KR101095244B1 - 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법 - Google Patents

전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101095244B1
KR101095244B1 KR1020080060266A KR20080060266A KR101095244B1 KR 101095244 B1 KR101095244 B1 KR 101095244B1 KR 1020080060266 A KR1020080060266 A KR 1020080060266A KR 20080060266 A KR20080060266 A KR 20080060266A KR 101095244 B1 KR101095244 B1 KR 101095244B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electronic device
base substrate
insulating layer
printed circuit
circuit board
Prior art date
Application number
KR1020080060266A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100000678A (ko
Inventor
정형미
백상진
정율교
손승현
이재걸
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020080060266A priority Critical patent/KR101095244B1/ko
Publication of KR20100000678A publication Critical patent/KR20100000678A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101095244B1 publication Critical patent/KR101095244B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/465Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer having channels for the next circuit layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/185Components encapsulated in the insulating substrate of the printed circuit or incorporated in internal layers of a multilayer circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4602Manufacturing multilayer circuits characterized by a special circuit board as base or central core whereon additional circuit layers are built or additional circuit boards are laminated
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/568Temporary substrate used as encapsulation process aid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04105Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/19Manufacturing methods of high density interconnect preforms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4697Manufacturing multilayer circuits having cavities, e.g. for mounting components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

본 발명은 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이고, 보다 상세하게는 베이스기판의 하부회로패턴에 정렬된 얼라인 홀을 갖는 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판은, 하부회로패턴과 위치 정합하는 얼라인 홀을 구비하기 때문에 전자소자의 외부접속범프와 신뢰성있게 정합하는 비아를 갖는 외층회로패턴을 형성하는 것이 가능하다는 장점이 있다.
전자소자, 인쇄회로기판, 얼라인 홀, 정합, 내장, 임베드

Description

전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법{A PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING EMBEDED ELECTRONIC COMPONENT WITHIN AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이고, 보다 상세하게는 베이스기판의 하부회로패턴에 정렬된 얼라인 홀을 갖는 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
반도체 패키지에서 프로파일 감소와 다양한 기능을 요구하는 경향의 시장에 있어 인쇄회로기판 구현에 있어 다양한 기술이 요구된다.
예를 들어, FCBGA(Flip Chip Ball Grid Array) 패키지의 제조에 있어서, IC 부품의 전기적 도전성 단자 또는 랜드는 리플로우 가능한 솔더 범프 또는 볼을 사용하여 기판의 표면 상에 다이 본드 영역의 대응 랜드에 직접 솔더링된다. 이때, 전자 부품 또는 부품들은 기판 트레이스를 포함하는 전기적 도전성 경로의 계층을 통해 전자 시스템의 다른 소자에 기능적으로 접속되고, 기판 트레이스는 일반적으로 시스템의 IC 등의 전자 부품 사이에서 전송되는 신호를 운반한다. FCBGA의 경우 기판 상단의 IC와 하단의 커패시터(Capacitor)가 각각 표면 실장될 수 있는데, 이 경우 기판의 두께 만큼 IC와 커패시터를 연결하는 회로의 경로(Path), 즉 연결 회로의 길이가 늘어나, 인피던스 값이 증가하여 전기적 성능에 좋지 않은 영향을 미친다. 또한, 하단 면의 일정 면적을 칩실장을 위해 사용할 수밖에 없기 때문에, 예를 들어, 하단의 모든 면에 볼 어레이를 원하는 사용자의 경우에는 요구를 만족시킬 수 없는 등, 설계자유도가 제한된다.
이에 대한 해결 방안으로서 부품을 기판 안에 삽입하여 회로의 경로를 줄이는 부품 내장 기술이 대두되고 있다.
도 1a 및 도 1b는 종래의 전자부품 내장 인쇄회로기판의 제조방법을 도시하는 도면이며, 이를 참조하여 종래기술의 문제점을 설명한다.
먼저, 도 1a에는 전자부품(30)이 실장될 수 있는 공동(20)이 형성된 절연재(13)을 갖는 기판본체(10) 및 이 공동(20) 상부에 배치된 전자부품(30)이 각각 도시된다. 전자부품(30)은 도시되지 않은 헤더에 진공흡착방식으로 결합하여 이송되어 기판본체(10)에 실장되게 된다. 이때, 전자부품(30)이 실장되면 기판본체(10)에 절연층(70)이 적층되게 되고 절연층(70) 상부에는 전자부품(30)의 일면에 형성된 접속패드(33)와 전기적으로 연결되는 비아(93) 및 회로패턴(91)을 포함하는 회로층(90)을 형성하여 전자부품(30) 내장 인쇄회로기판을 제조한다.
그러나, 기판본체(10)에 절연층(70)이 적층되고 나면 전자부품(30)의 접속패드(33)는 외관으로 관찰되지 않기 때문에 절연층(70)에 접속패드(33)를 노출시키는 비아홀을 형성함에 있어 그 위치 정합이 어렵다는 문제점이 있다.
접속패드(33)와 비아(93)의 정합을 유지하기 위해 전자부품(30)은 정해진 기 준에 대해 정렬된 상태에서 실장되어야 한다. 종래에는 도 1a에 도시된 바와 같이, 기판본체(10)와 전자부품(30) 사이에 배치되는 검출장치(60)를 통해 기판본체(10)의 상부에 형성된 회로패턴(15)과 전자부품(30)의 접속패드(33)의 위치를 검출하여 기판본체(10)의 상부에 형성된 회로패턴(15)에 대해 접속패드(33)의 위치가 정렬되도록 전자부품(30)을 실장하였다.
그러나, 접속패드(33)가 위치하는 방향은 기판본체(10)의 상부에 형성된 회로패턴(15)이 아닌 기판본체(10)의 하부에 형성된 회로패턴(17)이다. 기판본체(10)의 상부에 형성된 회로패턴(15)과 하부에 형성된 회로패턴(17)은 층간도통을 위해 일정한 정합요건을 만족하도록 형성되지만, 레지스트의 노광 공정상의 오차 등에 의해 상부 및 하부에 형성되는 회로패턴(15, 17)은 완전히 정합되지는 않는다. 따라서, 기판본체(10)의 상부에 형성된 회로패턴(15)을 기준으로 전자부품(30)을 실장하는 경우 도 1b에 도시된 바와 같이, 전자부품(30)의 접속패드(33)와 절연층(70) 상에 형성되는 회로층(90)에 형성되는 비아(93)간의 정합이 일어나지 않는 문제가 있었다.
상술한 바와 같은, 페이스다운 실장 방식뿐만 아니라 페이스업 실장방식에서도 이와 유사한 문제점이 있었다. 즉, 페이스업 방식으로 전자부품을 실장하는 경우 전자부품을 운반하는 헤더에 의해 전자부품의 접속패드의 위치를 검출할 수 없다. 따라서 페이스업 실장방식에서는, 전자부품의 외부 형상과 기판본체의 상부회로패턴을 기준으로 전자부품을 배치하였다. 그러나 반도체칩의 경우 그 외형은 다이싱 공정상의 오차 등에 일정한 형상을 가지는 것이 아니기 때문에 전자부품의 외 형을 기준으로 실장하는 경우 접속패드의 위치가 외부 회로층의 비아홀과 정합되지 않는 문제가 있었다.
따라서, 기판본체(10)의 외측에 형성되는 비아(93)와 전자부품(30)의 접속패드(33)를 정합시킬 수 있는 전자소자 내장 인쇄회로기판의 구조 및 제조방법이 제안될 것이 요구되었다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자 창출된 것이다.
본 발명의 목적은, 전자소자의 외부접속범프가 베이스 기판에 형성되는 외층 비아와 위치 정합할 수 있도록 한 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판은, 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상부에 형성된 상부회로패턴 및 상기 제1 절연층 하부에 형성된 하부회로패턴을 갖는 베이스기판; 상기 베이스기판을 관통하는 공동; 상기 베이스기판을 관통하는 얼라인 홀; 상기 공동에 내장되며 일면에 외부접속범프가 형성된 전자소자; 및 상기 베이스기판의 상부 및 하부에 적층되며, 상기 얼라인 홀을 완전히 채우는 제2 절연층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 한 특징으로서, 상기 얼라인 홀은, 상기 하부회로패턴의 배치에 정렬 형성된 관통홀인 것에 있다.
본 발명의 바람직한 다른 특징으로서, 상기 베이스기판은 양면 인쇄회로기판 또는 다층 인쇄회로기판인 것에 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 제2 절연층 상에 형성되고, 상기 외부접속범프 및 상기 하부회로패턴과 전기적으로 접속하는 회로층을 더 포함하는 것에 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 얼라인 홀은 상기 공동을 사 이에 두고 복수개가 대칭되어 배치된 것에 있다.
본 발명에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법은, (A) 상부에 형성된 상부회로패턴 및 하부에 형성된 하부회로패턴을 갖는 베이스기판을 제공하는 단계; (B) 상기 베이스기판에 전자소자 내장용 공동 및 상기 전자소자 정렬용 얼라인 홀을 형성하는 단계; (C) 상기 전자소자의 일면에 형성된 외부접속범프와 상기 얼라인홀이 정렬되도록 상기 베이스기판에 상기 전자소자를 실장하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 한 특징으로서, 상기 베이스기판은 양면 인쇄회로기판 또는 다층 인쇄회로기판인 것에 있다.
본 발명의 바람직한 다른 특징으로서, 상기 얼라인 홀은, 상기 베이스기판의 상기 하부회로패턴의 배치에 대응하는 위치에 형성된 관통홀인 것에 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 전자소자를 실장하는 단계는, (ⅰ) 상기 베이스기판의 하면에 테이프를 접착하는 단계; (ⅱ) 상기 테이프 상에 상기 얼라인 홀과 상기 외부접속범프가 정렬되도록 상기 전자소자를 배치하는 단계; (ⅲ) 상기 베이스기판의 상면에 제2 상부 절연층을 적층하는 단계; (ⅳ) 상기 테이프를 제거하고 상기 베이스기판의 하면에 제2 하부 절연층을 적층하는 단계;를 포함하는 것에 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 전자소자를 배치하는 단계는, (ⅰ) 상기 얼라인 홀의 위치 및 상기 외부접속범프의 위치를 검출하는 단계; (ⅱ) 상기 얼라인 홀과 상기 외부접속범프가 위치 정렬되도록 상기 전자소자를 배치하는 단계;를 포함하는 것에 있다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판은, 하부회로패턴과 위치 정합하는 얼라인 홀을 구비하기 때문에 전자소자의 외부접속범프와 신뢰성있게 정합하는 외층 비아를 갖는 회로층을 형성하는 것이 가능하다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법은 베이스기판의 하부회로패턴에 대해 정렬된 얼라인 홀을 기준으로 전자소자를 정렬 및 실장 하기 때문에 전자소자의 외부접속범프와 양호하게 접속하는 외층 비아를 형성할 수 있는 장점이 있다.
이하, 본 발명에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 첨부된 도면의 전체에 걸쳐, 동일하거나 대응하는 구성요소는 동일한 도면부호로 지칭되며, 중복되는 설명은 생략한다. 본 명세서에서, 제1, 제2 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 단면도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명은, 베이스기판(100), 베이스기판(100)을 관통하는 공동(200), 베이스기판(100)을 관통하는 얼라인 홀(500), 공동(200)에 내장되며 일면에 외부접속범프(330)가 형성된 전자소자(300) 및 베이스기판(100)의 상부 및 하부에 적층되며, 얼라인 홀(500)을 완전히 채우는 제2 절연층(700)을 포함하는 구성이다.
베이스기판(100)은 양면인쇄회로기판, 다층인쇄회로기판이 될 수 있으며, 본 실시예에서는 제1 절연층(130), 제1 절연층(130) 상부에 형성된 상부회로패턴(150) 및 제1 절연층(130) 하부에 형성된 하부회로패턴(170)을 갖는 양면인쇄회로기판을 베이스기판(100)으로 사용한다. 베이스기판(100)은 상부회로패턴(150)과 하부회로패턴(170)을 전기적으로 연결하는 내층 비아(160; PTH)를 포함할 수 있다.
여기서 제1 절연층(130)은 상부회로패턴(150)과 하부회로패턴(170)을 전기적으로 절연시키는 재료로 구성되며 예를 들면, 열경화성 수지, 열가소성 수지, 기재 보강된 열경화성 수지 및 기재 보강된 열가소성 수지 중 단독 또는 2종 이상을 조합한 수지로 구성될 수 있다.
공동(200)은 베이스기판(100)에 전자소자(300)를 내장하기 위해 마련된 관통 홀이며, 전자소자(300)의 크기에 상응하는 크기를 갖는다. 이때, 공동(200)은 전자소자(300)가 용이하게 내장될 수 있을 뿐만 아니라 전자소자(300)가 공동(200) 내부에서 어느 정도 위치이동이 가능한 정도로 전자소자(300)의 크기보다는 큰 크기를 갖는 것이 바람직하다.
얼라인 홀(500)은 전자소자(300)를 정렬하기 위해 마련된 관통홀이며, 그 형상 및 크기가 제한되는 것은 아니지만 예를 들면, 층간 전기 접속을 위한 내층 비아(160)와 유사한 크기를 가질 수 있다. 그러나, 얼라인 홀(500)은 층간 전기 접속을 위한 구성이 아니며, 전기 전도성 물질로 내부가 충전되지 않는다는 점에서 내층 비아(160)와 구별된다.
여기서, 얼라인 홀(500)은 하부회로패턴(170)의 배치에 정렬하는 위치에 형성된다. 일반적으로 내부 회로층을 형성할 때에는 내부 회로층 상부에 빌드업되는 회로층과의 층간 도통 및 정합을 위한 정렬 마크가 마련되며 이는 통상 관통샤프트가 삽입될 수 있는 관통공의 형상을 갖는다. 따라서, 내부 회로층 상부에 절연층을 적층하고 절연층에 블라인드 외층 비아홀을 형성함에 있어서, 이러한 정렬 마크를 기준으로 비아홀의 위치를 특정하게 된다. 본 실시예에서 얼라인 홀(500)이 하부회로패턴(170)의 배치에 정렬하는 위치에 형성된다는 의미는 하부회로패턴(170)의 정렬 마크를 기준으로 얼라인 홀(500)이 형성된다는 것이다. 즉, 얼라인 홀(500)은 또 다른 정렬 마크로 작용할 수 있으며, 본 실시예의 얼라인 홀(500)은 베이스기판(100)을 관통하여 형성되기 때문에 상부회로패턴(150)이 형성된 면에서도 하부회로패턴(170)의 정렬마크를 확인할 수 있게 되는 것이다.
한편, 얼라인 홀(500)은 전자소자(300)의 정렬을 위한 것이라는 점에서 전자소자(300)가 내장되는 공동(200) 주변에 형성되는 것이 바람직하다. 이때, 본 실시예의 얼라인 홀(500)은 상부회로패턴(150)이 형성된 면에서 하부회로패턴(170)의 정렬마크를 확인할 수 있도록 하되 공동(200)에 근접하게 공동(200) 주변에 형성되면 족할 뿐 특정 위치에 형성하여야 하는 것은 아니며, 상부 및 하부회로패턴(170)을 고려하여 회로 라인이 조밀하지 않은 곳에 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 얼라인 홀(500)은 하나만 형성할 수도 있으나, 정밀한 정렬을 위해 복수개를 형성할 수 있다. 본 실시예에서는 공동(200)을 사이에 두고 대칭으로 배치된 두 개의 얼라인 홀(500)이 도시된다.
전자소자(300)는 인쇄회로기판과 전기적으로 연결되어 특정기능을 수행하는 부품으로 예를 들면 커패시터 소자 또는 반도체 소자가 될 수 있으며, 전자소자(300)의 일면에는 인쇄회로기판과 전기적으로 연결될 수 있는 외부접속범프(330)를 구비된다. 본 실시예에서는 전자소자(300)로 내부에 전자회로가 집적된 반도체칩을 사용하며 반도체칩의 일면에는 전자회로에 전기 신호를 인출하는 외부접속범프(330)가 형성되어 있다.
제2 절연층(700)은 베이스기판(100)의 상부 및 하부에 추가 적층된 절연층으로서, 제2 절연층(700)은 베이스기판(100)의 상부 및 하부를 덮는 형태일 뿐만 아니라 얼라인 홀(500), 내층 비아(160) 내부, 및 공동(200)의 전자소자(300)이 채워 지지 않는 부분을 모두 충전한다. 제2 절연층(700)은 열경화성 수지, 열가소성 수지, 기재 보강된 열경화성 수지 및 기재 보강된 열가소성 수지 중 단독 또는 2종 이상을 조합한 수지로 구성될 수 있다.
한편 제2 절연층(700) 상에는 회로층(900)이 형성된다. 이 회로층(900)은 전자소자(300)의 외부접속범프(330), 상부회로패턴(150), 및 하부회로패턴(170)과 전기적으로 접속하는 외층 비아(930) 및 외층회로패턴(910)을 포함하는 구성이다. 상기 회로층(900)을 통해 전자소자(300) 및 베이스기판(100)은 전기적으로 접속될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판은 얼라인 홀(500)을 구비하기 때문에 전자소자(300)의 외부접속범프(330)와 신뢰성있게 정합하는 외층 비아(930)를 갖는 회로층(900)을 구현하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법에 대해 서술한다. 도 3 내지 도 14는 본 발명의 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법을 공정순서대로 도시한 도면이다.
먼저, 전자소자(300)가 내장될 베이스기판(100)을 제공하는 단계이다. 도 3 내지 도 5는 베이스기판(100)을 제공하는 단계를 도시한다. 여기서는 베이스기판(100)으로 양면인쇄회로기판을 사용하지만 이에 제한되는 것이 아니고, 베이스기판(100)은 다층인쇄회로기판이 될 수 있다. 또한, 여기서는 서브트렉티브공법(subtractive)을 적용하여 양면기판을 제공하는 방법에 대해 도시 및 서술하지 만, 이에 제한되는 것이 아니며, 다른 공지된 기판제조공정 예를 들면, 어디티브공정(Additive), 세미어디티브공정(SAP, MSAP)으로 기판을 제조할 수 있음을 밝혀둔다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제1 절연층(130)의 양면에 동박(135)이 적층된 동박적층판(CCL)이 제공된다.
다음, 도 4에 도시된 바와 같이, 동박적층판에 CNC 드릴링 또는 레이저(CO2 또는 YAG 레이저) 드릴링으로 비아홀(165)을 가공한다.
다음, 도 5에 도시된 바와 같이, 비아홀(165) 내벽에 도금층을 형성하고 동박(135) 위에 레지스트를 적층하고 동박(135)을 에칭하여 상부 및 하부회로패턴(150, 170)을 형성한다. 상기 공정에 의해 본 실시예에서 사용되는 베이스기판(100)을 만들 수 있다.
다음, 도 6에 도시된 바와 같이, 베이스기판(100)에 공동(200) 및 얼라인 홀(500)을 가공한다. 공동(200) 및 얼라인 홀(500)은 CNC 드릴링 또는 레이저 드릴링으로 가공할 수 있다.
여기서, 공동(200)은 전자소자(300)가 실장될 위치에 전자소자(300)의 크기보다 크게 형성하는 것이 바람직하다. 공동(200)이 전자소자(300)의 위치정렬을 수용할 수 있을 만큼의 공간을 구비하도록 형성하는 것이 중요하다.
여기서, 얼라인 홀(500)은 하부회로패턴(170)의 배치에 정렬되도록 형성한다. 즉, 하부회로패턴(170)의 배치 및 하부회로패턴(170)의 정렬 마크를 검출하고 이에 정렬되도록 형성한다. 상술한 바와 같이 얼라인 홀(500)의 위치, 수, 및 형상에 제한은 없으나, 전자소자(300)의 정렬의 정밀도를 향상하기 위해 공동(200)의 주변에 하나 이상의 얼라인 홀(500)을 형성하는 것이 바람직하다. 본 실시예에서는 공동(200)을 사이에 두고 대칭적으로 형성되는 두 개의 얼라인 홀(500)이 도시 및 서술된다.
한편, 공동(200) 및 얼라인 홀(500)은 동시에 가공하는 것도 가능하고 순차적으로 가공하는 것도 가능하다.
다음, 도 7에 도시된 바와 같이, 베이스기판(100)의 일면에 테이프(400)를 부착하여 공동(200)을 폐쇄한다. 테이프(400)는 제2 절연층(700)을 적층되어 전자소자(300)의 위치가 고정되기 전에 임시적으로 사용되는 부재로서, 제거시 기판의 표면에 잔류물이 남지 않는 접착제가 사용되는 것이 좋다. 또한 테이프(400)에 전자소자(300)를 고정시킨 후 제2 절연층(700)을 적층하는 과정에서 기판에 열이 가해지기 때문에 테이프(400)의 재질은 내열성이 우수한 것이 좋다. 예를 들어 실리콘 접착제가 도포된 폴리이미드(PI) 재질의 필름으로 제작된 테이프(400)가 사용될 수 있다.
다음, 도 8에 도시된 바와 같이, 전자소자(300)를 베이스기판(100)의 공동(200) 상부에 배치한다. 전자소자(300)는 헤더(미도시)에 진공흡착방식으로 부착되어 공동(200) 상부로 이동된다. 이때 전자소자(300)와 베이스기판(100) 사이에 배치되는 위치검출수단(600), 예를 들면, 카메라에 의해 전자소자(300)의 외부접속범프(330)의 위치 및 베이스기판(100)의 얼라인 홀(500)의 위치가 검출된다. 위치 검출수단(600)에 의해 수집된 위치정보는 헤더의 이동을 제어하는 제어부로 전송되고 제어부는 헤더가 전자소자(300)의 외부접속범프(330)가 얼라인 홀(500)과 정렬되는 위치에 배치되도록 전자소자(300)를 이동한다.
다음, 도 9에 도시된 바와 같이, 전자소자(300)를 베이스기판(100)에 실장한다. 전자소자(300)가 정 위치에 배치되면 위치검출수단(600)은 수평방향으로 이동하고 헤더는 전자소자(300)를 베이스기판(100)의 테이프(400) 상에 실장한다.
다음, 도 10에 도시된 바와 같이, 제2 상부 절연층(730)을 적층한다. 전자소자(300)가 테이프(400)상에 실장되면 베이스기판(100)의 상부에서 제2 상부 절연층(730)을 적층한다. 제2 상부 절연층(730)을 적층하는 것에 의해 전자소자(300)가 베이스기판(100)에 고정된다. 제2 상부 절연층(730)의 적층에 의해 공동(200)의 빈 공간, 얼라인 홀(500) 및 내층 비아(160)의 내부공간이 제2 절연층(700)으로 충전된다.
다음, 도 11에 도시된 바와 같이, 테이프(400)를 제거한 다음, 도 12에 도시된 바와 같이, 제2 하부 절연층(750)을 적층한다. 제2 하부 절연층(750)을 적층하는 것에 의해 전자소자(300)는 제2 절연층(700)으로 완전히 감싸지게 된다.
다음, 도 13에 도시된 바와 같이, 제2 절연층(700)에 상부회로패턴(150), 하부회로패턴(170) 및 외부접속범프(330)를 노출하는 블라인드 비아홀(310)을 가공한다. 이때 상기 제2 절연층(700)의 하부에 형성되는 블라인드 비아홀(310)은 위치검출수단(600)을 통해 수집된 얼라인 홀(500)의 위치정보를 기준으로 특정된 위치에 형성된다.
상술한 바와 같이, 전자소자(300)의 외부접속범프(330)가 얼라인 홀(500)과 정렬 배치되어 있기 때문에 상기 얼라인 홀(500)의 위치정보를 기준으로 블라인드 비아홀(310)을 형성하게 되면, 상기 외부접속범프(330)를 양호하게 노출시킬 수 있다.
다음, 도 14에 도시된 바와 같이, 외부접속범프(330), 상부회로패턴(150) 및 하부회로패턴(170)과 전기적으로 접속할 수 있는 회로층(900)을 형성한다. 이 회로층(900)은 통상의 회로형성공정으로 형성될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법은 베이스기판(100)의 하부회로패턴(170)에 대해 정렬된 얼라인 홀(500)을 기준으로 전자소자(300)를 정렬 및 실장 하기 때문에 전자소자(300)의 외부접속범프(330)와 양호하게 접속하는 회로층(900)을 형성할 수 있다.
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형을 할 수 있음은 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명하다. 따라서, 그러한 변형예 또는 수정예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 해야 할 것이다.
도 1은 종래기술로 전자소자 내장 인쇄회로기판을 제조하는 공정을 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 3 내지 도 14는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자소자 내장 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 공정순서대로 도시하는 도면이다.

Claims (10)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. (A) 동박이 양면에 적층된 제1 절연층에 비아홀을 가공한 후 상기 비아홀의 내벽에 도금층을 형성하고 상기 동박을 에칭하여 상부회로패턴, 하부회로패턴 및 이를 전기적으로 연결하는 내층 비아가 형성된 베이스기판을 제공하는 단계;
    (B) 상기 베이스기판에 전자소자 내장용 공동을 형성하는 단계;
    (C) 상기 베이스기판에 하부회로패턴을 정렬 마크로 하여 얼라인 홀을 형성하는 단계;
    (D) 상기 베이스기판의 하면에 테이프를 접착하고, 얼라인 홀의 위치를 검출하여 상기 얼라인 홀의 위치정보를 기준으로 전자소자의 외부접속범프가 정렬되도록 상기 전자소자를 공동에 배치하는 단계;
    (E) 상기 베이스기판의 상면에 제2 상부 절연층을 적층하고, 테이프를 제거한 후 베이스기판의 하면에 제2 하부 절연층을 적층하여 제2 절연층을 형성하는 단계; 및
    (F) 상기 얼라인 홀의 위치정보를 기준으로 제2 절연층에 블라인드 비아홀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법.
KR1020080060266A 2008-06-25 2008-06-25 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법 KR101095244B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080060266A KR101095244B1 (ko) 2008-06-25 2008-06-25 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080060266A KR101095244B1 (ko) 2008-06-25 2008-06-25 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100000678A KR20100000678A (ko) 2010-01-06
KR101095244B1 true KR101095244B1 (ko) 2011-12-20

Family

ID=41811043

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080060266A KR101095244B1 (ko) 2008-06-25 2008-06-25 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101095244B1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102004764B1 (ko) * 2013-06-20 2019-07-29 삼성전기주식회사 부품 실장 방법 및 내장 기판 제조 방법
KR101491606B1 (ko) * 2013-10-14 2015-02-11 대덕전자 주식회사 회로배선판 제조방법
KR102186148B1 (ko) * 2014-02-28 2020-12-03 삼성전기주식회사 임베디드 기판 및 임베디드 기판의 제조 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100796523B1 (ko) * 2006-08-17 2008-01-21 삼성전기주식회사 전자부품 내장형 다층 인쇄배선기판 및 그 제조방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100796523B1 (ko) * 2006-08-17 2008-01-21 삼성전기주식회사 전자부품 내장형 다층 인쇄배선기판 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100000678A (ko) 2010-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101095130B1 (ko) 전자부품 내장형 인쇄회로기판 및 그 제조방법
US8116066B2 (en) Method of manufacturing electronic component built-in substrate
KR101976602B1 (ko) 인쇄회로 기판 및 그 제조 방법
KR102425753B1 (ko) 인쇄회로기판, 인쇄회로기판의 제조 방법 및 이를 포함하는 반도체 패키지
US20170094797A1 (en) Printed circuit board and method for manufacturing the same
JP7074409B2 (ja) 素子内蔵型印刷回路基板
KR101601815B1 (ko) 임베디드 기판, 인쇄회로기판 및 그 제조 방법
KR102333091B1 (ko) 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판의 제조 방법
KR102194718B1 (ko) 임베디드 기판 및 임베디드 기판의 제조 방법
US20120176751A1 (en) Electronic component module and manufacturing method therefor
KR20140143567A (ko) 반도체 패키지 기판 및 반도체 패키지 기판 제조 방법
KR20170067481A (ko) 인쇄회로기판, 전자소자 패키지 및 그 제조방법
KR102582421B1 (ko) 인쇄회로기판 및 이를 구비한 전자소자 패키지
KR101095244B1 (ko) 전자소자 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법
US10080292B2 (en) Wiring board
US20150156882A1 (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof, and semiconductor package
US20020189091A1 (en) Method of making printed circuit board
KR20160090626A (ko) 전자부품내장형 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR102281460B1 (ko) 임베디드 기판 및 임베디드 기판의 제조 방법
US20110083891A1 (en) Electronic component-embedded printed circuit board and method of manufacturing the same
KR100969438B1 (ko) 전자소자 내장 인쇄회로기판의 제조방법
KR101077313B1 (ko) 전자부품 내장형 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR101543031B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조 방법
JP2008181921A (ja) 電子部品内蔵基板とこれを用いた電子機器、およびその製造方法
KR102023729B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
E90F Notification of reason for final refusal
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141001

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151005

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee