KR101075942B1 - 경화 액정폴리머층과 연신필름층을 포함하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연소자 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 광대역 위상지연소자는 660nm 파장대와 780nm파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자로서, 연신필름층, 경화 액정폴리머층, 및 연신필름층과 경화 액정폴리머층을 결합하는 접착층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 연신필름층과 경화 액정폴리머층이 접착층에 의해 접착될 때, 경화 액정폴리머층의 광축을 조절함으로써 광축조건을 만족시키는 것이 가능하고 이로 인하여 제조 수율이 향상된다.

Description

경화 액정폴리머층과 연신필름층을 포함하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연소자 및 그 제조방법{Wide-Range Wave Plate For Optical Pick-up Apparatus Having Cured Liquid Crystal Polymer Layers and Stretched Films, and Manufacturing Method thereof}
본 발명은 광대역 위상지연소자 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 특히 기존의 광대역 위상지연소자의 구조와 다른 구조로 광대역 위상지연소자를 제작하여 제조 수율을 향상시키고, 제조공정을 간소화하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연소자에 관한 것이다.
위상지연소자는 입사되는 광의 위상을 변화시켜서 출사시키는 것을 말하는데, 광대역 위상지연소자는 입사되는 하나 이상의 파장의 빛에 대하여 위상지연소자로 동작하는 것을 말한다. 위상지연소자는 BD플레이어, CD플레이어 또는 DVD플레이어 등의 광픽업장치 등에 널리 이용되고 있다.
이러한 CD 및 DVD 호환형 광헤드장치는 일반적으로 DVD계 광디스크의 경우 660nm 파장대역의 레이저광(λ1)을 사용하고, CD계 광디스크의 경우 780nm 파장대역의 레이저광(λ2)을 사용하는데, 위상지연소자가 상이한 λ1, λ2 두 파장 이상에 대해 편광상태를 변환시켜주는 것이 필요할 수 있다.
종래의 단일 파장만을 사용하는 광헤드 장치의 위상지연판의 경우, 입사광에 대하여 위상차가 π/2가 되는 λ/4 위상지연소자 또는 π가 되는 λ/2 위상지연소자인 것이 통상적이었다.
최근에는 상이한 두 파장(λ1, λ2)의 레이저광의 편광상태를 각각 변환시켜줄 수 있는 단일의 위상지연소자가 이용되고 있는데 이를 광대역 위상지연 소자라한다.
종래 광대역 위상지연소자의 일반적인 구조가 도 1과 도 2에 도시되어 있다.
도 1에 도시된, 종래의 광대역 위상지연소자는 연신필름1(20)과 연신필름2(10)의 두 개의 층이 접착층(30)에 의해 접착되어 있는 구조를 가지고 있다.
도 2에 도시된, 종래의 광대역 위상지연소자는 베이스기재(80)상에 PI층(70)이 적층되고, 두개의 액정폴리머층(40,60)이 접착층(50)에 의해 접착되어, 상기 PI층(70) 위에 적층되는 구조를 가지고 있다.
도 1에 도시된 종래의 광대역 위상지연소자에 있어서, 연신필름(10,20)의 경우 일반적으로 연신방향이 서로 90도 방향으로 배열이 되기 때문에 광축조건을 만족하기 위해서 제조 수율이 하락하는 문제점이 있었고, 도 2에 도시된 종래의 광대역 위상지연소자(숫자)에 있어서, 두 번 이상의 러빙 공정과 액정폴리머층의 코팅 및 배향 공정을 진행해야 하기 때문에 공정이 상대적으로 복잡하게 되는 문제점이 있었다.
전술한 문제를 해결하기 위해 본 발명은 연신필름층과 경화 액정폴리머층을 접착층으로 접착하여, 광대역 위상지연소자의 제조 수율을 높일 수 있고, 공정이 간소화되며, 두께가 얇은 광대역 위상지연소자를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광 픽업장치용 광대역 위상지연소자는, 660nm 파장대와 780nm파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자에 있어서, 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 연신필름층과, 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 경화 액정폴리머층, 및 상기 연신필름층과 경화 액정폴리머층을 결합하는 접착층을 포함하며, 연신필름층과 경화 액정폴리머층의 광축방향은 서로 다르게 형성된다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광 픽업장치용 광대역 위상지연소자는, 660nm 파장대와 780nm파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자에 있어서, 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 연신필름층; 상기 연신필름층의 상부에 형성되는 제 1 접착층; 제 1 접착층의 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 1 경화 액정폴리머층; 제 1 경화 액정폴리머층의 상부에 형성되는 제 2 접착층; 및 제 2 접착층의 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 2 경화 액정폴리머층;을 포함하며,상기 연신필름층과 제 1 및 제 2 경화 액정폴리머층의 광축방향은 서로 다르게 형성된다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광 픽업장치용 광대역 위상지연소자는, 660nm 파장대와 780nm파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자에 있어서, 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 1 연신필름층; 제 1 연신필름층의 상부에 형성되는 제 1 접착층; 제 1 접착층의 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 2 연신필름층; 제 2 연신필름층의 상부에 형성되는 제 2 접착층; 및 제 2 접착층 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 경화 액정폴리머층;을 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 연신필름층과 경화 액정폴리머층의 광축방향은 서로 다르게 형성된다.
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본 발명에 따르면, 연신필름층과 경화 액정폴리머층이 접착층에 의해 접착되는데, 경화 액정폴리머층의 광축을 조절함으로써 광축조건을 만족시키는 것이 용이하고 이로 인하여 제조 수율이 향상될 수 있으며, 러빙공정과 액정폴리머 코팅 및 배향공정이 감소하기 때문에 제조 공정을 간소화 할 수 있다.
도 1 은 종래의 연신필름 광대역 위상지연소자의 모식도이다.
도 2 는 종래의 액정폴리머 광대역 위상지연소자의 모식도이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시예에 따른 광대역 위상지연소자의 모식도이다.
도 4 는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광대역 위상지연소자의 모식도이다.
도 5 는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광대역 위상지연소자의 모식도이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 광대역 위상지연소자 및 그의 제조방법을 자세히 설명한다.
본 발명이 속하는 기술 분야에 익히 알려져 있고 본 발명과 직접적으로 관련이 없는 기술 내용에 대해서는 설명을 생략한다. 이는 불필요한 설명을 생략함으로써 본 발명의 요지를 흐리지 않고 더욱 명확히 전달하기 위함이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광대역 위상지연소자의 모식도이다. 즉, 본 실시예에 따른 광대역 위상지연소자는 연신필름층(110)상에 경화 액정폴리머층(100)이 접착층(120)에 의하여 합지된다.
한편 광대역 위상지연소자는 PET필름 상에 액정폴리머층을 형성하는 단계, 위상지연 값을 갖는 연신필름층(110)에 접착층(120)을 도포하는 단계, 연신필름층(110)을 경화 액정폴리머층(100)이 형성된 PET필름과 합지하는 단계 및 PET필름을 제거하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 제조가 가능하다.
상기 경화 액정폴리머층(100)은 PET필름을 러빙하는 단계, PET 필름에 솔벤트와 혼합된 액정폴리머를 도포하는 단계, 솔벤트를 제거하기 위해 건조하는 단계 및
UV광을 이용하여 액정폴리머층을 경화하는 단계로 형성이 가능하다.
이때 액정폴리머층의 도포단계에서 특정 위상지연 값을 갖도록 액정폴리머층의 두께가 조절될 수 있는데, 경화 액정폴리머층(100)은 349nm의 위상지연 값을 갖도록 두께가 조절되며, 연신필름층(110)은 156nm의 위상지연 값을 갖도록 하는 것이 바람직하다.
또한 경화 액정폴리머층(100)의 광축방향은 45도(45°) 값을 갖고, 연신필름층(110)의 광축방향은 6도(6°)의 값을 갖도록 하는 것이 바람직하다.
이러한 방법에 의하여 제조된 광대역 위상지연소자는 660nm 파장대역의 DVD계 광디스크 및 780nm 파장대역의 CD계 광디스크의 파장광에 대해서 λ/2 의 위상지연이 가능하다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광대역 위상지연소자의 모식도이다. 도 4의 실시예가 도 3의 실시예와 다른 점은 경화 액정폴리머층을 추가로 적층하여 3개의 파장에 대하여 위상지연이 가능하도록 한 것이다. 즉, 본 실시예에 따른 광대역 위상지연 소자는 연신필름층(200) 상부에 형성되는 제 1접착층(210), 제 1 접착층(210)의 상부에 형성되는 제 1 경화 액정폴리머층(220), 제 1 경화 액정폴리머층(220)의 상부에 형성되는 제 2 접착층(230) 및 제 2 접착층(230)의 상부에 형성되는 제 2 경화 액정폴리머층(240)으로 구성되어 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광대역 위상지연소자의 모식도이다. 도 5의 실시예가 도 3의 실시예와 다른 점은 연신필름층을 추가로 적층하여 3개의 파장에 대하여 위상지연이 가능하도록 한 것이다. 즉, 본 실시예에 따른 광대역 위상지연소자는 제 1 연신필름층(300)의 상부에 형성되는 제 1 접착층(310), 제 1 접착층(310)의 상부에 형성되는 제 2 연신필름층(320), 제 2 연신필름층(320)의 상부에 형성되는 제 2 접착층(330) 및 제 2 접착층(330) 상부에 형성되는 경화 액정폴리머층(340)으로 구성된다.
도 4의 광대역 위상지연소자의 제조방법은 앞서 도 3의 광대역 위상지연소자의 제조방법과 유사하다. 다만 경화 액정폴리머층을 적층하는 단계가 더 추가 된다. 즉, 제 1 PET필름 상에 제 1 액정폴리머층(220)을 형성하는 단계, 연신필름층(200)에 제 1 접착층(210)을 도포하는 단계, 상기 연신필름층(200)을 제 1 경화 액정폴리머층(220)이 형성된 제 1 PET필름과 합지하는 단계, 제 1 PET필름을 제거하는 단계, 제 2 PET필름 상에 제 2 경화 액정폴리머층(240)을 형성하는 단계, 제 1 경화 액정폴리머층(220)에 제 2 접착층(230)을 도포하는 단계, 제 1 경화액정폴리머층(220)을 제 2 경화 액정폴리머층(240)이 형성된 제 2 PET필름과 합지하는 단계 및 제 2 경화 액정폴리머층(240)에 부착된 제 2 PET필름을 제거하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 제조가 가능하다.
도 5의 광대역 위상지연소자의 제조방법도 앞서 도 3의 광대역 위상지연소자의 제조방법과 유사하나, 다만, 연신필름층을 2개 층으로 형성하는 점에서 차이가 있다. 즉, 제 1 연신필름층(300)에 제 1 접착층(310)을 도포하는 단계, 제 1 접착층(310)이 도포된 제 1 연신필름층(300)에 제 2 연신필름층(320)을 합지하는 단계, PET필름 상에 경화 액정폴리머층을 형성하는 단계, 제 2 연신필름층(320)에 제 2 접착층(330)을 도포하는 단계, 제 2 연신필름층(320) 위에 상기 경화 액정폴리머층이 형성된 PET필름과 합지하는 단계 및 상기 PET필름을 제거하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 제조가 가능하다.
상기 도 4 및 도 5의 경화 액정폴리머층의 형성방법은 앞서 도 3의 경화 액정폴리머층의 형성방법과 기본적으로 동일하다. 즉, PET필름을 러빙하는 단계, 상기 PET 필름에 솔벤트와 혼합된 액정폴리머를 도포하는 단계, 솔벤트를 제거하기 위해 건조하는 단계 및 UV광을 이용하여 액정폴리머층을 경화하는 단계를 포함한다.
물론, 상기 실시예 이외에도 유사한 위상지연 특성을 갖는 위상지연 값과 광축 조합은 다양하게 가능하다.
지금까지 본 발명의 구체적인 예를 도면을 참조로 설명하였지만, 이것은 본 발명이 속하는 기술분야에서 평균적 지식을 가진 자가 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것이고, 발명의 기술적 범위를 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서 본 발명의 기술적 범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의하여 정하여지며, 도면을 참조로 설명한 실시예는 본 발명의 기술적 사상과 범위 내에서 얼마든지 변형하거나 수정할 수 있다.
10 : 제 2 연신필름층 20 : 제 1 연신필름층
30 : 접착층 40 : 제 2 경화 액정폴리머층
50 : 접착층 60 : 제 1 경화 액정폴리머층
70 : PI층 80 : 베이스기재
100 : 경화 액정폴리머층 110 : 연신필름층
120 : 접착층
200 : 연신필름층 210 : 제 1 접착층
220 : 제 1 경화 액정폴리머층 230 : 제 2 접착층
240 : 제 2 경화 액정폴리머층
300 : 제 1 연신필름층 310 : 제 1 접착층
320 : 제 2 연신필름층 330 : 제 2 접착층
340 : 경화 액정폴리머층

Claims (15)

  1. 660nm 파장대와 780nm 파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자에 있어서,
    수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 연신필름층;
    수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 경화 액정폴리머층; 및
    상기 연신필름층과 상기 경화 액정폴리머층을 결합하는 접착층;을 포함하며,
    상기 연신필름층과 상기 경화 액정폴리머층의 광축방향은 서로 다른 광 픽업장치용 광대역 위상지연자.
  2. 삭제
  3. 660nm 파장대와 780nm 파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자에 있어서,
    수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 연신필름층;
    상기 연신필름층의 상부에 형성되는 제 1 접착층;
    상기 제 1 접착층의 상부에 형성되고, 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 1 경화 액정폴리머층;
    상기 제 1 경화 액정폴리머층의 상부에 형성되는 제 2 접착층; 및
    상기 제 2 접착층의 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 2 경화 액정폴리머층;을 포함하며,
    상기 연신필름층과 제 1 및 제 2 경화 액정폴리머층의 광축방향은 서로 다른 광 픽업장치용 광대역 위상지연자.
  4. 삭제
  5. 660nm 파장대와 780nm 파장대의 광이 수직하게 입사되어 위상지연이 발생하는 광 픽업장치용 광대역 위상지연자에 있어서,
    수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 1 연신필름층;
    상기 제 1 연신필름층의 상부에 형성되는 제 1 접착층;
    상기 제 1 접착층의 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 제 2 연신필름층;
    상기 제 2 연신필름층의 상부에 형성되는 제 2 접착층; 및
    상기 제 2 접착층 상부에 형성되고 수직하게 입사되는 광의 위상을 지연시키는 경화 액정폴리머층;을 포함하며,
    상기 제 1 및 제 2 연신필름층과 경화 액정폴리머층의 광축방향은 서로 다른 광 픽업장치용 광대역 위상지연자.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005338215A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合位相差板及び複合光学部材の製造方法

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