KR101102131B1 - Device for extrusion molding - Google Patents

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KR101102131B1
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레이젠 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for molding an inline extrusion pattern is provided to enhance the efficiency of a process by remarkably shortening a processing time. CONSTITUTION: An apparatus for molding an inline extrusion pattern comprises an extruder-T-Die-polishing roll(10), a pre-heater(20), an patterning apparatus(30), a cooler(40), and a cutter(50). The extruder extrudes an inserted resin material and manufactures a base light guide plate. The pre-heater heats the base light guide plate which is manufactured in the extruder. The patterning apparatus transfers a pattern to a heated base light guide plate. The cooler cools the light guide plate in which the pattern is transferred. The cutter cuts the light guide plate, which is discharged from the cooler, into a setting size.

Description

인라인 압출 패턴 성형 장치 {Device For Extrusion Molding} In-Line Extrusion Molding Equipment {Device For Extrusion Molding}

본 발명은 인라인 압출 패턴 성형 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도광판의 원재료인 수지재가 압출기~ T-Die ~폴리싱롤(카렌다롤) 과정을 거쳐 1차 냉각된 베이스 도광판에 인라인 압출 패턴 성형 장치를 통하여 패턴을 형성한 후 설정 크기에 따라 절단함으로써 도광판의 압출부터 패턴 전사 및 절단이 단일의 장치로부터 진행되어 도광판 제조 시간을 단축시킬 수 있는 인라인 압출 패턴 성형 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an inline extrusion pattern forming apparatus, and more particularly, an inline extrusion pattern forming apparatus in a base light guide plate in which a resin material, which is a raw material of a light guide plate, is first cooled through an extruder-T-Die-polishing roll (calendar roll) process. The present invention relates to an in-line extrusion pattern forming apparatus capable of shortening a light guide plate manufacturing time by performing a pattern transfer and cutting from extrusion of a light guide plate by cutting a pattern according to a set size after forming a pattern.

일반적으로 백라이트 유닛 등 광원으로부터 발생한 광을 효율적으로 외부로 출사시키기 위해 도광판, 광학 필름 등의 시트가 널리 사용되고 있다.Generally, sheets such as a light guide plate and an optical film are widely used to efficiently emit light generated from a light source such as a backlight unit to the outside.

예를 들어, 도광판은 LCD(Liquid Crystal Display)에서 백라이트 유닛의 휘도와 균일한 조명 기능을 수행하기 위해 가장 핵심적인 역할을 담당하고, 측면의 광원에서 출사되는 빛의 손실을 최소화하면서 전면으로 골고루 분산시킴과 동시에 빛의 방향을 한 방향으로 모아주는 역할도 담당하므로, 마이크로 단위의 광학 패턴이 설계된다.For example, the LGP plays a key role in the LCD (Liquid Crystal Display) in order to perform the brightness and uniform illumination of the backlight unit, and evenly distributed to the front while minimizing the loss of light emitted from the side light source. At the same time, it plays a role of collecting light in one direction, so that an optical pattern in micro units is designed.

상기와 같은 도광판은 크게 압출 방식과 사출 방식으로 제조될 수 있다.The light guide plate as described above may be largely manufactured by an extrusion method and an injection method.

여기서, 종래의 압출 방식은 압출기에 주입된 수지재를 압출시켜 일정한 면적을 가지는 베이스 도광판을 제조하는 방식으로, 종래의 압출 장치는 상기 베이스 도광판을 압출하여 제조한 뒤 일정한 크기로 절단하고, 절단면을 거울처럼 매끈하게 가공한 후 발광면에 광학 레진을 도포 프린팅하여 패턴을 형성하거나, 금형을 제작해 사출로 패턴을 형성하는 방식을 이용한다. Here, the conventional extrusion method is a method of manufacturing a base light guide plate having a predetermined area by extruding the resin material injected into the extruder, the conventional extrusion apparatus is manufactured by extruding the base light guide plate and then cut to a predetermined size, the cut surface After processing smoothly like a mirror, a pattern is formed by coating and printing an optical resin on a light emitting surface, or by forming a mold and forming a pattern by injection.

그러나, 종래의 압출 방식은 베이스 도광판을 제조한 후, 패턴을 형성하는 방식으로 제조되기 때문에 도광판 제조 공정 및 시간이 증가하고, 경화된 베이스 도광판에 패턴을 형성하기 때문에 미세 패턴 전사가 어렵고, 패턴 전사율이 떨어질 뿐만 아니라, 설계 자유도가 떨어지는 문제가 있었다.
However, since the conventional extrusion method is manufactured by manufacturing a base light guide plate and then forming a pattern, the manufacturing process and time of the light guide plate increases, and since a pattern is formed on the cured base light guide plate, fine pattern transfer is difficult and pattern transfer is performed. Not only did the rate drop, but there was a problem that the degree of freedom in design fell.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 도광판의 원재료인 수지재가 압출기~ T-Die ~폴리싱롤(카렌다롤)을 통해 1차 냉각된 베이스 도광판에 연속적으로 상기의 베이스 도광판에 패턴을 형성한 후 설정 크기에 따라 절단함으로써 도광판 제조 시간을 단축시키고, 패턴 전사율을 높일 수 있는 인라인 압출 패턴 성형 장치 및 그 방법을 제공하는 데 있다.
In order to solve the problems as described above, an object of the present invention is the base light guide plate of the resin material as the raw material of the light guide plate continuously to the base light guide plate of the first cooling through the extruder ~ T-Die ~ polishing roll (calendar roll) The present invention provides an in-line extrusion pattern forming apparatus and a method for shortening a light guide plate manufacturing time and increasing a pattern transfer rate by cutting a pattern according to a set size after forming a pattern.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 인라인 압출 패턴 성형 장치는 주입된 수지재를 압출하여 베이스 도광판을 제조하는 압출기와 상기 압출기로부터 제조된 베이스 도광판을 가열하는 예열기와 상기 히터로 가열된 베이스 도광판에 패턴을 전사하는 패터닝 장치와 상기 베이스 도광판에 패턴이 전사된 도광판을 냉각하는 냉각기 및 상기 냉각기로부터 배출된 도광판을 설정 크기로 절단하는 절단기를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the in-line extrusion pattern forming apparatus according to the present invention is an extruder for producing a base light guide plate by extruding the injected resin material and a preheater for heating the base light guide plate manufactured from the extruder and the base heated by the heater And a patterning device for transferring a pattern to the light guide plate, a cooler for cooling the light guide plate on which the pattern is transferred to the base light guide plate, and a cutter for cutting the light guide plate discharged from the cooler to a predetermined size.

상기 예열기는 다수 개의 히팅 블록과 상기 히팅 블록를 독립적으로 제어하는 히팅블록 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The preheater may include a plurality of heating blocks and a heating block controller for independently controlling the heating blocks.

그리고 상기 다수 개의 히팅 블록은 TD 방향으로 엇갈리게 배치된 것을 특징으로 한다. 상기와 같이 히팅 블록을 엇갈리게 배치할 경우 히팅되는 면적을 증가시켜 히팅이되지 않는 음영 구역을 제거하여 도광판 전체를 고르게 예열시킬 수 있다.The plurality of heating blocks may be alternately arranged in the TD direction. When the heating blocks are alternately arranged as described above, the entire light guide plate may be preheated evenly by removing the shaded area that is not heated by increasing the heating area.

상기 다수 개의 히팅 블록은 면적 당 히팅 블록 수를 증가시켜 가열의 균일성을 높이기 위해 다단으로 구성된 것을 특징으로 한다.The plurality of heating blocks are configured in multiple stages to increase the uniformity of heating by increasing the number of heating blocks per area.

그리고 상기 히팅블럭 제어부는 100 ~ 230도 범위 내에서 설정된 온도로 상기 도광판을 가열하도록 상기 히팅 블록을 제어하는 것을 특징으로 한다.The heating block controller may control the heating block to heat the light guide plate at a temperature set within a range of 100 to 230 degrees.

그리고 상기 패터닝 장치는 상부 롤러와 하부 롤러로 분리 구성되고, 상기 상부 롤러 및 하부 롤러 중 적어도 하나의 롤러에는 적용된 패턴(직가공, 스탬퍼 등)을 갖는 것을 특징으로 한다.The patterning device is divided into an upper roller and a lower roller, and characterized in that it has a pattern (direct processing, stamper, etc.) applied to at least one of the upper roller and the lower roller.

또한, 상기 패터닝 장치는 좌우 각 Max 20 ton 범위 내에서 설정된 압력과 100 ~ 200도 범위 내에서 설정된 온도로 가압 및 가열되는 것을 특징으로 한다.In addition, the patterning device is characterized in that the pressure is set within the range of the left and right Max 20 ton and pressurized and heated to a temperature set within the range of 100 ~ 200 degrees.

그리고 상기 냉각기는 상기 도광판의 상부를 냉각하는 상부 냉각부와 상기 도광판의 하부를 냉각하는 하부 냉각부가 분리 구성된 것을 특징으로 한다. The cooler may include an upper cooling unit for cooling the upper portion of the light guide plate and a lower cooling unit for cooling the lower portion of the light guide plate.

또한, TD 방향으로 엇갈리게 다단으로 구성하여 각각 독립적인 풍량 근절을 통하여 압출원판의 휨 조정 및 패턴 전사율 향상을 꾀하는 것을 특징으로 한다.In addition, it is characterized in that it is configured in a multi-stage staggered in the TD direction to improve the warp control and pattern transfer rate of the extruded disc through the independent air volume eradication.

여기서, 상기 각 냉각기의 풍량 조절 방법은 Auto 댐퍼 System을 이용하며 사용되는 바람(Air)의 온도는 질소냉각장치를 이용한 냉풍을 사용할 수도 있으며, 상온의 대기공조를 사용 할 수 있다. Here, the air volume control method of each cooler uses an auto damper system and the air temperature used may be cold air using a nitrogen cooling device, and may use atmospheric air conditioning at room temperature.

또한, 상기 냉각기는 사용되는 공기의 오염원을 제거하여 바람을 송풍하기 위한 필터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the cooler is characterized in that it comprises a filter for blowing air by removing the pollutant of the air used.

상기에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 인라인 압출 패턴 성형 장치는 베이스 도광판의 압출 제조, 패턴 전사 및 절단을 하나의 라인으로 구성하여 공정 시간을 획기적으로 단축시켜 공정의 효율성을 높일 수 있는 탁월한 효과가 발생한다.As described above, the in-line extrusion pattern forming apparatus according to the present invention is composed of one line for extrusion production, pattern transfer, and cutting of the base light guide plate to significantly shorten the process time, thereby producing an excellent effect of increasing the efficiency of the process. do.

또한, 압출기~ T-Die ~ 폴리싱롤(카렌다롤)에서 1차 냉각된 베이스 도광판을 인라인 압출패턴 성형장치의 예열기에서 예열한 후 패턴을 전사시킴으로써 전사율을 높일 수 있으므로 수율 및 제품의 신뢰성을 높일 수 있으며, 베이스 도광판이 절단되지 않은 상태에서 연속적인 패턴 전사가 가능하므로 광학 패턴 설계 자유도가 매우 높은 탁월한 효과가 발생한다.In addition, the transfer rate can be increased by preheating the base light guide plate cooled in the extruder ~ T-Die ~ polishing roll (calendar roll) in the preheater of the in-line extrusion pattern forming apparatus, thereby increasing the transfer rate, thereby increasing the yield and reliability of the product. In addition, since the continuous pattern transfer is possible without the base light guide plate being cut, an excellent effect with a very high degree of freedom in optical pattern design occurs.

그리고 연속적인 패턴 전사가 가능하여 제작이 어려운 대면적 도광판 제조가 매우 용이한 탁월한 효가가 발생한다.
In addition, it is possible to perform continuous pattern transfer, which makes it possible to produce a large area light guide plate that is difficult to produce.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 인라인 압출 패턴 성형 장치를 개략적으로 도시한 블럭도이다.
도 2는 도 1의 예열기에 대한 상세 구성도이다.
도 3은 도 1의 냉각기에 대한 상세 구성도이다.1 is a block diagram schematically showing an inline extrusion pattern forming apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a detailed configuration diagram of the preheater of FIG. 1.
3 is a detailed configuration diagram of the cooler of FIG. 1.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 인라인 압출 패턴 성형 장치를 개략적으로 도시한 블럭도이다.1 is a block diagram schematically showing an inline extrusion pattern forming apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 인라인 압출 패턴 성형 장치는 주입된 수지재를 압출하여 베이스 도광판을 제조하는 압출기~T-Die~폴리싱롤(10)과 상기 압출기~T-Die~폴리싱롤 로부터 배출되어 1차 냉각된 베이스 도광판을 가열하는 예열기(20)와 상기 히터로 가열된 베이스 도광판에 패턴을 전사하는 패터닝 장치(30)와 상기 베이스 도광판에 패턴이 전사된 도광판을 냉각하는 냉각기(40) 및 상기 냉각기로부터 배출된 도광판을 일정 크기로 절단하는 절단기(50)를 포함하여 구성될 수 있다.Referring to Figure 1, the in-line extrusion pattern forming apparatus according to the present invention from the extruder ~ T-Die ~ polishing roll 10 and the extruder ~ T-Die ~ polishing roll to produce a base light guide plate by extruding the injected resin material A preheater 20 for discharging the primary light guide plate cooled and a patterning device 30 for transferring the pattern to the base light guide plate heated by the heater, and a cooler 40 for cooling the light guide plate on which the pattern is transferred to the base light guide plate. And a cutter 50 cutting the light guide plate discharged from the cooler to a predetermined size.

본 발명에 따른 인라인 압출 패턴 성형 장치는 압출기~ T-Die~ 폴리싱롤 (10)로부터 압출된 베이스 도광판이 절단기(50)까지 도광판이 이동하기 위한 가이드 롤러로 연결되도록 구성될 수 있다. In-line extrusion pattern molding apparatus according to the present invention may be configured such that the base light guide plate extruded from the extruder ~ T-Die ~ polishing roll 10 is connected by a guide roller for moving the light guide plate to the cutter (50).

상기 압출기~T-Die~폴리싱롤(카렌다롤) (10)은 유동성 있는 수지재를 주입하여 판형의 베이스 도광판을 압출하는 장치이며, 상기 수지재는 도광판의 원재료인 PMMA, PC, PS, MS 등의 재료가 주입되어 제조될 수 있다.The extruder ~ T-Die ~ polishing roll (calendar roll) 10 is a device for extruding a plate-shaped base light guide plate by injecting a fluid resin material, the resin material is a raw material of the light guide plate such as PMMA, PC, PS, MS Material can be injected and made.

상기 압출기~T-Die~폴리싱롤(카렌다롤) 압출 방식의 도광판 제조에 일반적으로 사용되는 구성이므로 구체적인 구성 및 작용에 대한 설명은 생략하기로 한다.The extruder ~ T-Die ~ polishing roll (calendar roll) is a configuration generally used for manufacturing a light guide plate extrusion method will be omitted for the description of the specific configuration and operation.

그리고, 본 실시예는 도광판 제조에 대해 설명하고 있지만, 여기서, 도광판 이외에도 시트, 광학 필름 등 광학적인 목적으로 사용되는 모든 수단을 포함하여 정의하기로 하고, 패턴은 요철, 프리즘, 마이크로 렌즈 등 시트 표면에 다양한 형상으로 형성되는 미세 구조를 포괄하여 정의하기로 한다.In addition, although the present embodiment has been described with respect to the manufacturing of the light guide plate, here, in addition to the light guide plate, all means used for optical purposes such as a sheet and an optical film will be defined, and the pattern is a surface of a sheet such as an unevenness, a prism, and a micro lens. It will be defined to encompass the microstructure formed in a variety of shapes.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 개략적으로 도시한 것이며, 도 2a는 예열기의 평면도이고, 도 2b와 도 2c는 예열기의 일 측면도이다.Figure 2 schematically shows a preheater according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 2a is a plan view of the preheater, Figures 2b and 2c is a side view of the preheater.

도 2를 참조하면, 상기 예열기(20)는 압출 제조된 도광판의 전사율을 높이기 위해 패턴을 전사하기 전에 미리 가열하는 역할을 담당한다.Referring to FIG. 2, the preheater 20 plays a role of heating in advance before transferring the pattern in order to increase the transfer rate of the light guide plate manufactured by extrusion.

특히, 상기 예열기(20)는 패터닝 장치를 통한 패턴 전사시 고온 상태의 롤러를 통해 갑작스럽게 가압될 경우 베이스 도광판의 표면 온도가 갑작스럽게 증가하게 되고, 베이스 도광판이 하드(Hard)한 상태에서 소프트(Soft)한 상태로 갑작스런 상태 변화로 인해 휨, 웨이브 등의 팽창 변형이 발생하는 것을 보상하는 역할을 담당한다.In particular, the preheater 20 suddenly increases the surface temperature of the base light guide plate when it is suddenly pressurized by the roller of a high temperature state during the pattern transfer through the patterning device, and the soft surface of the base light guide plate is soft (hard). It is a soft state and plays a role of compensating for expansion deformation such as bending and wave due to sudden state change.

또한, 베이스 도광판이 하드한 상태에서 패턴 전사되는 경우 베이스 도광판의 영역별 두께차나 굴곡 등에 의해 패턴의 전사율이 떨어지게 되므로, 베이스 도광판을 연성이 높은 상태로 개질시켜 패턴 전사율을 높이기 위한 역할도 담당한다.In addition, when the pattern is transferred in the hard state of the base light guide plate, the transfer rate of the pattern is lowered due to the thickness difference or bending of each region of the base light guide plate. Therefore, the base light guide plate is also modified to have a high ductility so as to increase the pattern transfer rate. do.

상기 예열기(20)는 다수 개의 히팅 블록과 상기 다수 개의 히팅 블록을 독립적으로 제어하는 히팅 블록 제어기를 포함하여 구성될 수 있다.The preheater 20 may include a plurality of heating blocks and a heating block controller for independently controlling the plurality of heating blocks.

상기 예열기(20)는 도광판 전체에 균일한 가열을 위해 다수 개의 히팅 블록(210)으로 구성될 수 있으며, 도 2와 같이 상기 다수 개의 히팅 블록이 TD 방향(도광판 이동 방향의 수직방향)으로 교차하도록 구성될 수 있다.The preheater 20 may be composed of a plurality of heating blocks 210 for uniform heating throughout the light guide plate, so that the plurality of heating blocks cross in the TD direction (vertical direction of the light guide plate movement direction) as shown in FIG. Can be configured.

상기 히팅 블록(210)은 세라믹 히터 또는 코일에서 적외선 방식으로 가열되는 IR 히터를 이용한 직접 가열 방식으로 구성될 수 있다.The heating block 210 may be configured by a direct heating method using an IR heater that is heated in a infrared manner in a ceramic heater or a coil.

도 2는 TD방향으로 6개의 히터블록이 배치고, MD방향으로 15열의 히터 블록이 배치된 실시예에 관한 것이지만, 상기 히팅블록의 수 및 열에 대한 배치는 다양하게 변형될 수 있음은 자명한 것이다. Although FIG. 2 relates to an embodiment in which six heater blocks are arranged in the TD direction and 15 heater blocks are arranged in the MD direction, the number and heating of the heating blocks may be variously modified. .

상기 다수 개의 히팅 블록(210)이 일정한 간격으로 균일하게 배치될 경우 히팅 블록과 히팅 블록 사이에 히팅 블록에서 공급된 열이 도달하지 않는 음영지역이 발생할 수 있으므로 베이스 도광판 전체를 골고루 예열시키기 위해 TD방향으로 교차하도록 배치하는 것이 바람직하다.When the plurality of heating blocks 210 are uniformly arranged at regular intervals, a shaded area in which heat supplied from the heating block does not reach may occur between the heating block and the heating block, so that the entire base light guide plate may be evenly preheated. It is preferable to arrange so as to cross.

또한, 도 2와 같이 예열기가 다단의 예열부로 구성되어, 면적대비 히팅 블록 수를 증가시켜 베이스 도광판 전체 영역에 더욱 균일한 예열을 제공할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 2, the preheater may include preheating units having multiple stages, thereby providing a more uniform preheating to the entire area of the base LGP by increasing the number of heating blocks relative to the area.

그리고 플라스틱 재질의 도광판은 230도 이상으로 히팅할 경우 용융될 수 있기 때문에 예열기의 온도는 230도 미만으로 설정하고, 바람직하게는 100 ~ 230도 범위 내에서 설정하는 것이 좋다.And since the light guide plate made of plastic may be melted when heated to 230 degrees or more, the temperature of the preheater is preferably set to less than 230 degrees, preferably within a range of 100 to 230 degrees.

그리고 패터닝 장치(30)는 베이스 도광판 표면에 패턴을 전사하는 장치로, 상부와 하부에 형성된 2개의 롤러 사이에 상기 베이스 도광판을 가열, 가압하여 베이스 도광판 표면에 패턴을 전사한다.The patterning device 30 transfers the pattern onto the surface of the base LGP by heating and pressing the base LGP between two rollers formed at an upper portion and a lower portion thereof.

상기 상부와 하부 롤러는 각각에 적용된 패턴(직가공, 스탬퍼 등)을 갖는 것으로 구성될 수 있다.The upper and lower rollers may be configured to have patterns (woven processing, stampers, etc.) applied to each.

그리고, 롤러 내부에는 가열된 유체가 순환하여 롤러를 가열하고, 정압 유지 장치가 연결되어 일정한 압력으로 베이스 도광판을 가압하도록 구성될 수 있다.In addition, the heated fluid circulates inside the roller to heat the roller, and a constant pressure maintaining device may be connected to press the base light guide plate at a constant pressure.

상기 패터닝 장치(30)는 좌우 각 Max 20 ton 범위 내에서 설정된 압력과 100 ~ 200도 범위 내에서 설정된 온도로 가압 및 가열되는 것이 바람직하다.The patterning device 30 is preferably pressurized and heated to a pressure set in the left and right Max 20 ton range and a temperature set in the range of 100 ~ 200 degrees.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 냉각기를 개략적으로 도시한 것으로, 도 3a는 냉각기의 평면도이고, 도 3b 및 도 3c는 일 측면도이다.3 is a schematic view of a cooler according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 3A is a plan view of the cooler, and FIGS. 3B and 3C are one side view.

상기 냉각기(40)는 패턴이 전사된 도광판의 TD, 상/하면 냉각량 조절을 통하여 전사율을 향상시킴과 동시에 도광판의 휨을 조정하는 역할을 담당한다.The cooler 40 improves the transfer rate by adjusting the TD and the upper / lower cooling amount of the light guide plate to which the pattern is transferred, and at the same time, adjusts the warpage of the light guide plate.

본 발명에 따라 패턴이 전사된 도광판은 절단이 되지 않은 상태이기 때문에 패턴 전사 후 상온에 노출될 경우 연성의 도광판이 경화되면서 TD 방향으로 역 휨이나, 수축 변형 등의 불량이 발생하기 쉽다.According to the present invention, since the light guide plate on which the pattern is transferred is not cut, defects such as reverse bending or shrinkage deformation tend to occur in the TD direction when the flexible light guide plate is cured when exposed to room temperature after pattern transfer.

따라서, 패턴이 전사된 고온 상태의 도광판에 일정 냉각 구간중에서 바람(Air)을 송풍하여 도광판의 좌,우,상,하 응력량을 조정함으로써 바람직한 휨형태를 가진 도광판을 제조할 수 있다.Therefore, the light guide plate having a desirable bending shape can be manufactured by blowing air to the light guide plate of the high temperature state in which the pattern is transferred and adjusting the left, right, up and down stress amounts of the light guide plate.

상기 냉각기(40)는 상부용,하부용으로 독립구성되며, 상/하부용 각각은 도 3 a와 같이 TD 방향으로 엇갈리게 다단 배치하고 Auto 댐퍼 System을 이용하여, 부분적으로 풍량조절이 가능하도록 구성될 수 있다.The cooler 40 is configured independently for the upper and lower, and each of the upper and lower parts are alternately arranged in a multi-stage in the TD direction as shown in Figure 3a and by using an auto damper system, the air volume can be partially adjusted Can be.

상기 냉각기에서 송풍되는 바람(Air)의 온도는 질소 냉각 장치를 이용한 냉풍을 사용할 수도 있고, 상온의 대기공조를 사용할 수도 있다.The temperature of the air (Air) blown from the cooler may use a cold air using a nitrogen cooling device, or may use atmospheric air conditioning at room temperature.

여기서, 상기 냉각기에서 사용되는 공기에 오염원이 포함될 경우 도광판 표면에 오염이 발생할 수 있으므로, 사용되어지는 공기의 오염원을 제거하기 위한 필터(430)를 더 포함할 수 있다.In this case, when the pollutant is included in the air used in the cooler, contamination may occur on the surface of the light guide plate, and may further include a filter 430 for removing the pollutant of the used air.

즉, 중앙의 냉풍기(410)로부터 연결 호스를 통해 각 냉각 블럭(420)에 동일한 바람이 공급되지만, 각 냉각 블럭(420)은 냉풍이 송풍되는 노즐에 개구의 크기를 조절하여 송풍량을 조절하는 풍량 조절부(미도시)를 더 포함할 수 있다.That is, the same wind is supplied to each cooling block 420 from the central cold air blower 410 through the connection hose, but each cooling block 420 controls the air volume by adjusting the size of the opening to the nozzle through which the cold air is blown. It may further include an adjusting unit (not shown).

따라서, 패턴이 전사된 도광판의 국부적인 휨이나 변형을 고려하여 상기 각 냉각 블럭의 송풍 량을 국부적으로 조절할 수 있다.Therefore, in consideration of local warpage or deformation of the light guide plate to which the pattern is transferred, the blowing amount of each cooling block can be locally controlled.

그리고 상기 냉각 블럭(420)은 도 3과 같이 상,하 단 분리되도록 구성될 수 있으되며, 상,하단 각각에 TD방향으로 다수 개의 구역으로 나누어 각 구역별로 송풍량조절을 통한 도광판의 냉각량 정도를 조정할 수 있다.In addition, the cooling block 420 may be configured to separate the upper and lower ends, as shown in Figure 3, divided into a plurality of zones in the TD direction on each of the upper and lower ends to determine the degree of cooling of the light guide plate through the air volume control for each zone I can adjust it.

즉, 패턴이 전사된 도광판의 굴곡이나 휨 발생을 고려하여 도광판의 상부 또는 하부 중 일부에만 냉각 모듈을 동작시키는 국부 냉각이 가능하고, 이로 인해 부분적으로 휨이나 변형이 발생한 영역만 냉풍을 송풍시키도록 제어할 수 있다. That is, in consideration of the occurrence of bending or warping of the light guide plate to which the pattern is transferred, local cooling is possible in which the cooling module is operated only on a part of the upper or lower part of the light guide plate, so that the cold air is blown only in an area where the warpage or deformation partially occurs. Can be controlled.

상기와 같이 냉각기(40)를 통해 이송된 도광판은 절단기(50)를 통해 원하는 크기로 재단되어 패턴이 형성된 도광판이 제조된다.The light guide plate transferred through the cooler 40 as described above is cut to a desired size through the cutter 50 to produce a light guide plate having a pattern.

본 발명은 상기와 같이 인라인으로 압출, 패턴 전사가 가능하므로 공정시간을 획기적으로 단축시킬 수 있으며, 특히 연속적인 패턴 전사가 가능하므로 대면적 도광판 제조에 매우 유용하다.The present invention can significantly shorten the process time because it can be extruded, pattern transfer in-line as described above, and in particular, it is very useful for manufacturing a large area light guide plate because a continuous pattern transfer is possible.

이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 보호범위는 상기 실시예에 한정되는 것이 아니며, 해당 기술분야의 통상의 지식을 갖는 자라면 본 발명의 사상 및 기술영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

10 : 압출기 20 : 예열기
30 : 패터닝 장치 40 : 냉각기
50 : 절단기10: extruder 20: preheater
30: patterning device 40: cooler
50: cutting machine

Claims (11)

주입된 수지재를 압출하여 베이스 도광판을 제조하는 압출기와;
상기 압출기로부터 제조된 베이스 도광판을 가열하되, 다수 개의 히팅 블록과;
상기 히팅 블록를 독립적으로 제어하는 히팅블록 제어부를 포함하는는 예열기와;
상기 히터로 가열된 베이스 도광판에 패턴을 전사하는 패터닝 장치와;
상기 베이스 도광판에 패턴이 전사된 도광판을 냉각하는 냉각기 및;
상기 냉각기로부터 배출된 도광판을 설정 크기로 절단하는 절단기를 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
An extruder for extruding the injected resin material to produce a base light guide plate;
Heating the base light guide plate manufactured from the extruder, the plurality of heating blocks;
A preheater including a heating block control unit for independently controlling the heating block;
A patterning device for transferring a pattern to a base light guide plate heated by the heater;
A cooler configured to cool the light guide plate on which the pattern is transferred to the base light guide plate;
And a cutter to cut the light guide plate discharged from the cooler to a predetermined size.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 다수 개의 히팅 블록은
TD 방향으로 엇갈리게 배치된 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 1,
The plurality of heating blocks
In-line extrusion pattern forming apparatus characterized in that the staggered arrangement in the TD direction.
제 1항에 있어서,
상기 다수 개의 히팅 블록은
면적 당 히팅 블록 수를 증가시켜 가열의 균일성을 높이기 위해 다단으로 구성된 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 1,
The plurality of heating blocks
In-line extrusion pattern forming apparatus characterized in that the multi-stage configuration to increase the number of heating blocks per area to increase the uniformity of heating.
제 1항에 있어서,
상기 히팅블럭 제어부는
150 ~ 230도 범위 내에서 설정된 온도로 상기 도광판을 가열하도록 상기 히팅 블록을 제어하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 1,
The heating block control unit
In-line extrusion pattern forming apparatus, characterized in that for controlling the heating block to heat the light guide plate at a temperature set within the range of 150 ~ 230 degrees.
제 1항에 있어서,
상기 패터닝 장치는
상부 롤러와 하부 롤러로 분리 구성되고;
상기 상부 롤러는 각각에 적용된 패턴(직가공, 스탬퍼 등)을 갖는 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 1,
The patterning device
Separate and composed of an upper roller and a lower roller;
The upper roller has a pattern (woven processing, stamper, etc.) applied to each of the in-line extrusion pattern forming apparatus.
제 6항에 있어서,
상기 패터닝 장치는
좌,우 각 Max 20 ton 범위 내에서 설정된 압력과 100 ~ 200도 범위 내에서 설정된 온도로 가압 및 가열되는 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 6,
The patterning device
In-line extrusion pattern forming apparatus characterized in that the pressurized and heated to a pressure set within the left, right angle Max 20 ton range and a temperature set within the range of 100 ~ 200 degrees.
제 1항에 있어서,
상기 냉각기는
상기 도광판의 상부를 냉각하는 상부 냉각부와;
상기 도광판의 하부를 냉각하는 하부 냉각부가 분리 구성된 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 1,
The cooler
An upper cooling unit cooling the upper portion of the light guide plate;
In-line extrusion pattern molding apparatus characterized in that the lower cooling portion for cooling the lower portion of the light guide plate is configured separately.
제 8항에 있어서,
상기 냉각기는
냉각에 사용되는 바람(Air)의 온도는 질소 냉각 장치를 사용하여 냉풍을 이용하거나, 상온의 대기공조를 이용하는 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 8,
The cooler
Air temperature used for cooling is inline extrusion pattern forming apparatus characterized in that using a cold air using a nitrogen cooling device, or using the air conditioning at room temperature.
제 8항에 있어서,
상기 냉각기는
상,하부용 각각 TD 방향으로 엇갈리게 다단 배치하고, Auto 댐퍼 System을 이용하여 부분 풍량조정이 가능한 것을 특징으로 하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.
The method of claim 8,
The cooler
In-line extrusion pattern forming apparatus characterized in that the multi-stage arrangement in the TD direction alternately for the upper and lower portions, and the partial air volume can be adjusted using the Auto Damper System.
제 8항에 있어서,
상기 냉각기는
바람(Aire)의 오염원을 제거하기 위한 필터를 더 포함하는 인라인 압출 패턴 성형 장치.The method of claim 8,
The cooler
Inline extrusion pattern forming apparatus further comprising a filter for removing a source of air (Aire).
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