KR101091960B1 - 롤 스탬프 제조장치 및 방법 - Google Patents

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임형준
최기봉
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Abstract

본 발명은 대형 디스플레이, 박막 태양전지 등의 다양한 분야에 활용될 수 있는 기능성 필름의 패터닝을 위해 필수적인 요소인 대형 롤 스탬프의 제조를 위한 롤 스탬프 제조장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 표면에 레지스트 막이 코팅된 베어롤과 표면에 패턴이 기 형성된 소형의 마스터롤을 접촉시킨 후 회전시켜 베어롤 표면에 패턴을 전사하고 이동하여 순차적으로 패턴을 전사하여 베어롤 전체에 패턴을 형성시킴으로서 대형의 롤 스탬프를 제작할 수 있는 롤 스탬프 제조장치 및 방법에 관한 것이다.

Description

롤 스탬프 제조장치 및 방법 {Apparatus and fabrication method for a roll stamp}
본 발명은 대형 디스플레이, 박막 태양전지 등의 다양한 분야에 활용될 수 있는 기능성 필름의 패터닝을 위해 필수적인 요소인 대형 롤 스탬프의 제조를 위한 롤 스탬프 제조장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 표면에 레지스트 막이 코팅된 베어롤과 표면에 패턴이 기 형성된 소형의 마스터롤을 접촉시킨 후 회전시켜 베어롤 표면에 패턴을 전사하고 이동하여 순차적으로 패턴을 전사하여 베어롤 전체에 패턴을 형성시킴으로서 대형의 롤 스탬프를 제작할 수 있는 롤 스탬프 제조장치 및 방법에 관한 것이다.
최근 전자기기의 발달과 더불어 미세 가공 기술도 급속도로 발달하고 있으며, 미세 가공 기술은 반도체회로, 광학 기기 등 다양한 분야에 이용되고 있다.
또한, 나노 패턴이 적용된 기능성 광학 필름에 대한 수요가 증대되고 있다.
기능성 광학필름의 예로는 WGP(wire grid polarizer) 등이 있으며 이는 얇은 필름 위에 선 패턴 또는 점 패턴들이 반복적으로 형성됨으로서 광학적 특성인 편광, 반사율, 투과율 등의 조절이 가능하다.
이러한 기능성 필름을 제조하기 위해 나노패턴이 있는 롤을 이용하여 필름의 표면에 롤에 존재하는 패턴을 전사하도록 하는 방법이 주로 사용되고 있으며, 이는 생산속도의 향상을 통해 저렴한 가격의 기능성 필름을 손쉽게 생산할 수 있는 가장 효율적인 방법으로 많은 연구개발이 진행되고 있는 상황이다.
그런데 롤 스탬프를 이용한 기능성 필름의 제조를 위해 롤 스탬프를 제조하는 방법이 반드시 필요하나, 현재까지 이음매 없는 대형 롤 스탬프를 제조할 만한 방법이 없는 상황이다.
이로 인해 종래의 일부 롤 스탬프(한국등록특허 0953953 참조)는 도 1과 같이 평면형 스탬프(20)를 롤(10)에 감아 사용하거나, 필름형 스탬프를 벨트 형태로 연결하여 사용하는 등 기존의 평면 기판 패터닝을 통해 얻어지는 결과물을 직접 이용하는 방법을 활용하고 있으나 이는 연결부위의 불연속적인 형상으로 인해 생산할 수 있는 길이의 제한이 있다.
또한, 기존의 패터닝 기술은 웨이퍼 등 평면에 패턴을 제작하는 기술로 발전해 왔고 이러한 기술을 통해 소형 롤 표면에 패턴의 전사는 가능 할 것으로 보이며, 원통형 롤 표면에 자기 조립 패터닝(self assembly patterning) 등을 이용한 bottom-up 방식의 패터닝 기술도 존재하나 아직까지는 개념적으로 접근하는 수준으로 실제 생산에 적용하는 데에는 어려움이 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 표면에 레지스트 막이 코팅된 베어롤과 표면에 패턴이 기 형성된 소형의 마스터롤을 접촉시킨 후 회전시켜 베어롤 표면에 패턴을 전사하고 이동하여 순차적으로 패턴을 전사하여 베어롤 전체에 패턴을 형성시켜 대형의 롤 스탬프를 제작할 수 있는 롤 스탬프 제조장치 및 방법을 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 롤 스탬프 제조장치는, 외주면에 레지스트(111)가 코팅된 베어롤(110)이 장착되어 X축을 중심으로 회전되도록 형성되는 회전 스테이지(100); 상기 회전 스테이지(100)와 일정거리 이격되어 나란하게 형성되는 고정대(210), 및 상기 고정대(210)를 따라 X축 방향으로의 위치가 조절되는 이송대(220)를 포함하여 이루어지는 이송 스테이지(200); 상기 이송대(220)의 일측에 결합되되, X축을 중심으로 회전가능하며 외주면에 패턴이 형성된 마스터롤(310)을 포함하여 이루어지며, 상기 마스터롤(310)은 X축과 Z축 방향으로의 위치조절, Y축을 중심으로 회전각도 조절 및 Y축 방향 가압량이 조절되는 마스터롤 헤드 유닛(300); 상기 이송대(220)의 타측에 결합되어 상기 베어롤(110) 외주면의 레지스트(111)를 경화시키는 레지스트 경화 유닛(400); 및 상기 레지스트 경화 유닛(400)의 일측에 결합되며, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)의 X축 방향 위치를 측정하는 스티칭 정렬 유닛(500); 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 외주면에 나노패턴이 형성된 마스터롤(310), 및 상기 마스터롤(310)이 X축을 중심으로 회전 가능하게 결합되는 고정브라켓(320)을 포함하는 마스터롤 뭉치(330); 상기 마스터롤 뭉치(330)와 결합되어 상기 마스터롤 뭉치(330)의 X축과 Z축 방향으로의 위치를 나노미터 단위로 조절 및 Y축을 중심으로 회전각도를 조절하는 마스터롤 위치 조절 수단(340); 및 상기 마스터롤 위치 조절 수단(340)에 일측이 결합되고 타측은 상기 이송대(220)에 결합되어, 상기 마스터롤 뭉치(330)의 Y축 방향으로의 가압량을 조절하는 마스터롤 가압 수단(350); 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 고정 브라켓(320), 마스터롤 위치 조절 수단(340), 마스터롤 가압 수단(350), 및 이송대(220)는 각각 관통부가 형성되어, 상기 마스터롤(310)과 상기 레지스트 경화 유닛(400)이 연통되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 이송 스테이지(200)의 이송대(220)는 마이크로미터 단위로 이동이 조절되고, 상기 회전 스테이지(100)에 장착되는 베어롤(110)의 외주면에 일정한 간격으로 마이크로 패턴(112)이 형성되고 그 위에 상기 레지스트(111)가 코팅되며, 상기 마스터롤(310)은 나노패턴(311)이 형성된 외주면 내부에 일정한 간격으로 마이크로 패턴(312)이 형성되어, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)에서 모아레법을 이용하여 상기 베어롤(110)과 마스터롤(310)의 상대위치를 나노미터 단위로 측정하는 것을 특징으로 하는 롤 스탬프 제조장치.
그리고 본 발명의 롤 스탬프 제조장치를 이용한 롤 스탬프 제조방법은, 외주면에 레지스트(111)가 코팅된 베어롤(110)을 상기 회전 스테이지(100)에 장착하는 베어롤 장착단계(S10); 상기 이송 스테이지(200)의 이송대(220)를 초기 위치로 이동시키고, 상기 마스터롤(310)의 X축과 Z축 방향으로의 위치조절 및 Y축을 중심으로 회전각도를 조절하는 마스터롤 정렬단계(S20); 상기 마스터롤(310)을 Y축 방향으로 가압하여 상기 베어롤(110)과 접촉시킨 후 회전시켜 상기 마스터롤(310)에 형성된 패턴을 상기 베어롤(110) 외주면의 레지스트(111)에 전사시키면서 동시에 레지스트 경화 유닛(400)에 의해 레지스트(111)를 경화시키는 패턴 형성단계(S30); 상기 이송대(220)를 다음 패턴을 형성하고자 하는 위치로 이동시키고, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)으로 X축 방향 위치를 측정하여 상기 마스터롤(310)의 X축 방향 위치를 조절하는 스티칭 정렬단계(S40); 및 상기 S30단계와 S40단계를 번갈아 수행하여 상기 베어롤(110)의 외주면 전체 레지스트(111)에 패턴을 전사시키고 경화시켜 롤 스탬프를 완성하는 연속패턴 형성단계(S50); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 롤 스탬프 제조장치 및 방법은, 표면에 레지스트 막이 코팅된 베어롤과 표면에 패턴이 기 형성된 소형의 마스터롤을 접촉시킨 후 회전시켜 베어롤 표면에 패턴을 전사하고 이동하여 순차적으로 패턴을 전사하여 베어롤 전체에 패턴을 형성시키므로, 연결부위의 불연속적인 형상이 없는 대형의 롤 스탬프를 제조할 수 있는 장점이 있다.
더 나아가 본 발명의 롤 스탬프 제조방법에 의해 제작되는 롤 스탬프를 사용하면 수백 mm 이상의 폭을 갖는 롤 형태의 필름 표면에 연속적인 패터닝을 형성할 수 있어 나노 패턴이 형성된 기능성 광학 필름의 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
도 1은 종래의 롤 스탬프를 나타낸 사시도.
도 2는 본 발명의 롤 스탬프 제조장치를 나타낸 사시도.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 롤 스탬프 제조방법을 나타낸 사시도.
도 7은 본 발명에 의해 제조되는 롤 스탬프를 나타낸 사시도.
도 8은 본 발명에 따른 마스터롤 헤드 유닛을 나타낸 분해 사시도.
도 9는 본 발명에 따른 마이크로 패턴과 스티칭 정렬 유닛을 이용한 나노미터 단위 위치 측정방법을 나타낸 개략도.
이하, 상기한 바와 같은 본 발명의 롤 스탬프 제조장치 및 방법을 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명의 롤 스탬프 제조장치를 나타낸 사시도이다.
도시된 바와 같이 본 발명의 롤 스탬프 제조장치(1000)는, 외주면에 레지스트(111)가 코팅된 베어롤(110)이 장착되어 X축을 중심으로 회전되도록 형성되는 회전 스테이지(100); 상기 회전 스테이지(100)와 일정거리 이격되어 나란하게 형성되는 고정대(210), 및 상기 고정대(210)를 따라 X축 방향으로의 위치가 조절되는 이송대(220)를 포함하여 이루어지는 이송 스테이지(200); 상기 이송대(220)의 일측에 결합되되, X축을 중심으로 회전가능하며 외주면에 패턴이 형성된 마스터롤(310)을 포함하여 이루어지며, 상기 마스터롤(310)은 X축과 Z축 방향으로의 위치조절, Y축을 중심으로 회전각도 조절 및 Y축 방향 가압량이 조절되는 마스터롤 헤드 유닛(300); 상기 이송대(220)의 타측에 결합되어 상기 베어롤(110) 외주면의 레지스트(111)를 경화시키는 레지스트 경화 유닛(400); 및 상기 레지스트 경화 유닛(400)의 일측에 결합되며, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)의 X축 방향 위치를 측정하는 스티칭 정렬 유닛(500); 을 포함하여 이루어진다.
우선, 상기 회전 스테이지(100)는 베어롤(110)의 양측이 지지대(120)에 회전 가능하도록 고정되고, 상기 베어롤(110)의 일단이 회전수단(130)에 연결되어 회전될 수 있도록 구성된다.
이때, 상기 회전 스테이지(100)는 상기 베어롤(110)이 장착되어 X축을 중심으로 회전될 수 있도록 형성된다.
여기에서 상기 베어롤(110)은 외주면에 레지스트(111)가 코팅된 상태로 상기 회전 스테이지(100)에 장착될 수 있으며, 상기 회전 스테이지(100)의 상측으로 일정거리 이격되게 레지스트 코팅장치(600)를 구성하여 상기 베어롤(110)을 회전시켜 외주면에 레지스트(111)를 코팅할 수도 있다.
그리고 상기 이송 스테이지(200)가 상기 회전 스테이지(100)와 나란하게 일정거리 이격되어 형성된다.
이때, 상기 이송 스테이지(200)는 상기 회전 스테이지(100)와 일정거리 이격되어 나란하게 고정대(210)가 형성되고, 상기 고정대(210)의 상면에 이송대(220)가 결합되어 X축 방향으로의 위치가 조절되도록 구성된다.
그리고 상기 이송대(220)의 일측에 마스터롤 헤드 유닛(300)이 결합되며, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 외주면에 패턴이 형성된 마스터롤(310)을 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 상기 마스터롤(310)이 X축을 중심으로 회전 가능하도록 형성되며, 상기 마스터롤(310)이 X축과 Z축 방향으로의 위치조절, Y축을 중심으로 회전각도 조절 및 Y축 방향으로의 가압량이 조절되도록 구성된다.
즉, 상기 이송대(220)의 이동에 의해 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)의 X축 방향 위치가 조절될 수 있고, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 상기 마스터롤(310)이 X축, Z축 방향으로의 위치 및 Y축을 중심으로 하는 회전각도가 정밀하게 조절되도록 구성된다.
그리고 상기 레지스트 경화 유닛(400)이 상기 이송대(220)의 타측에 결합되어, 상기 베어롤(110) 외주면의 코팅된 레지스트(111)를 경화시킬 수 있도록 구성된다.
이때, 상기 레지스트 경화 유닛(400)은 자외선을 조사하여 상기 레지스트(111)를 경화시키는 방식을 적용하는 것이 바람직하며, 가열하여 경화시키는 방식을 적용할 수도 있다.
여기에서 가열식은 열 변형이 가능한 고분자 수지의 레지스트(111)를 고온에서 눌러 성형하는 방식이고, 자외선식은 광경화성 수지에 자외선을 조사하면서 패턴을 형성하는 방식이다.
또한, 상기 레지스트 경화 유닛(400)의 일측에 결합되어, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)의 X축 방향 위치를 정밀하게 측정할 수 있도록 스티칭 정렬 유닛(500)이 구성된다.
그리하여 상기와 같이 구성되는 본 발명의 롤 스탬프 제조장치(1000)를 이용한 롤 스탬프 제조방법은, 외주면에 레지스트(111)가 코팅된 베어롤(110)을 상기 회전 스테이지(100)에 장착하는 베어롤 장착단계(S10); 상기 이송 스테이지(200)의 이송대(220)를 초기 위치로 이동시키고, 상기 마스터롤(310)의 X축과 Z축 방향으로의 위치조절 및 Y축을 중심으로 회전각도를 조절하는 마스터롤 정렬단계(S20); 상기 마스터롤(310)을 Y축 방향으로 가압하여 상기 베어롤(110)과 접촉시킨 후 회전시켜 상기 마스터롤(310)에 형성된 패턴을 상기 베어롤(110) 외주면의 레지스트(111)에 전사시키면서 동시에 레지스트 경화 유닛(400)에 의해 레지스트(111)를 경화시키는 패턴 형성단계(S30); 상기 이송대(220)를 다음 패턴을 형성하고자 하는 위치로 이동시키고, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)으로 X축 방향 위치를 측정하여 상기 마스터롤(310)의 X축 방향 위치를 조절하는 스티칭 정렬단계(S40); 및 상기 S30단계와 S40단계를 번갈아 수행하여 상기 베어롤(110)의 외주면 전체 레지스트(111)에 패턴을 전사시키고 경화시켜 롤 스탬프를 완성하는 연속패턴 형성단계(S50); 를 포함하여 이루어진다.
즉, 도 3과 같이 상기 회전 스테이지(100)에 레지스트(111)가 코팅된 상태의 베어롤(110)을 장착하고, 상기 이송 스테이지(200)이 이송대(220)를 이동시켜 마스터롤 헤드 유닛(300)을 X축 방향의 초기 위치로 정렬한다.
그리고 마스터롤(310)에 형성된 패턴이 상기 베어롤(110)에 정확하게 전사될 수 있도록, 상기 마스터롤(310)의 X축 및 Z축 방향 위치를 정밀하게 조절하고 상기 베어롤(110)과 나란하도록 Y축을 중심으로 회전 각도를 조절한다.
이와 같이 상기 마스터롤(310)의 위치가 정렬되면 도 4와 같이 상기 마스터롤(310)을 Y축 방향으로 가압하여 레지스트(111) 코팅된 베어롤(110)의 외주면에 밀착시키고, 상기 회전 스테이지(100)의 회전수단(130)을 작동시켜 회전되면서 상기 베어롤(110) 표면의 레지스트(111)에 패턴이 전사되며, 상기 레지스트 경화 유닛(400)에 의해 상기 레지스트(111)가 경화되어 패턴이 형성된다.
그 후 도 5와 같이 상기 마스터롤(310)에 가해진 Y축 방향 가압력을 제거하여 상기 베어롤(110)에서 떨어지게 하고, 상기 이송대(220)를 다음 패턴을 형성하고자 하는 위치로 이동시킨다.
이때, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)으로 X축 방향 위치를 정밀하게 측정하여 상기 마스터롤(310)의 X축 방향 위치를 조절한다.
그리하여 상기 베어롤(110)에 기 형성된 패턴과 중첩되거나 멀어지지 않도록 상기 마스터롤(310)의 위치가 정밀하게 제어될 수 있다.
그리하여 상기 S30단계(패턴 형성)와 S40단계(스티칭 정렬)를 번갈아 수행(도 5 및 도 6 참조)하여 상기 베어롤(110)의 외주면 전체 레지스트(111)에 패턴을 전사시키고 경화시켜 도 7과 같이 연속적인 패턴이 형성된 길이가 긴 롤 스탬프(700)를 제작할 수 있다.
<실시 예 1>
또한, 도 8을 참조하면 상기 이송 스테이지(200)의 이송대(220)는 마이크로미터 단위로 이동이 조절되고, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 외주면에 나노패턴이 형성된 마스터롤(310), 및 상기 마스터롤(310)이 X축을 중심으로 회전 가능하게 결합되는 고정브라켓(320)을 포함하는 마스터롤 뭉치(330); 상기 마스터롤 뭉치(330)와 결합되어 상기 마스터롤 뭉치(330)의 X축과 Z축 방향으로의 위치를 나노미터 단위로 조절 및 Y축을 중심으로 회전각도를 조절하는 마스터롤 위치 조절 수단(340); 및 상기 마스터롤 위치 조절 수단(340)에 일측이 결합되고 타측은 상기 이송대(220)에 결합되어, 상기 마스터롤 뭉치(330)의 Y축 방향으로의 가압량을 조절하는 마스터롤 가압 수단(350); 을 포함하여 이루어질 수 있다.
즉, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 X축 방향으로 마이크로미터 단위로 이동이 조절될 수 있고, 상기 마스터롤(310)은 나노패턴(311)이 형성되며, 상기 마스터롤(310)은 마스터롤 위치 조절 수단(340)에 의해 X축과 Z축 방향으로의 위치가 나노미터 단위로 조절 될 수 있으며, Y축을 중심으로 회전각도가 조절될 수 있다.
또한, 상기 고정 브라켓(320), 마스터롤 위치 조절 수단(340), 마스터롤 가압 수단(350), 및 이송대(220)는 각각 관통부가 형성되어, 상기 마스터롤(310)과 상기 레지스트 경화 유닛(400)이 연통되도록 구성된다.
이는 상기 레지스트 경화 유닛(400)에서 자외선을 조사하면 상기 관통부를 지나 상기 마스터롤(310)을 통과하여, 상기 베어롤(110) 표면의 레지스트(111)를 경화시킬 수 있도록 형성되는 것이다.
그러므로 상기 마스터롤(310)은 자외선이 투과될 수 있는 재질로 이루어져야 한다.
<실시 예 2>
또한, 도 9와 같이 상기 회전 스테이지(100)에 장착되는 베어롤(110)의 외주면에 일정한 간격으로 마이크로 패턴(112)이 형성되고 그 위에 상기 레지스트(111)가 코팅되며, 상기 마스터롤(310)은 나노패턴(311)이 형성된 외주면 내부에 일정한 간격으로 마이크로 패턴(312)이 형성되어, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)에서 모아레법을 이용하여 상기 베어롤(110)과 마스터롤(310)의 상대위치를 나노미터 단위로 측정할 수 있도록 구성될 수 있다.
상기 모아레법은 상기 베어롤(110)과 마스터롤(310)에 각각 형성되는 2중의 마이크로 패턴(112,312)에 광원을 조사하여 반사되는 +1차, -1차 회절광의 광량을 광센서로 측정한 후 두 신호의 합을 전기적으로 계산하여 정렬 신호(313)를 얻게 되며, 상기 정렬 신호 곡선에서 'X'표의 정점이 상기 마스터롤(310)의 정렬위치에 해당 한다.
그리하여 상기와 같이 일정 간격으로 형성되는 마이크로 패턴(112,312)을 이용하면 나노미터 단위로 측정이 가능하게 된다.
이때, 상기 베어롤(110)은 광원이 반사될 수 있어야 하며, 상기 레지스트(111) 및 마스터롤(310)은 광원이 투과될 수 있는 재질로 이루어져야 한다.
그러므로 상기 마스터롤(310)을 처음 패턴이 전사된 위치에서 그 다음 위치로 마이크로미터 단위로 이동시킨 후, 모아레법을 이용하여 상기 스티칭 정렬 유닛(500)에서 나노미터 단위로 정밀하게 측정하고 상기 마스터롤 위치 조절 수단(321)에 의해 X축 방향으로 나노미터 단위로 정밀하게 위치 조절이 가능하다.
그리하여 상기와 같은 과정을 번갈아 반복하면 연속적인 나노패턴이 형성된 길이가 긴 롤 스탬프를 제조할 수 있게 된다.
더 나아가 본 발명의 롤 스탬프 제조방법에 의해 제작되는 롤 스탬프를 사용하면 수백 mm 이상의 폭을 갖는 롤 형태의 필름 표면에 연속적인 패터닝을 형성할 수 있어 나노 패턴이 형성된 기능성 광학 필름의 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.
1000 : (본 발명의) 롤 스탬프 제조장치
100 : 회전 스테이지
110 : 베어롤 111 : 레지스트
112 : 마이크로 패턴
120 : 지지대 130 : 회전수단
200 : 이송 스테이지
210 : 고정대 220 : 이송대
300 : 마스터롤 헤드 유닛
310 : 마스터롤 311 : 나노패턴
312 : 마이크로 패턴 313 : 정렬 신호
320 : 고정브라켓 330 : 마스터롤 뭉치
340 : 마스터롤 위치 조절 수단
350 : 마스터롤 가압 수단
400 : 레지스트 경화 유닛
500 : 스티칭 정렬 유닛
600 : 레지스트 코팅 장치
700 : 롤 스탬프

Claims (5)

  1. 외주면에 레지스트(111)가 코팅된 베어롤(110)이 장착되어 X축을 중심으로 회전되도록 형성되는 회전 스테이지(100);
    상기 회전 스테이지(100)와 일정거리 이격되어 나란하게 형성되는 고정대(210), 및 상기 고정대(210)를 따라 X축 방향으로의 위치가 조절되는 이송대(220)를 포함하여 이루어지는 이송 스테이지(200);
    상기 이송대(220)의 일측에 결합되되, X축을 중심으로 회전가능하며 외주면에 패턴이 형성된 마스터롤(310)을 포함하여 이루어지며, 상기 마스터롤(310)은 X축과 Z축 방향으로의 위치조절, Y축을 중심으로 회전각도 조절 및 Y축 방향 가압량이 조절되는 마스터롤 헤드 유닛(300);
    상기 이송대(220)의 타측에 결합되어 상기 베어롤(110) 외주면의 레지스트(111)를 경화시키는 레지스트 경화 유닛(400); 및
    상기 레지스트 경화 유닛(400)의 일측에 결합되며, 상기 마스터롤 헤드 유닛(300)의 X축 방향 위치를 측정하는 스티칭 정렬 유닛(500); 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤 스탬프 제조장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 마스터롤 헤드 유닛(300)은 외주면에 나노패턴(311)이 형성된 마스터롤(310), 및 상기 마스터롤(310)이 X축을 중심으로 회전 가능하게 결합되는 고정브라켓(320)을 포함하는 마스터롤 뭉치(330);
    상기 마스터롤 뭉치(330)와 결합되어 상기 마스터롤 뭉치(330)의 X축과 Z축 방향으로의 위치를 나노미터 단위로 조절 및 Y축을 중심으로 회전각도를 조절하는 마스터롤 위치 조절 수단(340); 및
    상기 마스터롤 위치 조절 수단(340)에 일측이 결합되고 타측은 상기 이송대(220)에 결합되어, 상기 마스터롤 뭉치(330)의 Y축 방향으로의 가압량을 조절하는 마스터롤 가압 수단(350); 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤 스탬프 제조장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 고정 브라켓(320), 마스터롤 위치 조절 수단(340), 마스터롤 가압 수단(350), 및 이송대(220)는 각각 관통부가 형성되어, 상기 마스터롤(310)과 상기 레지스트 경화 유닛(400)이 연통되는 것을 특징으로 하는 롤 스탬프 제조장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 이송 스테이지(200)의 이송대(220)는 마이크로미터 단위로 이동이 조절되고,
    상기 회전 스테이지(100)에 장착되는 베어롤(110)의 외주면에 일정한 간격으로 마이크로 패턴(112)이 형성되고 그 위에 상기 레지스트(111)가 코팅되며, 상기 마스터롤(310)은 나노패턴(311)이 형성된 외주면 내부에 일정한 간격으로 마이크로 패턴(312)이 형성되어, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)에서 모아레법을 이용하여 상기 베어롤(110)과 마스터롤(310)의 상대위치를 나노미터 단위로 측정하는 것을 특징으로 하는 롤 스탬프 제조장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 롤 스탬프 제조장치를 이용한 롤 스탬프 제조방법에 있어서,
    외주면에 레지스트(111)가 코팅된 베어롤(110)을 상기 회전 스테이지(100)에 장착하는 베어롤 장착단계(S10);
    상기 이송 스테이지(200)의 이송대(220)를 초기 위치로 이동시키고, 상기 마스터롤(310)의 X축과 Z축 방향으로의 위치조절 및 Y축을 중심으로 회전각도를 조절하는 마스터롤 정렬단계(S20);
    상기 마스터롤(310)을 Y축 방향으로 가압하여 상기 베어롤(110)과 접촉시킨 후 회전시켜 상기 마스터롤(310)에 형성된 패턴을 상기 베어롤(110) 외주면의 레지스트(111)에 전사시키면서 동시에 레지스트 경화 유닛(400)에 의해 레지스트(111)를 경화시키는 패턴 형성단계(S30);
    상기 이송대(220)를 다음 패턴을 형성하고자 하는 위치로 이동시키고, 상기 스티칭 정렬 유닛(500)으로 X축 방향 위치를 측정하여 상기 마스터롤(310)의 X축 방향 위치를 조절하는 스티칭 정렬단계(S40); 및
    상기 S30단계와 S40단계를 번갈아 수행하여 상기 베어롤(110)의 외주면 전체 레지스트(111)에 패턴을 전사시키고 경화시켜 롤 스탬프를 완성하는 연속패턴 형성단계(S50); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤 스탬프 제조방법.
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