KR101044206B1 - 기판 지지용 바스켓 - Google Patents

기판 지지용 바스켓 Download PDF

Info

Publication number
KR101044206B1
KR101044206B1 KR1020080127216A KR20080127216A KR101044206B1 KR 101044206 B1 KR101044206 B1 KR 101044206B1 KR 1020080127216 A KR1020080127216 A KR 1020080127216A KR 20080127216 A KR20080127216 A KR 20080127216A KR 101044206 B1 KR101044206 B1 KR 101044206B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
horizontal bar
substrate
lower horizontal
supporting
basket
Prior art date
Application number
KR1020080127216A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100068754A (ko
Inventor
한규백
전방철
유병근
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020080127216A priority Critical patent/KR101044206B1/ko
Publication of KR20100068754A publication Critical patent/KR20100068754A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101044206B1 publication Critical patent/KR101044206B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/068—Apparatus for etching printed circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 지지용 바스켓에 관한 것으로, 수직상태로 투입되는 기판의 하단을 삽입 지지하기 위한 하부 슬롯이 형성된 다수의 하부 수평바, 상기 하부 수평바의 상부에 상기 하부 수평바에 대응되게 배치되며, 상기 기판의 상단을 삽입 지지하기 위한 상부 슬롯이 형성된 다수의 상부 수평바, 양측면에 배치된 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바의 전단 및 후단에 각각 연결되어 이를 지지하는 전면 수직 포스트 및 후면 수직 포스트, 및 내부에 배치된 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바의 후단에 연결되어 이를 지지하는 후면 지지바를 포함하며, 식각 가스의 흐름이 원활한 기판 지지용 바스켓을 제공한다.
바스켓, 슬롯, 포스트, 수평바, 지지바, 개구부, 경사 지지바, 가이드부, 판넬, 걸이부

Description

기판 지지용 바스켓{A basket for supporting a substrate}
본 발명은 기판 지지용 바스켓에 관한 것이다.
인쇄회로기판은 각종 열경화성 합성수지로 이루어진 보드의 일면 또는 양면에 동선을 배선한 후 보드 상에 IC 또는 전자부품들을 배치 고정하고 이들 간의 전기적 배선을 구현하여 절연체로 코팅한 것이다.
일반적으로 인쇄회로기판의 배선패턴은 절연층에 형성된 도금층에 식각 방지 기능을 수행하는 패터닝된 감광성 레지스트를 형성하고, 감광성 레지스트가 형성되지 않은 도금층을 식각한 후, 감광성 레지스트를 제거함으로써 형성된다.
이때, 사용되는 식각 방법에는 습식 식각 방법과 건식 식각 방법이 있다.
습식 식각 방법은 인쇄회로기판의 도금층과 화학적으로 반응하여 용해시킬 수 있는 화학 용액을 사용하여 도금층을 원하는 형상으로 식각하는 방법이다.
건식 식각 방법은 식각 가스를 플라즈마 상태로 만들고 상ㆍ하부 전극을 이용해 플라즈마 상태의 가스를 인쇄회로기판에 충돌시키는 방식으로, 물리적 충격과 화학반응의 결합에 의해 식각하는 방법이다.
최근, 습식 식각 방법에 사용되는 화학 용액에 의한 환경 문제 등을 방지하 기 위해 건식 식각 방법이 주목받고 있다.
이러한 건식 식각 방법은 건식 식각용 반응 챔버에 기판을 삽입한 상태에서 진행되는데, 한번에 다수의 인쇄회로기판에 대한 식각 공정을 수행하기 위해 다수의 인쇄회로기판을 수용할 수 있는 바스켓(basket)에 인쇄회로기판을 삽입한 상태에서 바스켓을 건식 식각용 반응 챔버에 삽입하여 다수의 인쇄회로기판을 일거에 식각하는 방법이 제안되고 있다.
종래에 사용되던 바스켓은 다층 프레임 구조로 형성되되, 상기 프레임 내부에 상기 프레임을 지지하기 위한 많은 지지부재가 구비된 복잡한 형상을 가졌다.
그러나, 하나의 인쇄회로기판을 식각하는 경우와 달리 다수의 인쇄회로기판을 바스켓에 삽입한 상태에서 일거에 식각 공정을 수행하는 경우, 인쇄회로기판의 배치 뿐만 아니라 바스켓의 구조가 식각 가스의 흐름에 영향을 주어 식각 공정이 원활히 진행되지 않는 문제점이 발생하였다.
특히, 바스켓 사용시 측면에 배치되는 인쇄회로기판이 식각 가스의 흐름을 차단하여 내부에 배치된 인쇄회로기판에는 식각 가스가 충분히 공급되지 않아 식각 공정이 제대로 수행되지 않거나, 바스켓에 구비된 지지부재가 식각 가스의 흐름을 차단하여 식각 공정이 제대로 수행되지 않는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 식각 가스의 흐름을 원활하게 할 수 있는 기판 지지용 바스켓을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓은, 수직상태로 투입되는 기판의 하단을 삽입 지지하기 위한 하부 슬롯이 형성된 다수의 하부 수평바, 상기 하부 수평바의 상부에 상기 하부 수평바에 대응되게 배치되며, 상기 기판의 상단을 삽입 지지하기 위한 상부 슬롯이 형성된 다수의 상부 수평바, 양측면에 배치된 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바의 전면 및 후면에 각각 연결되어 이를 지지하는 전면 수직 포스트 및 후면 수직 포스트, 및 내부에 배치된 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바의 후단에 연결되어 이를 지지하는 후면 지지바를 포함한다.
여기서, 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바는 등간격으로 평행하게 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 하부 수평바의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제1 가이드부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 전면 수직 포스트에는 상기 기판이 삽입되어 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바로 안내하기 위한 기판 삽입용 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 후면 수직 포스트 및 상기 후면 지지바에는 길이 방향으로 관통형태의 측면 슬롯이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 후면 지지바는 상기 하부 수평바 하부로 연장되게 형성되며, 그 연장단부에는 일단이 상기 연장단부와 연결된 상태로 타단이 상기 하부 수평바의 하단에 연결되도록 경사지게 형성되어 상기 하부 수평바를 하부에서 받쳐 지지하는 경사 지지바가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 경사 지지바의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제3 가이드부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 전면 수직 포스트 및 상기 후면 수직 포스트는 상기 하부 수평바의 하부로 연장되게 형성되어 하단 수평바를 통해 연결되며, 상기 하단 수평바의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제2 가이드부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 전면 수직 포스트, 상기 후면 수직 포스트, 및 상기 후면 지지바는 상기 상부 수평바의 상부로 연장되게 형성되어 상단 수평바를 통해 연결되며, 상기 상단 수평바의 상부에는 상기 바스켓을 걸 수 있는 걸림부가 형성된 판넬이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명에 따른 기판 지지용 바스켓은 기판 투입 방향으로 별도의 지지부재가 형성되지 않은 오픈된 구조를 채용함으로써 식각 가스가 원활히 흐를 수 있게 된다.
또한, 본 발명에 따르면, 기판의 후면 지지바 및 후면 수직 포스트에 측면 슬롯이 형성되어 이를 통해 식각 가스가 유출입됨으로써 식각 가스가 보다 원활히 흐를 수 있게 된다.
또한, 본 발명에 따르면, 경사 지지부가 하부 수평바를 지지함으로써 하부 수평바의 처짐을 방지할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에 따르면, 제1 내지 제3 가이드부가 구비되어 바스켓이 건식 식각용 반응 챔버로 용이하게 진입될 수 있게 된다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 측면도이며, 도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 전면도이다.
이하, 이를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓(100)에 대해 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓(100)은 하부 수평바(110), 상부 수평바(120), 전면 및 후면 수직 포스트(132, 136), 및 후면 지지바(150)를 포함하여 구성된다.
하부 수평바(110)는 수직상태로 투입되는 기판(P)의 하단을 지지하기 위한 것으로서, 상기 기판(P)의 수평길이와 동일 또는 그 이상의 길이를 가지며, 그 길 이방향으로 기판(P)의 하단을 지지하기 위한 하부 슬롯(112)이 형성된 구조를 갖는다.
여기서, 하부 수평바(110)는 다수의 기판(P)을 지지할 수 있도록 다수개 구비되는 것이 바람직하다. 도 1 및 도 3에는 도시의 편의를 위해 10개의 하부 수평바(110)가 구비되는 것으로 도시되어 있으나, 이는 예시적인 것에 불과하다 할 것이다. 이때, 각각의 하부 수평바(110)는 등간격을 유지하며 평행하게 배치되는 것이 바람직하다.
또한, 다수의 하부 수평바(110) 중에 양측면에 배치된 2개의 하부 수평바(110)의 전단 및 후단은 후술하는 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)에 연결되어 지지되고, 내부에 배치된 하부 수평바(110)는 그 후단이 후술하는 후면 지지바(150)에 연결되어 지지된다.
또한, 하부 수평바(110)의 하단에는 기판(P)이 삽입된 기판 삽입용 바스켓(100)이 건식 식각용 반응 챔버로의 진입을 원활히 하기 위해 삼각 단면 구조를 가지며 테프론 재질로 된 제1 가이드부(114)가 형성되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 제1 가이드부(114)는 기판 지지용 바스켓(100)이 건식 식각용 반응 챔버(미도시)로 진입될 때, 예를 들어 건식 식각용 반응 챔버에 형성된 각각의 가이드 홈에 삽입됨로써 기판 지지용 바스켓(100)의 진입을 가이딩하게 된다.
하부 슬롯(112)은 수직상태로 투입되는 기판(P)이 투입방향으로 슬라이딩되어 삽입될 수 있도록 전체 길이방향에 걸쳐 형성되고, 기판(P)의 하단이 일부 삽입된 상태에서 움직이는 것을 방지할 수 있도록 "V-홈" 또는 "U-홈" 형상으로 형성되 는 것이 바람직하다.
한편, 도 1 내지 도 3에는 하부 수평바(110)가 사각기둥의 형상을 갖는 것으로 도시되어 있으나 원통형 그 외 다른 형상을 가지는 것도 가능할 것이다.
상부 수평바(120)는 수직상태로 투입되는 기판(P)의 상단을 지지하기 위한 것으로서, 상기 기판(P)의 수평길이와 동일 또는 그 이상의 길이를 가지며, 그 길이방향으로 기판(P)의 상단을 지지하기 위한 상부 슬롯이 형성된 구조를 갖는다.
여기서, 상부 수평바(120)는 다수의 기판(P)을 지지할 수 있도록 다수개 구비되는 것이 바람직하다. 이때, 각각의 상부 수평바(120)는 등간격을 유지하며 평행하게 배치되는 것이 바람직하다.
또한, 다수의 상부 수평바(120) 중에 양측면에 배치된 2개의 상부 수평바(110)의 전단 및 후단은 후술하는 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)에 연결되어 지지되고, 내부에 배치된 상부 수평바(120)는 그 후단이 후술하는 후면 지지바(150)에 연결되어 지지된다.
또한, 상부 수평바(120)는 기판(P)이 하부 수평바(110)와 상부 수평바(120) 사이에 삽입될 수 있도록 하부 수평바(110)로부터 기판(P)의 수직길이만큼 이격되도록 배치되는 것이 바람직하다. 이때, 상부 수평바(120)와 하부 수평바(110) 사이의 공간은 기판(P) 삽입 공간을 정의한다.
또한, 상부 수평바(120)는 수직상태로 투입되는 기판(P)이 수직상태를 유지하며 지지될 수 있도록 하부 수평바(110)와 대응되게 배치되는 것이 바람직하다. 즉, 도 1 및 도 3에 도시한 바와 같이, 예를 들어 10개의 하부 수평바(110)가 구비된 경우 상부 수평바(120)도 10개 구비되는 것이 바람직하며, 하부 수평바(110)와 동일한 간격을 유지하며 동일하게 배치되는 것이 바람직하다.
상부 슬롯은 수직상태로 투입되는 기판(P)이 투입방향으로 슬라이딩 되어 삽입될 수 있도록 전체 길이방향에 걸쳐 형성되어 있는 것이 바람직하며, 기판(P)의 하단이 일부 삽입된 상태에서 움직이는 것을 방지할 수 있도록 "V-홈" 또는 "U-홈"형상으로 형성되는 것이 바람직하다.
한편, 도 1 내지 도 3에는 상부 수평바(120)가 사각기둥의 형상을 갖는 것으로 도시되어 있으나 원통형 그 외 다른 형상을 가지는 것도 가능할 것이다.
수직 포스트는 기판 지지용 바스켓(100)의 골격을 형성하며, 양측면에 배치된 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)와 연결되어 이를 지지하기 위한 것으로서, 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)로 구성된다.
여기서, 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)는 각각 양측면에 배치된 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)의 전면에 2개 및 후면에 2개 구비된다. 이때, 측면 하부 수평바(110) 및 측면 상부 수평바(120)는, 예를 들어, 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)에 형성된 고정홈(미도시)에 삽입되어 단단하게 고정되거나, 용접 등 다른 공지의 방법을 이용하여 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)에 고정되게 설치될 수 있다.
전면 수직 포스트(132)는 그 길이방향으로 기판(P)이 삽입되어 측면 하부 수 평바(110) 및 측면 상부 수평바(120)로 안내될 수 있도록 기판 삽입용 개구부(134)가 형성되어 있는 것이 바람직하다.
후면 수직 포스트(136)는 그 길이방향으로 관통형태의 제1 측면 슬롯(138)이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이는 건식 식각용 반응 챔버 내부에서 식각 가스의 흐름을 원활하게 하기 위한 것이다. 다수의 기판(P)이 기판 지지용 바스켓(100)에 삽입되는 경우 외측에 삽입된 기판(P)에 의해 식각 가스의 흐름이 차단되어 내측에 삽입된 기판(P)에 식각 가스가 유입되지 않는 문제가 발생하게 되는데, 후면 수직 포스트(136)에 형성된 제1 측면 슬롯(138)은 식각 가스가 외부에서 내부로 이동할 수 있는 통로를 제공함으로써 식각 가스의 흐름을 원활하게 된다.
또한, 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)는 하부 수평바(110)의 하부로 연장되게 형성되어 하단 수평바(140)를 통해 서로 연결된다. 이때, 상기 하단 수평바(140)의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제2 가이드부(142)가 형성되어 있는 것이 바람직하다.
한편, 도 1 내지 도 3에는 전면 수직 포스트(132) 및 후면 수직 포스트(136)가 사각기둥의 형상을 갖는 것으로 도시되어 있으나 원통형 그 외 다른 형상을 가지는 것도 가능할 것이다.
후면 지지바(150)는 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120) 중 그 내부에 배치되는 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)의 후단과 연결되어 이를 지지하기 위한 것으로서, 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)와 대응되는 개수로 형성된다. 즉, 본 발명에서는 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)가 후단을 통해서만 지지되고 전단에는 전단 지지바가 구비되지 않은 상태로 오픈되어 있기 때문에 식각 가스의 흐름이 원활한 구조를 제공한다.
여기서, 후면 지지바(150)에는 그 길이방향으로 관통형태의 제2 측면 슬롯(152)이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이는, 후면 수직 포스트(136)에 형성된 제1 측면 슬롯(138)과 동일한 기능을 수행하기 위한 것으로 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
한편, 후면 지지바(150)는 하부 수평바(110)의 하부로 연장되게 형성되어, 그 연장단부로부터 경사지게 형성되어 하부 수평바(110)를 지지하는 경사 지지바(160)가 형성된다. 이에 대해서는 도 4에 대한 설명부분에서 상세히 설명하기로 한다.
또한, 본 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓(100)은 전면 수직 포스트(132), 후면 수직 포스트(136), 및 후면 지지바(150)가 동일한 높이로 상부 수평바(120)의 상부로 연장되게 형성되며, 그 연장 단부는 상단 수평바(144)를 통해 서로 연결된 구조를 갖는다. 이때, 상단 수평바(144)의 상부에는 바스켓(100)을 걸 수 있는 걸림부(182)가 형성된 판넬(180)이 형성된다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 경사 지지부를 확대 도시한 사시도이다. 이하, 이를 참조하여 경사 지지부(160)에 대해 상세 히 설명하면 다음과 같다.
도 4에 도시한 바와 같이, 경사 지지부(160)는 하부 수평바(110) 하부로 연장된 후면 지지바(150)의 연장 단부에 일단이 연결된 상태로 경사지게 형성되어 타단이 하부 수평바(110)의 하단을 아래에서 받쳐 지지하는 구조를 갖는다.
이는, 본 발명에 따른 기판 지지용 바스켓(100)이 식각 가스의 원활한 흐름을 위해 기판이 투입되는 방향으로 전면 지지부재가 형성되지 않는 구조를 채용함으로써, 하부 수평바(110)의 전단이 지지되지 않아 하부 수평바(110)가 자체 하중 또는 기판(P)이 삽입된 경우 기판(P)의 하중에 의해 아래로 쳐질 수 있는바, 경사 지지바(160)가 하부 수평바(110)를 지지함으로써 하부 수평바(110)가 처지는 것을 방지하기 위함이다.
또한, 경사 지지바(160)의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제3 가이드부(162)가 형성되어 있는 것이 바람직하다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓에 기판이 삽입되는 상태를 설명하기 위한 도면이다. 이하, 이를 참조하여 기판 삽입 상태를 설명하면 다음과 같다.
도 5에 도시한 바와 같이, 기판(P)이 기판 투입 방향(화살표)으로 수직상태로 투입되는 경우, 기판(P)의 하단은 하부 수평바(110)의 하부 슬롯(112)에 끼워되고 기판(P)의 상단은 상부 수평바(120)의 상부 슬롯에 끼워진 상태로 슬라이딩 되 어 기판 지지용 바스켓(100)에 삽입되게 된다.
여기서, 내부에 배치된 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)의 전단에는 별도의 지지부재가 형성되어 있지 아니하나, 양측면에 배치된 하부 수평바(110) 및 상부 수평바(120)의 전단에는 전면 수직 포스트(132)가 형성되어 있으므로, 양측면에 기판(P)을 삽입하는 경우에는 전면 수직 포스트(132)에 형성된 기판 삽입용 개구부(134)에 기판(P)을 먼저 삽입하여, 측면에 배치된 하부 수평바(110)의 하부 슬롯(112) 및 상부 수평바(120)의 상부 슬롯으로 가이딩함으로써 기판 지지용 바스켓(100)에 삽입되게 된다.
한편, 이상에서는 기판 지지용 바스켓(100)이 건식 식각 공정에 사용되는 것으로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하다 할 것이며 습식 식각 공정에서 기판(P)을 지지하기 위해 사용되거나, 다른 공정에서 기판(P)을 지지하기 위해 사용되는 것 또한 본 발명의 범주 내에 포함된다 할 것이다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 기판 지지용 바스켓은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 측면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 전면도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓의 경사 지지부를 확대 도시한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지용 바스켓에 기판이 삽입되는 상태를 설명하기 위한 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
110 : 하부 수평부 112 : 하부 슬롯
114 : 제1 가이드부 120 : 상부 수평부
132 : 전면 수직 포스트 134 : 기판 삽입용 개구부
136 : 후면 수직 포스트 138 : 제1 측면 슬롯
142 : 제2 가이드부 150 : 후면 지지부
152 : 제2 측면 슬롯 160 : 경사 지지바
162 : 제3 가이드부 170 : 전면 지지바
180 : 판넬 182 : 걸이부

Claims (9)

  1. 수직상태로 투입되는 기판의 하단을 삽입 지지하기 위한 하부 슬롯이 형성된 다수의 하부 수평바;
    상기 하부 수평바의 상부에 상기 하부 수평바에 대응되게 배치되며, 상기 기판의 상단을 삽입 지지하기 위한 상부 슬롯이 형성된 다수의 상부 수평바;
    양측면에 배치된 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바의 전면 및 후면에 각각 연결되어 이를 지지하는 전면 수직 포스트 및 후면 수직 포스트; 및
    내부에 배치된 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바의 후단에 연결되어 이를 지지하는 후면 지지바
    를 포함하는 기판 지지용 바스켓.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바는 등간격으로 평행하게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부 수평바의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제1 가이드부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 전면 수직 포스트에는 상기 기판이 삽입되어 상기 하부 수평바 및 상기 상부 수평바로 안내하기 위한 기판 삽입용 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 후면 수직 포스트 및 상기 후면 지지바에는 길이 방향으로 관통형태의 측면 슬롯이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 후면 지지바는 상기 하부 수평바 하부로 연장되게 형성되며, 그 연장단부에는 일단이 상기 연장단부와 연결된 상태로 타단이 상기 하부 수평바의 하단에 연결되도록 경사지게 형성되어 상기 하부 수평바를 하부에서 받쳐 지지하는 경사 지지바가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 경사 지지바의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제3 가이드부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 전면 수직 포스트 및 상기 후면 수직 포스트는 상기 하부 수평바의 하부로 연장되게 형성되어 하단 수평바를 통해 연결되며, 상기 하단 수평바의 하단에는 건식 식각용 반응 챔버 내부로 진입을 가이딩 하기 위한 삼각 단면 구조를 갖는 테프론 재질의 제2 가이드부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 전면 수직 포스트, 상기 후면 수직 포스트, 및 상기 후면 지지바는 상기 상부 수평바의 상부로 연장되게 형성되어 상단 수평바를 통해 연결되며, 상기 상단 수평바의 상부에는 상기 바스켓을 걸 수 있는 걸림부가 형성된 판넬이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 바스켓.
KR1020080127216A 2008-12-15 2008-12-15 기판 지지용 바스켓 KR101044206B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080127216A KR101044206B1 (ko) 2008-12-15 2008-12-15 기판 지지용 바스켓

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080127216A KR101044206B1 (ko) 2008-12-15 2008-12-15 기판 지지용 바스켓

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100068754A KR20100068754A (ko) 2010-06-24
KR101044206B1 true KR101044206B1 (ko) 2011-06-29

Family

ID=42366962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080127216A KR101044206B1 (ko) 2008-12-15 2008-12-15 기판 지지용 바스켓

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101044206B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58158492U (ja) 1982-04-14 1983-10-22 松下電器産業株式会社 電子機器用シエルフ
WO2006098441A1 (ja) 2005-03-17 2006-09-21 Hamamatsu Photonics K.K. スライドガラスカセット及びカセットホルダ
KR20070039314A (ko) * 2005-10-07 2007-04-11 삼성전자주식회사 웨이퍼 캐리어 시스템
KR20080056907A (ko) * 2006-12-19 2008-06-24 삼성전자주식회사 기판 수납용 카세트

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58158492U (ja) 1982-04-14 1983-10-22 松下電器産業株式会社 電子機器用シエルフ
WO2006098441A1 (ja) 2005-03-17 2006-09-21 Hamamatsu Photonics K.K. スライドガラスカセット及びカセットホルダ
KR20070039314A (ko) * 2005-10-07 2007-04-11 삼성전자주식회사 웨이퍼 캐리어 시스템
KR20080056907A (ko) * 2006-12-19 2008-06-24 삼성전자주식회사 기판 수납용 카세트

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100068754A (ko) 2010-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101044206B1 (ko) 기판 지지용 바스켓
KR20140000461A (ko) 도금용 랙
JP5924115B2 (ja) 電気機器収納用箱の天井配線構造
KR100633073B1 (ko) 디스플레이 장치
KR101499853B1 (ko) 기판 도금용 지그
CN205335630U (zh) 机柜用走线装置、机柜
KR200432926Y1 (ko) 인쇄회로기판의 보조기판 설치구조
JP2010278050A (ja) 電気電子機器収納用キャビネット
CN205774797U (zh) 一种用于不同pcb板沉铜的宽度可调的悬挂工具
JP5843405B2 (ja) ケーブルクランプ
KR100987732B1 (ko) 무전해 도금용 바스켓
JP2006345943A (ja) 棚板取付構造
CN103205737B (zh) 镀金线药水槽的喷管固定装置
CN205793677U (zh) 一种用于不同pcb板沉铜的高度宽度可调的挂具
KR200397012Y1 (ko) 빨래 건조대
CN216644100U (zh) 一种悬臂式导光结构及终端设备
KR200416159Y1 (ko) 통신장비의 보드가이드
KR102369361B1 (ko) 인쇄회로기판 적재장치
CN211124784U (zh) 一种显示组件及家用电器
KR100635143B1 (ko) 텔레비전의 인쇄회로기판 고정구조
KR20140045815A (ko) 도금용 바스켓
JP2003069259A (ja) 機器収納用ラック
KR101095231B1 (ko) 인쇄회로기판 이송장치
KR200325600Y1 (ko) 전선 고정용 클램프
KR100788484B1 (ko) 인쇄회로기판의 수세공정 투입용 지그

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140325

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170102

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee