KR101037635B1 - Apparatus and method for inspecting orifice - Google Patents

Apparatus and method for inspecting orifice Download PDF

Info

Publication number
KR101037635B1
KR101037635B1 KR1020100010852A KR20100010852A KR101037635B1 KR 101037635 B1 KR101037635 B1 KR 101037635B1 KR 1020100010852 A KR1020100010852 A KR 1020100010852A KR 20100010852 A KR20100010852 A KR 20100010852A KR 101037635 B1 KR101037635 B1 KR 101037635B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
orifice
gas
base
inspection object
jig
Prior art date
Application number
KR1020100010852A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
장용수
강희영
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020100010852A priority Critical patent/KR101037635B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101037635B1 publication Critical patent/KR101037635B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M3/00—Investigating fluid-tightness of structures
    • G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
    • G01M3/26—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by measuring rate of loss or gain of fluid, e.g. by pressure-responsive devices, by flow detectors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45565—Shower nozzles

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Devices, Machine Parts, Or Other Structures Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE: A device and method for inspecting an orifice are provided to enable a user to easily inspect the deformation of the orifice by discharging gas from the inlet of a nozzle through the orifice. CONSTITUTION: A base(111) includes a hole which supplies gas to an orifice. A ring-shaped protrusion unit(113) is upwardly protruded from the upper side of the base. A gas supply member(121) supplies gas to the hole. A sealing member(131) seals a space between an object and the base. A jig(140) applies fixed weight to the object.

Description

오리피스 검사 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING ORIFICE}Orifice inspection device and method {APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING ORIFICE}

본 발명은 오리피스 검사 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가스를 토출하는 검사 대상물에 형성된 오리피스의 변형여부를 검사하는 오리피스 검사 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an orifice inspecting apparatus and method, and more particularly to an orifice inspecting apparatus and method for inspecting the deformation of the orifice formed on the inspection object for discharging the gas.

일반적으로, 반도체 소자의 제조공정은 웨이퍼에 박막을 증착하는 증착 공정과 증착된 박막을 선택적으로 식각하는 식각공정을 포함한다. 증착 공정은 반도체 기판 표면 위에 증착 가스를 공급하여 단결정의 반도체막이나 절연막을 형성하고, 식가 공정은 박막이 증착된 기판 표면에 식각 가스를 공급하여 박막을 선택적으로 식각한다.In general, a manufacturing process of a semiconductor device includes a deposition process for depositing a thin film on a wafer and an etching process for selectively etching the deposited thin film. The deposition process supplies a deposition gas on the semiconductor substrate surface to form a single crystal semiconductor film or an insulating film, and the etch process supplies an etching gas to the substrate surface on which the thin film is deposited to selectively etch the thin film.

증착공정 또는 식각공정을 수행하는 기판 처리 장치에는 공정 챔버 내에 복수의 노즐들이 설치되거나, 복수개의 분사홀이 형성된 샤워헤드가 설치되어 기판의 각 영역으로 증착가스 또는 식각가스를 균일하게 분사한다.In the substrate processing apparatus performing the deposition process or the etching process, a plurality of nozzles are installed in the process chamber, or a shower head having a plurality of injection holes is installed to uniformly inject the deposition gas or the etching gas to each region of the substrate.

한편, 증착공정 또는 식각공정을 수행으로 노즐 또는 샤워헤드에 형성된 오리피스에는 증착가스가 증착되어 오리피스 홀의 크기가 작아지거나, 식각가스에 의해 오리피스가 식각되어 오리피스 홀의 크기가 커진다. 이로 인하여 기판으로 분사되는 가스의 양을 불균일하게 되므로 오리피스의 변화량에 대한 검사가 요구된다.Meanwhile, a deposition gas is deposited on the orifice formed in the nozzle or the shower head by the deposition process or the etching process to reduce the size of the orifice hole, or the orifice is etched by the etching gas to increase the size of the orifice hole. As a result, the amount of gas injected into the substrate becomes non-uniform, so that an inspection of the amount of change of the orifice is required.

도 1은 종래의 오리피스 검사장치를 나타내는 사시단면도이다.1 is a perspective cross-sectional view showing a conventional orifice inspection device.

도 1을 참조하면, 노즐이 수평방향으로 배치되어 베이스의 홀에 일단이 삽입되고, 지그의 내측면이 베이스의 외주면과 나사결합되어 노즐이 지지된다. 노즐의 지지부와 베이스 사이에는 실링부재가 제공되어 가스 공급 라인을 통해 베이스의 홀에 공급된 가스가 외부로 누수되는 것을 예방한다. Referring to Figure 1, the nozzle is arranged in a horizontal direction, one end is inserted into the hole of the base, the inner surface of the jig is screwed with the outer peripheral surface of the base to support the nozzle. A sealing member is provided between the support portion of the nozzle and the base to prevent leakage of the gas supplied to the hole of the base through the gas supply line to the outside.

그러나, 상기 검사장치에 의할 때, 실링부재의 실링력은 작업자가 지그와 베이스를 나사체결하는 체결력에 따라 상이하게 되며, 이러한 실링력의 차이는 상기 노즐의 지지부와 베이스 사이를 통해 누수되는 가스의 유량 차이를 야기한다. 누수되는 가스의 유량차이는 노즐의 유입구로 유입되는 가스의 유량차이 및 오리피스를 통해 토출되는 가스의 유량차이를 야기하여 노즐 검사시 오리피스의 변형량이 용이하지 않다.However, when the inspection apparatus, the sealing force of the sealing member is different depending on the tightening force for the operator screwing the jig and the base, the difference in the sealing force is the gas leaking through between the support and the base of the nozzle Cause a difference in flow rate. The flow rate difference of the leaked gas causes the flow rate difference of the gas flowing into the inlet of the nozzle and the flow rate difference of the gas discharged through the orifice, so that the amount of deformation of the orifice during the nozzle inspection is not easy.

본 발명은 실링부재의 실링력을 일정하게 유지할 수 있는 오리피스 검사 장치를 제공한다.The present invention provides an orifice inspection device that can maintain the sealing force of the sealing member constant.

또한, 본 발명은 오리피스의 변형량 파악이 용이한 오리피스 검사 장치를 제공한다.In addition, the present invention provides an orifice inspection device that can easily determine the amount of deformation of the orifice.

본 발명은 오리피스 검사 장치를 제공한다. 본 발명은 검사 대상물에 형성된 오리피스의 변형여부를 검사하기 위한 장치에 관한 것으로, 상기 검사 대상물의 하부에 위치되고, 상기 오리피스로 가스를 공급하는 홀이 형성된 베이스; 상기 베이스와 연결되며, 상기 홀에 가스를 공급하는 가스 공급 부재; 상기 검사 대상물과 상기 베이스 사이에 위치되며, 상기 검사대상물과 상기 베이스 사이를 실링하는 실링부재; 및 상기 검사대상물에 놓이며, 상기 검사대상물에 일정한 자중을 가하는 지그를 포함한다.The present invention provides an orifice inspection device. The present invention relates to an apparatus for inspecting whether an orifice formed in an inspection object is deformed, the base being positioned below the inspection object and having a hole for supplying gas to the orifice; A gas supply member connected to the base and supplying gas to the hole; A sealing member positioned between the inspection object and the base and sealing between the inspection object and the base; And a jig placed on the inspection object and applying a predetermined self-weight to the inspection object.

상기 베이스의 상면에는 상기 베이스의 상면으로부터 상부로 돌출되는 링 형상의 돌출부가 형성되고, 상기 실링부재는 상기 돌출부의 상단에 링 형상으로 제공되되, 상기 홀은 상기 돌출부의 내측에 위치된다.The upper surface of the base is formed with a ring-shaped protrusion projecting upward from the upper surface of the base, the sealing member is provided in a ring shape on the upper end of the protrusion, the hole is located inside the protrusion.

상기 검사 대상물은 상기 토출구가 형성된 몸체; 상기 몸체의 외주면으로부터 반경방향으로 돌출된 링 형상의 지지부를 가지고, 상기 지그의 내부에는 상기 검사대상물이 위치하는 공간이 형성되되, 상기 지그의 내측면은 그 상부가 상기 지지부보다 작은 반경을 가지고, 그 하부가 상기 지지부보다 큰 반경을 가지도록 단차진다.The inspection object is a body formed with the discharge port; Has a ring-shaped support portion protruding radially from the outer circumferential surface of the body, the inside of the jig is formed a space in which the inspection object is located, the inner surface of the jig has a smaller radius than the upper portion, The lower part is stepped to have a radius larger than the support.

상기 몸체에는 상기 오리피스가 서로 이격하여 복수개 형성된다.The orifice is formed in the body a plurality of spaced apart from each other.

또한, 본 발명은 오리피스 검사방법을 제공한다. 본 발명은 검사 대상물에 형성된 오리피스의 변형여부를 검사하는 방법에 관한 것으로, 실링부재에 의해 실링되는 검사 대상물과 베이스 사이 공간으로 가스가 공급되고, 상기 가스는 상기 오리피스를 통해 토출되되, 상기 공간으로 가스가 공급되는 동안, 지그의 자중이 상기 베이스의 상면에 수직한 방향으로 상기 검사대상물에 작용된다.The present invention also provides an orifice inspection method. The present invention relates to a method for inspecting deformation of an orifice formed on an inspection object, wherein a gas is supplied to a space between an inspection object and a base sealed by a sealing member, and the gas is discharged through the orifice, While the gas is supplied, the self weight of the jig is applied to the inspection object in a direction perpendicular to the upper surface of the base.

상기 지그의 자중 크기는 상기 가스에 의해 상기 검사대상물에 작용하는 부력의 크기보다 크다.The size of the jig of the jig is greater than the amount of buoyancy acting on the inspection object by the gas.

본 발명에 의하면, 실링부재의 실링력은 지그의 자중에 의해 정해지므로, 실링부재의 실링력이 일정하게 유지된다.According to the present invention, since the sealing force of the sealing member is determined by the weight of the jig, the sealing force of the sealing member is kept constant.

또한, 본 발명에 의하면, 일정량의 가스가 노즐의 유입구로 유입되어 오리피스를 통해 토출되므로, 오리피스의 변형량 파악이 용이하다. In addition, according to the present invention, since a certain amount of gas is introduced into the inlet of the nozzle and discharged through the orifice, it is easy to grasp the deformation amount of the orifice.

도 1은 종래의 오리피스 검사장치를 나타내는 사시단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 검사 대상물을 나타내는 단면도이다.
도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 오리피스 검사 장치를 나타내는 사시 단면도이다.
도 4은 도 3의 오리피스 검사 장치를 나타내는 분해 사시도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 오리피스 검사 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a perspective cross-sectional view showing a conventional orifice inspection device.
2 is a cross-sectional view showing the inspection object according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective cross-sectional view showing an orifice inspection device according to an embodiment of the present invention.
4 is an exploded perspective view showing the orifice inspection device of FIG.
5 is a cross-sectional view showing an orifice inspection device according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 2 내지 도 5를 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 2 to 5. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Thus, the shape of the elements in the figures has been exaggerated to emphasize a clearer description.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 검사 대상물을 나타내는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing the inspection object according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 검사 대상물로는 기판으로 가스를 분사하는 노즐(200)이 제공된다. 노즐(200)은 기판을 처리하는 공간을 제공하는 공정 챔버에 복수개 제공되며, 기판의 각 영역으로 가스를 분사한다. 노즐(200)은 바디(211) 오리피스(224), 그리고 지지부(212)를 가진다. 바디(211)는 원기둥형상으로 제공되며, 양 끝단에는 가스가 유입되는 유입구(221)와 유입된 가스가 토출되는 토출구(222)가 형성된다. 바디(211)의 내부에는 유입구(221)와 토출구(222)를 연결하며, 유입된 가스를 토출구(222)로 공급하는 유로(223)가 형성된다. Referring to FIG. 2, the inspection object is provided with a nozzle 200 for injecting gas into the substrate. A plurality of nozzles 200 are provided in a process chamber that provides a space for processing a substrate, and injects gas into each area of the substrate. The nozzle 200 has a body 211, an orifice 224, and a support 212. The body 211 is provided in a cylindrical shape, and both ends are formed with an inlet 221 through which gas is introduced and an outlet 222 through which the gas is discharged. An inlet 221 and an outlet 222 are connected to the inside of the body 211, and a flow path 223 for supplying the inlet gas to the outlet 222 is formed.

노즐(200)의 토출구(222)에는 오리피스(224)가 형성된다. 오리피스(224)는 바디(211)의 내측면으로부터 유로(223)의 내부로 돌출되며, 유로(223)보다 작은 반경을 갖는 홀을 형성한다. 가스는 토출구(222)에서 토출되기 전, 오리피스(224)에 의해 유속이 증가되고 압력이 감소된다. 오리피스(224)에서 변화되는 가스의 압력차에 검출하여 오리피스(224)를 통해 토출되는 가스의 유량이 측정된다.An orifice 224 is formed in the discharge port 222 of the nozzle 200. The orifice 224 protrudes from the inner side of the body 211 into the passage 223 and forms a hole having a radius smaller than that of the passage 223. Before the gas is discharged from the discharge port 222, the flow rate is increased and the pressure is reduced by the orifice 224. The flow rate of the gas discharged through the orifice 224 is measured by detecting the pressure difference of the gas that changes in the orifice 224.

바디(211)의 외주면에는 바디(211)의 외주면으로부터 반경방향으로 링 형상의 지지부(212)가 돌출된다. 지지부(212)는 공정 챔버등의 측벽에 형성된 홈에 삽입되어 바디(211)를 지지한다.On the outer circumferential surface of the body 211, a ring-shaped support portion 212 protrudes radially from the outer circumferential surface of the body 211. The support part 212 is inserted into a groove formed in the side wall of the process chamber or the like to support the body 211.

실시예에 의하면, 상기 노즐(200)은 플라스마 화학 기상 증착 공정에 제공되며, 기판으로 플라스마 상태의 증착 가스를 분사할 수 있다. 이와 달리, 상기 노즐(200)은 식각 공정에 제공될 수 있으며, 기판으로 플라스마 상태의 식각 가스를 분사할 수 있다.According to an embodiment, the nozzle 200 may be provided in a plasma chemical vapor deposition process, and may spray a deposition gas in a plasma state onto a substrate. Alternatively, the nozzle 200 may be provided in an etching process, and spray the etching gas in a plasma state to the substrate.

증착 또는 식각 공정에 제공되는 노즐(200)은 반복적인 공정수행으로 인하여, 오리피스(224)에 증착 가스가 증착되어 토출구(222)가 좁아지거나, 오리피스(224)가 식각 가스에 의해 식각되어 토출구가 넓어진다. 상기 오리피스(224)의 크기 변화는 노즐(200)에서 분사되는 가스의 양을 불균일하게 하므로, 노즐(200)에 형성된 오리피스(224)의 변화량에 대한 검사가 요구된다.Due to repetitive process, the nozzle 200 provided in the deposition or etching process may deposit deposition gas on the orifice 224 to narrow the discharge hole 222, or the orifice 224 may be etched by the etching gas to discharge the discharge hole. Widens Since the change in the size of the orifice 224 makes the amount of gas injected from the nozzle 200 non-uniform, inspection of the change amount of the orifice 224 formed in the nozzle 200 is required.

도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 오리피스 검사 장치를 나타내는 사시 단면도이고, 도 4은 도 3의 오리피스 검사 장치를 나타내는 분해 사시도이다.3 is a perspective cross-sectional view showing an orifice inspection device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is an exploded perspective view of the orifice inspection device of FIG.

도 2 내지 4를 참조하면, 오리피스 검사 장치(100)는 검사 대상물(200)에 형성된 오리피(224)스의 변형여부를 검사한다. 오리피스 검사 장치는 베이스(111), 가스 공급 부재(121), 실링부재(131), 그리고 지그(140)를 포함한다.2 to 4, the orifice inspection apparatus 100 inspects whether orifices 224 are formed on the inspection object 200. The orifice inspection apparatus includes a base 111, a gas supply member 121, a sealing member 131, and a jig 140.

베이스(111)는 노즐(200)의 하부에 위치되고, 노즐(200)을 지지한다. 베이스(111)는 원판형상으로 제공되며, 그 상면에는 홀(112)이 형성된다. 홀(112)은 가스 공급 부재(121)부터 공급된 가스를 노즐(200)의 토출구(222)로 공급한다. 실시예에 의하면, 홀(112)은 베이스(111)의 상면 중심영역에 형성된다. The base 111 is positioned below the nozzle 200 and supports the nozzle 200. The base 111 is provided in a disc shape, and the hole 112 is formed in the upper surface. The hole 112 supplies the gas supplied from the gas supply member 121 to the discharge port 222 of the nozzle 200. According to an embodiment, the hole 112 is formed in the upper center area of the base 111.

베이스(111)의 상면에는 돌출부(113)가 형성된다. 돌출부(113)는 링 형상으로 제공되며, 베이스(111)의 상면으로부터 상부로 돌출된다. 실시예에 의하면, 돌출부(113)는 베이스(111)의 상면 중심영역에 형성되며, 그 내측에 홀(112)이 위치된다. 베이스(111)의 상면과 돌출부(113)의 내측면에 의하여 상부가 개방된 제1공간(114)이 형성된다. 제1공간(114)에는 노즐(200)의 하단부가 삽입되며, 홀(112)을 통해 공급된 가스가 노즐(200)에 형성된 토출구(222)로 제공되는 공간으로 제공된다.The protrusion 113 is formed on the upper surface of the base 111. The protrusion 113 is provided in a ring shape and protrudes upward from an upper surface of the base 111. According to the embodiment, the protrusion 113 is formed in the central region of the upper surface of the base 111, the hole 112 is located inside. A first space 114 having an open upper portion is formed by an upper surface of the base 111 and an inner surface of the protrusion 113. The lower end of the nozzle 200 is inserted into the first space 114, and the gas supplied through the hole 112 is provided as a space provided to the discharge hole 222 formed in the nozzle 200.

가스 공급 부재(121)는 베이스(111)와 연결되며, 베이스(111)에 형성된 홀(112)에 가스를 공급한다. 가스 공급 부재(121)는 가스 공급 라인(121)과 가스 저장부(미도시)를 포함한다. 가스 공급 라인(121)은 가스 저장부와 베이스(111)를 연결하며, 가스 저장부에 저장된 가스를 베이스(111)에 형성된 홀(112)에 공급한다. 가스 공급 라인(121)에는 공급되는 가스의 유량을 조절하는 밸브가 설치된다. 실시예에 의하면, 가스 저장부에는 질소가스가 저장된다.The gas supply member 121 is connected to the base 111 and supplies gas to the hole 112 formed in the base 111. The gas supply member 121 includes a gas supply line 121 and a gas storage unit (not shown). The gas supply line 121 connects the gas storage unit and the base 111, and supplies the gas stored in the gas storage unit to the hole 112 formed in the base 111. The gas supply line 121 is provided with a valve for adjusting the flow rate of the gas to be supplied. According to an embodiment, nitrogen gas is stored in the gas storage unit.

실링부재(131)는 노즐(200)과 베이스(111) 사이에 위치하며, 노즐(200)과 베이스(111) 사이를 실링한다. 실시예에 의하면, 실링부재(131)는 돌출부(113)의 상단에 링 형상으로 제공된다. 실링부재(131)는 돌출부(113)의 지름과 동일한 크기의 지름을 가지며, 저면이 돌출부(113)의 상면과 접촉된다. 실링부재(131)의 상면에는 노즐(200)의 지지부(212)가 놓인다. 상술한 실링부재(131)에 의하여, 제1공간(114)으로 공급된 가스가 외부로 누수되는 것이 방지될 수 있다.The sealing member 131 is positioned between the nozzle 200 and the base 111 and seals between the nozzle 200 and the base 111. According to the embodiment, the sealing member 131 is provided in a ring shape on the top of the protrusion 113. The sealing member 131 has a diameter equal to the diameter of the protrusion 113, and the bottom surface is in contact with the top surface of the protrusion 113. The support 212 of the nozzle 200 is placed on the upper surface of the sealing member 131. By the sealing member 131 described above, leakage of the gas supplied to the first space 114 to the outside can be prevented.

지그(140)는 노즐에 놓이며, 노즐(200)에 일정한 자중을 가한다. 지그(140)는 원기둥형상으로 제공되며, 상부 및 하부가 개방된 공간(144)이 내부에 형성된다. 지그(140)의 내측면은 노즐(200)의 지지부(212)보다 작은 반경을 갖는 상부 내측면(143a)과 노즐(200)의 지지부(212)보다 큰 반경을 갖는 하부 내측면(143b)을 가진다. 상부 내측면(143a)과 하부 내측면(143b)을 연결하는 연결부(143c)는 하부 내측면(143b)이 상부 내측면(143a)보다 큰 반경을 갖도록 단차진다. 지그(140)의 저면은 돌출부(113)의 상단보다 낮게 위치한다. 지그(140)는 연결부(143c)가 노즐(200)의 지지부(212)와 접촉되도록 놓여지며, 노즐(200)에 자중을 가한다.The jig 140 is placed in the nozzle and applies a constant self-weight to the nozzle 200. The jig 140 is provided in a cylindrical shape, and a space 144 having upper and lower openings formed therein. The inner surface of the jig 140 has an upper inner surface 143a having a smaller radius than the support 212 of the nozzle 200 and a lower inner surface 143b having a larger radius than the support 212 of the nozzle 200. Have The connecting portion 143c connecting the upper inner side surface 143a and the lower inner side surface 143b is stepped so that the lower inner side surface 143b has a larger radius than the upper inner side surface 143a. The bottom of the jig 140 is positioned lower than the top of the protrusion 113. The jig 140 is placed such that the connecting portion 143c is in contact with the support 212 of the nozzle 200, and applies a weight to the nozzle 200.

노즐(200)에 가해진 지그(140)의 자중에 의해 노즐(200)의 지지부(212)가 일정한 압력으로 실링부재(131)를 가압한다. 실시예에 의하면, 지그(140)의 자중은 제1공간(114)으로 공급되는 가스에 의해 노즐(200)에 작용하는 부력보다 큰 값을 갖도록 제공된다. 지그(140)의 자중이 상기 부력보다 작은 경우, 부력에 의해 노즐(200)이 실링부재(131)로부터 부양되어 실링부재(131)의 실링력이 약화되므로, 지그(140)의 자중은 가스에 의해 노즐(200)에 작용하는 부력보다 크도록 제공된다.Due to the weight of the jig 140 applied to the nozzle 200, the support 212 of the nozzle 200 presses the sealing member 131 at a constant pressure. According to the embodiment, the self weight of the jig 140 is provided to have a value greater than the buoyancy force acting on the nozzle 200 by the gas supplied to the first space 114. When the weight of the jig 140 is smaller than the buoyancy, the nozzle 200 is lifted from the sealing member 131 due to the buoyancy and the sealing force of the sealing member 131 is weakened. Thereby providing greater than buoyancy acting on the nozzle 200.

본 발명은 지그(140)의 자중을 이용하여 노즐에 하중을 가하므로, 복수개의 노즐(200)측정시, 각각의 노즐(200)에 작용하는 하중과 실링부재(131)의 실링력이 일정하게 유지된다. 이에 의하여, 제1공간(114)으로 공급된 가스가 외부로 누수되는 현상이 발생하는 경우, 누수되는 가스량이 각각의 검사마다 일정하므로, 노즐(200) 유입구(221)로 유입되는 가스량은 일정하게 유지될 수 있다. 이와 같이, 노즐 유입구(221)로 유입되는 가스량이 각 검사마다 일정하게 유지되므로, 노즐(200)에 유입되는 가스량의 차이로 인한 측정오차를 예방할 수 있다.In the present invention, since the load is applied to the nozzle by using the weight of the jig 140, the load applied to each nozzle 200 and the sealing force of the sealing member 131 are uniformly measured when the plurality of nozzles 200 are measured. maintain. As a result, when a phenomenon in which the gas supplied to the first space 114 leaks to the outside occurs, the amount of gas leaked is constant for each inspection, and thus the amount of gas flowing into the inlet 221 of the nozzle 200 is constant. Can be maintained. As such, since the amount of gas flowing into the nozzle inlet 221 is maintained at each inspection, the measurement error due to the difference in the amount of gas flowing into the nozzle 200 can be prevented.

또한, 본 발명은 노즐(200)의 지지부(212)에 질량이 상이한 지그(140)를 지지시키므로써, 노즐(200)에 작용하는 하중 및 실링부재(131)의 실링력을 용이하게 조절할 수 있다. In addition, according to the present invention, by supporting the jig 140 having different masses on the support 212 of the nozzle 200, the load applied to the nozzle 200 and the sealing force of the sealing member 131 can be easily adjusted. .

실시예에 의하면, 지그(140)는 노즐(200)이 제공되는 상기 공간(144)이 형성된 내부 지그(141) 및 상기 내부 지그(141)가 제공되는 공간(145)이 형성된 외부 지그(142)로 구분되어 제공될 수 있다. 외부 지그(142)에 형성된 내부공간(145)은 내부 지그(141)의 외주면에 상응하는 지름을 가지며, 내부 지그(141)가 상기 외부 지그(142)의 내부공간(145)에 삽입된다. 지그(140)의 자중 변경시, 외부 지그(142)를 질량이 상이한 지그(140)로 교체하므로써 지그(140)의 자중을 용이하게 변경할 수 있다.
According to an embodiment, the jig 140 has an inner jig 141 in which the space 144 is provided with the nozzle 200 and an outer jig 142 in which the space 145 is provided with the inner jig 141. Can be provided divided into. The inner space 145 formed in the outer jig 142 has a diameter corresponding to the outer circumferential surface of the inner jig 141, and the inner jig 141 is inserted into the inner space 145 of the outer jig 142. When changing the weight of the jig 140, the weight of the jig 140 can be easily changed by replacing the outer jig 142 with the jig 140 having a different mass.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 오리피스 검사 장치를 사용하여 검사대상물을 검사하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Referring to the method for inspecting the inspection object using the orifice inspection device according to the present invention having the configuration as described above are as follows.

오리피스 검사 방법은 노즐(200)의 오리피스(224)에서 토출되는 유체의 유량을 측정하고, 측정된 유량을 기준값과 비교하여 오리피스(224)의 변형여부를 판단한다.The orifice inspection method measures the flow rate of the fluid discharged from the orifice 224 of the nozzle 200 and compares the measured flow rate with a reference value to determine whether the orifice 224 is deformed.

먼저, 가스 저장부에 저장된 가스가 가스 공급 라인(121)과 베이스(111)에 형성된 홀(112)을 통하여 제1공간(114)으로 공급된다. 제1공간(114)에는 노즐(200)의 유입구(221)가 형성된 하단부가 위치하며, 제1공간(114)으로 공급된 가스는 유입구(221)를 통해 토출구(222)로 공급된다. 유체는 토출구(222)에 형성된 오리피스(224)를 통과하면서 압력이 변화되고, 변화된 압력차에 의해 토출되는 유체의 유량이 측정된다. 측정된 유량값과 오리피스의 정상상태에서 토출되는 유체의 기준값을 비교하여, 오리피스의 상태를 파악한다. 측정된 유량값이 기준값보다 크면, 오리피스(224)가 식각되어 홀이 넓어진 것으로 판단하고, 측정된 유량값이 기준값보다 작으면, 오리피스(224)에 증착가스가 증착되어 홀이 좁아진 것으로 판단한다.First, the gas stored in the gas storage unit is supplied to the first space 114 through the holes 112 formed in the gas supply line 121 and the base 111. The lower end of the nozzle 200 has an inlet 221 formed therein, and the gas supplied to the first space 114 is supplied to the outlet 222 through the inlet 221. The pressure is changed while the fluid passes through the orifice 224 formed in the discharge port 222, and the flow rate of the fluid discharged by the changed pressure difference is measured. The state of the orifice is determined by comparing the measured flow rate value with the reference value of the fluid discharged in the steady state of the orifice. If the measured flow rate value is larger than the reference value, it is determined that the orifice 224 is etched to widen the hole. If the measured flow rate value is smaller than the reference value, it is determined that the deposition gas is deposited on the orifice 224 and the hole is narrowed.

유체가 제1공간(114)으로 공급되는 동안, 노즐(200)과 베이스(111) 사이 공간은 실링부재(131)에 의해 실링된다. 실링부재(131)는 베이스(111)의 상면에 수직한 방향으로 노즐(200)에 작용되는 지그(140)의 하중에 의해 실링된다. 노즐(200)에 작용하는 지그(140)의 자중 크기는 제1공간(114)으로 공급되는 가스에 의해 노즐(200)에 작용하는 부력보다 크다.While the fluid is supplied to the first space 114, the space between the nozzle 200 and the base 111 is sealed by the sealing member 131. The sealing member 131 is sealed by the load of the jig 140 acting on the nozzle 200 in a direction perpendicular to the upper surface of the base 111. The self-weight of the jig 140 acting on the nozzle 200 is greater than the buoyancy acting on the nozzle 200 by the gas supplied to the first space 114.

이처럼, 지그(140)의 자중 크기가 노즐(200)에 작용하는 가스의 부력보다 크므로, 노즐(200)의 부양으로 인한 가스의 누수가 예방된다. As such, since the weight of the jig 140 is greater than the buoyancy of the gas acting on the nozzle 200, leakage of gas due to the support of the nozzle 200 is prevented.

또한, 지그(140)의 자중이 노즐(200)에 작용하므로, 복수개의 노즐 검사시 노즐들(200)에 작용하는 하중 및 실링부재(131)의 실링력은 일정하게 유지된다. 이에 의하여, 제1공간(114)에서 가스의 누수가 발생되더라도 누수되는 가스량은 각각의 검사마다 일정하게 유지되므로 가스의 누수량의 차이로 인한 오차발생이 예방된 있다.
In addition, since the weight of the jig 140 acts on the nozzle 200, the load acting on the nozzles 200 and the sealing force of the sealing member 131 during the inspection of the plurality of nozzles are kept constant. As a result, even if a gas leak occurs in the first space 114, the amount of leaked gas is kept constant for each inspection, thereby preventing an error due to a difference in the amount of leaked gas.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 오리피스 검사 장치를 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing an orifice inspection device according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 검사 대상물로는 샤워 헤드(200)가 제공된다. 샤워헤드(200)에는 기판에 대한 공정처리시 기판의 각 영역으로 가스를 공급하는 홀(202)들이 서로 이격하여 복수개 형성된다. 각각의 홀(202)에는 오리피스(203)가 형성된다.Referring to FIG. 5, a shower head 200 is provided as an inspection object. The shower head 200 is provided with a plurality of holes 202 spaced apart from each other to supply gas to each area of the substrate during the process of processing the substrate. An orifice 203 is formed in each hole 202.

검사 장치의 베이스(111)는 샤워헤드(200)에 상응하는 직경으로 제공되며, 그 가장자리영역에는 링 형상의 돌출부(113)가 형성된다. 베이스(111)의 상면과 돌출부(113)의 내측면에 의해 상부가 개방된 제1공간(114)이 형성된다. 제1공간(114)에는 가스 공급 라인(112)과 베이스(111)에 형성된 홀(112)을 통해 가스가 공급된다. 제1공간(114)에 공급된 가스는 샤워헤드(200)에 형성된 홀(202)들에 공급된다.The base 111 of the inspection apparatus is provided with a diameter corresponding to the shower head 200, and a ring-shaped protrusion 113 is formed in the edge region thereof. A first space 114 having an open upper portion is formed by an upper surface of the base 111 and an inner surface of the protrusion 113. Gas is supplied to the first space 114 through the gas supply line 112 and the hole 112 formed in the base 111. The gas supplied to the first space 114 is supplied to the holes 202 formed in the shower head 200.

실링부재(131)는 샤워헤드(200)와 베이스(111) 사이에 위치되며, 샤워헤드(200)와 베이스(111) 사이를 실링한다. 실시예에 의하면, 실링부재(131)는 샤워 헤드(200)의 직경에 상응하는 지름을 가지는 링 형상으로 제공되며, 돌출부(113)의 상단에 제공된다.The sealing member 131 is positioned between the shower head 200 and the base 111 and seals between the shower head 200 and the base 111. According to the embodiment, the sealing member 131 is provided in a ring shape having a diameter corresponding to the diameter of the shower head 200, and is provided at the top of the protrusion 113.

지그(140)는 샤워헤드(200)의 상단에 놓이며 샤워헤드(200)에 일정한 하중을 가한다. 지그(140)는 원판형상으로 제공되며, 상부 및 하부가 개방된 공간(144)이 내부에 형성된다. 지그(140)의 내측면(143)은 상부(143a)가 하부(143b)보다 더 큰 반경을 갖도록 단차진다(143c). 지그(140)의 내측면 상부(143a)는 샤워헤드(200)의 직경보다 작은 직경을 가지고, 하부(143b)는 샤워헤드(200)의 직경보다 큰 직경을 갖도록 제공된다. 지그(140)는 단차진 부분(143c)이 샤워헤드(131)의 상면 가장지리에 접촉되도록 샤워헤드(200)에 놓여지며, 샤워헤드(200)에 일정한 하중을 가한다. 지그(140)의 자중은 제1공간(114)으로 공급되는 가스에 의해 샤워헤드(200)에 작용하는 부력보다 큰 값을 갖도록 제공된다.
The jig 140 is placed on top of the showerhead 200 and exerts a constant load on the showerhead 200. The jig 140 is provided in a disc shape, and a space 144 having an open top and a bottom is formed therein. The inner side 143 of the jig 140 is stepped 143c such that the top 143a has a larger radius than the bottom 143b. The inner side upper portion 143a of the jig 140 has a diameter smaller than the diameter of the showerhead 200, and the lower portion 143b is provided to have a diameter larger than the diameter of the showerhead 200. The jig 140 is placed on the showerhead 200 such that the stepped portion 143c contacts the upper edge of the showerhead 131 and exerts a constant load on the showerhead 200. The self weight of the jig 140 is provided to have a value greater than the buoyancy force acting on the shower head 200 by the gas supplied to the first space 114.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한, 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나태 내고 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당 업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한, 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. Furthermore, the foregoing is intended to illustrate and describe the preferred embodiments of the invention, and the invention may be used in various other combinations, modifications and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The described embodiments illustrate the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various modifications required in the specific application field and use of the present invention are possible. Thus, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed as including other embodiments.

100: 오리피스 검사장치 111: 베이스
113: 돌출부 121: 가스 공급 라인
131: 실링부재 140: 지그
200: 노즐, 샤워헤드 212: 지지부
221: 유입구 222: 토출구
224: 오리피스100: orifice inspection device 111: base
113: protrusion 121: gas supply line
131: sealing member 140: jig
200: nozzle, shower head 212: support
221: inlet 222: outlet
224: orifice

Claims (6)

검사 대상물에 형성된 오리피스의 변형여부를 검사하기 위한 장치에 있어서,
상기 검사 대상물의 하부에 위치되고, 상기 오리피스로 가스를 공급하는 홀이 형성된 베이스;
상기 베이스와 연결되며, 상기 홀에 가스를 공급하는 가스 공급 부재;
상기 검사 대상물과 상기 베이스 사이에 위치되며, 상기 검사대상물과 상기 베이스 사이를 실링하는 실링부재; 및
상기 검사대상물에 놓이며, 상기 검사대상물에 일정한 자중을 가하는 지그를 포함하는 것을 특징으로 하는 오리피스 검사 장치.In the device for inspecting the deformation of the orifice formed on the inspection object,
A base positioned below the inspection object and having a hole for supplying gas to the orifice;
A gas supply member connected to the base and supplying gas to the hole;
A sealing member positioned between the inspection object and the base and sealing between the inspection object and the base; And
An orifice inspection device placed on the inspection object, comprising a jig for applying a certain weight to the inspection object. 제 1 항에 있어서,
상기 베이스의 상면에는
상기 베이스의 상면으로부터 상부로 돌출되는 링 형상의 돌출부가 형성되고,
상기 실링부재는 상기 돌출부의 상단에 링 형상으로 제공되되,
상기 홀은 상기 돌출부의 내측에 위치되는 것을 특징으로 하는 오리피스 검사 장치.The method of claim 1,
On the upper surface of the base
Ring-shaped protrusions protruding upward from the upper surface of the base is formed,
The sealing member is provided in a ring shape on the top of the protrusion,
And the hole is located inside the protrusion. 제 1 항에 있어서,
상기 검사 대상물은
상기 토출구가 형성된 몸체;
상기 몸체의 외주면으로부터 반경방향으로 돌출된 링 형상의 지지부를 가지고,
상기 지그의 내부에는 상기 검사대상물이 위치하는 공간이 형성되되,
상기 지그의 내측면은
그 상부가 상기 지지부보다 작은 반경을 가지고, 그 하부가 상기 지지부보다 큰 반경을 가지도록 단차지는 것을 특징으로 하는 오리피스 검사 장치.The method of claim 1,
The inspection object
A body in which the discharge port is formed;
Has a ring-shaped support protruding radially from the outer peripheral surface of the body,
In the jig is formed a space in which the inspection object is located,
The inner side of the jig
And an upper portion thereof has a radius smaller than the support portion, and a lower portion thereof is stepped so as to have a radius larger than the support portion. 제 3 항에 있어서,
상기 몸체에는 상기 오리피스가 서로 이격하여 복수개 형성되는 것을 특징으로 하는 오리피스 검사 장치.The method of claim 3, wherein
Orifice inspection device, characterized in that formed in the body a plurality of orifices spaced apart from each other. 검사 대상물에 형성된 오리피스의 변형여부를 검사하는 방법에 있어서,
실링부재에 의해 실링되는 검사 대상물과 베이스 사이 공간으로 가스가 공급되고, 상기 가스는 상기 오리피스를 통해 토출되되,
상기 공간으로 가스가 공급되는 동안, 지그의 자중이 상기 베이스의 상면에 수직한 방향으로 상기 검사대상물에 작용되는 것을 특징으로 하는 오리피스 검사 방법.In the method for inspecting whether the orifice formed on the inspection object is deformed,
Gas is supplied to the space between the inspection object and the base to be sealed by a sealing member, the gas is discharged through the orifice,
While the gas is supplied to the space, the self-weight of the jig is applied to the inspection object in a direction perpendicular to the upper surface of the base. 제 5 항에 있어서,
상기 지그의 자중 크기는 상기 가스에 의해 상기 검사대상물에 작용하는 부력의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 오리피스 검사 방법.The method of claim 5, wherein
The self-weight of the jig is larger than the amount of buoyancy acting on the inspection object by the gas.
KR1020100010852A 2010-02-05 2010-02-05 Apparatus and method for inspecting orifice KR101037635B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100010852A KR101037635B1 (en) 2010-02-05 2010-02-05 Apparatus and method for inspecting orifice

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100010852A KR101037635B1 (en) 2010-02-05 2010-02-05 Apparatus and method for inspecting orifice

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101037635B1 true KR101037635B1 (en) 2011-05-30

Family

ID=44366728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100010852A KR101037635B1 (en) 2010-02-05 2010-02-05 Apparatus and method for inspecting orifice

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101037635B1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040006553A (en) * 2002-07-12 2004-01-24 삼성전자주식회사 Apparatus for leak inspection of orifice
KR20080053025A (en) * 2006-12-08 2008-06-12 한전케이피에스 주식회사 Flux inspection apparatus of flame back resistance nozzle
KR20090070590A (en) * 2007-12-27 2009-07-01 세메스 주식회사 Apparatus and method of testing injection nozzle

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040006553A (en) * 2002-07-12 2004-01-24 삼성전자주식회사 Apparatus for leak inspection of orifice
KR20080053025A (en) * 2006-12-08 2008-06-12 한전케이피에스 주식회사 Flux inspection apparatus of flame back resistance nozzle
KR20090070590A (en) * 2007-12-27 2009-07-01 세메스 주식회사 Apparatus and method of testing injection nozzle

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11384433B2 (en) Gas injection module, substrate processing apparatus, and method of fabricating semiconductor device using the same
KR100862658B1 (en) Gas injection apparatus for semiconductor processing system
KR101110080B1 (en) Method for processing substrate
KR101095172B1 (en) Side gas injector for plasma reaction chamber
KR20070042268A (en) Apparatus for supplying gas and apparatus for manufacturing a substrate having the same
US7944363B2 (en) Apparatus and method of sensing leakage of chemical liquid
KR0129660B1 (en) Developer
KR101037635B1 (en) Apparatus and method for inspecting orifice
US11605529B2 (en) Plasma processing apparatus
KR20210007859A (en) Substrate stage, substrate processing apparatus, and temperature control method
KR20160050821A (en) Test method and apparatus for treating substrate
KR100892249B1 (en) A plasma chemical reactor
KR20200030648A (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
KR102179464B1 (en) Etching apparatus
KR20070021637A (en) shower head and treating apparatus of a substrate with the shower head
KR20090102955A (en) Apparatus and method for processing substrate
KR20100083611A (en) Boat and semiconductor deposition apparatus and method including the same
US20230162993A1 (en) Fluid delivery system
KR102094943B1 (en) Etching apparatus
JP6542594B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
US11585444B2 (en) Seal for a flow restrictor
KR100246316B1 (en) Muffle etching device
KR20160133018A (en) Apparatus and method for processing substrate including a plurality of diffusion zones
KR100790720B1 (en) Chemical dispense system
KR100303156B1 (en) Dry etching apparatus having double gas plates

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140520

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee