KR101568380B1

KR101568380B1 - Skin treatment apparatus using plasma

Info

Publication number: KR101568380B1
Application number: KR1020150051632A
Authority: KR
Inventors: 김병철
Original assignee: 주식회사 서린메디케어
Priority date: 2015-04-13
Filing date: 2015-04-13
Publication date: 2015-11-12

Abstract

The present invention relates to a skin treatment apparatus using plasma and, more specifically, to a skin treatment apparatus using plasma for generating a reactive species by introducing a dielectric barrier discharge between a diseased spot and a plasma generator, generating a soft plasma, and showering the diseased spot with the plasma, and increasing concentrations of the reactive species by applying inside the cell and outside the cell, and promoting sterilization and granulation by stimulating the diseased spot at the same time.

Description

[0001] The present invention relates to a skin treatment apparatus using plasma,

본 발명은 피부 치료 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 환부와 플라즈마 발생기 간에 유전체 장벽 방전을 유도하여 소프트 플라즈마를 생성함으로써 환부를 플라즈마로 샤워시켜 반응종 생성과 동시에 세포 내와 세포 밖에서 작용하게 함으로써 반응종의 농도를 높이고 환부를 자극하게 하여 살균과 새살 돋음을 촉진하도록 한 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a skin treatment apparatus, and more particularly, to a skin treatment apparatus that induces a dielectric barrier discharge between a lesion site and a plasma generator to generate a soft plasma to cause a lesion to be showered with a plasma, And more particularly, to a skin treatment apparatus using a plasma for increasing the concentration of a species and stimulating a lesion to promote sterilization and freshness.

최근에 대기압 하에서 플라즈마를 발생시키는 저온 대기압 플라즈마 장치의 개발로 이 기술을 이용한 미생물의 살균, 상처의 지혈, 치아미백, 암세포 사멸유도 등 의학분야에 실용적 시도가 크게 늘어나고 있으며, 특히 살균에 플라즈마를 이용하는 기술은 다른 분야에 비해 일찍 그 가능성이 입증되었고, 심도 있는 연구가 진행되어 오고 있다. Recently, the development of a low-temperature atmospheric pressure plasma apparatus that generates plasma under atmospheric pressure has greatly increased the practical use in medical fields such as microbial sterilization, wound hemostasis, tooth whitening, and cancer cell death induction using this technique. Technology has proved its potential earlier than other fields, and in-depth research is under way.

일반적인 대향 방전에서 유전체가 없는 경우에, 방전은 첫 번째 스파크로부터 출발하여 저 전압 아-크 방전으로 빠르게 진전되며, 스파크 내의 전자가 일련의 이온화 작용을 시작하여 고 전류로 선도하며 결국에는 아-크를 형성한다. In the absence of a dielectric in a typical counter discharge, the discharge starts from the first spark and progresses rapidly to a low voltage arc discharge, where electrons in the spark initiate a series of ionizing actions leading to a high current, .

유전체는 표면에 전하를 축적하고 대향 전계를 발생시킴으로써 전류를 제한하고 아-크 형성을 방지하기 때문에 제어되지 않은 방전 현상을 방지한다. Dielectrics accumulate charge on the surface and generate opposing electric fields to limit current and prevent arc formation, thereby preventing uncontrolled discharge phenomena.

고전압의 교류 전원은 전압 사이클의 각각 절반이 방전의 형성을 보장하며, 일반적으로 유전체 장벽 방전은 킬로 헤르츠(kHz) 범위에서 작동하기 때문에, 플라즈마는 전극 사이 즉, 방전 갭에서 완전히 소멸하는 시간이 충분하지 않아, 방전은 방전 갭에서 연속적인 글로우 또는 방전 필라멘트처럼 보인다.Since a high voltage alternating current source ensures that each half of the voltage cycle ensures the formation of a discharge and generally the dielectric barrier discharge operates in the kilohertz (kHz) range, the plasma has a sufficient time to disappear completely between the electrodes, i.e., Otherwise, the discharge looks like a continuous glow or discharge filament in the discharge gap.

통상적으로 플라즈마의 물성 및 응용의 분류로 열 플라즈마와 비열 플라즈마로 나누며, 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectric Barrier Discharge)은 비열이나 저온 플라즈마 발생을 위한 전형적인 방전이다. Generally, the physical properties and application of plasma are classified into thermal plasma and non-thermal plasma. Dielectric barrier discharge (DBD) is a typical discharge for generation of specific heat or low-temperature plasma.

열 플라즈마는 모든 플라즈마 구성 요소인 전자, 이온, 기체 원자와 분자의 온도는 비슷하다. Thermal plasmas are similar in temperature to all plasma components - electrons, ions, gaseous atoms and molecules.

플라즈마 성분이 동적 평형 상태 즉, 전자와 이온의 재결합이 이온화에 의해 균형을 이루고 있을 경우 플라즈마는 일정 시간 동안 존재할 수 있다. If the plasma component is in a dynamic equilibrium state, that is, when the recombination of electrons and ions is balanced by ionization, the plasma may exist for a certain period of time.

중요한 이온화를 제공하기 위해, 일반적으로 전자는 여러 레벨의 에너지(eV)를 가지며, 에너지를 가진 입자가 필요하다. In order to provide important ionization, electrons generally have several levels of energy (eV) and require particles with energy.

가스 입자의 평균 에너지는 약 1 eV 와 같고 대략 11,600 K의 가스 온도에 대응한다. 이것은 안정한 열 플라즈마는 대략 5000 K 이상의 온도를 가지고 있다는 것을 의미한다. The average energy of the gas particles is equal to about 1 eV and corresponds to a gas temperature of about 11,600 K. This means that a stable thermal plasma has a temperature of about 5000K or more.

비열 플라즈마는 구성 요소들의 온도는 매우 다르며, 평형 상태가 될 필요는 없다. In the case of a non-thermal plasma, the temperatures of the components are very different and need not be in equilibrium.

보통 전자의 온도는 이온과 가스 분자와 같이 무거운 입자의 온도보다 10,000 K 이상 훨씬 높다. 통상적으로, 비 평형 플라즈마 가스의 온도는 실온 또는 수천 켈빈(Kelvin)으로 매우 차이가 크지만, 전체적으로 주위 온도의 범위 일 수 있다. The temperature of electrons is usually much higher than the temperature of heavy particles such as ions and gas molecules by more than 10,000 K. Typically, the temperature of the non-equilibrium plasma gas is very different at room temperature or in thousands of Kelvin, but may be in the range of ambient temperature as a whole.

플라즈마는 가스의 온도가 주위의 온도보다 높지 않은 경우 비열로 간주하고, 주위 온도는 예를 들면 실온으로 20 ~ 25 ℃ 이다. The plasma is regarded as a specific heat when the temperature of the gas is not higher than the ambient temperature, and the ambient temperature is 20 to 25 ° C, for example, room temperature.

이러한 비열 플라즈마를 이용하여 생체조직을 치료하기 위한 장치로서, 미국공개특허 제20100145253호(Method for non-thermal application of gas plasma to living tissue)에 나타난 바와같이, 평판의 절연체의 상부 표면에 전극과 콘덕터가 구비된 구조를 갖는다.As an apparatus for treating a living tissue using such a non-thermal plasma, as shown in US-A-20100145253 (Method for non-thermal application of gas plasma to living tissue) And has a structure including a capacitor.

이는 유전체 장벽 방전과 유사한 고전압 방전의 발생으로 인한 전극과 조직 사이에 절연체를 배치함으로써 플라즈마와 조직을 통해 전류를 제한하게 되어 세포조직 가열을 최소화하기 위한 장치이다. This is an apparatus for minimizing cell tissue heating by placing an insulator between the electrode and tissue due to the generation of a high voltage discharge similar to a dielectric barrier discharge, thereby limiting the current through the plasma and tissue.

따라서 열에 의한 조직 손상을 일으키지 않고 혈액 응고를 촉진하며, 살균, 소독, 조직의 재 연결, 및 조직 장애의 치료를 위해 사용될 수 있다.Thus promoting blood clotting without causing tissue damage by heat, and can be used for the treatment of disinfection, disinfection, tissue reconnection, and tissue disorders.

그런데, 이러한 종래의 기술은 절연체가 평탄하게 형성되지만, 피부 조직은 굴곡이 많아 평탄하지 않으므로, 특정부위 즉 돌출된 부위 또는 절연체와 가까운 피부조직으로 플라즈마가 집중되어 피부가 손상되는 문제점이 발생한다.However, such a conventional technique has a problem that the insulator is formed flat, but the skin tissue is not flat due to a lot of bending, so that plasma is concentrated to a specific site, that is, a projected site or a skin tissue close to the insulator, thereby damaging the skin.

즉, 균일한 플라즈마의 발생이 어려운 구조이다.That is, it is difficult to generate a uniform plasma.

또한, 절연체와 조직 사이에 플라즈마가 발생되기 위한 간격을 유지하여야 하지만, 그 간격에 개방된 형태로 존재함으로써 외부로 플라즈마가 누설되어 치료 효과를 떨어뜨리는 문제점도 발생한다.
In addition, although an interval for generating plasma between the insulator and the tissue should be maintained, there is a problem that the plasma is leaked to the outside due to the opening in the gap.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여, 플라즈마의 발생을 고르게 분포시켜 피부의 손상을 방지하며, 아울러 일정한 간격을 유지시킬 수 있음과 아울러 플라즈마의 누설을 방지하는 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
Disclosure of Invention Technical Problem [8] To solve the above problems, the present invention provides a skin treatment apparatus using plasma to prevent damage of skin by uniformly distributing the generation of plasma, maintain a predetermined interval, and prevent leakage of plasma It has its purpose.

이러한 목적을 갖는 본 발명은,According to the present invention,

플라즈마 발생기로부터 발생된 플라즈마에 의해 피부를 치료하는 피부 치료 장치에 있어서,A skin treatment apparatus for treating skin by plasma generated from a plasma generator,

상기 플라즈마 발생기는The plasma generator

하우징의 하단부위에 위치하는 평판의 유전체;A flat plate dielectric disposed on the lower end of the housing;

상기 유전체의 상측표면에 접촉되며, 다수의 관통홀이 형성된 기판;A substrate in contact with an upper surface of the dielectric and having a plurality of through holes;

상기 기판의 상부면에 접촉되며, 피부치료를 위해 파워를 전달하는 전극;으로 구성되어, An electrode contacting the upper surface of the substrate and delivering power for skin treatment,

상기 전극으로부터의 파워가 기판에 형성된 관통홀을 통해 유전체로 인도되어 유전체와 피부 사이의 공간에서 플라즈마가 발생되도록 구성된다.The power from the electrode is guided to the dielectric through the through hole formed in the substrate so that the plasma is generated in the space between the dielectric and the skin.

또한, 상기 하우징의 하단부위에는 그 둘레를 따라서 하측으로 돌출된 간격유지부가 형성된다.
Further, on the lower end of the housing, a spacing portion protruding downward along the circumference is formed.

이와같이 구성된 본 발명은 유전체와 피부 사이의 공간에서 플라즈마를 고르게 분포시킴으로써 피부의 굴곡에 따른 플라즈마 집중현상을 감소시킴으로써 피부 손상을 방지하게 되며, 간격유지부에 의해서 유전체와 피부 사이에 일정한 플라즈마 활성영역을 형성함과 아울러 외부와 격리시킴으로써 플라즈마의 누설이 발생하지 않게 되어 치료 효과를 높일 수 있는 장점이 있다.The present invention thus constituted prevents the damage of the skin by reducing the plasma concentration phenomenon according to the bending of the skin by uniformly distributing the plasma in the space between the dielectric and the skin, And the plasma is isolated from the outside, so that leakage of the plasma does not occur and the treatment effect can be enhanced.

또한 별도의 제어장치 없이 출력밀도를 균일하게 가져가기 위해서는 하나의 평면전극이 아닌 다수의 분리되어 독립된 전극으로 만들 수 있어서 파워의 제어가 매우 간단한 장점이 있다.
In addition, in order to uniformly obtain the output density without a separate control device, it is possible to make a plurality of separate and independent electrodes rather than a single flat electrode, so that power control is very simple.

도1은 본 발명의 전체 구조를 보인 블럭도.
도2는 플라즈마 발생기의 단면 구조를 보인 도.
도3은 플라즈마 발생기의 저면 부위를 보인 도.1 is a block diagram showing the entire structure of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a plasma generator.
3 is a view showing a bottom portion of a plasma generator;

본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.The present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치는 도1에 도시한 바와같이 제어부(110)는 전원부(100)로부터 출력되는 직류전원을 고전압 모듈(120)에 공급하여 고주파, 고전압의 교류 전원으로 변환되도록 제어하는데, 신호발생기(121)는 보통 20kHz 이하의 주파수를 발생하게 되고, 증폭기(122)는 5~10W의 임피던스 매칭을 제공한다.As shown in FIG. 1, the control unit 110 supplies the DC power output from the power supply unit 100 to the high voltage module 120 so as to be converted into a high frequency, high voltage AC power, The signal generator 121 will typically generate a frequency below 20 kHz and the amplifier 122 will provide an impedance match of 5 to 10W.

상기 전원부(100)는 배터리일 수 있어서, 본 발명이 소형화된 휴대용으로도 사용될 수 있을 것이다.The power source unit 100 may be a battery, so that the present invention can be used as a compact portable unit.

트랜스포머(123)는 증폭기(122)로부터 출력되는 주파수를 플라즈마 발생기(200)로 공급함으로써 플라즈마 발생을 일으키도록 한다.The transformer 123 supplies a frequency output from the amplifier 122 to the plasma generator 200 to cause plasma generation.

플라즈마 발생기(200)는 도2에 도시한 바와같이 핸드피스 형태의 원통형 하우징(210)의 선단부위에서 팁 형태로 구비되는데, 트랜스포머(123)로부터 주파수를 인가받는 전극(220)과, 상기 전극(220)의 하부면에 위치하면서 전극(220)과 접촉되는 부위에 상하방향으로 균일한 간격을 가지고 다수의 관통홀(231)이 형성된 원판 형태의 기판(230)과, 상기 기판(230)의 하부면에 접촉되어 있는 유전체(240)로 형성된다.2, the plasma generator 200 is provided in the form of a tip on the tip of the cylindrical housing 210 in the form of a handpiece. The plasma generator 200 includes an electrode 220 receiving a frequency from the transformer 123, A substrate 230 in the form of a disk having a plurality of through holes 231 formed at a lower surface of the substrate 230 and uniformly spaced in a vertical direction at a portion contacting the electrode 220, And a dielectric 240 in contact with the dielectric layer.

관통홀(231)은 도3에서와 같이 기판(230)에 샤워기의 홀 형태와 유사하게 형성되며, 그 관통홀(231)의 내측면에는 도전물질에 의해 코팅 또는 도금이 행해질 수 있다.3, the through hole 231 is formed in the substrate 230 similar to the shape of the hole of the shower, and the inner surface of the through hole 231 can be coated or plated with a conductive material.

상기 유전체(240)는 석영, 사파이어, 유리, 세라믹, 고분자필름 등의 재질로 형성될 수 있으며, 그 두께가 0.1mm~3mm 정도이고, 상대 유전율이 4~18 정도가 바람직하다.The dielectric 240 may be formed of a material such as quartz, sapphire, glass, ceramics, or polymer film. The dielectric 240 may have a thickness of about 0.1 mm to about 3 mm and a relative dielectric constant of about 4 to 18.

따라서 전극(220)으로부터 인도된 파워는 기판(250)의 관통홀(213)을 통해 흡사 샤워방식으로 고르게 유전체(240)로 인도되며, 이로인해 유전체(240)와 피부(S) 사이에 R-L-C 직렬회로를 형성함으로써 피부(S)는 낮은 임피던스를 갖는 회로가 되어 인체에 해를 끼치지 않는 미약한 전류가 흐른다. The power delivered from the electrode 220 is guided to the dielectric 240 uniformly through the through hole 213 of the substrate 250 so that the RLC series between the dielectric 240 and the skin S By forming the circuit, the skin S becomes a circuit having a low impedance, and a weak current which does not harm the human body flows.

이때 접촉하는 피부(S)와 유전체(240) 사이에 플라즈마 샤워 방식의 부드러운 유전체 장벽 방전에 의한 플라즈마(P)가 고르게 발생한다. At this time, a plasma (P) due to a smooth dielectric barrier discharge due to a plasma shower method is uniformly generated between the skin (S) and the dielectric (240)

이러한 샤워 방식의 비열 플라즈마는 열 손상을 최대한 억제하고, 치료 효율을 극대화하기 위해 출력 파워를 제한하여 총 전류와 전류 밀도를 낮추어 플라즈마의 온도는 낮게 유지하면서 플라즈마 활성 인자는 치료될 피부(S)에 근접하여 위치시킨다. Such a shower-type non-thermal plasma suppresses the heat damage to a minimum and restricts the output power so as to maximize treatment efficiency, thereby lowering the total current and the current density so as to keep the plasma temperature low. Position.

플라즈마 생성 방전의 전력은 방전 전류와 전압의 곱이기 때문에 전력이 고정된 경우, 보다 높은 전압은 보다 낮은 전류가 된다.Since the power of the plasma generation discharge is multiplied by the discharge current and the voltage, when the power is fixed, the higher voltage becomes the lower current.

인체에 해가 없고 부드러운 유전체 장벽 방전 플라즈마(P)를 얻기 위해서는 1W 정도의 출력전력이 바람직하며, 최적의 운전조건을 맞추기 위해서는 출력전력의 변수인 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기(200)를 구성하는 유전물질의 정전용량과 인가되는 전압 및 주파수를 선택하여 최적의 방전 효율이 되도록 하여야 한다. In order to obtain a smooth dielectric barrier discharge plasma (P) free from harmful effects on the human body, an output power of about 1 W is desirable. In order to meet the optimal operating condition, the dielectric barrier discharge plasma generator 200, The capacitance and the applied voltage and frequency should be selected so that the optimum discharge efficiency is obtained.

유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기(200)의 정전용량은 그 형태와 유전체(240) 물질의 물리적 특성에 관계되며, 이것은 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치의 운전특성에 영향을 미친다.
The capacitance of the dielectric barrier discharge plasma generator 200 is related to its shape and the physical properties of the dielectric 240 material, which affects the operating characteristics of the skin treatment apparatus using plasma.

일반적으로 평판 축전기의 유전용량 C는 수학식1로 나타낼 수 있다.
Generally, the dielectric capacity C of a flat plate capacitor can be expressed by Equation (1).

여기서,

이고,here,

ego,

C : 정전용량 [F],

: 진공 유전율 [F/m], C: Capacitance [F],

: Vacuum permittivity [F / m],

K : 상대 유전상수, A; 전극면적 [m²], K: Relative dielectric constant, A; Electrode area [m ² ],

d; 전극간 거리 [m] 이다.
d; Electrode distance [m].

본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치의 정전용량 C_T은 유전체의 정전용량 C_g와 유전체 전극과 접촉피부 사이(즉 방전 갭) 정전용량 Ca의 직렬 연결 회로로 해석하여 다음 수학식2로 나타낸다.
The electrostatic capacity C _T of the skin treatment apparatus using plasma according to the present invention is expressed by the following equation (2) by a series connection circuit of the electrostatic capacitance C _g of the dielectric and the capacitance Ca between the dielectric electrode and the contact skin (i.e., discharge gap) .

또한 일반적으로 축전기에 저장되는 에너지 U는 수학식3으로 나타낸다.
The energy U stored in the capacitor is generally expressed by Equation (3).

여기서, U : 저장되는 에너지 [J], V : 전압 [V]Here, U: stored energy [J], V: voltage [V]

이때의 출력 전력 W은 U = W/f 로부터 구할 수 있으며, 수학식4로 나타낼 수 있다.
The output power W at this time can be obtained from U = W / f and can be expressed by Equation (4).

여기서, W; 소비전력 [W], f; 구동 주파수 [Hz]
Here, W; Power consumption [W], f; Driving frequency [Hz]

상기 조건 식으로부터 전기적 쇼크가 없고 안정적으로 민감한 피부인 안면에 유전체 장벽 방전 플라즈마를 유도하기 위해서는 단위면적당 출력 전력은 0.1~2W(바람직하게는 1.53W)/cm²이고, 출력 전압은 4~20(바람직하게는 9.5~10)kV, 주파수 1~30(바람직하게는 25)kHz 정도이다.
From the above equation, the output power per unit area is 0.1 to 2 W (preferably 1.53 W) / cm ² and the output voltage is 4 to 20 (preferably 5 to 20 W) in order to induce dielectric barrier discharge plasma on the face which is stably sensitive skin without electric shock. Preferably 9.5 to 10 kV, and a frequency of 1 to 30 (preferably 25) kHz.

시술할 때에 피부의 굴곡과 사용 환경에 따라서 정전용량은 변화하며, 이에 맞추어 출력 전력을 일정하게 유지하면서 출력 밀도를 균일하게 제어되어야 한다. The electrostatic capacity changes according to the bending of the skin and the use environment when performing the operation, and the output density should be uniformly controlled while keeping the output power constant.

전극(220)의 면적은 통상적으로 0.1~10 cm²이고, 방전 갭은 일반적으로 0.5~5mm이다. 치료 시에 평탄한 면적을 갖는 평면전극에 대하여 피부는 대부분 굴곡져 있으므로 평면전극 전면에 걸쳐 균일한 방전 갭을 가질 수 없다. 따라서 전극 전면에 걸쳐 유도된 전하들은 최초 방전이 일어난 한 점으로 집중하여 전류가 흘러 전기적 쇼크와 화상의 염려가 있다.The area of the electrode 220 is usually 0.1 to 10 cm ² , and the discharge gap is generally 0.5 to 5 mm. Since the skin is mostly curved with respect to a flat electrode having a flat area at the time of treatment, it can not have a uniform discharge gap over the entire surface of the flat electrode. Therefore, the electric charges induced across the entire surface of the electrode are concentrated at a point where the first discharge occurs, and the electric current flows to cause electric shock and burn.

별도의 제어장치 없이 출력밀도를 균일하게 가져가기 위해서는 하나의 평면 전극이 아닌 다수의 분리되어 독립된 전극으로 만들 필요가 있으며, 바람직하게는 지름 1mm의 도트 형상으로 cm² 당 25개의 도트 전극을 배열하여 출력 밀도를 제어할 수 있다.
In order to store uniformly obtain the output density without separate control devices in one of the separated plurality of non-planar electrodes, and the need to create a separate electrode, preferably a dot shape with a diameter of 1mm ² cm 25 dots per dot can be arranged to control the output density.

상기와 같이 구성된 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치의 작동 상태를 살펴보면 다음과 같다.The operation state of the skin treatment apparatus using plasma is as follows.

본 발명에서는 여드름 피부에 적용하는 경우를 예로 들어 설명한다.In the present invention, the case of application to acne skin will be described as an example.

먼저, 여드름 치료 부위에 유전체(240) 표면을 위치시키고, 작동 시작 버튼을 누르면 제어부(110)는 전원부(100)로부터 직류 전원을 고전압 모듈(120)로 공급하게 되고, 이로인해 고전압 모듈(120)에서는 고전압 고주파수의 교류 전원으로 변환하여 플라즈마 발생기(200)의 유전체(240) 상부면에 설치된 전극(220)에 공급한다.First, the surface of the dielectric 240 is placed on the acne treatment site, and when the operation start button is pressed, the controller 110 supplies the DC power from the power source 100 to the high voltage module 120, Voltage high-frequency alternating-current power supply to the electrodes 220 provided on the upper surface of the dielectric 240 of the plasma generator 200.

이때 유전체(240)를 매개로 하여 플라즈마 발생기(200)와 환부는 R-L-C회로를 이루면서 유전체 장벽 방전에 의한 플라즈마가 발생하게 되며, 기판(230)에 형성된 관통홀(231)을 통해 유전체(240)와 피부(S) 사이의 공간에서 고른 분포를 갖는 플라즈마가 발생되는 것이다.At this time, a plasma is generated due to dielectric barrier discharge while forming an RLC circuit between the plasma generator 200 and the affected part through the dielectric 240. The plasma is generated through the through holes 231 formed in the substrate 230, A plasma having an even distribution in the space between the skin S is generated.

즉, 전극(220)으로부터의 파워를 다수의 관통홀(231)을 통해 고르게 분포시켜 유전체(240)로 인도시킴으로써 유전체(240)와 피부(S) 사이의 공간에서 플라즈마가 고르게 분포되는 것이다.That is, the power from the electrode 220 is evenly distributed through the plurality of through holes 231 and delivered to the dielectric 240, thereby uniformly distributing the plasma in the space between the dielectric 240 and the skin S.

이렇게 만들어진 플라즈마에는 예컨대 옥시-, 하이드록실-, 및 질소 라디칼, 전자적으로 여기된 원자나 분자, 및 자외선(UV) 광자, 이온, 라디칼 등의 화학적 활성종이 포함되어 있으며 이들은 전기장을 따라 운동하면서 환부를 샤워하듯이 가볍고 부드럽게 두드리면서 환부 내/외를 자극하고 살균하게 된다. Such a plasma includes, for example, oxy-, hydroxyl-, and nitrogen radicals, electronically excited atoms or molecules, and chemically active species such as ultraviolet (UV) photons, ions, and radicals, It taps lightly and softly like a shower, stimulates the inside / outside of the affected area, and becomes sterilized.

이러한 치료는 상처 치유를 촉진하고 혈액 응고를 강화하여 감염의 발생을 감소시킬 수 있는 가능성과 함께 상처 치유를 촉진한다. These treatments promote wound healing with the potential to accelerate wound healing and enhance blood clotting to reduce the incidence of infection.

플라즈마 발생기(200)와 피부(S) 사이의 플라즈마 갭은 일반적으로 약 0.5~5 mm 이다. 인간 또는 동물 신체의 치료를 위한 전극은 통상적으로 약 0.1 내지 10 cm2의 표면적을 갖는다.The plasma gap between the plasma generator 200 and the skin S is generally about 0.5 to 5 mm. Electrodes for the treatment of human or animal bodies typically have a surface area of about 0.1 to 10 cm < 2 >.

따라서 플라즈마 갭을 일정한 간격으로 유지하기 위하여 하우징(210)의 하단부 가장자리 부분은 그 하단면 둘레를 따라서 하측으로 돌출된 간격유지부(211)가 형성되는데, 그 간격유지부(211)의 하단부위는 그 단면이 반원형태로 라운드져 있다.Accordingly, in order to maintain the plasma gap at a constant interval, the lower end portion of the housing 210 has a gap holding portion 211 protruding downward along the lower end surface thereof. The lower end portion of the gap holding portion 211 Its section is rounded in a semicircular form.

이러한 간격유지부(211)에 의해 플라즈마(P)가 발생되는 플라즈마 활성영역이 외부와 격리되어 플라즈마의 누설이 발생되지 않아 치료 효과를 증진시킬 수 있게 되며, 유전체(240)와 피부(S) 사이의 플라즈마 활성 영역을 일정하게 유지시킴으로써 플라즈마가 고르게 분포될 수 있는 것이다.The gap between the dielectric layer 240 and the skin S can be improved by preventing the plasma active region where the plasma P is generated from being separated from the outside by the gap maintaining portion 211, The plasma can be evenly distributed by keeping the plasma active region of the plasma display device constant.

한편, 하우징(210)의 내측, 바람직하게는 투명의 유전체(240)의 상측에는 블루 LED(250)가 더 장착되는데, 이러한 블루 LED(250)는 400~680nm의 파장을 가지게 되어 유전체(240)를 통과하여 피부에 조사되기 때문에 피부(S)를 진정시키는 효과를 가지게 된다.
A blue LED 250 is further mounted on the inner side of the housing 210, preferably on the transparent dielectric 240. The blue LED 250 has a wavelength of 400 to 680 nm, So that it has an effect of soothing the skin (S).

200 : 플라즈마 발생기 210 : 하우징
211 : 간격유지부 220 : 전극
230 : 기판 231 : 관통홀
240 : 유전체 250 : LED200: plasma generator 210: housing
211: spacing part 220: electrode
230: substrate 231: through hole
240: Dielectric 250: LED

Claims

A skin treatment apparatus for treating skin by plasma generated from a plasma generator,
The plasma generator
A flat plate dielectric disposed on the lower end of the housing;
A substrate which is in contact with an upper surface of the dielectric and has a plurality of through holes formed on its inner surface by coating or plating with a conductive material;
And an electrode which contacts the upper surface of the substrate and is separated into dots and independently arranged to transmit power for treating the skin to the through hole,
Wherein power from the electrode is guided to the dielectric through the through hole formed in the substrate to generate plasma in a space between the dielectric and the skin.

The apparatus for treating skin using plasma according to claim 1, wherein the dielectric is a transparent material.

The apparatus for treating skin using plasma according to claim 1, wherein the dielectric is one of quartz, sapphire, glass, ceramics, and polymer films.

[2] The apparatus according to claim 1, wherein a gap holding part protruding downward is formed on a lower end of the housing.

The apparatus according to claim 1, wherein a blue LED is further provided on the inside of the housing to irradiate the skin with a dielectric.