KR101051449B1 - Plasma killer - Google Patents

Plasma killer Download PDF

Info

Publication number
KR101051449B1
KR101051449B1 KR1020090109526A KR20090109526A KR101051449B1 KR 101051449 B1 KR101051449 B1 KR 101051449B1 KR 1020090109526 A KR1020090109526 A KR 1020090109526A KR 20090109526 A KR20090109526 A KR 20090109526A KR 101051449 B1 KR101051449 B1 KR 101051449B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
flow path
plasma
discharge
supply unit
Prior art date
Application number
KR1020090109526A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110052838A (en
Inventor
이대훈
김관태
송영훈
차민석
이재옥
허민
Original Assignee
한국기계연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국기계연구원 filed Critical 한국기계연구원
Priority to KR1020090109526A priority Critical patent/KR101051449B1/en
Publication of KR20110052838A publication Critical patent/KR20110052838A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101051449B1 publication Critical patent/KR101051449B1/en

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00—Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/44—Applying ionised fluids
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00—Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/02—Details
    • A61N1/04—Electrodes
    • A61N1/0404—Electrodes for external use
    • A61N1/0472—Structure-related aspects
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2245/00—Applications of plasma devices
    • H05H2245/30—Medical applications
    • H05H2245/34—Skin treatments, e.g. disinfection or wound treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2277/00—Applications of particle accelerators
    • H05H2277/10—Medical devices

Abstract

본 발명의 일 실시예는 교류 방전에 의한 플라즈마를 피처치체에 대하여 확산시키고, 스트리머(streamer)를 통한 피처치체로의 전류 흐름을 방지하는 플라즈마 처치기에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a plasma treatment device for diffusing a plasma by an alternating current discharge to a feature and preventing a current flow to the feature through a streamer.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처치기는, 방전가스를 공급하는 가스 공급부, 전압을 공급하는 전원 공급부, 및 상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 방전가스를 둘러싸고 상기 전원 공급부로부터 인가되는 상기 전압으로 방전을 일으켜, 플라즈마를 생성하여, 피처치체에 분사하는 플라즈마 발생기를 포함하며, 상기 플라즈마 발생기는, 상기 방전가스의 유동 경로를 형성하여 상기 플라즈마를 상기 피처치체에 분사하는 바디, 상기 유동 경로의 일측에 배치되고 상기 전압이 인가되는 제1 전극, 상기 유동 경로의 다른 일측에서 상기 바디에 매립되어 상기 제1 전극에 대향하여 이격 배치되고 접지되는 제2 전극, 및 상기 유동 경로의 길이 방향을 따라 상기 제2 전극과 이격되어 상기 유동 경로의 단부에 배치되어 접지되는 제3 전극을 포함한다.The plasma treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the gas supply unit for supplying the discharge gas, the power supply unit for supplying a voltage, and the discharge surrounding the discharge gas supplied from the gas supply unit to discharge the discharge to the voltage applied from the power supply unit A plasma generator generating a plasma and injecting the plasma into the feature body, wherein the plasma generator forms a flow path of the discharge gas to inject the plasma into the feature body, and one side of the flow path A first electrode disposed at the second electrode, the second electrode buried in the body at the other side of the flow path, spaced apart from the first electrode, and grounded, and along the longitudinal direction of the flow path; And a third electrode spaced apart from the second electrode and disposed at an end of the flow path and grounded.

플라즈마, 스트리머, 유동 경로 Plasma, streamer, flow path

Description

플라즈마 처치기 {DEVICE GIVING TREATMENT USING PLASMA BY GAS DISCHARGE}Plasma Killer {DEVICE GIVING TREATMENT USING PLASMA BY GAS DISCHARGE}

본 발명은 플라즈마 처치기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 교류 방전에 의한 플라즈마를 확산시켜 피처치체에 작용시키는 플라즈마 처치기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma treatment device, and more particularly, to a plasma treatment device which diffuses plasma by alternating current discharge and acts on a feature.

예를 들면, 플라즈마 처치기는 고주파 발생기와 공진회로를 통하여 연결되는 플라즈마 발생기를 포함하고, 플라즈마 발생기는 플라즈마를 발생시킨다. 플라즈마 처치기는 피처치체, 예를 들면 생체에 고주파 발생기와 공진회로를 연결하고, 생체에 플라즈마 발생기를 근접시켜, 플라즈마 발생기에서 발생되는 플라즈마를 생체에 작용시킴으로써 필요한 의료 처치를 수행한다. 이러한 처치 과정에서 플라즈마 발생기에서 플라즈마를 분사할 때, 플라즈마 발생기와 생체 사이에 스트리머(streamer)를 형성할 수 있다. 스트리머는 플라즈마 발생기에서 생체로 전류를 흐르게 하여, 불쾌감 및 쇼크를 일으킬 수 있다.For example, the plasma processor includes a plasma generator connected through a high frequency generator and a resonant circuit, and the plasma generator generates plasma. The plasma treatment machine performs the necessary medical treatment by connecting a high frequency generator and a resonance circuit to a feature body, for example, a living body, and bringing the plasma generator close to the living body to act on the living body by plasma generated from the plasma generator. When the plasma is injected from the plasma generator during this procedure, a streamer may be formed between the plasma generator and the living body. The streamer allows current to flow from the plasma generator into the living body, causing discomfort and shock.

본 발명의 일 실시예는 교류 방전에 의한 플라즈마를 피처치체에 대하여 확산시키고, 스트리머(streamer)를 통한 피처치체로의 전류 흐름을 방지하는 플라즈 마 처치기에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a plasma treatment device for diffusing a plasma by an alternating current discharge to a feature and preventing a current flow to the feature through a streamer.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처치기는, 방전가스를 공급하는 가스 공급부, 전압을 공급하는 전원 공급부, 및 상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 방전가스를 둘러싸고 상기 전원 공급부로부터 인가되는 상기 전압으로 방전을 일으켜, 플라즈마를 생성하여, 피처치체에 분사하는 플라즈마 발생기를 포함하며, 상기 플라즈마 발생기는, 상기 방전가스의 유동 경로를 형성하여 상기 플라즈마를 상기 피처치체에 분사하는 바디, 상기 유동 경로의 일측에 배치되고 상기 전압이 인가되는 제1 전극, 상기 유동 경로의 다른 일측에서 상기 바디에 매립되어 상기 제1 전극에 대향하여 이격 배치되고 접지되는 제2 전극, 및 상기 유동 경로의 길이 방향을 따라 상기 제2 전극과 이격되어 상기 유동 경로의 단부에 배치되어 접지되는 제3 전극을 포함한다.The plasma treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the gas supply unit for supplying the discharge gas, the power supply unit for supplying a voltage, and the discharge surrounding the discharge gas supplied from the gas supply unit to discharge the discharge to the voltage applied from the power supply unit A plasma generator generating a plasma and injecting the plasma into the feature body, wherein the plasma generator forms a flow path of the discharge gas to inject the plasma into the feature body, and one side of the flow path A first electrode disposed at the second electrode, the second electrode buried in the body at the other side of the flow path, spaced apart from the first electrode, and grounded, and along the longitudinal direction of the flow path; And a third electrode spaced apart from the second electrode and disposed at an end of the flow path and grounded.

상기 바디는 유전재로 형성될 수 있다. 상기 바디는, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격과 나란하게 설정되는 두께와 상기 두께에 직교하여 설정되는 폭을 가지고 상기 유동 경로의 길이 방향으로 설정되는 길이를 가지는 직육면체로 형성될 수 있다.The body may be formed of a dielectric material. The body is formed of a rectangular parallelepiped having a thickness set in parallel with a gap set between the first electrode and the second electrode and a width set perpendicular to the thickness and a length set in the longitudinal direction of the flow path. Can be.

상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격은 상기 유동 경로의 길이보다 더 짧게 형성될 수 있다.An interval set between the first electrode and the second electrode may be shorter than the length of the flow path.

상기 제1 전극은 상기 바디에 매립될 수 있다.The first electrode may be embedded in the body.

상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 판상으로 형성되어 면방전 구조를 형성할 수 있다.The first electrode and the second electrode may be formed in a plate shape to form a surface discharge structure.

상기 제3 전극은, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 중심 연장선과 교차하여 배치될 수 있다.The third electrode may be disposed to intersect a central extension line of the second electrode that is set in parallel with the flow path.

상기 제3 전극은, 상기 유동 경로의 일단과의 사이에 상기 바디에서 연장된 절연부를 개재하여 배치될 수 있다.The third electrode may be disposed through an insulating portion extending from the body between one end of the flow path.

상기 제3 전극은, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 절연부에서 상기 바디의 끝까지 형성될 수 있다.The third electrode may be formed from the insulating portion to the end of the body in the extending direction of the interval set between the first electrode and the second electrode.

상기 제3 전극은, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 최외곽 연장선의 외곽에 배치될 수 있다.The third electrode may be disposed outside the outermost extension line of the second electrode that is set in parallel with the flow path.

상기 제3 전극은, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 바디의 두께 범위 내에 형성되는 제1 부분과, 상기 제1 부분에서 연장되어 상기 두께 범위 밖에 형성되는 제2 부분을 포함할 수 있다.The third electrode may include a first portion formed within a thickness range of the body and extending from the first portion outside the thickness range in an extension direction of a gap set between the first electrode and the second electrode. It may include a second portion to be.

상기 바디는 원통으로 형성되어 중심에 상기 유동 경로를 형성하고, 상기 제1 전극은 상기 유동 경로의 중심에 배치되며, 상기 제2 전극은 상기 유동 경로의 외측에 원통으로 형성되어 상기 바디에 매립될 수 있다.The body is formed in a cylinder to form the flow path in the center, the first electrode is disposed in the center of the flow path, the second electrode is formed in a cylinder on the outside of the flow path to be embedded in the body Can be.

상기 제3 전극은, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 연장선 내측과 외측 중 적어도 일측에 배치될 수 있다.The third electrode may be disposed on at least one side of an inner side and an outer side of an extension line of the second electrode set to be parallel to the flow path.

이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처치기는, 유동 경로를 사이에 두고 양측에서 제1 전극과 제2 전극을 대향 배치하여 AC 방전으로 플라즈마를 발생시켜 유동 경로를 통하여 분사하고, 유동 경로의 단부에 제3 전극을 더 구비하므로 분사되는 플라즈마를 유동 경로의 출구에서 확산시켜 피처치체를 처치한다. 제2 전극의 1차 접지에 더하여 제3 전극의 2차 접지에 의한 전기장을 형성하여, 유동 경로의 끝에 형성되는 분사구에서 플라즈마가 확산되고, 스트리머(streamer)가 제3 전극으로 진행되어, 피처치체로 전류가 흐르는 것을 방지하는 효과가 있다.As described above, the plasma treating apparatus according to an embodiment of the present invention, by disposing the first electrode and the second electrode on both sides with the flow path therebetween to generate a plasma by AC discharge and spray through the flow path, Since the third electrode is further provided at the end, the injected plasma is diffused at the outlet of the flow path to treat the feature. In addition to the primary ground of the second electrode, an electric field is formed by the secondary ground of the third electrode, so that plasma is diffused at the injection hole formed at the end of the flow path, and a streamer proceeds to the third electrode. It is effective to prevent current from flowing to the treatment body.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 처치기의 구성도이다. 도1을 참조하면, 제1 실시예의 플라즈마 처치기(100)는 가스 공급부(10), 전원 공급부(20) 및 플라즈마 발생기(30)를 포함한다.1 is a block diagram of a plasma treatment device according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the plasma treatment apparatus 100 of the first embodiment includes a gas supply unit 10, a power supply unit 20, and a plasma generator 30.

가스 공급부(10)는 플라즈마 발생기(30)에서 플라즈마를 발생시키도록 플라즈마 발생기(30)에 연결되어 방전가스를 공급한다. 전원 공급부(20)는 플라즈마 발생기(30) 내에서 방전가스를 플라즈마로 변화시키도록 플라즈마 발생기(30)에 연결되어 전원을 공급한다. 편의상, 본 실시예는 교류 전원을 사용한다.The gas supply unit 10 is connected to the plasma generator 30 to generate a plasma in the plasma generator 30 to supply the discharge gas. The power supply unit 20 is connected to the plasma generator 30 to supply the power to change the discharge gas into the plasma in the plasma generator 30. For convenience, this embodiment uses an AC power source.

플라즈마 발생기(30)는 인가되는 전압에 의하여 방전가스에 글로우 혹은 글 로우 방전과 유사한 스트리머(streamer)가 억제된 방전을 일으켜 방전가스로부터 플라즈마를 발생시키며, 발생된 플라즈마를 피처치체(B)에, 예를 들면, 생체 또는 비생물체의 표면에 분사하여 처치한다.The plasma generator 30 generates a plasma from the discharge gas by generating a discharge in which the streamer similar to the glow or the glow discharge is suppressed to the discharge gas by the applied voltage, and generates the plasma from the discharge gas. For example, by spraying on the surface of a living or non-living organism.

방전가스는 NO, O2, He 또는 N2를 포함하는 가스로 형성될 수 있다. 예를 들어 설명하면, NO는 생체 반응 대사의 신호 물질로 알려져 있다. 방전가스가 NO인 경우, NO를 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처치의 경우, 조직 재생 및 세포 대사를 촉진시킬 수 있다. O2를 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처치의 경우, 피처치체 표면을 산화 유도 및 살균시킬 수 있다. He 및 N2를 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처치의 경우, 세포의 부착성 변화를 야기할 수 있다. 또한, NO, O2, He 및 N2 중 2가지 이상을 조합한 기체를 이용할 수도 있다. 예를 들면, He 및 O2를 조합하므로 2가지 기체의 효과를 복합적으로 얻을 수 있다.The discharge gas may be formed of a gas containing NO, O 2 , He, or N 2 . For example, NO is known as a signal substance of bioreactive metabolism. When the discharge gas is NO, in the case of plasma treatment using a gas containing NO, tissue regeneration and cell metabolism can be promoted. In the case of plasma treatment using a gas containing O 2 , the surface of the feature can be induced and sterilized. Plasma treatment with a gas comprising He and N 2 may cause a change in the adhesion of cells. Further, it is also possible to use a substrate combining NO, O 2, 2 or more of He, and N 2. For example, by combining He and O 2 , the effects of the two gases can be obtained in combination.

부연 설명하면, 플라즈마는 방전에 의하여 발생되는 전자, 이온 및 기체 분자들의 상태에 따라 여러 종류로 분류될 수 있다. 이온 및 기체 분자들은 전자에 비하여 상대적으로 저온에 머무르며, 전자는 온도가 높은 조건인 저온 플라즈마 상태를 형성한다.In detail, plasma may be classified into various types according to states of electron, ion, and gas molecules generated by discharge. Ionic and gas molecules stay at a relatively low temperature compared to electrons, and the electrons form a low temperature plasma state, which is a high temperature condition.

전자 온도와 기체 분자의 온도가 같은 상태인 고온 플라즈마에 비하여, 저온 플라즈마에서는 높은 전자 온도와 낮은 기체 분자의 온도를 가지게 된다. 저온 플라즈마 중, 글로우 혹은 스트리머가 억제된 방전은 비생물체의 균일한 표면처리 및 생체의 처치 등에 효과적으로 사용될 수 있다.Compared to the high temperature plasma in which the electron temperature and the gas molecules are in the same state, the low temperature plasma has a high electron temperature and a low gas molecule temperature. In low temperature plasma, glow or streamer-induced discharge can be effectively used for uniform surface treatment of non-living organisms and treatment of living bodies.

저온 플라즈마 방전에서 스트리머를 억제하는 방법은 진공 조건에서 방전을 구현하는 방법, 나노 초 간격의 펄스로 방전을 구현하는 방법 및 작은 공간에서 방전을 구현하는 방법을 포함한다.The method of suppressing the streamer in the low temperature plasma discharge includes a method of implementing a discharge in a vacuum condition, a method of implementing a discharge with a pulse of nanosecond intervals, and a method of implementing a discharge in a small space.

본 발명의 실시예는 대기압하에서 구현하기 용이하도록 작은 공간에서 방전을 구현하는 방법을 적용한다. 따라서 플라즈마 발생기(30)는 방전 공간을 매우 작게 형성하며, 스트리머가 억제된 균일한 방전을 형성하므로 비생물체의 표면처리 및 생체의 처치에 사용될 수 있다.Embodiments of the present invention apply a method for implementing a discharge in a small space to facilitate implementation under atmospheric pressure. Therefore, since the plasma generator 30 forms a very small discharge space and forms a uniform discharge with the streamer suppressed, the plasma generator 30 can be used for surface treatment of non-living organisms and treatment of living bodies.

제1 실시예의 플라즈마 처치기(100)는 플라즈마 발생기(30)에 전압을 인가하고 피처치체에는 전압을 인가하지 않으며, 단지 플라즈마 발생기(30)에서 발생된 플라즈마를 피처치체에 작용시키도록 형성된다. 즉 생체는 플라즈마를 발생시키는 전기장에 노출되지 않으므로 안전을 보장 받게 된다.The plasma treatment apparatus 100 of the first embodiment applies the voltage to the plasma generator 30 and does not apply the voltage to the feature body, but is formed to act on the feature body only the plasma generated by the plasma generator 30. do. That is, since the living body is not exposed to the electric field generating the plasma, safety is guaranteed.

도2는 도1에 적용되는 플라즈마 발생기의 분해 사시도이고, 도3은 도2의 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 자른 단면도이며, 도4는 도3의 저면도이다. 도2, 도3 및 도4를 참조하면, 플라즈마 발생기(30)는 유동 경로(31)를 형성하는 바디(32)와, 유동 경로(31)의 주위에 설치되어 플라즈마를 생성하는 제1, 제2, 제3 전극(41, 42, 43)을 포함한다.FIG. 2 is an exploded perspective view of the plasma generator applied to FIG. 1, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 2, and FIG. 4 is a bottom view of FIG. 2, 3, and 4, the plasma generator 30 includes a body 32 forming the flow path 31, and first and second plasma generators disposed around the flow path 31 to generate plasma. And second and third electrodes 41, 42, and 43.

바디(32)는 가스 공급부(10)에 연결되어 공급되는 방전가스를 유동시키는 유동 경로(31)를 형성하며, 유동 경로(31)를 경유하는 방전가스를 변환하여 생성되는 플라즈마를 피처치체(B)에 분사하도록 형성된다. 유동 경로(31)는 맨 끝에 플라즈 마를 분사하는 분사구(311)를 형성한다.The body 32 forms a flow path 31 which is connected to the gas supply unit 10 and flows the discharge gas supplied thereto, and features a plasma generated by converting the discharge gas passing through the flow path 31. It is formed to spray on B). The flow path 31 forms an injection hole 311 for injecting plasma at the far end.

제1 전극(41)은 유동 경로(31)의 일측에 배치되고 전압 공급부(20)에 연결되어 고전압을 인가한다. 제2 전극(42)은 유동 경로(31)의 다른 일측에서 제1 전극(41)에 대향하여 이격 배치된다. 제2 전극(42)은 바디(32)에 매립되어 접지된다. 바디(32)는 절연재인 유전재로 형성되어, 제1, 제2, 제3 전극(41, 42, 43)을 서로 절연시킨다. 제2 전극(42)과 제1 전극(41)은 유전재의 바디(32)에 매립되어 방전으로부터 보호된다.The first electrode 41 is disposed on one side of the flow path 31 and connected to the voltage supply unit 20 to apply a high voltage. The second electrode 42 is spaced apart from the first electrode 41 on the other side of the flow path 31. The second electrode 42 is embedded in the body 32 and grounded. The body 32 is formed of a dielectric material that is an insulating material to insulate the first, second, and third electrodes 41, 42, and 43 from each other. The second electrode 42 and the first electrode 41 are embedded in the body 32 of the dielectric material and protected from discharge.

유동 경로(31)로 방전가스가 공급되고 제1 전극(41)에 고접압이 인가되고 제2 전극(42)이 접지되면, 제1, 제2 전극(41, 42) 사이의 유동 경로(31)에서 방전이 일어나고, 이로 인하여 방전가스는 플라즈마로 변환된다. 변환된 플라즈마는 유동 경로(31)로 공급되는 방전가스에 밀리어 유동 경로(31)를 경유하면서 분사구(311)로 분사된다.When the discharge gas is supplied to the flow path 31, the high contact pressure is applied to the first electrode 41, and the second electrode 42 is grounded, the flow path 31 between the first and second electrodes 41 and 42. Discharge occurs, whereby the discharge gas is converted into plasma. The converted plasma is injected into the injection hole 311 while passing through the milar flow path 31 to the discharge gas supplied to the flow path 31.

제3 전극(43)은 유동 경로(31)의 길이 방향을 따라 제2 전극(42)과 이격되어, 유동 경로(31)의 단부에 배치되어 접지된다. 따라서 제1, 제2 전극(41, 42) 사이에서 생성된 플라즈마는 유동 경로(31)를 통하여 분사구(311)로 분사되고, 제1, 제3 전극(41, 43) 사이에 형성되는 전기장에 의하여 유동 경로(31)의 분사구(311)에서, 유동 경로(31)의 길이 방향에 수직하는 방향으로 확산된다. 즉 플라즈마는 피처치체(B)에 대하여 넓게 확산된다.The third electrode 43 is spaced apart from the second electrode 42 along the longitudinal direction of the flow path 31, and is disposed at the end of the flow path 31 and grounded. Therefore, the plasma generated between the first and second electrodes 41 and 42 is injected into the injection hole 311 through the flow path 31, and is applied to the electric field formed between the first and third electrodes 41 and 43. As a result, the injection port 311 of the flow path 31 diffuses in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the flow path 31. That is, the plasma diffuses widely with respect to the feature B.

유동 경로(31)의 분사구(311)에서 분사되는 플라즈마가 확산됨에 따라, 플라즈마 분사로 인한, 피처치체(B)의 처리 면적을 넓힐 수 있다. 또한 스트리머가 제3 전극(43)으로 진행하여 피처치체(B)로 전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다.As the plasma injected from the injection hole 311 of the flow path 31 is diffused, the treatment area of the feature B due to the plasma injection can be widened. In addition, the streamer may proceed to the third electrode 43 to prevent the current from flowing to the feature B. FIG.

한편, 바디(32)는 제1, 제2 전극(41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)과 같은 방향으로 설정되는 두께(T)와, 이 두께(T)에 직교하는 방향으로 설정되는 폭(W), 및 유동 경로(31)의 길이 방향으로 설정되는 길이(L)를 가지는 직육면체로 형성될 수 있다. 직육면체로 형성되는 바디(32)는 유동 경로(31)의 끝에 설정되는 분사구(311)를 슬릿형으로 형성하여, 피처치체(B)에 넓은 면적으로 플라즈마를 분사할 수 있게 한다.On the other hand, the body 32 is set to a thickness (T) set in the same direction as the interval (C) set between the first and second electrodes (41, 42) and a direction orthogonal to the thickness (T). It may be formed into a rectangular parallelepiped having a width W and a length L set in the longitudinal direction of the flow path 31. The body 32 formed of a rectangular parallelepiped forms a spray hole 311 set at the end of the flow path 31 in a slit shape, so that the plasma can be sprayed to the feature B in a large area.

제1, 제2 전극(41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)은 유동 경로(31)의 길이보다 더 짧게 형성된다. 즉 플라즈마 발생기(30)는 작은 공간에서 스트리머가 억제된 방전을 구현하도록 구성된다.The interval C set between the first and second electrodes 41 and 42 is shorter than the length of the flow path 31. In other words, the plasma generator 30 is configured to implement a discharge in which the streamer is suppressed in a small space.

제1 실시예에서와 같이, 바디(32)가 직육면체로 형성되고, 유동 경로(31) 및 분사구(311)가 슬릿형으로 형성되는 경우, 제1, 제2 전극(41, 42)은 판상으로 형성되어, 유동 경로(31)의 양측에 배치되는 면방전 구조를 형성하는 것이 바람직하다.As in the first embodiment, when the body 32 is formed into a rectangular parallelepiped, and the flow path 31 and the injection hole 311 are formed in a slit shape, the first and second electrodes 41 and 42 have a plate shape. It is preferable to form the surface discharge structure which is formed and disposed on both sides of the flow path 31.

제3 전극(43)은 유동 경로(31)와 나란하게 배치되는 제2 전극(42)의 중심 연장선(CL)과 교차하여 배치된다. 따라서 제3 전극(43)은 바디(32)의 두께(T) 방향에서 제1 전극(41)에 근접하여 배치되어, 제1 전극(41)과의 사이에 전기장을 형성하고, 이로 인하여, 분사구(311) 밖에서 플라즈마의 확산을 용이하게 할 수 있다.The third electrode 43 is disposed to intersect the central extension line CL of the second electrode 42 disposed in parallel with the flow path 31. Accordingly, the third electrode 43 is disposed close to the first electrode 41 in the thickness T direction of the body 32, thereby forming an electric field between the first electrode 41, and thus, the injection hole. It is possible to facilitate the diffusion of the plasma outside the 311.

또한, 제3 전극(43)은 유동 경로(31)의 일단과의 사이에 절연부(312)를 개재하여 배치된다. 절연부(312)는 바디(32)에서 연장되어 분사구(311)의 일측에 형성된다. 절연부(312)는 제3 전극(43)이 제1 전극(41)과 제2 전극(42) 사이에 형성되 는 방전 생성에 영향을 주지 않도록 한다.In addition, the third electrode 43 is disposed between the one end of the flow path 31 via the insulating portion 312. The insulation part 312 extends from the body 32 and is formed at one side of the injection hole 311. The insulating part 312 prevents the third electrode 43 from affecting the generation of the discharge formed between the first electrode 41 and the second electrode 42.

제3 전극(43)은 제1, 제2 전극(41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)의 연장 방향, 즉 두께(T) 방향을 따라, 절연부(312)에서 바디(32)의 끝에까지 형성된다. 즉 제3 전극(43)은 분사구(311)로 분사되는 플라즈마를 바디(32)의 두께(T) 범위 전체에서 확산시키고, 스트리머의 피처치체(B)로의 방출을 억제한다.The third electrode 43 extends along the extension direction of the gap C set between the first and second electrodes 41 and 42, that is, in the thickness T direction. Formed to the end. That is, the third electrode 43 diffuses the plasma injected through the injection hole 311 in the entire thickness T range of the body 32, and suppresses the streamer from being discharged to the feature B.

도5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 단면도이다. 도5를 참조하면, 제2 실시예의 플라즈마 발생기(230)에 있어서, 유동 경로(31)와 나란하게 설정되는 제2 전극(42)의 최외곽 연장선(OL)의 외곽에 제3 전극(243)을 배치한다.5 is a sectional view of a plasma generator according to a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, in the plasma generator 230 of the second embodiment, the third electrode 243 is located outside the outermost extension line OL of the second electrode 42 set in parallel with the flow path 31. Place it.

분사구(311)로 플라즈마 분사시, 제1, 제3 전극(41, 243)은 서로의 사이에 형성되는 전기장을 바디(32)의 외곽에까지 형성하여, 제1 실시예에 비하여, 플라즈마의 면방향 확산을 더 증대시킬 수 있다.When plasma is sprayed by the injection holes 311, the first and third electrodes 41 and 243 form electric fields formed between each other to the outer side of the body 32, and in the plane direction of the plasma as compared with the first embodiment. The spread can be further increased.

또한, 제3 전극(243)은 제1, 제2 전극41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)의 연장 방향에서, 바디(32)의 두께(T) 범위 내에 형성되는 제1 부분(431)과, 제1 부분(431)에서 연장되어 두께(T) 범위 밖에 형성되는 제2 부분(432)을 포함한다. In addition, the third electrode 243 is the first portion 431 formed in the thickness T range of the body 32 in the extending direction of the gap C set between the first and second electrodes 41 and 42. ) And a second portion 432 extending from the first portion 431 to be formed outside the thickness T range.

제3 전극(243)에서 제2 부분(432)은 분사구(311)로 플라즈마 분사시, 제1, 제3 전극(41, 243) 사이에 형성되는 전기장을 바디(32)의 두께(T) 범위 밖에까지 연장 형성하여, 플라즈마의 확산을 더욱 증대시킬 수 있다.The second portion 432 of the third electrode 243 is a thickness (T) range of the body 32 of the electric field formed between the first, third electrodes (41, 243) during the plasma injection to the injection hole 311 By extending to the outside, the diffusion of the plasma can be further increased.

도6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 사시 단면도이고, 도7은 도6의 저면도이다. 제1, 제2 실시예의 플라즈마 발생기(30, 230)은 외형을 직 육면체로 형성하는데 비하여, 제3 실시예의 플라즈마 발생기(330)는 외형을 원통으로 형성한다.6 is a perspective cross-sectional view of the plasma generator according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a bottom view of FIG. The plasma generators 30 and 230 of the first and second embodiments form the outer shape in a rectangular parallelepiped, whereas the plasma generator 330 of the third embodiment forms the outer shape in a cylinder.

제3 실시예의 플라즈마 발생기(330)에서, 바디(332)는 원통으로 형성되고, 바디(332)의 중심에 유동 경로(331)를 형성한다. 제1 전극(341)은 유동 경로(331)의 중심에 배치되고, 제2 전극(342)은 유동 경로(331)의 외측에 원통으로 형성되어 바디(332)에 매립된다. 제1 전극(341)은 유동 경로(331)에 노출되어 있으나, 제2 전극(342)과 같이 유전재로 피복될 수도 있다(미도시).In the plasma generator 330 of the third embodiment, the body 332 is formed in a cylinder, and forms a flow path 331 in the center of the body 332. The first electrode 341 is disposed at the center of the flow path 331, and the second electrode 342 is formed in a cylinder outside the flow path 331 to be embedded in the body 332. The first electrode 341 is exposed to the flow path 331, but may be coated with a dielectric material like the second electrode 342 (not shown).

제1 전극(341)과 제2 전극(342)는 동심원 구조의 면방전 구조를 형성하여, 원통 형상으로 플라즈마를 분사한다. 제3 전극(343)은 유동 경로(331)와 나란하게 설정되는 제2 전극(342)의 연장선의 내측 또는 외측에 배치될 수 있다. 도6에서, 제3 전극(343)은 링(ring) 상으로 형성되어 제2 전극(342)의 연장선 외측 바디(332)의 단부에 구비된다. 제1, 제2 전극(341, 342)의 방전에 의하여, 유동 경로(331) 및 분사구(333)로 플라즈마 분사시, 제3 전극(343)과 제1 전극(341)은 서로의 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마를 원형으로 확산시킨다.The first electrode 341 and the second electrode 342 form a surface discharge structure having a concentric circle structure, and inject plasma into a cylindrical shape. The third electrode 343 may be disposed inside or outside the extension line of the second electrode 342 set to be parallel to the flow path 331. In FIG. 6, the third electrode 343 is formed in a ring and is provided at the end of the extension line outer body 332 of the second electrode 342. When plasma is sprayed into the flow path 331 and the injection hole 333 by the discharge of the first and second electrodes 341 and 342, the third electrode 343 and the first electrode 341 have an electric field therebetween. To diffuse the plasma in a circular manner.

유동 경로(331) 및 분사구(333)로 분사되는 플라즈마는 원통 형상을 가지므로 제3 실시예의 플라즈마 발생기(330)는 피부 외상에 형성되는 비대 흉터(hypertrophic scar)의 제거, 척수(spinal cord) 손상시 발생되는 신경교 세포(glial cell)에 의한 흉터의 제거, 암(cancer) 등 비대 세포에서의 세포자멸사(apoptosis) 유도, 프로트롬빈(prothrombin) 활성을 통한 비접촉, 및 비열적 지혈 과정 유도 등에 효과적으로 사용될 수 있다.Since the plasma injected into the flow path 331 and the injection hole 333 has a cylindrical shape, the plasma generator 330 of the third embodiment removes hypertrophic scars formed on the skin trauma and damages the spinal cord. Removal of scars by glial cells during development, induction of apoptosis in hypertrophy cells such as cancer, contactless through prothrombin activity, and induction of non-thermal hemostatic processes have.

도8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 발생시의 사시 단면도이다. 도8을 참조하면, 제4 실시예의 플라즈마 발생기(430)는 제3 전극(443)을 2개의 링(ring) 상으로 형성하여, 제2 전극(342)의 연장선 내측과 외측에 구비한다. 즉 제3 전극(443)은 내측 제3 전극(51)과 외측 제3 전극(52)을 포함한다.8 is a perspective cross-sectional view at the time of plasma generation according to the fourth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 8, the plasma generator 430 of the fourth embodiment forms the third electrode 443 on two rings, and is provided inside and outside the extension line of the second electrode 342. That is, the third electrode 443 includes an inner third electrode 51 and an outer third electrode 52.

제1, 제2 전극(341, 342)의 방전에 의하여, 유동 경로(331) 및 분사구(333)로 플라즈마 분사시, 제3 전극(443)과 제1 전극(341)는 서로의 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마를 원형으로 확산시킨다. 이때, 내측 제3 전극(51)과 제1 전극(341)에 의하여 1차로 플라즈마를 확산하고, 이어서 외측 제3 전극(52)과 제1 전극(341)에 의하여 2차로 플라즈마를 확산한다. 따라서 제4 실시예의 제3 전극(443)은 제3 실시예의 제3 전극(343)보다 플라즈마를 더 균일하게 확산시킬 수 있다.When plasma is sprayed into the flow path 331 and the injection hole 333 by the discharge of the first and second electrodes 341 and 342, the third electrode 443 and the first electrode 341 have an electric field therebetween. To diffuse the plasma in a circular manner. At this time, the plasma is first diffused by the inner third electrode 51 and the first electrode 341, and then the plasma is secondarily diffused by the outer third electrode 52 and the first electrode 341. Therefore, the third electrode 443 of the fourth embodiment can diffuse the plasma more uniformly than the third electrode 343 of the third embodiment.

이상을 통해 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 처치기의 구성도이다.1 is a block diagram of a plasma treatment device according to a first embodiment of the present invention.

도2는 도1에 적용되는 플라즈마 발생기의 분해 사시도이다.FIG. 2 is an exploded perspective view of the plasma generator applied to FIG. 1.

도3은 도2의 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 자른 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 2.

도4는 도3의 저면도이다.4 is a bottom view of FIG. 3.

도5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 단면도이다.5 is a sectional view of a plasma generator according to a second embodiment of the present invention.

도6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 사시 단면도이다.6 is a perspective cross-sectional view of the plasma generator according to the third embodiment of the present invention.

도7은 도6의 저면도이다.7 is a bottom view of FIG. 6.

도8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 발생시의 사시 단면도이다.8 is a perspective cross-sectional view at the time of plasma generation according to the fourth embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 플라즈마 처치기 10 : 가스 공급부100: plasma treatment device 10: gas supply unit

20 : 전원 공급부 30, 230, 330, 430 : 플라즈마 발생기20: power supply unit 30, 230, 330, 430: plasma generator

31, 331 : 유동 경로 311, 333 : 분사구31, 331: flow paths 311, 333: injection hole

312 : 절연부 32, 332 : 바디312: insulation 32, 332 body

41, 341 : 제1 전극 42, 342 : 제2 전극41, 341: first electrode 42, 342: second electrode

43, 243, 343, 443 : 제3 전극 431, 432 : 제1, 제2 부분43, 243, 343, 443: third electrode 431, 432: first, second part

51, 52 : 내, 외측 제3 전극 B : 피처치체51, 52: inner and outer third electrode B: feature

C : 간격 T : 두께C: Spacing T: Thickness

W : 폭 L : 길이W: Width L: Length

CL : 중심 연장선 OL : 최외곽 연장선CL: Center Extension OL: Outer Extension

Claims (13)

방전가스를 공급하는 가스 공급부;A gas supply unit supplying a discharge gas; 전압을 공급하는 전원 공급부; 및A power supply unit supplying a voltage; And 상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 방전가스를 둘러싸고 상기 전원 공급부로부터 인가되는 상기 전압으로 방전을 일으켜, 플라즈마를 생성하여, 피처치체에 분사하는 플라즈마 발생기를 포함하며,And a plasma generator surrounding the discharge gas supplied from the gas supply unit to generate a discharge at the voltage applied from the power supply unit to generate a plasma and spray the plasma to the feature body. 상기 플라즈마 발생기는,The plasma generator, 상기 방전가스의 유동 경로를 형성하여 상기 플라즈마를 상기 피처치체에 분사하는 바디,A body which forms a flow path of the discharge gas and injects the plasma to the feature body, 상기 유동 경로의 일측에 배치되고 상기 전압이 인가되는 제1 전극,A first electrode disposed on one side of the flow path and to which the voltage is applied; 상기 유동 경로의 다른 일측에서 상기 바디에 매립되어 상기 제1 전극에 대향하여 이격 배치되고 접지되는 제2 전극, 및A second electrode embedded in the body on the other side of the flow path and spaced apart from the first electrode and grounded; 상기 유동 경로의 길이 방향을 따라 상기 제2 전극과 이격되어 상기 유동 경로의 단부에 배치되어 접지되는 제3 전극을 포함하는 플라즈마 처치기.And a third electrode spaced apart from the second electrode along a longitudinal direction of the flow path and disposed at an end of the flow path and grounded. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 바디는 유전재로 형성되는 플라즈마 처치기.And the body is formed of a dielectric material. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 바디는,The body, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격과 나란하게 설정되는 두께와 상기 두께에 직교하여 설정되는 폭을 가지고 상기 유동 경로의 길이 방향으로 설정되는 길이를 가지는 직육면체로 형성되는 플라즈마 처치기.Plasma treatment device formed of a rectangular parallelepiped having a thickness set in parallel with the interval set between the first electrode and the second electrode and a width set orthogonal to the thickness and a length set in the longitudinal direction of the flow path. . 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격은 상기 유동 경로의 길이보다 더 짧게 형성되는 플라즈마 처치기.And a spacing set between the first electrode and the second electrode is shorter than the length of the flow path. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 전극은 상기 바디에 매립되는 플라즈마 처치기.And the first electrode is embedded in the body. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 판상으로 형성되어 면방전 구조를 형성하는 플라즈마 처치기.And the first electrode and the second electrode are formed in a plate shape to form a surface discharge structure. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제3 전극은,The third electrode, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 중심 연장선과 교차하여 배치되는 플라즈마 처치기.And a plasma extender disposed to intersect a central extension line of the second electrode set to be parallel to the flow path. 제7 항에 있어서,8. The method of claim 7, 상기 제3 전극은,The third electrode, 상기 유동 경로의 일단과의 사이에 상기 바디에서 연장된 절연부를 개재하여 배치되는 플라즈마 처치기.And a plasma treatment device disposed between the one end of the flow path and an insulating part extending from the body. 제8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제3 전극은,The third electrode, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 절연부에서 상기 바디의 끝까지 형성되는 플라즈마 처치기.And a plasma treatment device formed from the insulating portion to the end of the body in an extending direction of the interval set between the first electrode and the second electrode. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제3 전극은,The third electrode, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 최외곽 연장선의 외곽에 배치되는 플라즈마 처치기.And a plasma treatment device disposed outside the outermost extension line of the second electrode set in parallel with the flow path. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제3 전극은,The third electrode, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 바디의 두께 범위 내에 형성되는 제1 부분과,A first portion formed within a thickness range of the body in an extension direction of the interval set between the first electrode and the second electrode; 상기 제1 부분에서 연장되어 상기 두께 범위 밖에 형성되는 제2 부분을 포함하는 플라즈마 처치기.And a second portion extending from the first portion and formed outside the thickness range. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 바디는, 원통으로 형성되어 중심에 상기 유동 경로를 형성하고,The body is formed in a cylinder to form the flow path in the center, 상기 제1 전극은, 상기 유동 경로의 중심에 배치되며,The first electrode is disposed in the center of the flow path, 상기 제2 전극은, 상기 유동 경로의 외측에 원통으로 형성되어 상기 바디에 매립되는 플라즈마 처치기.The second electrode, the plasma treatment device is formed in a cylinder on the outside of the flow path is embedded in the body. 제12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 제3 전극은,The third electrode, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 연장선 내측과 외측 중 적어도 일측에 배치되는 플라즈마 처치기.And at least one of an inner side and an outer side of an extension line of the second electrode set to be parallel to the flow path.
KR1020090109526A 2009-11-13 2009-11-13 Plasma killer KR101051449B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090109526A KR101051449B1 (en) 2009-11-13 2009-11-13 Plasma killer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090109526A KR101051449B1 (en) 2009-11-13 2009-11-13 Plasma killer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110052838A KR20110052838A (en) 2011-05-19
KR101051449B1 true KR101051449B1 (en) 2011-07-22

Family

ID=44362656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090109526A KR101051449B1 (en) 2009-11-13 2009-11-13 Plasma killer

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101051449B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101147397B1 (en) 2010-04-26 2012-05-22 이동환 Device of stimulating acupoint using plasma
KR20180015064A (en) * 2016-08-02 2018-02-12 주식회사 피글 Plasma stimulation apparatus and acupuncture therapeutic apparatus comprising the same
US10515784B2 (en) 2015-07-27 2019-12-24 Samsung Display Co., Ltd. Plasma treatment apparatus and method of plasma treating a substrate using the same

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101292268B1 (en) * 2011-08-29 2013-08-01 한림대학교 산학협력단 Parallel driving micro plasma devices for treatment of wound area
KR102161704B1 (en) * 2020-01-21 2020-10-06 한국과학기술연구원 apparatus and method for fluorination of components

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000029287A (en) * 1998-10-26 2000-05-25 이마이 기요스케 Plasma treatment apparatus and plasma treatment method performed by use of the same apparatus
KR20010084566A (en) * 2000-02-28 2001-09-06 ０ Apparatus for producing glow discharge plasama in atmosphere
JP2002237480A (en) * 2000-07-28 2002-08-23 Sekisui Chem Co Ltd Method of treating base material with discharge plasma
KR100541276B1 (en) * 2003-03-28 2006-01-10 윤휘준 Apparatus for generating plasma under atmospheric pressure

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000029287A (en) * 1998-10-26 2000-05-25 이마이 기요스케 Plasma treatment apparatus and plasma treatment method performed by use of the same apparatus
KR20010084566A (en) * 2000-02-28 2001-09-06 ０ Apparatus for producing glow discharge plasama in atmosphere
JP2002237480A (en) * 2000-07-28 2002-08-23 Sekisui Chem Co Ltd Method of treating base material with discharge plasma
KR100541276B1 (en) * 2003-03-28 2006-01-10 윤휘준 Apparatus for generating plasma under atmospheric pressure

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101147397B1 (en) 2010-04-26 2012-05-22 이동환 Device of stimulating acupoint using plasma
US10515784B2 (en) 2015-07-27 2019-12-24 Samsung Display Co., Ltd. Plasma treatment apparatus and method of plasma treating a substrate using the same
KR20180015064A (en) * 2016-08-02 2018-02-12 주식회사 피글 Plasma stimulation apparatus and acupuncture therapeutic apparatus comprising the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110052838A (en) 2011-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101568380B1 (en) Skin treatment apparatus using plasma
KR101051449B1 (en) Plasma killer
Cao et al. Spatially extended atmospheric plasma arrays
JP5828464B2 (en) Method of operating plasma irradiation processing apparatus and method of irradiating material with plasma
US9339783B2 (en) Tubular floating electrode dielectric barrier discharge for applications in sterilization and tissue bonding
Ayan et al. Application of nanosecond-pulsed dielectric barrier discharge for biomedical treatment of topographically non-uniform surfaces
US20150110672A1 (en) Method for inducing apoptosis of disease cells and disease-causing microorganisms using plasma for bio-medical use
KR101422823B1 (en) Plasma Skin Treatment Apparatus
US9572241B1 (en) Devices for creating non-thermal plasma and ozone
US11491340B2 (en) Skin treatment apparatus using fractional plasma
US20150102255A1 (en) Liquid treatment device and liquid treatment method
WO2004002293A3 (en) Systems and methods for electrosurgical tissue treatment
KR20160098216A (en) Assembly for treating wounds
BRPI0919902B8 (en) electrosurgical ablation probe and system comprising it
WO2007103800A3 (en) Internally located return electrode electrosurgical apparatus, system and method
US20120156091A1 (en) Methods and devices for treating surfaces with surface plasma`
KR102280746B1 (en) A plasma mask
KR20160015894A (en) Plasma Generation Apparatus And Portable Plasma Cosmetic Apparatus
KR20150146253A (en) Plasma Jet Devices with Electric Safty and Heat-Dissipation
KR20120033505A (en) Plasma device
US20200108262A1 (en) Skin treatment apparatus using fractional plasma
RU2638569C1 (en) Method for sterilisation using gas-discharge plasma of atmospheric pressure and device for its implementation
KR101662160B1 (en) Skin treatment apparatus using plasma
KR20110119139A (en) Device of stimulating acupoint using plasma
KR20150142722A (en) Acnes treatment sysyem with plasma

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee