KR101099622B1 - 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 - Google Patents

내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101099622B1
KR101099622B1 KR1020100011093A KR20100011093A KR101099622B1 KR 101099622 B1 KR101099622 B1 KR 101099622B1 KR 1020100011093 A KR1020100011093 A KR 1020100011093A KR 20100011093 A KR20100011093 A KR 20100011093A KR 101099622 B1 KR101099622 B1 KR 101099622B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
housing
processing
processing unit
cylindrical tube
Prior art date
Application number
KR1020100011093A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110091315A (ko
Inventor
이봉문
박기홍
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020100011093A priority Critical patent/KR101099622B1/ko
Publication of KR20110091315A publication Critical patent/KR20110091315A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101099622B1 publication Critical patent/KR101099622B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1313—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

본 발명은 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 처리 유닛은 적어도 한면이 투명 재질로 구비되는 하우징과, 하우징 내부에 설치되어 처리 유닛의 내부 조도를 향상시키는 적어도 하나의 조명 장치를 포함한다. 조명 장치는 원통형의 배관 내부에 적어도 하나의 조명등을 고정 설치한다. 본 발명에 의하면, 조명 장치에 의해 처리 유닛의 향상된 내부 조도를 통해 처리 유닛 내부를 용이하게 모니터링할 수 있다.

Description

내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치{TREATING UNIT FOR MORNITORING INSIDE AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS WITH IT}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 내부 모니터링하기 위해 내부 조도를 향상시키는 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이 패널 예를 들어, LCD(Lipuid CrystalDisplay Device), PDP(Plasma Display Panel) 및, ELD(Electro luminescent Display), VFD(Vacuum FluorescentDisplay) 등을 제작하기 위하여, 글래스 기판에 도포, 증착, 식각, 현상 및 세정 등의 다양한 공정들을 거치게 된다. 이와 같은 공정들은 대부분 해당 공정을 수행하기 위한 다수의 처리 유닛(또는 챔버)에서 이루어진다. 각 처리 유닛들 사이에는 인접하는 처리 유닛으로 기판을 이송시키기 위한 컨베이어 유닛과 같은 기판 이송 장치가 설치된다. 따라서 기판 처리 장치는 기판을 이송하면서 해당 공정을 처리한다.
이들 공정들 중 식각, 세정 공정 등과 같이 처리액을 이용하는 기판 처리 장치는 복수 개의 처리 유닛들이 연속해서 배치되는 인라인(inline) 설비로 구비된다. 이러한 기판 처리 장치는 처리 유닛들 각각에 컨베이어 장치들이 구비하여 기판을 이송하면서 해당 단위 공정을 처리한다. 식각, 세정 공정 등은 식각액, 세정액 등 다양한 처리액들을 이용하여 기판의 불필요한 부분을 제거하거나, 기판의 오염 물질을 제거한다.
최근 들어 평판 표시 패널의 대형화로 인해 기판 처리 장치 예를 들어, 식각, 세정, 포토리소그라피 설비 등도 커지게 되었다. 이러한 대형화된 설비에서는 유지 보수 작업 특히, 평판 표시 패널을 이송하는 컨베이어 장치나 처리 유닛 등을 모니터링해야 할 경우가 빈번하다. 이 경우, 작업자가 컨베이어 장치 또는 처리 유닛 내부의 상황을 육안으로 확인하여야만 하는데, 처리 유닛은 처리액의 비산, 처리액에 의한 산화 등에 의해 처리 유닛의 내부를 정확하게 모니터링할 수 없게 된다. 그러므로 기판의 이송 상태나 처리 유닛의 내부에서 이상 유무가 발생되었는지를 확인 및 판단하기가 어렵다.
본 발명의 목적은 공정 시 내부 상황을 모니터링하기 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 내부 모니터링이 용이하도록 내부 조도를 향상시키는 조명 장치를 구비하는 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적들을 달성하기 위한, 본 발명의 처리 유닛은 적어도 하나의 조명 장치를 구비하여 내부 조도를 향상시키는데 그 한 특징이 있다. 이와 같은 처리 유닛은 공정 진행 시 내부 모니터링이 용이하다.
이 특징에 따른 본 발명의 처리 유닛은, 기판이 수용되고, 상기 기판의 공정을 처리하는 내부 공간을 제공하고, 적어도 한면이 투명한 재질로 구비되는 하우징 및; 상기 하우징 내측에 설치되어, 공정 진행 시 상기 하우징 내부를 모니터링하도록 상기 하우징의 내부 조도를 높이는 적어도 하나의 조명 장치를 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 하우징은 내부에 설치되어, 상기 기판으로 처리액을 공급하는 적어도 하나의 노즐을 구비하되; 상기 노즐과 상기 조명 장치는 상호 수직하게 배치된다.
다른 실시예에 있어서, 상기 조명 장치는 상기 노즐의 상측에 위치한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 조명 장치는; 내부가 밀폐되고, 상기 하우징의 내부 양측면에 고정 설치되는 원통관과; 상기 원통관 내부에 고정 설치되어 상기 하우징 내부로 빛을 조사하는 적어도 하나의 조명등을 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 원통관은 상기 양측면의 내부에 설치되어 상기 조명등으로 전원을 공급하는 복수 개의 소켓들이 더 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 원통관은 상기 양측면에 제공되어 상기 원통관을 내부 공기를 배기하는 배기구를 더 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 처리액을 이용하는 처리 유닛의 공정 진행 시, 내부 모니터링이 용이한 기판 처리 장치를 제공한다.
이와 같은 본 발명의 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 적어도 하나의 처리 유닛과; 상기 처리 유닛의 내부에 설치되어 기판을 일 방향으로 이송하는 기판 이송 장치와; 상기 기판 이송 장치에 안착된 기판으로 처리액을 공급하는 적어도 하나의 노즐들 및; 상기 처리 유닛의 내부 조도를 높이는 적어도 하나의 조명 장치를 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 처리 유닛은 적어도 한면이 투명한 재질로 구비되는 하우징을 포함하되; 상기 조명 장치는 상기 하우징 내측에 설치되어, 공정 진행 시 상기 하우징 내부를 모니터링하도록 상기 하우징의 내부로 빛을 조사한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 조명 장치는 상기 노즐들과 상호 수직하게 그리고, 상기 노즐들의 상측에 배치된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 조명 장치는; 내부가 밀폐되고, 상기 하우징의 내부 양측면에 고정 설치되는 원통관과; 상기 원통관 내부에 고정 설치되어 상기 하우징 내부로 빛을 조사하는 적어도 하나의 조명등 및; 상기 원통관의 양측면의 내부에 설치되어 상기 조명등으로 전원을 공급하는 복수 개의 소켓들을 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 조명 장치는; 상기 원통관의 상기 양측면에 제공되어 상기 원통관을 내부 공기를 배기하는 복수 개의 배기구들을 더 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 원통관은 투명 재질로 구비된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 처리 유닛은 조명 장치를 이용하여 내부 조도를 향상시킴으로써, 처리 유닛에서 처리액을 이용하여 기판 공정을 진행할 때, 기판 안착 상태, 기판 이송 상태 및 처리액 공급 상태 등의 내부 상황을 용이하게 모니터링할 수 있다.
또 본 발명의 처리 유닛은 내부에 원통관을 이용하여 조명등을 설치함으로써, 처리액에 의해 발생되는 조명 장치의 부식을 방지할 수 있다.
또한 본 발명의 기판 처리 장치는 다양한 처리액을 이용하여 식각 공정, 세정 공정 등을 처리하는 처리 유닛에 조명 장치를 제공함으로써, 해당 처리 유닛의 공정 진행 시, 내부 모니터링을 용이하게 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면;
도 2는 도 1에 도시된 처리 유닛의 구성을 도시한 사시도;
도 3은 도 2에 도시된 처리 유닛의 정면도;
도 4는 도 2에 도시된 처리 유닛의 측면도;
도 5는 도 2에 도시된 처리 유닛의 평면도;
도 6은 도 2에 도시된 조명 장치의 구성을 도시한 사시도; 그리고
도 7은 도 6에 도시된 조명 장치의 단면도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하 첨부된 도 1 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 평판 표시 패널 등과 같은 대형의 기판(S)을 처리하는 인라인(inline) 타입의 장치로, 예를 들어, 다양한 처리액을 이용하여 식각 공정, 세정 공정 등을 처리한다. 기판 처리 장치(100)는 로딩부(110)와 언로딩부(150) 사이에 적어도 하나의 처리 유닛(200, 120 ~ 140)을 포함한다.
구체적으로, 기판 처리 장치(100)는 기판(S)을 공급하는 로딩부(110)와, 각각이 서로 다른 공정 또는 동일한 공정을 처리하는 복수 개의 처리 유닛(200, 120 ~ 140) 및, 처리 유닛(200, 120 ~ 140)로부터 공정 완료된 기판(S)을 배출하는 언로딩부(150)를 포함한다. 이러한 로딩부(110), 처리 유닛(200, 120 ~ 140)들 및 언로딩부(150) 각각에는 기판(S)을 상호 이송하기 위한 기판 이송 장치 즉, 컨베이어 장치(202)가 설치된다.
그리고 각 처리 유닛(200, 120 ~ 140)은 컨베이어 장치(202)에 의해 기판(S)이 이송되는 도중에 해당 공정을 처리한다. 예를 들어, 처리 유닛(200, 120 ~ 104)들 중 일부는 처리액을 이용하여 기판(S)의 식각 공정 또는 세정 공정 등을 처리한다. 각 처리 유닛(200, 120 ~ 140)은 도 2에 도시된 바와 같이, 내부가 빈 대체로 직육면체 형상을 가진다. 처리 유닛(200, 120 ~ 140)들은 일렬로 나란하게 배치된다. 각각의 처리 유닛(200, 120 ~ 140)들의 일측면에는 기판(S)이 유입되는 입구가 제공되고, 이와 마주보는 타측면에는 기판(S)이 유출되는 출구가 제공된다.
처리 유닛(200, 120 ~ 140)들은 내부에 공정을 처리하는 밀폐된 공간이 제공되며, 내부 하단에 기판(S)을 이송하는 컨베이어 장치(202)가 구비된다. 컨베이어 장치(202)는 처리 유닛(200, 120 ~ 140) 내부에서 기판(S)을 일방향으로 이송한다. 따라서 기판(S)은 가장 전방에 위치된 로딩부(110)로부터 각 처리 유닛(200, 120 ~ 140)들을 경유하여 순차적으로 가장 후방에 위치된 언로딩부(150)까지 이동된다. 이 때, 처리 유닛(200, 120 ~ 140)들 각각은 기판 이송 중에 해당 공정을 처리한다. 예를 들어, 기판 처리 장치(100)가 세정 공정을 처리하는 세정 설비인 경우, 처리 유닛(200, 120 ~ 140)는 세정 유닛(120), 린스 유닛(130) 및 건조 유닛(140) 등을 포함한다. 세정 유닛(120)과 린스 유닛(130)에는 기판(S) 상부로 처리액을 공급하는 적어도 하나의 노즐(132)이 구비된다. 세정 유닛(120)은 기판(S) 상하단에 접촉하여 기판(S)에 불필요한 오염 물질 등을 제거하는 적어도 한 쌍의 롤브러쉬(122)가 구비된다. 또 건조 유닛(140)에는 기판(S) 상부로 건조 가스를 공급하는 노즐(142)이 구비된다.
물론 기판 처리 장치(100)가 식각 공정을 처리하는 설비인 경우에는 세정 유닛(120) 이전에 식각 공정을 처리하는 처리 유닛(200)이 구비된다. 이러한 구성은 이 기술 분야의 종사자에게는 자명한 기술이므로 여기서는 구체적인 설명은 생략한다. 또한 본 발명의 기술적인 특징은 상술한 식각, 세정 설비에만 적용되는 것이 아니라, 처리액을 이용하는 다양한 기판 처리 장치에서 모두 적용 가능하다.
여기에서는 식각 공정을 처리하는 처리 유닛(200)을 이용하여 본 발명의 상세한 내용을 설명한다.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 처리 유닛의 구성을 도시한 도면들이다.
도 2 내지 도 5를 참조하면, 처리 유닛(200)은 처리액을 이용하여 기판(S)을 처리하는 장치로, 예를 들어, 기판의 식각, 세정 공정 등을 처리한다. 처리 유닛(200)은 적어도 하나의 노즐(210)과, 적어도 하나의 조명 장치(220)를 구비한다.
즉, 처리 유닛(200)은 내부 모니터링이 가능한 하우징(204)과, 하우징(204) 내부에 설치되어 기판(S)을 일 방향으로 이송하는 기판 이송 장치(202)와, 기판(S)의 상부로 처리액을 공급하는 복수 개의 노즐(210)들 및, 내부 조도를 향상시키기 위한 복수 개의 조명 장치(220)들을 포함한다. 노즐(210)들은 기판(S)의 이송 방향과 나란한 방향으로 처리액을 공급한다. 또 조명 장치(220)는 노즐(210)들의 상부에 배치된다. 노즐(210)들은 예컨대, 스프레이 노즐로 구비되며, 노즐(210)들과 조명 장치(220)는 내부 모니터링이 용이하도록 상호 수직한 방향으로 배치된다.
하우징(204)은 내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 대체로 직육면체 형상을 가진다. 하우징(204)은 밀폐된 내부 공간을 제공하고, 외부에서 처리 유닛(200) 내부를 확인할 수 있도록 적어도 한면이 투명 재질로 구비된다. 하우징(204)은 기판 이송 방향을 따라 일측면(204a)에 기판(S)이 유입되는 입구(206)가 제공되고, 이와 마주보는 타측면(204c)에 기판(S)이 유출되는 출구(208)가 제공된다. 또 처리 유닛(200)의 하부에는 처리 유닛(200)으로 처리액을 공급, 배출하거나, 처리 유닛(200)을 제어 및 구동하기 위한 다양한 유틸리티(미도시됨)가 설치된다.
예를 들어, 하우징(204)은 상부면(204e)은 투명 재질로 구비되고, 측면(204a ~ 204d)들은 불투명 재질로 구비될 수 있다. 이러한 측면(204a ~ 204d)들은 처리 유닛(200)에서 사용되는 처리액에 의해 변색되는 것을 방지하기 위함이다. 이 경우, 공정 진행 시, 하우징(204)의 상부면(204e)을 통해 처리 유닛(200)의 내부를 모니터링한다. 따라서 본 발명의 처리 유닛(200)에는 적어도 하나의 조명 장치(220)를 하우징(204)의 내부 일측(예를 들어, 상측 또는 중간 부분 등)에 설치하고, 이를 이용하여 내부 조도를 높임으로써, 공정 진행 중에는 처리액이 비산되어도 조명 장치(220)에 의해 내부 모니터링이 용이하다.
또 처리 유닛(200)은 도 3에 도시된 바와 같이, 내부에 처리액을 공급하는 복수 개의 스프레이 노즐(210)들과, 스프레이 노즐(210)들 상부에 배치되어 내부 조도를 균일하게 높이는 복수 개의 조명 장치(220)들을 구비한다. 또 처리 유닛(200)의 입구(206) 및 출구(208) 내측에는 인샤워(in-shower) 노즐(212)과 액절 노즐(214)이 설치되어 기판(S)의 습도를 유지하거나, 처리 유닛(200)의 내부 공간을 외부와 차단시킨다.
그리고 조명 장치(220)는 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 투명 재질의 원통관(222) 내부에 적어도 하나의 조명등(224)이 설치된다. 원통관(222)는 투명 PVC 배관 등으로 구비되며, 내부에 조명등(224)이 설치되는 공간을 제공한다. 원통관(222)은 처리 유닛(200)에서 사용되는 처리액으로부터 조명등(224)을 보호하고, 부식을 방지하기 위하여, 내부 공간이 처리 유닛(200)의 내부 공간과 차단된다. 또 원통관(222)의 양측면에는 조명등(224)이 고정, 설치되는 소켓(222a)들과, 내부 공간을 배기하기 위한 적어도 하나의 배기구(222b)가 제공된다. 이러한 배기구(222b)는 외부에서 연결되는 펌프(미도시됨) 등을 이용하여 원통관(222)의 내부 공간을 배기하여 부식을 방지할 수 있다.
원통관(222)은 양측면이 처리 유닛(200)의 양측 내부에 고정 설치된다. 원통관(222)의 양측면은 내부에 소켓(222a)들이 고정 설치되고, 이를 통해 전원을 공급받아서 조명등(224)을 점등한다. 조명등(224)은 예를 들어, 형광등으로 제공되며, 처리 유닛(200)의 내부 공간에 대한 조도를 높일 수 있는 LED 등과 같은 다양한 조명등으로 제공될 수 있다. 또 원통관(222)은 하우징(204)의 상부면(204e)에 대응하는 부분에 반사판(미도시됨) 등이 설치될 수 있으며, 이를 통해 조명등(224)의 빛이 처리 유닛(200)의 외부로 새어나가는 것을 최소화할 수 있다.
상술한 본 발명의 조명 장치(220)는 내부에 설치된 조명등(224)으로부터 빛을 조사하여 원통관(222)을 통해 처리 유닛(200)의 내부 공간의 조도를 높인다. 따라서 작업자는 공정 진행 중에 처리액을 이용하는 처리 유닛(200)의 내부를 높은 조도를 통해 용이하게 모니터링할 수 있다. 예를 들어, 내부 모니터링은 기판(S)이 투입, 이송되는 상태나, 기판(S)으로 처리액을 공급하는 노즐(210, 212, 214)들의 상태 등을 확인할 수 있다.
이상에서, 본 발명에 따른 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였지만, 이는 실시예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.
100 : 기판 처리 장치 200 : 처리 유닛
202 : 기판 이송 장치 204 : 하우징
210 : 노즐 220 : 조명 장치
222 : 원통관 222a : 소켓
222b : 배기구 224 : 조명등

Claims (12)

  1. 처리 유닛에 있어서:
    기판이 수용되고, 상기 기판의 공정을 처리하는 내부 공간을 제공하고, 적어도 한면이 투명한 재질로 구비되는 하우징과;
    상기 하우징 내측에 설치되어, 공정 진행 시 상기 하우징 내부를 모니터링하도록 상기 하우징의 내부 조도를 높이는 적어도 하나의 조명 장치와; 그리고
    상기 하우징의 내부에서 상기 기판으로 처리액을 공급하는 적어도 하나의 노즐을 포함하되;
    상기 조명 장치는 상기 노즐의 상측에 위치하는 것을 특징으로 하는 처리 유닛.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐과 상기 조명장치는 상호 수직하게 배치되는 것을 특징으로 하는 처리 유닛.
  3. 삭제
  4. 처리 유닛에 있어서:
    기판이 수용되고, 상기 기판의 공정을 처리하는 내부 공간을 제공하고, 적어도 한면이 투명한 재질로 구비되는 하우징 및;
    상기 하우징 내측에 설치되어, 공정 진행 시 상기 하우징 내부를 모니터링하도록 상기 하우징의 내부 조도를 높이는 적어도 하나의 조명 장치를 포함하되;
    상기 조명 장치는;
    내부가 밀폐되고, 상기 하우징의 내부 양측면에 고정 설치되는 원통관과;
    상기 원통관 내부에 고정 설치되어 상기 하우징 내부로 빛을 조사하는 적어도 하나의 조명등을 포함하되;
    상기 원통관은,
    상기 양측면의 내부에 설치되어 상기 조명등으로 전원을 공급하는 복수 개의 소켓들이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 처리 유닛.
  5. 삭제
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 원통관은 상기 양측면에 제공되어 상기 원통관을 내부 공기를 배기하는 배기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 유닛.
  7. 기판 처리 장치에 있어서:
    기판을 처리하는 적어도 하나의 처리 유닛과;
    상기 처리 유닛의 내부에 설치되어 기판을 일 방향으로 이송하는 기판 이송 장치와;
    상기 기판 이송 장치에 안착된 기판으로 처리액을 공급하는 적어도 하나의 노즐들과;
    상기 처리 유닛의 내부 조도를 높이는 적어도 하나의 조명 장치와; 그리고
    상기 처리 유닛은 적어도 한면이 투명한 재질로 구비되는 하우징을 포함하되;
    상기 조명 장치는 상기 하우징 내측에 설치되어, 공정 진행 시 상기 하우징 내부를 모니터링하도록 상기 하우징의 내부로 빛을 조사하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 삭제
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 조명 장치는 상기 노즐들과 상호 수직하게 그리고, 상기 노즐들의 상측에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 제 7 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 조명 장치는;
    내부가 밀폐되고, 상기 하우징의 내부 양측면에 고정 설치되는 원통관과;
    상기 원통관 내부에 고정 설치되어 상기 하우징 내부로 빛을 조사하는 적어도 하나의 조명등 및;
    상기 원통관의 양측면의 내부에 설치되어 상기 조명등으로 전원을 공급하는 복수 개의 소켓들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 조명 장치는;
    상기 원통관의 상기 양측면에 제공되어 상기 원통관을 내부 공기를 배기하는 복수 개의 배기구들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 원통관은 투명 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
KR1020100011093A 2010-02-05 2010-02-05 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 KR101099622B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100011093A KR101099622B1 (ko) 2010-02-05 2010-02-05 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100011093A KR101099622B1 (ko) 2010-02-05 2010-02-05 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110091315A KR20110091315A (ko) 2011-08-11
KR101099622B1 true KR101099622B1 (ko) 2011-12-29

Family

ID=44928772

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100011093A KR101099622B1 (ko) 2010-02-05 2010-02-05 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101099622B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102307764B1 (ko) * 2019-10-28 2021-10-05 무진전자 주식회사 챔버 조명 다중 선택 시스템

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1174248A (ja) 1997-08-28 1999-03-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2005019650A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Toshiba Corp 処理装置、製造装置、処理方法及び電子装置の製造方法
KR100757852B1 (ko) * 2006-08-24 2007-09-11 세메스 주식회사 엘이디 조명 기구와, 이를 이용한 기판 세정 장치 및엘이디 조명 기구의 냉각 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1174248A (ja) 1997-08-28 1999-03-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2005019650A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Toshiba Corp 処理装置、製造装置、処理方法及び電子装置の製造方法
KR100757852B1 (ko) * 2006-08-24 2007-09-11 세메스 주식회사 엘이디 조명 기구와, 이를 이용한 기판 세정 장치 및엘이디 조명 기구의 냉각 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110091315A (ko) 2011-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101073340B1 (ko) 기판 세정 처리 장치
TW201532692A (zh) 基板清洗設備
TW201322355A (zh) 光照射裝置
KR101099622B1 (ko) 내부 모니터링을 위한 처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치
KR101104201B1 (ko) 기판 열처리 장치
CN103464424A (zh) 紫外辐射臭氧光清洗机
KR102262113B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR100757852B1 (ko) 엘이디 조명 기구와, 이를 이용한 기판 세정 장치 및엘이디 조명 기구의 냉각 방법
KR101194697B1 (ko) 습식세정장비의 버퍼존 세정장치
KR101982158B1 (ko) 필름의 표면 처리 장치 및 시스템
CN110690140B (zh) 基板处理设备和喷嘴单元
KR200433078Y1 (ko) 평판 디스플레이의 일체형 세정장치
KR20110039799A (ko) 기판 처리 장치
KR101097932B1 (ko) 약액 분사 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치
US9895645B2 (en) Apparatus for treating substrate
KR100978130B1 (ko) 기판 제조 설비 및 기판 제조 설비에 사용되는 배기 장치
KR20100042232A (ko) 기판 처리 장치
KR101042322B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
WO2018216612A1 (ja) 基板処理装置
KR102278073B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20080071676A (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR102473692B1 (ko) 기판 식각 시스템
KR102223760B1 (ko) 유체 공급 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치
KR101914992B1 (ko) 기판처리장치 및 기판처리방법
KR102454656B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141212

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151222

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161220

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171220

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181219

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191211

Year of fee payment: 9