하여 상기 혼합구동축(150)에 연결되는 배기노즐(160)을 통해 배출한다. 여기서는 혼합구동축(150)에 연결되는 배기노즐(160)을 도시하고 설명하였으나, 그 배기노즐(160)이 직접 내부챔버(300)의 내측으로 연결되는 구조도 사용할 수 있다.

앞서 설명한 바와 같이 주공급노즐(350)과 공급노즐(170)을 통해 상기 내부챔버(300)의 내부로 공급된 공정유체는 그 압력이 공정압력으로 상승할 수 있도록 원통형 공간인 내부챔버(300)의 내에서 누설이 방지되어야 한다. 이와 같은 고압처리에서 사용하는 고압을 유지하기 위하여 본 발명은 상기 상부내부챔버(310)의 구조를 앞서 설명한 이동블록(311)과 유지블록(312)으로 분할된 구조를 사용하며, 이와 같은 구조의 상부내부챔버(310)의 구조의 누설 방지 작용을 설명하면 다음과 같다.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 상부내부챔버(310)의 일부 단면 구성도이다.

도 6을 참조하면 상부내부챔버(310)가 하부내부챔버(320)와 접한 상태에서 도면에는 생략되었으나, 외부챔버(200)가 닫힌 상태일 때, 그 이동블록(311)의 상면은 그 외부챔버(200)를 이루는 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)의 상부 저면에 접하여 고정된다.

상기 유지블록(312)은 측면일부가 돌출된 돌출부(311a)를 가지는 원판형 구조의 이동블록(311)이 삽입될 수 있도록 측면판(312b)과 상판(312a)이 결합된 구조를 가지며, 그 이동블록(311)과 유지블록(312)의 사이에는 유격이 존재한다.

상기 이동블록(311)과 유지블록(312)의 사이에는 피크부싱(PEEK bushing)이 삽입되어 상기 이동블록(311)과 유지블록(312)사이의 미세 간격으로 인한 마찰을 방지할 수 있다.

상기 유지블록(312)을 이루는 상판(312a)과 측면판(312b)의 사이에는 누설방지를 위한 실링부재(316)가 마련되어 있으며, 상기 이동블록(311)은 처리공간부(D)의 압력이 증가함에 따라 상향으로의 압력이 증가하게 된다.

따라서 그 압력의 증가에 의해 상향으로 이동하여 그 이동블록(311)의 외경에서 돌출된 상기 돌출부(311a)의 상면이 상기 유지블록(312)의 상판(312a) 저면에 접하게 된다. 이때 그 돌출부(311a)의 상부에는 상기 상판(312a)의 사이에서 기밀이 유지될 수 있도록 실링부재(315)가 마련되어 있다.

또한 상기 상판(312a)의 내경이 상기 측면판(312b)의 내경에 비해 더 좁게 하고, 상기 측면판(312b)은 처리공간부(D)를 이루는 부분의 내경이 상기 이동블록(311)의 삽입을 위한 부분의 내경보다 더 작으며, 그 내경의 차이가 있는 부분의 사이에는 내경이 소정의 경사각(θ)을 가지는 경사면(C)을 이루는 구조를 가진다.

이러한 구조는 처리공간부(D)의 압력이 증가하면 할 수록 그 경사면(C)에서는 하향의 압력이 작용하게 되며, 따라서 상기 유지블록(312)은 상기 이동블록(311)과는 반대로 하향의 압력을 받게 된다.

따라서 그 유지블록(312)은 그 하부측의 하부내부챔버(320)에 더욱 밀착되며, 그 사이에서 누설이 발생하지 않도록 작용하게 됨과 아울러 상기 내부 압력으로 인하여 상향의 압력을 받는 이동블록(311)과도 더욱 밀착되어 압력의 누설을 더욱 방지할 수 있다.

상기 유지블록(312)의 하부내부챔버(320)와 접하는 부분에도 다중의 실링부재(314)가 마련되어 있다.

이와 같이 고압의 분위기가 유지되는 상태에서 웨이퍼(400)들이 처리된다. 이때의 처리는 반도체, 멤스(MEMS), 디스플레이, 정밀부품, 솔라셀의 세정 및 건조일 수 있으며, 처리가 완료된 후에는 고압의 공정유체를 외부로 배기하여 압력을 낮추고 상기 외부챔버(200)를 오픈시키고, 상기 내부챔버(300)의 상부내부챔버(310)를 상향으로 이동동시켜 처리된 웨이퍼(400) 등의 처리대상물을 언로딩하게 된다.

도 7과 도 8은 각각 도 6의 다른 실시예이며, 다른 작용은 도 6과 동일하나 실링부재(315,314)를 각각 에너자이드 씰(energized seal, 317,318)로 대체한 것이다.

상기 에너자이드 씰(317,318) 각각은 오링 등의 상기 실링부재와는 다르게 접촉면의 측면에 설치하여 실링함이 가능하며, 따라서 더욱 안정적인 실링 특성을 나타낼 수 있다.

도 9는 상기 상부내부챔버의 다른 실시 구성도이다.

도 9를 참조하면 상기 상부내부챔버(310)에는 다수의 봉히터(370)가 삽입되어 있으며, 그 상부내부챔버(310)의 상면에는 그 봉히터(370)에 전원을 공급하기 위한 배선을 수용하는 배선홈(371)이 마련되어 있다.

또한 봉히터(370)는 상기 상부내부챔버(310)의 이동블록(311)과 유지블록(312)에 삽입되는 봉히터(370)의 길이는 서로 다른 것으로 하며, 이러한 봉히터(370)의 작용에 의하여 별도의 외부 가열수단을 사용하지 않고도 고압처리를 위한 적정한 온도로의 가열이 가능하게 된다.

보조적으로 상기 유지블록(312)의 외주면에는 자켓형 히터가 더 설치될 수 있다.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 원통형 고압처리장치의 구성도이고, 도 11은 도 10의 일부 상세 구성도이다.

도 10과 도 11을 각각 참조하면 본 발명의 다른 실시예에 따른 원통형 고압처리장치는, 외부챔버구동부(130)의 구동력을 외부챔버(200)에 전달하는 연결부(120)는 그 외부챔버구동부(130)의 축이 삽입되는 삽입홈(121)이 마련되어 있다. 상기 삽입홈(121)은 상하방향으로 길게 마련된 것이며, 따라서 상기 외부챔버(200)는 상기 외부챔버구동부(130)의 축으로부터 상하 이동이 가능하게 된다.

또한 상기 이송가이드(110)에 맞물려 외부챔버(200)가 직선이동될 수 있도록 하는 가이드(221)를 외부챔버(200)의 제1외부챔버(210) 또는 제2외부챔버(220)에 고정하는 유동연결판(224)이 구비되어 있다. 상기 유동연결판(224)은 부싱(223)에 의해 상기 제1외부챔버(210) 또는 제2외부챔버(220)에 결합되며, 따라서 그 제1외부챔버(210) 또는 제2외부챔버(220)는 그 가이드(221)가 상하 변위가 발생하지 않도록 고정된 상태에서 상하 변위될 수 있다.

상기 제1외부챔버(210)와 제2외부챔버(220)의 내부챔버(300)가 삽입되는 공간은, 그 내부챔버(300)와의 간섭을 방지하기 위하여 내부챔버(300)의 외형보다 약간의 여유도를 가지도록 더 크게 형성될 수 있다.

이때 상기 내부챔버(300)와 외부챔버(200)가 각각 닫힌 상태에서 고압처리가 진행되면, 앞서 상세히 설명한 내부챔버(300)의 이동블록(311)이 상향의 압력을 받아 약간 상향 이동하면서 그 외부챔버(200)에 상향의 힘을 전달하게 된다.

이때 외부챔버(200) 또한 앞서 설명한 삽입홈(121)과 부싱(223)에 의해 연결되는 유동연결판(224)의 작용으로 그 외부챔버(200)의 하부가 내부챔버(300)의 아래쪽에 접하게 되어 더 이상 상향으로 이동하지 않게 된다.

이와 같은 상태에서 상기 유지블록(312)의 경사면에 하향의 압력이 작용하여 유체압력이 증가할수록 견고한 밀폐 상태를 이룰 수 있게 된다.

전술한 바와 같이 본 발명에 따른 원통형 고압처리장치에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.

100:지지프레임 110:이송가이드
120:연결부 130:외부챔버구동부
140:이송홈 150:혼합구동축
160:배기노즐 170:공급노즐
200:외부챔버 210:제1외부챔버
220:제2외부챔버 300:내부챔버
310:상부내부챔버 320:하부내부챔버
330:내부챔버구동부 340:웨이퍼지지부
311:이동블록 312:유지블록
400:웨이퍼

Claims

상하 개폐되며, 원통형의 처리공간부를 제공하는 내부챔버;
상기 내부챔버가 닫힌 상태에서 상기 내부챔버의 기밀 상태를 견고하게 지지하며, 열린 상기 내부챔버로 처리대상물의 로딩 및 언로딩이 가능하도록 이동가이드부를 따라 좌우개폐되는 외부챔버;
상기 내부챔버를 상하 개폐하는 내부챔버구동부;
상기 외부챔버를 좌우 개폐하는 외부챔버구동부; 및
상기 내부챔버구동부와 상기 외부챔버구동부 및 상기 내부챔버의 일측을 고정 지지하는 지지프레임을 포함하는 원통형 고압처리기.
제1항에 있어서,
상기 내부챔버는,
상기 내부챔버구동부의 구동에 의해 상하 이동하며, 상기 처리공간부의 압력 상승에 따라 기밀을 유지하는 상부내부챔버;
상기 지지프레임의 바닥면에 고정되며 다수의 처리대상물을 실장하는 지지부가 내부에 구비된 하부내부챔버; 및
상기 하부내부챔버의 바닥면에서 고압유체를 혼합하는 혼합기재를 더 포함하는 원통형 고압처리기.
제2항에 있어서,
상기 상부내부챔버는,
중앙이 상기 내부챔버구동부에 연결되어 상하 이동되며, 닫힌 상태에서 상기 외부챔버의 상부측 저면에 접하는 원통형의 이동블록;
상기 원통형의 이동블록의 외주면에 유격된 상태로 결합되는 유지블록; 및
상기 처리공간부의 압력상승에 따라 상기 이동블록이 상향 이동하며 상기 유지블록에 접촉되는 부분의 기밀을 유지하는 실링부재를 포함하는 원통형 고압처리기.
제3항에 있어서,
상기 실링부재는 에너자이드 씰인 것을 특징으로 하는 원통형 고압처리기.
제3항에 있어서,
상기 이동블록과 상기 유지블록에 삽입되는 다수의 봉히터를 더 포함하는 원통형 고압처리기.
제3항에 있어서,
상기 이동블록은 외주면에서 돌출부가 돌출되어 있으며,
상기 유지블록은 상기 이동블록의 돌출부가 유격된 상태로 삽입될 수 있도록 상판과 측면판이 체결되고,
상기 측면판의 상기 이동블록의 돌출부 삽입부분의 내경은 상기 측면판의 타부분의 내경에 비해 더 큰 것을 특징으로 하는 원통형 고압처리기.
제6항에 있어서,
상기 측면판의 내경이 상이한 경계부분은 경사면이며, 상기 처리공간부의 압력상승에 의해 상기 경사면에서 하향의 압력이 작용하도록 하는 것을 특징으로 하는 원통형 고압처리기.
제1항에 있어서,
상기 외부챔버와 상기 외부챔버구동부는 연결부에 의해 연결되며,
상기 연결부는 상기 외부챔버구동부의 구동축으로부터 상하변위되도록 상기 구동축이 삽입되는 삽입홈을 구비하며,
상기 외부챔버는 상기 이동가이드부에 결합되는 가이드를 구비하고, 그 가이드는 고정된 상태에서 상하 변위가 가능하도록 하는 부싱으로 연결된 유동연결판을 포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 고압처리기.