KR101032794B1 - 헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저 빔을 방출하는 레이저 빔 발생부와, 레이저 빔을 미리 설정된 형상 및 에너지 분포를 가지도록 하는 광학계와, 상하측에 윈도우가 설치되고 포토마스크가 안착되는 공정챔버와, 공정챔버로부터 포토 마스크를 인출하여 이송하는 포토 마스크 반송 시스템 및 헤이즈를 실시간으로 검출하는 검출기 모듈을 포함하는 헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법에 관한 것이다.
포토 마스크, 헤이즈 검출, 광학계

Description

헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법{Apparatus for Haze Accelerating Detection And Method for Detecting Thereof}
본 발명은 헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 포토 마스크의 표면에 성장성 결함인 헤이즈를 인위적으로 가속시키고 실시간으로 검출하여 헤이즈 발생 원인을 찾기 위한 헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법에 관한 것이다.
최근들어 반도체의 집적도가 증가하면서, 포토리소그래피 공정시에는 200nm 이하 파장의 레이저 빔을 방출하는 광원이 사용되고 있다. 예를 들어, 193nm 파장의 레이저 빔을 방출하는 ArF 엑시머 레이저가 널리 사용된다. 그러나, 200 nm 이하 파장의 레이저 빔을 포토 마스크에 조사하면, 포토 마스크의 표면에 성장성 결함인 헤이즈(haze)가 발생되어 포토마스크의 성능 저하 및 포토 마스크의 수명 단축을 초래한다. 따라서, 헤이즈 발생 원인의 규명 및 헤이즈 발생 방지 방안에 대한 연구를 위해서, 포토 마스크에 헤이즈를 인위적으로 발생시키는 헤이즈 발생장치에 대한 필요성이 증가하고 있다.
도 1은 종래의 일례에 따른 포토 마스크의 헤이즈 가속장치가 도시되어 있 다. 도 1을 참조하면, 헤이즈 가속장치(100)는 193nm 파장의 엑시머 레이저를 방출하는 레이저빔 발생부(10)와, 레이저 빔이 미리 설정된 형상 및 에너지 분포를 가지도록 레이저 빔을 가공하는 광학계(11~16)와, 포토마스크(19)가 내부에 배치되는 공정챔버(30)를 구비한다. 여기서, 광학계(11~16)는 복수의 미러(11,13,16)와, 레이저 빔의 형상을 가공하는 텔레스코프(12)와, 레이저 빔의 에너지를 균일하게 가공하는 균질기(Homogenizer, 14)와, 레이저 빔의 초점을 조절하고 레이저 빔의 크기를 조절하는 초점 광학계(15)를 구비한다. 공정챔버(30)의 상측 및 하측에는 레이저 빔을 투과하는 윈도우(18, 20)가 설치되어 있다. 공정챔버(30)의 상방 및 하방에는 각각 빔 스플리터(17, 21) 및 빔 스플리터(17, 21)에서 반사된 레이저 빔의 에너지를 측정하는 에너지 검출기(22, 23)가 설치되어 있다. 그리고, 공정챔버(30)의 상측에는 포토 마스크(19)의 표면에 헤이즈 발생 여부를 모니터링 하는 전하결합소자(CCD) 카메라(24)가 설치되어 있다. 또한, 공정챔버(30)는 가스를 공급하는 가스공급부(31)와, 습도를 공급하는 습도공급부(32)와 연결되어 있다.
또한, 포토 마스크(19)에 조사되는 레이저 빔의 순수 에너지는 상측 에너지 검출기(22)에 의해 측정된 레이저 빔의 에너지 및 빔 스플리터(17)의 투과율에 의해 결정되며, 헤이즈 발생시까지 포토 마스크에 조사되는 레이저 빔의 축적 에너지는 헤이즈 발생시까지 조사되는 레이저 빔의 순수 에너지를 합산하여 얻어진다.
한편, 헤이즈 발생에 영향을 미치는 변수로는 헤이즈 발생시까지 포토 마스크(19)에 축적되는 레이저 빔의 에너지 양 및 공정챔버(30) 내부의 온도, 습도 등의 환경 조건 등이 알려져 있으므로, 이러한 변수는 연구자가 원하는 대로 제어된 다.
그러나, 상술한 헤이즈 가속 장치(100)에 있어서는, 발생한 헤이즈를 검출하기 위해서는 공정챔버(30)로부터 포토 마스크(19)를 인출하여 별도의 헤이즈 검출 장비로 이송하여야 한다. 이송중에 대기중의 외래 입자가 포토 마스크(19)에 흡착하면 연구자가 의도한 인위적으로 발생된 헤이즈와 구분되기 어렵고, 이송 후에 헤이즈가 발생한 부분을 정확하게 찾기 어렵다는 단점이 있다. 즉 포토 마스크로(19)부터 정확한 헤이즈 검출을 할 수가 없게 된다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은 포토마스크 표면에 반복적인 포토리소그래피 공정을 진행함에 따라 생성되는 성장성 결함인 헤이즈를 수 시간 내에 생성을 유도하며 헤이즈가 발생한 포토 마스크의 표면을 실시간으로 검출할 수 있는 헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법을 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 헤이즈가 발생된 포토 마스크를 반송 시스템으로 자동으로 이송함으로써 정확한 헤이즈 검출이 가능한 헤이즈 가속 검출장치 및 그 검출방법을 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 헤이즈 가속 검출장치는, 레이저 빔을 방출하는 레이저 빔 발생부와; 상기 레이저 빔을 미리 설정된 형상 및 에너지 분포를 가지도록 하는 광학계와; 상하측에 윈도우가 설치되고 포토마스크가 안착되는 공정챔버와; 상기 공정챔버로부터 포토 마스크를 인출하여 이송하는 포토 마스크 반송 시스템; 및 헤이즈를 실시간으로 검출하는 검출기 모듈;을 포함하되,
상기 검출기 모듈은 상기 포토 마스크를 이송 받는 포토 마스크 홀더와; 상기 포토 마스크 홀더를 이동 정렬하는 XY 모터 스테이지; 및 헤이즈를 실시간 검출하는 헤이즈 검출기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 광학계는, 상기 레이저 빔을 반사시키는 미러들과; 상기 레이저 빔의 정사각형 혹은 직사각형의 형태로 가공하는 텔레스코프와; 상기 레이저 빔의 에너지를 가우시안에서 균일한 에너지 분포로 가공하는 균질기; 및 상기 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하는 초점 광학계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 초점 광학계는, 필드 렌즈(field lens)와; 상기 레이저 빔의 회절 현상에 의해 형성되는 빔을 차단하는 마스크; 및 상기 레이저 빔의 초점을 조절하는 프로젝션 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 공정챔버는 레이저 빔이 투과하는 광 투과성 소재로 이루어진 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 공정챔버는, 헤이즈 생성 유발을 위해 공정가스를 공급하는 가스 공급부와; 습도를 조절하는 습도 공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 공정가스는 NH3, O2, N2, SO2중 어느 하나 또는 하나 이상을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 포토 마스크의 표면에 헤이즈 발생 여부를 모니터링하는 모니터링부와; 상기 레이저 빔의 에너지를 측정하는 에너지 검출기;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 모니터링부는 전하결합소자 카메라를 사용하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 에너지 검출기는 포토 마스크에 노광되는 에너지의 세기를 정량적으로 측정하여 총 에너지로 환산하여 저장하고, 레이저가 작동된 이후 일정한 간격으로 가스 주입량, 온도 및 습도의 챔버 환 경과 총 누적 에너지 값을 저장하며, 헤이즈의 생성 여부를 실시간으로 디스플레이하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 포토 마스크 반송 시스템은, 상기 포토 마스크를 안착시키는 전용 포크와; 상기 전용 포크를 수평, 수직 및 회전 이동시키는 로봇 암;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
삭제
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 상기 헤이즈 검출기는, 대물렌즈를 포함하는 현미경과; 헤이즈를 측정하는 픽셀 전하결합소자 카메라; 및 이미지 프로세싱 소프트웨어를 사용하여 헤이즈를 검출하는 광학 현미경 시스템;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 헤이즈 가속 검출장치에 있어서, 포토 마스크 반송시스템과 검출기 모듈의 상부에 청정도를 유지하기 위한 필터 모듈를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
삭제
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 헤이즈 가속 검출장치는 포토 마스크 표면에 반복적인 포토리소그래피 공정을 진행함에 따라 생성되는 성장성 결함인 헤이즈를 수 시간 내에 생성을 유도하며 챔버의 환경 제어와 노광 에너지의 측정 및 포토 마스크 표면에서 생성된 헤이즈의 실시간 검출이 가능한 장점이 있다.
또한, 헤이즈가 발생된 포토 마스크를 반송 시스템으로 자동으로 이송함으로써 대기중의 외래 입자가 포토 마스크에 흡착되는 것을 방지하여 발생된 헤이즈를 정확히 검출할 수 있는 장점이 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면에 의거하여 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 따른 헤이즈 가속 검출장치의 구성도이고, 도 3은 상기 도 2의 헤이즈 가속 검출장치에서 헤이즈 검출장치 부분의 평면 구성도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 헤이즈 가속 검출장치는 헤이즈 가속장치(100)와 헤이즈 검출장치(200)의 결합으로 이루어진다.
헤이즈 가속장치(100)는, 제 1 미러(11), 텔레스코프(12), 제 2 미러(13), 균질기(14), 초점 광학계(15) 및 제 3 미러(16)로 구비된 광학계와, 레이저 빔 발생부(10), 빔 스플리터(17,21), 윈도우(18,20), 포토 마스크(19), 에너지 검출기(22,23), 모니터링부(24), 공정챔버(30), 가스 공급부(31) 및 습도 공급부(32)로 구성된다.
레이저 빔 발생부(10)는 극자외선(Deep Ultra Violet)의 파장으로 수백 Hz 이상의 고주파수 빔을 방출하는 엑시머 레이저를 발생시켜 방출한다.
광학계(11~16)는 레이저 빔을 가공하여 레이저 빔이 미리 설정된 형상 및 에너지 분포를 가지도록 한다. 광학계(11~16)는 레이저 빔을 반사시키는 복수의 미러인 제1,2,3 미러(11,13,16)와, 레이저 빔의 형상을 정사각형 혹은 직사각형의 형태로 가공하는 텔레스코프(12)와, 레이저 빔의 에너지를 가우시안에서 균일한 에너지 분포로 가공하는 균질기(14)와, 포토 마스크(19) 표면에 도달할 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하는 초점 광학계(15)로 구성되어 있다.
초점 광학계(15)는 필드 렌즈(field lens)와, 레이저 빔의 회절 현상에 의해 형성되는 빔을 차단하는 마스크와, 레이저 빔의 초점을 조절하는 프로젝션 렌즈를 포함하는 것으로 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하는 기능을 구비하는 광학 기기이다.
공정챔버(30)의 내부에는 외부와 격리된 내부공간이 형성되어 있고 포토마스크(19)가 안착되는 스테이지(미도시)가 설치되어 있어 로딩 및 위치가 제어된다. 포토마스크(19)가 헤이즈 가속장치(100)에 로딩 및 언로딩 될 때에는 SMIF(Shared Materials Instrumentation Facility) 모듈과 공정챔버(30) 사이의 포토마스크 반송 시스템(40)에 의해 제어된다. 공정챔버(30)의 상측 및 하측에는 각각 윈도우(18,20)가 설치되어 있다. 각 윈도우(18,20)는 레이저 빔이 투과하는 광 투과성 소재, 예를 들어 유리로 이루어져 있다. 따라서, 광학계(11~16)에서 가공된 레이저 빔은 윈도우(18)를 투과하여 포토 마스크(19)에 조사된다.
포토마스크(19)가 안착되는 공정챔버(30)는 가스 공급부(31)와 연결되어 헤이즈 생성을 유발하는 공정가스, 예를 들어 NH3, O2, N2, SO2 중 어느 하나 또는 하나 이상을 혼합하여 가스량 충전을 조절하고 공정챔버(30)의 타측으로 공정챔버 내의 가스가 배출되는 배기라인과 연결되어 있다.
또한, 공정챔버(30)는 습도 공급부(32)와 연결되어 공정챔버 내의 습도를 조절할 수 있다. 모니터링부(24)는 공정챔버(30)의 상측에 설치되어 포토 마스크(19)의 표면에 헤이즈 발생 여부를 모니터링한다. 정확하게는 모니터링부(24)로는 전하결합소자 카메라가 사용된다.
에너지 검출기(22,23)는 공정챔버(30)의 상방 및 하방에 각각 설치되어 있다. 각 에너지 검출기(22,23)는 빔 스플리터(17,21)로부터 반사된 레이저 빔의 에너지를 측정한다. 공정챔버(30)의 상방에 배치된 에너지 검출기(22)는 상측 윈도우(18)로 입사되는 레이저 빔의 에너지를 측정하며, 공정챔버(30)의 하방에 배치된 에너지 검출기(23)는 하측 윈도우(20)로부터 출사되는 레이저 빔의 에너지를 측정한다.
에너지 검출기(22,23)는 포토 마스크(19)에 노광되는 에너지의 세기를 정량 적으로 측정하여 총 에너지로 환산하여 저장하고, 레이저가 작동된 이후 일정한 간격으로 가스 주입량, 온도 및 습도의 챔버 환경과 총 누적 에너지 값을 저장하며, 헤이즈의 생성 여부를 실시간으로 디스플레이한다.
헤이즈 검출장치(200)는 포토 마스크 반송 시스템(40), 검출기 모듈(50) 및 필터 모듈(70)로 구성된다.
도 3을 참조하면, 포토 마스크 반송시스템(40)은 헤이즈 가속장치(100)의 공정챔버(30)로부터 포토 마스크(19)를 인출하여 이송한다. 포토 마스크 반송시스템(40)과 공정챔버(30) 사이에는 게이트 밸브(미도시)가 설치되어 상호 격리되도록 한다.
포토 마스크 반송시스템(40)은 포토 마스크 전용 포크(42)를 구비하고 로봇 암(41)의 수평과 수직 이동 및 회전이 가능한 고정밀 다축 로봇시스템(Multi-axis Robot System)으로 구성된다. 공정챔버(30)로부터 인출되어 포토 마스크 전용 포크(42)에 안착한 포토 마스크(19)는 로봇 암(41)의 동작으로 검출기 모듈(50)로 이송된다.
헤이즈를 실시간으로 검출하는 검출기 모듈(50)은 헤이즈 검출기(60)와 포토 마스크 반송시스템(40)으로부터 포토 마스크(19)를 이송 받는 포토 마스크 홀더(52) 및 상기 포토 마스크 홀더(52)를 헤이즈 검출기(60) 측으로 이동하여 정렬하는 XY 모터 스테이지(51)로 구성된다. 포토 마스크(19)가 포토 마스크 반송 시스템(40)으로부터 상기 검출기 모듈(50)로 이송되는 모습을 점선으로 나타내었다.
포토 마스크 반송시스템(40)으로부터 포토 마스크(19)를 이송받은 검출기 모 듈(50)은 XY 모터 스테이지(51) 제어로 포토 마스크 홀더(52)를 이동하여 헤이즈 검출기(60)에서 포토 마스크(19)의 최적 검출 영역으로 정렬한 후 헤이즈를 실시간으로 검출한다.
헤이즈 검출기(60)는 본 발명의 실시 예에서는 10X ~ 100X 대물렌즈를 포함하는 현미경과 1.4메가 픽셀 전하결합소자 카메라를 구비하고, 이미지 프로세싱 소프트웨어를 사용하여 헤이즈를 검출하는 광학 현미경 시스템으로 구성되어 있다. 헤이즈 검출기(60)는 헤이즈가 발생한 포토 마스크(19)로부터 헤이즈를 검출하는 기기이면 적용 가능하다.
포토 마스크 반송시스템(40)과 검출기 모듈(50)의 상부에는 필터 모듈(70)을 설치하여 청정도를 높게 유지하여, 포토 마스트(19)의 이송 중에 대기 중의 외래 입자가 포토 마스크(19)의 표면에 흡착하여 인위적으로 발생된 헤이즈와 구분하기 어렵게 되는 일을 방지하여 정확한 헤이즈 검출을 할 수 있다.
도 4는 본 발명의 헤이즈 가속 검출방법의 흐름도를 나타낸 것이다.
도 4를 참조하면, 먼저 공정 챔버에 공정을 수행하고자 하는 샘플 포토 마스크를 로딩한다(S501).
이어서, 제어용 인터페이스 장치를 통해 레이저의 노광 조건을 설정한다(S502).
이어서, 공정 챔버의 헤이즈 생성 테스트 조건을 설정한다(S503).
이어서, 레이저 빔을 조사하여 헤이즈를 생성시킨다(S504).
이어서, 헤이즈가 생성된 포토 마스크를 반송 시스템으로 이송하여 헤이즈 검출기로 실시간으로 검출한다(S505). 이때 얻어지는 모든 데이터를 컴퓨터에 저장한다(S506),
마지막으로, 공정 챔버 내를 퍼지한다(S507).
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 관하여 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 따라서 본 발명의 권리 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 청구범위뿐만 아니라, 이와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
도 1은 종래의 일례에 따른 포토 마스크의 헤이즈 발생장치이다.
도 2는 본 발명에 따른 헤이즈 가속 검출 장치의 구성도이다.
도 3은 상기 도 2의 헤이즈 가속 검출 장치에서 검출 장치 부분의 평면 구성도이다.
도 4는 본 발명의 헤이즈 생성 및 검출 방법을 나타낸 흐름도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호설명>
10 : 레이저 빔 발생부 11 : 제 1 미러
12 : 텔레스코프 13 : 제 2 미러
14 : 균질기 15 : 초점 광학계
16 : 제 3 미러 17, 21 : 빔 스플리터
18, 20 : 윈도우 19 : 포토 마스크
22 : 에너지 검출기 23 : 에너지 검출기
24 : 모니터링부 30 : 공정챔버
31 : 가스 공급부 32 : 습도 공급부
40 : 포토 마스크 반송 시스템 41 : 로봇 암
42 : 포토 마스크 전용 포크 50 : 검출기 모듈
51 : XY 모터 스테이지 52 : 포토 마스크 홀더
60 : 헤이즈 검출기 70 : 필터 모듈
100 : 헤이즈 가속 장치 200 : 헤이즈 검출 장치

Claims (15)

  1. 레이저 빔을 방출하는 레이저 빔 발생부와;
    상기 레이저 빔을 미리 설정된 형상 및 에너지 분포를 가지도록 하는 광학계와;
    상하측에 윈도우가 설치되고 포토마스크가 안착되는 공정챔버와;
    상기 공정챔버로부터 포토 마스크를 인출하여 이송하는 포토 마스크 반송 시스템; 및
    헤이즈를 실시간으로 검출하는 검출기 모듈;을 포함하되,
    상기 검출기 모듈은 상기 포토 마스크를 이송받는 포토 마스크 홀더와;
    상기 포토 마스크 홀더를 이동 정렬하는 XY 모터 스테이지; 및
    헤이즈를 실시간 검출하는 헤이즈 검출기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광학계는,
    상기 레이저 빔을 반사시키는 미러들과;
    상기 레이저 빔의 정사각형 혹은 직사각형의 형태로 가공하는 텔레스코프와; 상기 레이저 빔의 에너지를 가우시안에서 균일한 에너지 분포로 가공하는 균질기; 및
    상기 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하는 초점 광학계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 초점 광학계는,
    필드 렌즈(field lens)와;
    상기 레이저 빔의 회절 현상에 의해 형성되는 빔을 차단하는 마스크; 및
    상기 레이저 빔의 초점을 조절하는 프로젝션 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 공정챔버는 레이저 빔이 투과하는 광 투과성 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 공정챔버는,
    헤이즈 생성 유발을 위해 공정가스를 공급하는 가스 공급부와;
    습도를 조절하는 습도 공급부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 공정가스는 NH3, O2, N2, SO2중 어느 하나 또는 하나 이상을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 포토 마스크의 표면에 헤이즈 발생 여부를 모니터링하는 모니터링부와;
    상기 레이저 빔의 에너지를 측정하는 에너지 검출기;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 모니터링부는 전하결합소자 카메라를 사용하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 에너지 검출기는 포토 마스크에 노광되는 에너지의 세기를 정량적으로 측정하여 총 에너지로 환산하여 저장하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 에너지 검출기는 레이저가 작동된 이후 일정한 간격으로 가스 주입량, 온도 및 습도의 챔버 환경과 총 누적 에너지 값을 저장하며, 헤이즈의 생성 여부를 실시간으로 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 포토 마스크 반송 시스템은,
    상기 포토 마스크를 안착시키는 전용 포크와;
    상기 전용 포크를 수평, 수직 및 회전 이동시키는 로봇 암;을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  12. 삭제
  13. 제1항에 있어서,
    상기 헤이즈 검출기는,
    대물렌즈를 포함하는 현미경과;
    헤이즈를 측정하는 픽셀 전하결합소자 카메라; 및
    이미지 프로세싱 소프트웨어를 사용하여 헤이즈를 검출하는 광학 현미경 시스템;을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  14. 제1항에 있어서,
    포토 마스크 반송시스템과 검출기 모듈의 상부에 청정도를 유지하기 위한 필터 모듈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤이즈 가속 검출장치.
  15. 삭제
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