KR101049927B1 - Silicone coated plastic bonding sheet and method of making same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트는, 플라스틱을 플라즈마 처리함으로써 표면이 개질된 기재층; 실리콘에 하기 화학식 1 또는 화학식 2 또는 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 하기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 상기 기재층과 화학적으로 결합시킨 실리콘 코팅층;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a silicon-coated plastic bonding sheet and a method of manufacturing the same, wherein the silicon-coated plastic bonding sheet according to the present invention comprises a base layer having a surface modified by plasma-treating plastic; And a silicone coating layer formed by adding at least one of the following chemical formulas (1), (2) and (3) to silicon and chemically bonding the substrate layer with a catalyst of the following formula (4).

본 발명에 의하면, 종래와 달리, 플라스틱 표면에 플라즈마처리를 통해 반응성 작용기를 생성시키고, 실리콘에 특정 실리콘조성물을 첨가하고, 특정 촉매를 이용함으로써, 화학적 결합에 의하여, 프라이머 없이 플라스틱에 실리콘을 코팅할 수 있으며, 그 접착력 또한 월등히 우수한 장점이 있다.According to the present invention, silicon is coated on a plastic without a primer by chemical bonding by generating a reactive functional group on a plastic surface through a plasma treatment, adding a specific silicone composition to silicon, and using a specific catalyst And its adhesive strength is also remarkably excellent.

플라스틱, 실리콘, 플라즈마, 접착력, 열처리, 폴리에틸렌 테레프탈레이트,테프론(Teflon), 폴리이미드 Plastics, Silicon, Plasma, Adhesion, Heat treatment, Polyethylene terephthalate, Teflon, Polyimide

Description

실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법 {SILICON-COATED PLASTIC BONDING SHEET AND MANUFACTURING PROCESS THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a silicone-coated plastic bonding sheet and a method of manufacturing the same.

본 발명은 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마 처리, 실리콘조성물 및 촉매를 이용함으로써, 화학적 결합에 의하여, 프라이머 없이 플라스틱에 실리콘을 코팅하며, 그 접착력 또한 우수한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a silicon-coated plastic bonding sheet and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a method of manufacturing a silicon-coated plastic bonding sheet by coating silicon on a plastic without using a primer by chemical bonding by using a plasma treatment, a silicone composition and a catalyst, To a silicon-coated plastic bonding sheet and a method of manufacturing the same.

일반적으로 실리콘은 인장강도, 내열성, 내한성, 내수성, 전기절연성, 내마모성 등이 우수하며 특유의 탄성을 갖고 있어 각종 전자제품의 가스킷 등으로 사용되고 있다. 그러나, 이러한 실리콘은 실리콘 특유의 이형성에 의하여 여타의 고분자 및 점/ 접착제를 도포할 경우 상호 결합하지 못하여 실리콘을 다른 물질에 접합시키지 못할 뿐만 아니라 탄성이력(elastic hysteresis)에 의하여 재 작업 시 치수가 안정하지 못한 문제점이 있다. Generally, silicone is excellent in tensile strength, heat resistance, cold resistance, water resistance, electrical insulation and abrasion resistance, and has unique elasticity and is used as a gasket for various electronic products. However, due to the inherent dendritic properties of silicon, such silicones can not bond to each other when they are coated with other polymers and dots / adhesives, so that they can not bond silicon to other materials and their elasticity hysteresis There is a problem that can not be done.

상기와 같은 실리콘의 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 폴리에스테르 필름과 같은 플라스틱 기재(substrate)와 상기 실리콘을 접착제 내지 점착제를 도포한 테이프로 접합시킴으로써 상기의 문제점을 극복하고자 하였으나 실리콘과 테이 프가 물리적으로 결합하고 있어 열과 같은 외부 충격에 의하여 쉽게 박리되는 문제점을 여전히 가지고 있다. In order to overcome the above-mentioned problems, it has been attempted to overcome the above-mentioned problems by joining a plastic substrate such as a polyester film and the silicone with a tape coated with an adhesive or an adhesive, And still has a problem that it is easily peeled off by an external impact such as heat.

또한, 실리콘은 내열성, 전기절연성 등이 우수하며 특유의 탄성을 갖고 있어 LCD 및 PDP 패널(Panel) 제조 시 상기 패널과 연성인쇄회로(Flexible Printed Circuit, FPC)와의 부착을 위한 본딩시트(bonding sheet)로 많이 사용되고 있다. Silicon is excellent in heat resistance, electrical insulation, etc., and has unique elasticity. Therefore, silicon is used as a bonding sheet for attaching the panel to a flexible printed circuit (FPC) when manufacturing LCD and PDP panels. .

동시에 테프론(Teflon)은 비점착성이 우수해서 물 뿐만 아니라 기름 등에 대해 탁월한 비점착성을 보이며, 특히 전기절연성이 우수한 반면, 표면의 극성(polarity)이 떨어져 여타의 물질/고분자로 재료로 접착시키지 못하는 문제점이 있어 그 우수한 비점착성에도 불구하고 일반적인 코팅용 원단으로 상용되지 못하고 있다.At the same time, Teflon exhibits excellent non-tackiness for water as well as oil because of its excellent non-tackiness. Especially, it has excellent electric insulation, but it has polarity of surface and can not be bonded with other materials / , And despite its excellent non-tackiness, it is not commercially available as a general coating fabric.

현재 동 시장에서 사용되는 본딩시트의 형태는, 1) 실리콘을 카렌더링(calendaring)하여 실리콘 자체로 성형하여 사용하거나, 2) 스카이브드 테프론(Skived Teflon)을 사용하고 있는 현황이다.Currently, there are two types of bonding sheets used in the copper market: 1) silicon is calendered to form silicon itself, and 2) Skived Teflon is used.

그러나, 이러한 본딩시트로 사용되는 실리콘은 실리콘의 이형성과 약한 점착성을 보유하고 있기는 하나, 그 성질이 테프론(Teflon)필름에 비해 훨씬 떨어지는 바, 이로 인해 패널과 연성인쇄회로를 연결시켜 주는 이방성 도전필름(anisotropic conducting film,ACF)이 실리콘표면에 전이되어 불량의 원인이 되는 문제가 있다.However, although silicon used as such a bonding sheet has silicone mold releasability and weak adhesive property, its properties are much lower than that of Teflon film, which causes anisotropic conductivity There is a problem that a film (anisotropic conducting film, ACF) is transferred to the silicon surface to cause defects.

이를 개선하기 위하여 이형성이 우수한 테프론(Teflon)필름을 사용하기도 하나, 이러한 테프론(Teflon)필름은 열에 의한 변형이 심하여 사용 수명이 짧아지는 문제점이 있어, 통상 이형성이 우수한 테프론(Teflon) 필름을 하부에 장착하고 내 열성 및 탄성이 우수한 실리콘을 상부에 장착하여 각각 독립적으로 공급되는 본딩시트로 사용하고 있는 실정이다.Teflon film having excellent releasability may be used to improve the strength of the Teflon film. However, such a Teflon film has a problem in that the Teflon film is deformed by heat to shorten its service life, And a silicone which is excellent in heat resistance and elasticity is mounted on the upper part and used as a bonding sheet which is supplied independently.

또한, 종래 축합형 방식의 경화로 제조된 실리콘은 이하 실험2 및 표 2에 나타난 바와 같이, 코팅 전·후의 두께감소율이 부가형 방식의 경화에 비해 현저히 높고, 특히 본딩시트로 사용하는 기재에 대한 부착성이 떨어지며, 성형된 실리콘 물성의 중요한 요소인 압착물성 및 실리콘자체의 인장강도가 부가형 방식의 경화로 제조한 실리콘에 비해 물성이 떨어지는 문제가 있다. 또한, 종래 축합형 방식의 경화로 제조된 실리콘은 상온경화로 인해 경화시간이 며칠씩 소요되는 바, 양산성이 문제된다.Further, as shown in Experiments 2 and 2, the silicon produced by the conventional condensation-type curing method is significantly higher in thickness reduction ratio before and after the coating than in the addition type curing system. In particular, There is a problem in that the physical properties such as compression properties and tensile strength of the silicon itself, which are important factors of the properties of the molded silicone, are inferior to those of the silicon produced by the addition type hardening. In addition, the silicon produced by the conventional condensation type curing method requires curing time several days at room temperature due to curing at room temperature, so that mass productivity is a problem.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은, 종래와 달리, 플라스틱 표면에 플라즈마처리를 통해 반응성 작용기를 생성시키고, 실리콘에 특정 실리콘조성물을 첨가하고, 촉매를 이용함으로써, 화학적 결합에 의하여, 프라이머 없이 플라스틱에 실리콘을 코팅하며, 그 접착력 또한 우수한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method for producing a thermosetting resin composition, which comprises forming a reactive functional group on a plastic surface through plasma treatment, adding a specific silicone composition to silicon, It is an object of the present invention to provide a silicone-coated plastic bonding sheet which is coated with silicone on a plastic without a primer and has excellent adhesion.

또한, 종래의 축합형 방식의 상온경화와 달리, 부가형 방식의 경화를 도입하여 양산성 문제를 해결하고, 열처리공정을 도입하여, 하나의 공정으로 플라스틱과 실리콘 코팅간의 접착반응성 개선과 부착방해물질 제거를 달성함으로써, 본딩시트의 접착성을 더 강화할 뿐만 아니라, 생산성 또한 향상시킨 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, unlike the conventional condensation type room temperature curing, the addition type curing is introduced to solve the problem of mass production, and a heat treatment process is introduced to improve the adhesion reactivity between the plastic and the silicon coating in one process, To thereby provide a method of manufacturing a silicon-coated plastic bonding sheet in which not only the adhesion of the bonding sheet is further enhanced but also the productivity is improved.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트는,According to an aspect of the present invention, there is provided a silicon-coated plastic bonding sheet,

플라스틱을 플라즈마 처리함으로써 표면이 개질된 기재층; 실리콘에 하기 화학식 1 또는 화학식 2 또는 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 하기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 상기 기재층과 화학적으로 결합시킨 실리콘 코팅층;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.A substrate layer whose surface is modified by plasma-treating plastic; And a silicone coating layer formed by adding at least one of the following chemical formulas (1), (2) and (3) to silicon and chemically bonding the substrate layer with a catalyst of the following formula (4).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112009054534341-pat00001
Figure 112009054534341-pat00001

[화학식 2](2)

3MgO·4SiO2·H2O3MgO · 4SiO 2 · H 2 O

[화학식 3](3)

Figure 112009054534341-pat00002
Figure 112009054534341-pat00002

(X: 제 1유기그룹, OR: 제 2유기그룹)
[화학식 4]

Figure 112011037554000-pat00024

(L: 리간드, ligand)(X: first organic group, OR: second organic group)
[Chemical Formula 4]
Figure 112011037554000-pat00024

(L: ligand, ligand)

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상기 기재층 표면은 접촉각이 5°내지 95°인 것을 특징으로 하며, 상기 화학식 1 또는 상기 화학식 2, 상기 화학식 3 중 적어도 하나는 상기 실리콘 100중량부에 대하여, 0.1 내지 50중량부인 것을 특징으로 한다.The surface of the base layer has a contact angle of 5 to 95 °. At least one of the above-mentioned Formula 1, Formula 2 and Formula 3 is 0.1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone .

또한, 상기 촉매는 상기 실리콘 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부인 것을 특징으로 하며, 상기 화학식 3의 X는 비닐기, 에폭시기, 메타아크릴록시(methacryloxy)기, 아미노기 또는 멜캅토(mercapto)기 중 적어도 하나이며, 상기 화학식 3의 OR은 메톡시(methoxy)기 또는 에톡시(ethoxy)기 중 적어도 하나인 것을 특징으로 한다. The catalyst may be used in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone. In the formula (3), X may be a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, an amino group, or a mercapto group And the OR of Formula 3 is at least one of a methoxy group and an ethoxy group.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법은,According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a silicon-coated plastic bonding sheet,

플라스틱 기재를 10-2torr 이하 압력에, 아르곤 단독으로, 또는 상기 아르곤에 산소 또는 질소를 더 포함한 분위기하에서, 플라즈마 처리하여 표면에 반응성 작용기를 생성시키는 플라즈마 처리단계; 실리콘에, 상기 화학식 1 또는 상기 화학식 2, 상기 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 상기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 실리콘조성물을 제조하는 실리콘조성물 제조단계; 상기 실리콘조성물을 상기 플라스틱 기재에 도포하여 화학적 결합반응을 일으킴으로써 코팅하는 코팅단계; 상기 플라스틱 기재에 50 내지 500℃의 온도에서 10초 내지 48시간동안 열을 가하는 열처리단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. A plasma treatment step of plasma treating the plastic substrate at a pressure of 10 -2 torr or less, argon alone, or in an atmosphere containing argon alone or in an atmosphere containing oxygen or nitrogen to generate a reactive functional group on the surface; A step of preparing a silicone composition by adding to the silicon at least one of the above-mentioned formula (1), (2) and (3) and adding the catalyst of the formula (4) A coating step of coating the silicone composition by applying the silicone composition to the plastic substrate to cause a chemical bonding reaction; And heat treating the plastic substrate at a temperature of 50 to 500 ° C for 10 seconds to 48 hours.

상기 플라스틱 기재는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylen terephthalate,PET), 테프론(Teflon) 또는 폴리이미드(polyimide,PI) 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 한다.The plastic substrate is made of at least one of polyethylene terephthalate (PET), Teflon, and polyimide (PI).

또한, 상기 코팅단계와 상기 열처리단계 사이에, 상기 플라스틱 기재가 30 내지 200℃의 온도에서 1분 내지 2시간동안 건조되는 건조단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include a drying step in which the plastic substrate is dried at a temperature of 30 to 200 DEG C for 1 minute to 2 hours between the coating step and the heat treatment step.

상기 아르곤은 단독으로 10 내지 100 sccm을 포함하며, 상기 아르곤 대 상기 산소 또는 상기 아르곤 대 상기 질소의 중량비는 1:1 내지 1:4인 것을 특징으로 하며, 화학식 1 또는 화학식 2 또는 화학식 3 중 적어도 하나는 상기 실리콘 100중량부에 대하여, 0.1 내지 50중량부인 것을 특징으로 한다.Wherein the weight ratio of the argon to the nitrogen or the argon to the nitrogen is from 1: 1 to 1: 4, and at least one of the formula (1), (2) And one of them is 0.1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone.

또한, 상기 플라즈마 처리단계를 통해 개질된 플라스틱 기재의 표면은 접촉각이 5°내지 95°인 것을 특징으로 하며, 상기 촉매는 상기 실리콘 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부인 것을 특징으로 한다.In addition, the surface of the plastic substrate modified through the plasma treatment step has a contact angle of 5 ° to 95 °, and the catalyst is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicon.

상기 화학식 3의 X는 비닐기, 에폭시기, 메타아크릴록시(methacryloxy)기, 아미노기 또는 멜캅토(mercapto)기 중 적어도 하나이며, 상기 화학식 3의 OR은 메톡시(methoxy)기 또는 에톡시(ethoxy)기 중 적어도 하나인 것을 특징으로 한다.X in Formula 3 is at least one of a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, an amino group, or a mercapto group, and the OR in Formula 3 may be a methoxy group or an ethoxy group. And at least one of the groups.

본 발명에 의한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법에 따르면, 종래와 달리, 플라스틱 표면에 플라즈마처리를 통해 반응성 작용기를 생성시키고, 실리콘에 특정 실리콘조성물을 첨가하고, 특정 촉매를 이용함으로써, 화학적 결합에 의하여, 프라이머 없이 플라스틱에 실리콘을 코팅할 수 있으며, 그 접착력 또한 월등히 우수한 장점이 있다.According to the silicon-coated plastic bonding sheet and the method of manufacturing the same according to the present invention, unlike the conventional method, by generating a reactive functional group through plasma treatment on a plastic surface, adding a specific silicone composition to silicon, By bonding, silicon can be coated on plastic without primer, and its adhesion is also remarkably excellent.

또한, 종래의 축합형 방식의 상온경화와 달리, 부가형 방식의 경화를 도입하여 양산성 문제를 해결하고, 열처리공정을 도입하여, 하나의 공정으로 플라스틱과 실리콘 코팅간의 접착반응성 개선과 부착방해물질 제거를 달성함으로써, 본딩시트의 접착성을 더 강화할 뿐만 아니라, 생산성 또한 향상시키는 장점이 있다.In addition, unlike the conventional condensation type room temperature curing, the addition type curing is introduced to solve the problem of mass production, and a heat treatment process is introduced to improve the adhesion reactivity between the plastic and the silicon coating in one process, , There is an advantage that not only the adhesion of the bonding sheet is further strengthened but also the productivity is improved.

이하, 본 발명에 의한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a silicon-coated plastic bonding sheet according to the present invention and a method of manufacturing the same will be described in detail with reference to the drawings.

먼저, 본 발명에 의한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트는, 도 1에 나타난 바와 같이, 플라스틱(10)을 플라즈마 처리함으로써 표면이 개질된 기재층(11), 실리콘(Silicon, 원소기호 Si의 집합체)에 하기 화학식 1 또는 화학식 2 또는 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 하기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 상기 기재층(11)과 화학적으로 결합시킨 실리콘 코팅층(20)을 포함하여 이루어진다.First, as shown in FIG. 1, the silicon-coated plastic bonding sheet according to the present invention comprises a base layer 11 having a surface modified by plasma treatment of a plastic 10, a base layer 11 made of silicon (silicon, And a silicone coating layer 20 added with at least one of the following chemical formulas (1), (2) and (3) and chemically bonded to the substrate layer (11) by adding a catalyst of the following chemical formula (4).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112009054534341-pat00004
Figure 112009054534341-pat00004

[화학식 2](2)

3MgO·4SiO2·H2O3MgO · 4SiO 2 · H 2 O

[화학식 3](3)

Figure 112009054534341-pat00005
Figure 112009054534341-pat00005

(X:제 1유기그룹, OR:제 2유기그룹)
[화학식 4]
(X: first organic group, OR: second organic group)
[Chemical Formula 4]

Figure 112011037554000-pat00025

(L: 리간드, ligand)
Figure 112011037554000-pat00025

(L: ligand, ligand)

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여기서, 플라스틱은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylen terephthalate,Here, the plastic is made of polyethylene terephthalate (PET)

PET), 테프론(Teflon) 또는 폴리이미드(polyimide,PI) 중 적어도 하나로 이루어진다. 이는 본 발명에 의한 표면개질 및 그로 인한 실리콘과의 접착력 증대에 가장 효과적인 물질이다. (PET), Teflon, or polyimide (PI). This is the most effective material for the surface modification according to the present invention and thus the adhesion to silicon.

여기서, 플라즈마 처리는 플라스틱 기재 표면(11)에 반응성 작용기를 생성하여, 실리콘코팅이 용이하게 되도록 접착력을 향상시키기 위해 실시되며, 플라즈마 처리에 관한 자세한 조건 및 공정은 이하에서 설명하도록 한다.Here, the plasma treatment is performed in order to increase the adhesive strength so as to generate a reactive functional group on the plastic substrate surface 11 so as to facilitate the silicon coating, and detailed conditions and processes for the plasma treatment will be described below.

이러한 플라즈마 처리로 인해 개질된 상기 기재층 표면(11)의 접촉각은 5°내지 95°인 것이 바람직하며, 가장 바람직하게는 30 내지 60°인 것이 효과적이다. 이하에 언급되는 특정 조건의 플라즈마 처리로 인해 반응성 작용기가 플라스틱 기재층의 표면에 생성됨으로써, 플라즈마 처리 전 평균접촉각이 100 내지 120°인 것에 반해, 크게 감소하게 된다. 접촉각이 5°미만인 경우에는 생산성이 떨어지며, 오히려 접착력이 감소하는 문제가 있으며, 95°를 초과하는 경우에는 접착력이 적절한 수준으로 증가되지 않는 문제가 있다.The contact angle of the substrate layer surface 11 modified by such a plasma treatment is preferably 5 to 95, and most preferably 30 to 60. The reactive functional groups are generated on the surface of the plastic substrate layer due to the plasma treatment of the specific conditions mentioned below, so that the average contact angle before plasma treatment is greatly reduced compared with that of 100 to 120 DEG. When the contact angle is less than 5 DEG, the productivity is lowered, and the adhesive force is rather reduced. When the contact angle is more than 95 DEG, the adhesive force is not increased to an appropriate level.

또한, 상기 화학식 1, 화학식 2, 화학식 3은 접착부가물질로써, 실리콘과 결합하여, 플라스틱 기재층과의 접착력을 증가시키는 역할을 한다. 상기 개질된 플라스틱 기재층 표면의 반응성 작용기와 화학적 결합이 가능한 상기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3은 수차례의 실험을 거쳐 플라즈마 처리한 플라스틱 기재층 표면의 반응성 작용기와 가장 강력하게 결합할 수 있는 화합물로써, 플라스틱 기재층과 실리콘 코팅층과의 접착력을 극대화할 수 있도록 실리콘에 첨가된다. The above-mentioned chemical formulas (1), (2), and (3) are adhesion additive materials, which are combined with silicon to increase the adhesive force with the plastic substrate layer. The above chemical formulas (1), (2) and (3), which can be chemically bonded to the reactive functional groups on the surface of the modified plastic substrate layer, are subjected to several experiments to obtain a compound capable of binding most strongly with the reactive functional group on the surface of the plasma- Which is added to silicon so as to maximize the adhesion between the plastic substrate layer and the silicon coating layer.

상기 화학식 3에 있어서, X는 기능성 유기그룹이고, OR은 가수분해가능한 유기그룹으로써, X는 비닐기, 에폭시기, 메타아크릴록시(methacryloxy)기, 아미노기 또는 멜캅토(mercapto)기 중 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하며, OR은 메톡시(methoxy)기 또는 에톡시(ethoxy)기 중 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 수차례의 실험을 통하여, 접착력을 가장 향상시킬 수 있는 부가물질로써, 실리콘에 상기 화학식 3을 첨가하는 것이 가장 효과적임을 알 수 있다.Wherein X is a functional organic group and OR is a hydrolyzable organic group and X is at least one of a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, an amino group, or a mercapto group And OR preferably includes at least one of a methoxy group or an ethoxy group. Through several experiments, it can be seen that the addition of the above formula 3 to the silicon is the most effective as an additive material that can improve the adhesive strength most.

상기 화학식 1 또는 화학식 2 또는 화학식 3 중 적어도 하나의 함량은 상기 실리콘 100중량부에 대하여, 0.1 내지 50중량부인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 30중량부인 것이 가장 효과적이다. 0.1중량부 미만인 경우에는 접착 력 향상효과가 미미하며, 50중량부를 초과하는 경우에는 경제성이 떨어질 뿐만 아니라, 실리콘의 요구물성을 현저히 저하시키는 문제가 있다.The content of at least one of Formula 1, Formula 2 or Formula 3 is preferably 0.1 to 50 parts by weight, more preferably 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone. When the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of improving the adhesive force is insignificant. When the amount is more than 50 parts by weight, not only the economical efficiency is lowered but also the required property of silicon is significantly lowered.

또한, 상기 하기 화학식 4의 촉매는, 종래의 축합형 방식의 상온경화와 달리, 부가형 방식의 경화가 일어날 수 있도록 부가반응을 용이하게 하여, 플라스틱 기재층과 실리콘 코팅층과의 화학적 결합을 돕는 역할을 한다. 이로 인하여, 경화시간을 획기적으로 단축시키면서도 접착력을 향상시킬 수 있어, 종래의 양산성 문제를 해결하였다.Unlike the conventional condensation-type room temperature curing, the catalyst of the following formula (4) facilitates the addition reaction so as to allow curing of the additive type, thereby facilitating the chemical bonding between the plastic substrate layer and the silicon coating layer do. As a result, the curing time can be remarkably shortened and the adhesive force can be improved, thereby solving the conventional problem of mass production.

상기 촉매의 함량은 상기 실리콘 100중량부에 대하여, 0.1 내지 10중량부인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5중량부인 것이 효과적이다. 0.1중량부 미만인 경우에는 부가반응의 반응성 향상효과가 미미하며, 10 중량부를 초과하는 경우에는 경제성이 떨어질 뿐만 아니라, 오히려 반응을 방해하는 문제가 있다.The content of the catalyst is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone. When the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of improving the reactivity of the addition reaction is insignificant. When the amount is more than 10 parts by weight, not only the economical efficiency is lowered but also the reaction is disturbed.

다음으로, 본 발명에 의한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법은, 도 2에 나타난 바와 같이, 플라즈마 처리단계(S10), 실리콘조성물 제조단계(S20), 코팅단계(S30), 열처리단계(S40)를 포함하여 이루어진다.Next, a method of manufacturing a silicon-coated plastic bonding sheet according to the present invention includes a plasma processing step (S10), a silicon composition manufacturing step (S20), a coating step (S30), a heat treatment step (S40 ).

플라즈마 처리단계(S10)는 플라스틱 기재를 10-2torr 이하 압력에, 아르곤 단독으로, 또는 상기 아르곤에 산소 또는 질소를 더 포함한 분위기하에서, 플라즈마 처리하여 표면에 반응성 작용기를 생성시키는 단계이다. 이는 플라스틱 기재에 반응성 작용기를 생성하여, 이에 도포되어 경화되는 실리콘코팅층과의 결합강도를 향상시키기 위해 실시된다.The plasma treatment step S10 is a step of plasma-treating the plastic substrate at a pressure of 10 -2 torr or less, argon alone, or in an atmosphere containing argon with oxygen or nitrogen to generate reactive functional groups on the surface. This is carried out to produce a reactive functional group on the plastic substrate and to improve the bonding strength with the silicone coating layer which is applied and cured to the plastic substrate.

여기서, 플라스틱 기재는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylen terephthalate,PET), 테프론(Teflon) 또는 폴리이미드(polyimide,PI) 중 적어도 하나로 이루어진다. 이는 본 발명에 의한 표면개질 및 그로 인한 실리콘과의 접착력 증대에 가장 효과적인 물질이다. Here, the plastic substrate is made of at least one of polyethylene terephthalate (PET), Teflon, or polyimide (PI). This is the most effective material for the surface modification according to the present invention and thus the adhesion to silicon.

여기서, 반응성 작용기는 -OH, -OOH, -COOH, -C-O-, -C=0, -O-C-O- 등의 산소함유 작용기이다.Here, the reactive functional group is an oxygen-containing functional group such as -OH, -OOH, -COOH, -C-O-, -C = O, -O-C-O- or the like.

일반적인 플라즈마 처리와 달리, 본 발명에서는 수차례의 실험을 통해, 플라스틱 기재에 최적화되어, 실리콘코팅층과의 결합강도를 극대화할 수 있는 조건으로 플라즈마 처리를 하였다. 이하에서는 플라즈마 처리 조건에 대해 설명하도록 한다.Unlike the general plasma treatment, in the present invention, the plasma treatment was performed under the condition that the bonding strength with the silicon coating layer can be maximized through several experiments through optimization of the plastic substrate. Hereinafter, the plasma treatment conditions will be described.

먼저, 압력은 플라스틱 기재 표면에 효과적인 반응성 작용기를 생성하게 위해 10-2torr이하인 것이 바람직하며, 가장 바람직하게는 10-3torr 내지 10-7torr인 것이 효과적이다. 압력이 10-2torr를 초과하는 경우에는 불순물에 의한 아크방전이 일어나거나 산란에 의해 반응성 작용기의 발생밀도가 떨어지는 문제가 있다.First, the pressure is preferably 10 -2 torr or less, and most preferably 10 -3 torr to 10 -7 torr, in order to produce an effective reactive functional group on the surface of the plastic substrate. When the pressure exceeds 10 -2 torr, there arises a problem that arc discharge due to impurities occurs or density of reactive functional groups is lowered due to scattering.

다음으로, 플라즈마 처리를 위해 충진되는 가스는 아르곤을 단독으로 충진하거나 상기 아르곤에 산소 또는 질소를 더 충진하는 것이 바람직하다. 상기 아르곤 대신 헬륨 등 다른 불활성 가스를 넣는 것도 가능하나, 아르곤을 사용하는 것이 가장 효과적이다. 여기서, 아르곤 가스는 불활성 기체로써, 다른 가스와 반응하지 않 고 이온화 여기(excite)에만 관여하며, 산소는 진공배기 후에 플라스틱 기재에 잔류하여 형성되는 산소를 화학적으로 결합하여 배기시키는 표면세정의 역할을 한다. 또한, 질소는 플라스틱기재 표면의 사슬구조를 변화시켜 새로운 작용기를 생성시켜 결합력을 증가시키는 역할을 한다. 상기 이온화 여기란, 외부에서 가해주는 전기적 소스에 의해 가스의 이온화가 발생하여 높은 에너지를 가지는 들뜸상태로 만들어주는 과정을 의미한다.Next, it is preferable that the gas to be filled for the plasma treatment is filled with argon alone or the argon is further filled with oxygen or nitrogen. Other inert gases such as helium may be used instead of argon, but argon is most effective. Here, the argon gas is an inert gas, which does not react with other gases but is only involved in ionization excitation. Oxygen acts as a surface cleaning agent that chemically combines and evacuates oxygen formed on the plastic substrate after vacuum evacuation do. In addition, nitrogen plays a role of changing the chain structure of the surface of the plastic substrate to generate a new functional group to increase the bonding force. The ionization excitation means a process in which ionization of gas is caused by an external electric source to generate an excited state having a high energy.

상기 아르곤의 함량은 단독으로 충진하는 경우에는 10 내지 100 sccm을 포함하는 것이 바람직하며, 가장 바람직하게는 20 내지 60 sccm인 것이 효과적이다. 10 sccm 미만인 경우에는 이온화 여기를 충분히 일으키지 못 하는 문제가 있으며, 100 sccm을 초과하는 경우에는 압력이 10-2torr를 초과하거나 경제성이 떨어지며, 반응성 작용기의 발생밀도가 떨어지는 문제가 있다.The amount of argon is preferably 10 to 100 sccm, and most preferably 20 to 60 sccm when the argon is filled alone. If it is less than 10 sccm, there is a problem that ionization excitation is not sufficiently generated. If it exceeds 100 sccm, the pressure exceeds 10 -2 torr or the economical efficiency is low, and the generation density of reactive functional groups is low.

또한, 아르곤과 산소, 또는 아르곤과 질소를 충진하는 경우에는 상기 아르곤 대 상기 산소 또는 상기 아르곤 대 상기 질소의 중량비는 1:1 내지 1:4인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1:1 내지 1:3인 것이 효과적이다. 상기 범위를 벗어나는 경우에는 산소나 질소의 반응성이 높아 오히려 반응성 작용기의 발생밀도가 떨어지는 문제가 있다.In the case of filling argon with oxygen or argon with nitrogen, the weight ratio of argon to oxygen or argon to nitrogen is preferably 1: 1 to 1: 4, more preferably 1: 1 to 1: : 3 is effective. If it is outside the above range, there is a problem that the reactivity of oxygen or nitrogen is high and the density of the reactive functional groups is lowered.

상기와 같은 조건으로 이온보조반응법(IAR,Ion Beam Assisted Reaction)을 이용하여 플라스틱 표면을 플라즈마 처리한다. 이온보조반응법이란, 일정한 에너지를 가진 이온을 고분자 재료 표면에 조사시켜 표면을 활성화상태로 바꾸면서 이와 동시에 개질하고자 하는 재료표면 주위에 반응성 기체를 주입시킴으로써 표면에서 이온에너지를 이용한 반응을 통하여 새로운 기능성 작용기를 형성시키는 방법이다.Plasma treatment of the plastic surface is performed using the Ion Beam Assisted Reaction (IAR) under the above conditions. An ion assisted reaction method is a method in which a surface of a polymer material is irradiated with ions having a predetermined energy to change its surface to an activated state and at the same time a reactive gas is injected around the surface of the material to be modified, .

이를 위해, 도 3에 나타난 바와 같이, 플라스틱 기재(30)를 기재홀더(34)를 통과시키면서, 이온건(32)으로 이온빔(31)을 플라스틱 기재(30)의 표면에 조사하고, 상기 아르곤 등의 반응성 가스(33)를 주입한다. 플라스틱 기재(30) 표면에 이온빔(31)에 의해 방전된 양전하가 플라스틱 기재(30) 표면에 음전하를 발생시키고, 충진된 반응성 가스(33)의 작용에 의해 반응성 작용기를 형성시키게 된다.3, the surface of the plastic substrate 30 is irradiated with the ion beam 31 by the ion gun 32 while passing the plastic substrate 30 through the substrate holder 34, The reactive gas 33 is injected. A positive charge discharged by the ion beam 31 on the surface of the plastic substrate 30 generates a negative charge on the surface of the plastic substrate 30 and forms a reactive functional group by the action of the filled reactive gas 33.

이러한 플라즈마 처리단계(S10)를 거치면, 플라스틱기재 표면이 상기에서 설명한 바와 같이 접착이 용이하도록 개질된다.After the plasma treatment step (S10), the plastic substrate surface is modified to facilitate adhesion as described above.

실리콘조성물 제조단계(S20)는 실리콘에, 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2 또는 하기 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 하기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 실리콘조성물을 제조하는 단계이다.The step (S20) of preparing the silicone composition is a step of preparing a silicone composition by adding a catalyst represented by the following formula (1) or (2) or (3)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112009054534341-pat00007
Figure 112009054534341-pat00007

[화학식 2](2)

3MgO·4SiO2·H2O3MgO · 4SiO 2 · H 2 O

[화학식 3](3)

Figure 112009054534341-pat00008
Figure 112009054534341-pat00008

(X:제 1유기그룹, OR:제 2유기그룹)
[화학식 4]

Figure 112011037554000-pat00026
(X: first organic group, OR: second organic group)
[Chemical Formula 4]
Figure 112011037554000-pat00026

(L: 리간드, ligand)(L: ligand, ligand)

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상기 화학식 1는 앞서 설명한 화학식 1과 동일하며, 상기 화학식 2는 화학식 2와 동일하고, 상기 화학식 3는 화학식 3과 동일하다. 각각의 함량 및 그 의의 또한 앞서 설명한 바와 같다.The formula 1 is the same as the formula 1 described above. The formula 2 is the same as the formula 2, and the formula 3 is the same as the formula 3. Each content and its significance are also as described above.

다만, 상기 실리콘조성물은 실리콘에 상기 화학식 1 또는 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3 중 적어도 하나 및 상기 촉매를 포함한다.However, the silicone composition includes silicon in the formula (1), (2) or (3) and the catalyst.

코팅단계(S30)는 상기 실리콘조성물을 상기 플라스틱 기재에 도포하여 화학적 결합반응을 일으킴으로써 코팅하는 단계이다. 이는 액상의 상기 실리콘조성물을 상기 플라즈마 처리된 플라스틱기재의 표면에 도포함으로써, 상기와 설명한 바와 같은 부가반응으로 상기 플라스틱기재가 프라이머없이 상기 실리콘조성물과 화학적 결합을 이루어 코팅되는 단계이다. The coating step S30 is a step of coating the silicone composition by applying the silicone composition to the plastic substrate to cause a chemical bonding reaction. This is a step of applying the liquid silicone composition on the surface of the plasma-treated plastic substrate so that the plastic substrate is chemically bonded to the silicone composition without the primer by the addition reaction as described above.

코팅단계(S30) 이후에 열처리단계(S40)전에 건조챔버를 거치는 단계, 즉, 30 내지 200℃의 온도에서 1분 내지 2시간동안 건조되는 건조단계(S31)를 더 포함할 수 있다.(S31) after the coating step (S30), before the heat treatment step (S40), through the drying chamber, i.e., at a temperature of 30 to 200 DEG C for 1 minute to 2 hours.

마지막으로 열처리단계(S40)는 상기 플라스틱 기재에 50 내지 500℃의 온도에서 10초 내지 48시간동안 열을 가하는 단계이다. 이는 플라즈마 처리에 의해 플라스틱기재 표면에 미세한 요철이 형성되는데, 이 표면에 도포되어 코팅된 실리콘조성물이 화학적 결합에 의해 플라스틱 기재에 접착되어 있으나, 미세요철로 인해 일부 분리된 공간이 존재하게 된다. 이를 상기와 같은 조건의 열처리단계를 거치게 되면, 상기 실리콘조성물이 순간적으로 연화되면서 플라스틱기재 표면의 미세 요철부위의 공간 구석구석까지 침투하게 되어 더욱 강력하게 접착된다. 도 4a는 열처리 단계 전의 부착상태, 도 4b는 열처리 단계 후의 부착상태로써, 본 발명의 열처리단계의 특징을 간략히 표현하였다. 이는 다른 고분자재료에 비해, 플라스틱 기재의 내열성이 강한 특징과 본 발명의 플라즈마 처리상의 특징 및 실리콘조성물의 특징을 고려하여 수차례의 연구, 실험을 통해 효과적으로 접착력을 증대시킬 수 있는 단계를 개발한 것이다.Finally, the heat treatment step (S40) is a step of applying heat to the plastic substrate at a temperature of 50 to 500 DEG C for 10 seconds to 48 hours. This is because micro-irregularities are formed on the surface of the plastic substrate by the plasma treatment. The silicone composition applied to the surface of the plastic substrate is bonded to the plastic substrate by chemical bonding, but there is a partially separated space due to the fine irregularities. If the heat treatment step is performed under the above-described conditions, the silicone composition is instantaneously softened, and penetrates to every corner of the micro concavo-convex portion of the surface of the plastic substrate, thereby bonding more strongly. FIG. 4A shows the attachment state before the heat treatment step, and FIG. 4B shows the attachment state after the heat treatment step, which is a characteristic of the heat treatment step of the present invention. This has led to the development of a step of effectively increasing the adhesive force through several studies and experiments in consideration of the characteristics of the plasma treatment of the present invention and the characteristics of the silicone composition of the present invention as compared with other polymeric materials, .

여기서, 열처리 온도는 50 내지 500℃인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 150 내지 250℃인 것이 가장 효과적이다. 50℃미만인 경우에는 실리콘조성물이 충분히 연화되지 않아 열처리의 효과가 미미하며, 500℃를 초과하는 경우에는 재료들이 변형되는 문제가 있다.The heat treatment temperature is preferably 50 to 500 ° C, and more preferably 150 to 250 ° C. When the temperature is lower than 50 deg. C, the silicone composition is not sufficiently softened and the effect of the heat treatment is insignificant. When the temperature exceeds 500 deg. C, the materials are deformed.

또한, 상기 열처리 온도에 따라 열처리 시간은 조절되어야 하는 바,(즉, 열 처리온도가 고온이면 열처리시간 단축, 열처리온도가 저온이면 열처리시간 증가) 10초 내지 48시간동안 열처리하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 5분 내지 4시간동안 열처리하는 것이 효과적이다. 10초미만으로 열처리하는 경우에는 이하의 실험에서 입증한 바와 같이, 열처리효과가 거의 없으며, 48시간을 초과하는 경우에는 경제성이 떨어지며, 고온의 경우에는 재료가 심하게 변형되는 문제가 있다.Further, the heat treatment time should be controlled according to the heat treatment temperature (i.e., if the heat treatment temperature is high, shortening the heat treatment time and increasing the heat treatment time if the heat treatment temperature is low), the heat treatment is preferably performed for 10 seconds to 48 hours. Preferably for 5 minutes to 4 hours. In the case of heat treatment with only 10 seconds, there is almost no heat treatment effect as demonstrated by the following experiment, and when it exceeds 48 hours, economical efficiency is lowered, and in case of high temperature, the material is severely deformed.

이하에서는 본 발명에 의한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트 및 그 제조방법의 실시예를 통해, 본 발명의 효과를 입증해 보도록 한다.Hereinafter, the effects of the present invention will be demonstrated through examples of a silicon-coated plastic bonding sheet and a method of manufacturing the same according to the present invention.

실시예 1Example 1

플라즈마 처리 조건을 아르곤 단독으로 하고, 2,000V / 0.05~0.5A (100~1000W)의 전압이 인가되도록 플라즈마 처리를 이용하여 플라스틱기재의 표면에 이온화 처리로 활성 작용기를 생성하였다. An active functional group was formed by ionization treatment on the surface of the plastic substrate by plasma treatment so that the plasma treatment condition was set to argon alone and a voltage of 2,000 V / 0.05 to 0.5 A (100 to 1000 W) was applied.

실리콘과 실리콘 100중량부에 대하여, 부착 개선제인 상기 화학식 1 및 화학식 2를 20 중량부, 상기 화학식 4의 촉매 0.5중량부로 이루어진 실리콘조성물을 상기 플라스마로 표면을 처리한 플라스틱기재의 표면에 도포한 후 200℃에서 5분간 열처리하여 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트를 제조하였다. 20 parts by weight of the adhesion improvers (1) and (2), and 0.5 part by weight of the catalyst of the formula (4) were applied to the surface of the plastic substrate treated with the plasma to 100 parts by weight of silicon and silicon Treated at 200 캜 for 5 minutes to prepare a silicone-coated plastic bonding sheet.

실시예 2Example 2

다른 조건은 실시예 1과 동일하며, 플라즈마 처리 조건만 아르곤과 산소의 중량비 1:1로 변경하였다.Other conditions were the same as in Example 1, and the plasma treatment conditions were changed to a weight ratio of argon to oxygen of 1: 1.

실시예 3Example 3

다른 조건은 실시예 1과 동일하며, 플라즈마 처리 조건만 아르곤과 질소의 중량비 1:2로 변경하였다.Other conditions were the same as in Example 1, and only the plasma treatment conditions were changed to a weight ratio of argon and nitrogen of 1: 2.

실시예 4Example 4

다른 조건은 실시예 1과 동일하며, 함량만 상기 화학식 1 및 2를 30중량부, 상기 화학식 4의 촉매를 0.2중량부로 변경하였다.Other conditions were the same as in Example 1, except that the contents of the above Formulas 1 and 2 were changed to 30 parts by weight and the catalyst of Formula 4 was changed to 0.2 parts by weight.

실시예 5Example 5

다른 조건은 실시예 1과 동일하며, 열처리조건을 200℃의 온도로 30분간 열처리하는 것으로 변경하였다.The other conditions were the same as in Example 1, and the heat treatment conditions were changed to heat treatment at a temperature of 200 캜 for 30 minutes.

비교예 1Comparative Example 1

다른 조건은 실시예 1과 동일하며, 열처리단계를 생략하였다.Other conditions were the same as in Example 1, and the heat treatment step was omitted.

비교예 2Comparative Example 2

다른 조건은 실시예 1과 동일하며, 플라즈마 처리 조건만 아르곤과 산소의 중량비 2:1로 변경하였다.Other conditions were the same as in Example 1, and the plasma treatment conditions were changed to a weight ratio of argon to oxygen of 2: 1.

비교예 3Comparative Example 3

다른 조건은 실시예 2과 동일하며, 함량만 상기 화학식 1 및 2를 50중량부, 상기 화학식 4의 촉매를 0.01중량부로 변경하였다.Other conditions were the same as in Example 2, except that the contents of the above Formulas 1 and 2 were changed to 50 parts by weight and the catalyst of Formula 4 was changed to 0.01 part by weight.

<실험 1> <Experiment 1>

상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트를 하기 표 1에 기재한 바와 같이 박리 여부 및 압착 상태 그리고 두께감소율을 실험하였다.The silicone-coated plastic bonding sheets prepared according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were tested for peeling, compression bonding, and thickness reduction ratio as shown in Table 1 below.

[표 1][Table 1]

박리여부Whether or not peeling 압착상태Squeezed state 두께감소율Thickness reduction rate 실시예 1Example 1 합격pass 합격pass 실시예 2Example 2 합격pass 합격pass 실시예 3Example 3 합격pass 합격pass 실시예 4Example 4 합격pass 합격pass 실시예 5Example 5 합격pass 합격pass 비교예 1Comparative Example 1 XX 불합격fail 불합격fail 비교예 2Comparative Example 2 불합격fail 합격pass 비교예 3Comparative Example 3 XX 불합격fail 불합격fail

※ 박리여부는, FPCB 압착을 20타 실시하여, 박리되는 지 여부로 판단한다.  ※ Whether or not to peel off is determined by peeling the FPCB by 20 peelings.

◎는 박리전혀안됨, ○는 거의박리안됨, △는 다소 박리됨, X는 완전 박리됨으로 표시하였다.    ⊚ indicates no peeling at all, ◯ indicates almost no peeling, Δ indicates slightly peeling, and X indicates peeling completely.

※ 압착상태는, FPCB 압착이 20타를 넘는 경우 합격 처리한다.  ※ When the FPCB squeeze is more than 20 degrees, the squeezing state is accepted.

※ 두께감소율은, FPCB 압착을 20타 진행한 후, 압착전후의 두께감소율이 5% 이내인 경우 합격 처리한다.  ※ Thickness reduction rate should be passed after FPCB squeezing is carried out 20 times and the thickness reduction ratio before and after squeezing is within 5%.

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명에 의한 실시예 1 내지 5에서 박리가 일어나지 않아 접착력이 우수하고, 압착상태 및 두께 감소율도 우수한 것으로 확인 된 반면, 비교예 1 내지 3은 접착력이 다소 떨어지고, 압착상태도 좋지 않았다.As shown in Table 1, it was confirmed that Examples 1 to 5 according to the present invention did not cause peeling, and that the adhesive strength was excellent, and the pressed state and thickness reduction rate were also excellent. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, The squeezed state was not good either.

따라서, 본 발명의 열처리단계를 포함하고, 본 발명의 수치범위내에서 실시하는 것이 접착력 등이 월등히 뛰어남을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that the heat treatment step of the present invention is included, and the adhesion strength is remarkably excellent when it is carried out within the numerical range of the present invention.

<실험 2><Experiment 2>

종래의 축합형 방식으로 경화시켜 제조한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트와 본 발명의 부가형 방식으로 경화시켜 제조한 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 물성을 비교실험하였다. 그 결과는 이하 표 2에 나타난 바와 같다.The properties of a silicone-coated plastic bonding sheet prepared by conventional condensation-type curing and a silicone-coated plastic bonding sheet cured by the addition type of the present invention were compared. The results are shown in Table 2 below.

[표 2][Table 2]

종래의 축합형Conventional condensation type 본 발명의 부가형The addition type 측정조건Measuring conditions 숙성 전 두께Thickness before aging 275㎛275 탆 317㎛317 탆 마이크로미터(㎛)
(분해능 0.001mm)
Micrometer (탆)
(Resolution 0.001 mm)
숙성 후 두께Thickness after aging 225㎛225 탆 310㎛310 탆 숙성 후 두께감소율Thickness reduction rate after aging 18.2 %18.2% 2.2 %2.2% 부착성Attachment △(약함)△ (weak) OO 압착검사Squeeze inspection 압착상태Squeezed state 2타, 기포발생2 strokes, bubble generation 20타Twenty 370℃, 60kgf/7sec370 ° C, 60 kgf / 7 sec 압착률 (%)Compression ratio (%) 측정불가
(실리콘 부스러짐)
Not measurable
(Silicon breakage)
2.1%2.1% 압착 20타 후
두께 감소율
After twenty strokes
Thickness reduction rate

상기 표 2에 나타난 바와 같이, 종래의 축합형 방식의 경우에는 두께감소율이 높고, 부착성이 떨어지며, 압착 또한 측정할 수 없을 정도로 물성이 떨어지는데 반해, 본 발명의 부가형 방식의 경우에는 두께감소율이 낮고, 부착성 및 압착률 또한 우수함을 확인할 수 있다.As shown in Table 2, in the case of the conventional condensation type system, the physical properties are degraded such that the thickness reduction rate is high, the adhesion is poor, and the compression can not be measured. In the case of the addition type system of the present invention, , Adhesion and compression ratio are also excellent.

<실험 3><Experiment 3>

열처리 온도 및 시간에 따른 부착력 측정 실험을 실시하였다. 이는 본 발명의 제조방법에 따라 제조하되, 열처리 온도 및 시간만 변경하였다. 그 결과는 이하 표 3에 나타내었다.Experiments were carried out to measure the adhesive force with the heat treatment temperature and time. This was produced according to the production method of the present invention, but only the heat treatment temperature and time were changed. The results are shown in Table 3 below.

[표 3][Table 3]


열처리 온도

Heat treatment temperature

접촉시간

Contact time
5초5 seconds 30초30 seconds 30℃30 ℃ 부착안됨Not attached 부착안됨Not attached 60℃60 ° C 70% 부착됨70% attached 95% 부착됨95% attached 100℃100 ℃ 90% 부착됨90% attached 100% 부착됨100% attached 400℃400 ° C 100% 부착됨100% attached 100% 부착됨100% attached 600℃600 ℃ 100% 부착됨
(단,다소 변형됨)
100% attached
(But somewhat deformed)
변형됨Modified

상기 표 3에 나타난 바와 같이, 본 발명의 범위내에서 열처리를 실시하는 경우에 플라스틱기재와 실리콘조성물간의 부착이 강하게 되었고, 그 범위를 벗어난 경우에는 부착력이 떨어지거나 변형이 일어나는 문제가 있음을 확인하였다.As shown in Table 3, adhesion between the plastic substrate and the silicone composition was strong when the heat treatment was performed within the range of the present invention, and it was confirmed that when the heat treatment was performed outside the range, the adhesion force was lowered or deformed .

<실험 4><Experiment 4>

플라즈마 처리단계에서, 가스를 아르곤 단독으로 첨가한 경우, 아르곤과 산소를 같이 첨가한 경우에 표면처리 전·후의 접촉각을 비교하는 실험을 실시하였다. 그 결과는 이하 표 4 및 도 5a, 도 5b, 도 5c에 나타내었다.In the plasma treatment step, an experiment was conducted to compare the contact angles before and after the surface treatment in the case where argon and oxygen were added together when argon alone was added to the gas. The results are shown in Table 4 below and Figs. 5A, 5B and 5C.

[표 4][Table 4]

가스gas 아르곤
argon
아르곤+산소
Argon + oxygen
표면처리여부Whether surface treatment XX OO XX OO 1차 (접촉각)Primary (contact angle) 111.94°111.94 [deg.] 88.32°88.32 [deg.] 111.94°111.94 [deg.] 84.70°84.70 ° 2차 (접촉각)Secondary (contact angle) 111.24°111.24 [deg.] 89.17°89.17 [deg.] 111.24°111.24 [deg.] 80.78°80.78 [deg.] 3차 (접촉각)Third (contact angle) 111.10°111.10 [deg.] 87.02°87.02 DEG 111.10°111.10 [deg.] 83.33°83.33 DEG 평균 접촉각Average contact angle 111.43°111.43 [deg.] 88.17°88.17 [deg.] 111.43°111.43 [deg.] 82.94°82.94 [deg.]

상기 표 4 및 도 5a, 도 5b, 도 5c에 나타난 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 조건에 따라 표면처리한 경우에 접촉각이 본 발명의 범위에 해당하도록 측정되며, 표면처리를 하지 않은 경우와는 접촉각이 현저히 다름을 알 수 있었다. 이는 본 발명의 플라즈마 처리가 요철을 형성함으로써 접착력을 증대시킨다는 것을 확인할 수 있다.As shown in Table 4 and FIG. 5A, FIG. 5B, and FIG. 5C, when the surface treatment is performed according to the plasma condition of the present invention, the contact angle is measured to fall within the range of the present invention. I was able to notice this remarkable difference. This confirms that the plasma treatment of the present invention increases the adhesive force by forming irregularities.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수 있다. 본 발명은 상기 실시예를 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수 있음이 명확하다. 따라서 상기 기재 내용은 하기 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. It is clear that the present invention can be suitably modified and applied in the same manner. Therefore, the above description does not limit the scope of the present invention, which is defined by the limitations of the following claims.

도 1은 본 발명의 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트를 나타낸 단면도1 is a cross-sectional view of a silicon-coated plastic bonding sheet of the present invention

도 2는 본 발명의 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도Fig. 2 is a flow chart sequentially showing a method of producing the silicon-coated plastic bonding sheet of the present invention

도 3은 본 발명의 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법 중 플라즈마 처리단계를 나타낸 모식도FIG. 3 is a schematic view showing a plasma processing step in the method of manufacturing the silicon-coated plastic bonding sheet of the present invention

도 4a는 본 발명의 열처리단계를 거치지 않는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트를 나타낸 단면도4A is a cross-sectional view of a silicon-coated plastic bonding sheet without the heat treatment step of the present invention

도 4b는 본 발명의 열처리단계를 거친 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트를 나타낸 단면도4B is a cross-sectional view of a silicon-coated plastic bonding sheet after the heat treatment step of the present invention

도 5a는 본 발명의 플라즈마 처리단계 전, 플라스틱기재 표면의 접촉각을 촬영한 사진5A is a photograph showing the contact angle of the surface of the plastic substrate before the plasma processing step of the present invention

도 5b는 본 발명의 플라즈마 처리단계(아르곤 가스단독) 후, 플라스틱기재 표면의 접촉각을 촬영한 사진Fig. 5B is a photograph showing the contact angle of the surface of the plastic substrate after the plasma treatment step (argon gas alone) of the present invention

도 5c는 본 발명의 플라즈마 처리단계(아르곤+산소) 후, 플라스틱기재 표면의 접촉각을 촬영한 사진FIG. 5C is a photograph showing the contact angle of the surface of the plastic substrate after the plasma treatment step (argon + oxygen) of the present invention

<도면의 주요부분 부호에 대한 설명>Description of the Related Art [0002]

10: 기재층 10: substrate layer

11: 표면개질된 기재층 11: surface-modified substrate layer

20: 실리콘 코팅층20: silicone coating layer

30: 플라스틱 기재 30: plastic substrate

31: 이온빔 31: ion beam

32: 이온건 32: Ion gun

33: 반응성 가스 33: Reactive gas

34: 기재홀더34: substrate holder

Claims (14)

플라스틱을 플라즈마 처리함으로써 표면이 개질된 기재층; 실리콘에 하기 화학식 1 또는 화학식 2 또는 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 하기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 상기 기재층과 화학적으로 결합시킨 실리콘 코팅층;을 포함하여 이루어지며,A substrate layer whose surface is modified by plasma-treating plastic; And a silicone coating layer formed by adding at least one of the following chemical formulas (1), (2) and (3) to silicon and chemically bonding to the substrate layer by adding a catalyst of the following chemical formula (4) 하기 화학식 3의 X는 비닐기, 에폭시기, 메타아크릴록시(methacryloxy)기, 아미노기 또는 멜캅토(mercapto)기 중 적어도 하나이며, 하기 화학식 3의 OR은 메톡시(methoxy)기 또는 에톡시(ethoxy)기 중 적어도 하나이고, X in the formula (3) is at least one of a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, an amino group or a mercapto group, and the OR group in the following formula (3) is a methoxy group or an ethoxy group. Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 하기 화학식 1 또는 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3 중 적어도 하나는 상기 실리콘 100중량부에 대하여, 0.1 내지 50중량부이며, 상기 촉매는 상기 실리콘 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부인 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트.Wherein at least one of the following formulas (1), (2) and (3) is 0.1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone, and the catalyst is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silicone. Coated plastic bonding sheet. [화학식 1][Chemical Formula 1]
Figure 112011037554000-pat00010
Figure 112011037554000-pat00010
[화학식 2](2) 3MgO·4SiO2·H2O3MgO · 4SiO 2 · H 2 O [화학식 3](3)
Figure 112011037554000-pat00011
Figure 112011037554000-pat00011
(X:제 1유기그룹, OR:제 2유기그룹)(X: first organic group, OR: second organic group) [화학식 4][Chemical Formula 4]
Figure 112011037554000-pat00027
Figure 112011037554000-pat00027
(L: 리간드, ligand)(L: ligand, ligand)
제 1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 플라스틱은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylen terephthalate,The plastic may be selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, PET), 테프론(Teflon) 또는 폴리이미드(polyimide,PI) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트.(PET), Teflon, or polyimide (PI). 제 1항 또는 제 2항에 있어서,3. The method according to claim 1 or 2, 상기 기재층 표면은 접촉각이 5°내지 95°인 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트.Wherein the surface of the base layer has a contact angle of 5 DEG to 95 DEG. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 플라스틱 기재를 10-2torr 이하 압력에, 아르곤 단독으로, 또는 상기 아르곤에 산소 또는 질소를 더 포함한 분위기하에서, 플라즈마 처리하여 표면에 반응성 작용기를 생성시키는 플라즈마 처리단계;A plasma treatment step of plasma treating the plastic substrate at a pressure of 10 -2 torr or less, argon alone, or in an atmosphere containing argon alone or in an atmosphere containing oxygen or nitrogen to generate a reactive functional group on the surface; 실리콘에, 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2 또는 하기 화학식 3 중 적어도 하나를 첨가하고, 하기 화학식 4의 촉매를 첨가하여 실리콘조성물을 제조하는 실리콘조성물 제조단계;Preparing a silicone composition by adding at least one of the following general formula (1) or (2) or (3) to silicon and adding a catalyst of the following general formula (4) to a silicone composition; 상기 실리콘조성물을 상기 플라스틱 기재에 도포하여 화학적 결합반응을 일으킴으로써 코팅하는 코팅단계;A coating step of coating the silicone composition by applying the silicone composition to the plastic substrate to cause a chemical bonding reaction; 상기 플라스틱 기재에 50 내지 500℃의 온도에서 10초 내지 700 분간 열을 가하는 열처리단계;를 포함하여 이루어지며,And a heat treatment step of applying heat to the plastic substrate at a temperature of 50 to 500 ° C for 10 seconds to 700 minutes, 하기 화학식 3의 X는 비닐기, 에폭시기, 메타아크릴록시(methacryloxy)기, 아미노기 또는 멜캅토(mercapto)기 중 적어도 하나이며, 하기 화학식 3의 OR은 메톡시(methoxy)기 또는 에톡시(ethoxy)기 중 적어도 하나이고, X in the formula (3) is at least one of a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, an amino group or a mercapto group, and the OR group in the following formula (3) is a methoxy group or an ethoxy group. Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 하기 화학식 1 또는 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3 중 적어도 하나는 상기 실리콘 100중량부에 대하여, 0.1 내지 50중량부이며, 상기 촉매는 상기 실리콘 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부인 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법.Wherein at least one of the following formulas (1), (2) and (3) is 0.1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone, and the catalyst is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silicone. A method of manufacturing a coated plastic bonding sheet. [화학식 1][Chemical Formula 1]
Figure 112011037554000-pat00013
Figure 112011037554000-pat00013
[화학식 2](2) 3MgO·4SiO2·H2O3MgO · 4SiO 2 · H 2 O [화학식 3](3)
Figure 112011037554000-pat00014
Figure 112011037554000-pat00014
(X:제 1유기그룹, OR:제 2유기그룹)(X: first organic group, OR: second organic group) [화학식 4][Chemical Formula 4]
Figure 112011037554000-pat00028
Figure 112011037554000-pat00028
(L: 리간드, ligand)(L: ligand, ligand)
제 7항에 있어서,8. The method of claim 7, 상기 플라스틱 기재는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylen terephthalate,PET), 테프론(Teflon) 또는 폴리이미드(polyimide,PI) 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법.Wherein the plastic substrate is made of at least one of polyethylene terephthalate (PET), Teflon, or polyimide (PI). 제 7항 또는 제 8항에 있어서,9. The method according to claim 7 or 8, 상기 코팅단계와 상기 열처리단계 사이에, 상기 플라스틱 기재가 30 내지 200℃의 온도에서 1분 내지 2시간동안 건조되는 건조단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법.Further comprising a drying step in which the plastic substrate is dried at a temperature of 30 to 200 DEG C for 1 minute to 2 hours between the coating step and the heat treatment step. 제 7항 또는 제 8항에 있어서,9. The method according to claim 7 or 8, 상기 아르곤은 단독으로 10 내지 100 sccm을 포함하며, 상기 아르곤 대 상기 산소, 또는 상기 아르곤 대 상기 질소의 중량비는 1:1 내지 1:4인 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법.Wherein the argon alone comprises 10 to 100 sccm and the weight ratio of argon to oxygen or argon to nitrogen is from 1: 1 to 1: 4. 삭제delete 제 7항 또는 제 8항에 있어서,9. The method according to claim 7 or 8, 상기 플라즈마 처리단계를 통해 개질된 플라스틱 기재의 표면은 접촉각이 5°내지 95°인 것을 특징으로 하는 실리콘 코팅된 플라스틱 본딩시트의 제조방법.Wherein the surface of the plastic substrate modified through the plasma treatment step has a contact angle of 5 ° to 95 °. 삭제delete 삭제delete
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