KR101004411B1 - Liquid crystal display device and manufacturing of the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은, 데이터 배선이 단선되는 경우에 데이터 배선과 데이터 배선 리페어 패턴이 안정적으로 연결될 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, in which the data line and the data line repair pattern can be stably connected when the data line is disconnected.

본 발명은, 기판 상에 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선과; 상기 게이트 및 데이터 배선이 교차하는 부분에 위치하고, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되는 스위칭 소자와; 상기 스위칭 소자와 연결되는 화소 전극과; 상기 데이터 배선과 평행하게 연장된 연장부와, 상기 데이터 배선과 중첩되는 연결부를 갖는 데이터 배선 리페어 패턴을 포함하고, 상기 데이터 배선과 교차하는 상기 연결부의 경계선은 데이터 배선의 선폭보다 길게 형성된 액정표시장치를 제공한다.The present invention provides a semiconductor device comprising: a gate and data wiring orthogonal to each other on a substrate; A switching element positioned at a portion where the gate and data lines cross each other and connected to the gate and data lines; A pixel electrode connected to the switching element; And a data line repair pattern including an extension portion extending in parallel with the data line and a connection portion overlapping the data line, wherein a boundary line of the connection portion crossing the data line is longer than a line width of the data line. To provide.

본 발명은, 데이터 배선 리페어 패턴을 데이터 배선과 완전히 중첩되도록 하며, 중첩되는 부분을 꺽여진 형상의 단층 구조로 구성함으로써 웰딩 공정시 데이터 배선과 데이터 배선 리페어 패턴을 안정적으로 연결할 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention, the data wiring repair pattern is completely overlapped with the data wiring, and the overlapping portion is formed in a single layer structure having a bent shape, thereby stably connecting the data wiring and the data wiring repair pattern during the welding process.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{Liquid crystal display device and manufacturing of the same} Liquid crystal display device and manufacturing method thereof             

도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 나타낸 도면.1 is a view schematically showing a general liquid crystal display device.

도 2는 종래의 액정표시장치용 기판을 도시한 평면도. 2 is a plan view illustrating a conventional liquid crystal display substrate.

도 3은 도 2의 절단선 Ⅲ-Ⅲ를 따라 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 2;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 도시한 평면도.4 is a plan view illustrating a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 데이터 배선 리페어 패턴이 형성된 부분을 도시한 평면도.5 is a plan view illustrating a portion where a data line repair pattern is formed according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 절단선 Ⅵ-Ⅵ을 따라 도시한 단면도.
6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 5.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

210 : 기판 220 : 게이트 배선210: substrate 220: gate wiring

221 : 게이트 전극 225 : 게이트 패드221: gate electrode 225: gate pad

230 : 데이터 배선 231 : 소스 전극230: data wiring 231: source electrode

233 : 드레인 전극 235 : 데이터 패드233: drain electrode 235: data pad

240 : 화소 전극 250 : 데이터 배선 리페어 패턴 240 pixel electrode 250 data wiring repair pattern                 

250a : 연장부 250b : 연결부
250a: extension part 250b: connection part

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 단선된 데이터 배선을 연결하는 데이터 배선 리페어 패턴이 형성된 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having a data line repair pattern for connecting disconnected data lines and a method of manufacturing the same.

일반적으로, 액정표시장치는 액정분자의 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표현하는 것으로, 전계가 인가되면 액정의 배열이 달라지고 달라진 액정의 배열 방향에 따라 빛이 투과되는 특성 또한 달라진다. 일반적으로, 액정표시장치는 전계 생성 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device displays an image by using optical anisotropy and birefringence characteristics of liquid crystal molecules. When an electric field is applied, the alignment of liquid crystals is changed, and the characteristics of light transmission vary according to the arrangement direction of the changed liquid crystals. In general, a liquid crystal display device is formed by arranging two substrates on which electric field generating electrodes are formed so that the surfaces on which the two electrodes are formed face each other, injecting a liquid crystal material between the two substrates, and then applying a voltage to the two electrodes. By moving the liquid crystal molecules by the electric field is a device that represents the image by the transmittance of light that varies accordingly.

도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing a general liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 일반적인 컬러 액정표시장치(11)는 레드(Red), 그린(Green), 블루(Blue)의 컬러필터층(8)과 컬러필터층(8) 사이에 구성된 블랙매트릭스(6) 및 컬러필터층(8)의 상부에 증착된 공통전극(18)이 형성된 상부기판(5)과, 화소영역(P)이 정의되고 화소영역(P)에는 화소전극(17)과 스위칭소자(T)가 구성되며, 화소영역(P)의 주변으로 어레이배선이 형성된 하부기판(22)을 포함하며, 상부기판(5)과 하부기판(22) 사이에는 액정(14)이 충진되어 있다.As shown, a general color liquid crystal display device 11 includes a black matrix 6 and a color formed between a color filter layer 8 and a color filter layer 8 of red, green, and blue. The upper substrate 5 on which the common electrode 18 deposited on the filter layer 8 is formed, the pixel region P is defined, and the pixel electrode 17 and the switching element T are configured in the pixel region P. The lower substrate 22 includes an array wiring formed around the pixel region P, and the liquid crystal 14 is filled between the upper substrate 5 and the lower substrate 22.

하부기판(22)은 어레이기판(array substrate)이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스형태(matrix type)로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터(TFT)를 교차하여 지나가는 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 형성된다.이때, 화소영역(P)은 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 교차하여 정의되는 영역이며, 화소영역(P)상에는 전술한 바와 같이 투명한 화소전극(17)이 형성된다.The lower substrate 22 is also called an array substrate, and the thin film transistor T, which is a switching element, is positioned in a matrix type, and the gate wiring 13 passing through the plurality of thin film transistors TFT is crossed. And a data wiring 15 are formed. In this case, the pixel region P is a region defined by the intersection of the gate wiring 13 and the data wiring 15, and the pixel electrode P is transparent as described above. (17) is formed.

화소전극(17)은 ITO(indium-tin-oxide)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 도전성금속을 사용한다. 화소전극(17)과 병렬로 연결된 스토리지 캐패시터(CST)가 게이트 배선(13)의 상부에 구성되며, 스토리지 캐패시터(CST)의 제 1 전극으로 게이트 배선(13)의 일부를 사용하고, 제 2 전극으로 소스 및 드레인 전극과 동일층 동일물질로 형성된 아일랜드 형상의 소스/드레인 금속층(30)을 사용한다.The pixel electrode 17 uses a transparent conductive metal having relatively high light transmittance, such as indium-tin-oxide (ITO). A storage capacitor C ST connected in parallel with the pixel electrode 17 is formed on the gate wiring 13, and a portion of the gate wiring 13 is used as the first electrode of the storage capacitor C ST . As the second electrode, an island-shaped source / drain metal layer 30 formed of the same material as the source and drain electrodes is used.

여기서, 소스/드레인 금속층(30)은 화소전극(17)과 접촉되어 화소전극의 신호를 받도록 구성된다. Here, the source / drain metal layer 30 is configured to be in contact with the pixel electrode 17 to receive a signal of the pixel electrode.

전술한 바에 있어서, 데이터 배선은 제조 공정시 단선되어 액정표시장치가 불량처리 되는 문제가 발생한다. 따라서, 데이터 배선이 단선되는 경우에 데이터 배선을 연결하기 위한 데이터 배선 리페어 패턴이 형성된 액정표시장치가 제시되었다. As described above, the data line is disconnected during the manufacturing process, which causes a problem that the liquid crystal display is poorly processed. Accordingly, a liquid crystal display device in which a data line repair pattern for connecting data lines is formed when a data line is disconnected.

도 2는 종래의 액정표시장치용 기판을 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2의 절 단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 도시한 단면도이다.2 is a plan view illustrating a conventional liquid crystal display substrate, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the cut line III-III of FIG. 2.

도시한 바와 같이, 종래의 액정표시장치에는 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선(120, 130)이 형성되어 있고, 게이트 및 데이터 배선(120, 130)과 연결되는 스위칭 소자로서 박막트랜지스터(T)와, 박막트랜지스터(T)와 연결되는 화소 전극(140)이 형성되어 있다. 그리고, 데이터 배선(130) 일부를 따라, 데이터 배선(130)의 패턴 불량에 따른 단선(open)을 방지하기 위해 데이터 배선 리페어 패턴(150)이 형성되어 있다. As shown, a conventional liquid crystal display device has gate and data lines 120 and 130 which are orthogonal to each other, and is a thin film transistor T as a switching element connected to the gate and data lines 120 and 130, The pixel electrode 140 connected to the thin film transistor T is formed. The data line repair pattern 150 is formed along a portion of the data line 130 to prevent open due to a bad pattern of the data line 130.

또한, 게이트 및 데이터 배선(120, 130) 각각은, 게이트 및 데이터 배선(120, 130)의 일끝단에 위치하는 게이트 및 데이터 패드(125, 135)와 연결되어 주사 및 화상 신호를 전달받게 된다.In addition, each of the gate and data lines 120 and 130 is connected to the gate and data pads 125 and 135 positioned at one end of the gate and data lines 120 and 130 to receive scan and image signals.

박막트랜지스터(T)는 게이트 배선(120)에 분기한 게이트 전극(121)과, 게이트 전극(121) 상에 형성된 반도체층(115)과, 반도체층(115)에 상에 형성되고 데이터 배선(130)에서 분기한 소스 전극(131) 및, 소스 전극(131)과 일정 간격 이격된 드레인 전극(133)으로 이루어진다. 박막트랜지스터(T)는 게이트 전극(121)에 전달된 주사 신호에 따라 온/오프 구동되며, 그에 따라 소스 전극(131)에 전달된 화상 신호를 드레인 전극(133)에 전달하게 된다.The thin film transistor T is formed on the gate electrode 121 branched on the gate wiring 120, the semiconductor layer 115 formed on the gate electrode 121, and on the semiconductor layer 115, and the data wiring 130. ) And a drain electrode 133 spaced apart from the source electrode 131 by a predetermined distance. The thin film transistor T is driven on / off according to the scan signal transmitted to the gate electrode 121, thereby transferring the image signal transferred to the source electrode 131 to the drain electrode 133.

화소 전극(140)은 드레인 전극(133)과 연결된다. 화소 전극(140)은 투명 도전성 금속 물질로 이루어진다. The pixel electrode 140 is connected to the drain electrode 133. The pixel electrode 140 is made of a transparent conductive metal material.

데이터 배선 리페어 패턴(150)은 게이트 배선(120)과 동일한 공정에서 형성되며, 데이터 배선(130)이 연장된 방향, 즉 장축 방향으로 평행하게 형성된 연장부(150a)와, 데이터 배선(130)과 중첩되는 연결부(150b)로 이루어진다. 연결부(150b)는 데이터 배선(130)과 교차하며 데이터 배선(130)의 단축방향으로 연장되어 데이터 배선(130) 일부와 중첩된다. The data line repair pattern 150 is formed in the same process as the gate line 120, the extension part 150a formed in parallel in the direction in which the data line 130 extends, that is, the major axis direction, and the data line 130. It consists of a connecting portion 150b that overlaps. The connection part 150b crosses the data line 130 and extends in a short direction of the data line 130 to overlap a portion of the data line 130.

연결부(150b)는 데이터 배선(130)이 단선된 경우에 레이저 빔(laser beam) 등을 조사하여 데이터 배선(130)과 연결하는 웰딩(welding) 공정을 진행하여 데이터 배선(130) 단선에 의한 불량을 개선할 수 있게 된다. When the data line 130 is disconnected, the connection unit 150b performs a welding process of connecting the data line 130 by irradiating a laser beam or the like, thereby causing a defect due to disconnection of the data line 130. It will be possible to improve.

그런데, 연결부(150b)는 데이터 배선(130)과 일부 중첩됨으로써, 중첩 영역이 협소하여 웰딩 공정시 데이터 배선(130)과 연결되지 못하는 문제가 발생하게 된다. 따라서, 데이터 배선(130)이 단선된 경우에 데이터 배선 리페어 패턴(150)을 통해 데이터 배선(130)을 연결하지 못하게 되어, 액정표시장치는 불량 처리된다.
However, since the connection part 150b partially overlaps the data line 130, the overlapping area is narrow, and thus, the connection part 150b may not be connected to the data line 130 during the welding process. Therefore, when the data line 130 is disconnected, the data line 130 cannot be connected through the data line repair pattern 150, and the liquid crystal display device is defectively processed.

전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 데이터 배선이 단선되는 경우에 데이터 배선과 데이터 배선 리페어 패턴이 안정적으로 연결될 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, in which a data line and a data line repair pattern can be stably connected when the data line is disconnected.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 기판 상에 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선과; 상기 게이트 및 데이터 배선이 교차하는 부분에 위치하고, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되는 스위칭 소자와; 상기 스위칭 소자와 연결되는 화소 전극과; 상기 데이터 배선과 평행하게 연장된 연장부와, 상기 데이터 배선과 중첩되는 연결부를 갖는 데이터 배선 리페어 패턴을 포함하고, 상기 데이터 배선과 교차하는 상기 연결부의 경계선은 데이터 배선의 선폭보다 길게 형성된 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the object as described above, the present invention comprises a gate and data wiring perpendicular to each other on the substrate; A switching element positioned at a portion where the gate and data lines cross each other and connected to the gate and data lines; A pixel electrode connected to the switching element; And a data line repair pattern including an extension portion extending in parallel with the data line and a connection portion overlapping the data line, wherein a boundary line of the connection portion crossing the data line is longer than a line width of the data line. To provide.

여기서, 상기 데이터 배선과 교차하는 상기 연결부의 경계선은 꺽여진 형상의 단층 구조로 형성될 수 있고, 상기 연결부는 상기 데이터 배선의 폭을 따라 완전히 중첩될 수 있다. 그리고, 상기 데이터 배선 리페어 패턴은 상기 게이트 배선과 동일층에 형성될 수 있다. Here, the boundary line of the connection portion crossing the data line may be formed in a single layer structure having a bent shape, and the connection portion may be completely overlapped along the width of the data line. The data line repair pattern may be formed on the same layer as the gate line.

또한, 상기 스위칭 소자는, 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극과; 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및, 상기 소스 전극과 일정 간격 이격되고 상기 화소 전극과 연결되는 드레인 전극과; 상기 소스 및 드레인 전극과 접촉하는 반도체층을 포함할 수 있다. The switching element may further include: a gate electrode branched from the gate wiring; A source electrode branched from the data line, a drain electrode spaced apart from the source electrode at a predetermined interval, and connected to the pixel electrode; The semiconductor layer may be in contact with the source and drain electrodes.

다른 측면에서, 본 발명은, 기판 상에 게이트 배선과, 연장부와 연결부를 갖는 데이터 배선 리페어 패턴을 형성하는 단계와; 상기 게이트 배선과 직교하고 상기 연장부와 평행하며 상기 연결부와 중첩되는 데이터 배선과, 상기 게이트 및 데이터 배선이 교차하는 부분에 위치하고, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되는 스위칭 소자와, 상기 스위칭 소자와 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 데이터 배선과 교차하는 상기 연결부의 경계선을 데이터 배선의 선폭보다 길게 형성하는 액정표시장치 제조방법을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a method for manufacturing a semiconductor device including: forming a data wiring repair pattern having a gate wiring, an extension, and a connection on a substrate; A switching element connected to the gate and the data line, the switching element being located at an intersection of the data line perpendicular to the gate line and parallel to the extension part and overlapping the connection portion, and the gate and the data line; A method of manufacturing a liquid crystal display device includes forming a pixel electrode, wherein the boundary line of the connection portion crossing the data line is longer than the line width of the data line.

여기서, 상기 데이터 배선과 교차하는 상기 연결부의 경계선을 꺽여진 형상 의 단층 구조로 형성할 수 있고, 상기 연결부를 상기 데이터 배선의 폭을 따라 완전히 중첩되도록 형성할 수 있다. Here, the boundary line of the connection portion crossing the data line may be formed in a single layer structure having a bent shape, and the connection portion may be formed to completely overlap along the width of the data line.

그리고, 상기 스위칭 소자를 형성하는 단계는, 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극을 형성하는 단계와; 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및, 상기 소스 전극과 일정 간격 이격되고 상기 화소 전극과 연결되는 드레인 전극을 형성하는 단계와; 상기 소스 및 드레인 전극과 접촉하는 반도체층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The forming of the switching element may include forming a gate electrode branched from the gate wiring; Forming a source electrode branched from the data line and a drain electrode spaced apart from the source electrode at a predetermined interval and connected to the pixel electrode; And forming a semiconductor layer in contact with the source and drain electrodes.

또한, 상기 화소 전극 형성 후에, 상기 데이터 배선의 단선 여부를 검사하는 단계와; 상기 검사 단계에서, 상기 데이터 배선이 단선된 경우에 상기 연결부와 상기 데이터 배선을 연결하는 단계를 더욱 포함할 수 있고, 상기 연결부와 상기 데이터 배선은 레이저 빔을 조사함으로써 연결될 수 있다.
After the pixel electrode is formed, inspecting whether the data line is disconnected; In the checking step, when the data line is disconnected, the method may further include connecting the connection part and the data wire, and the connection part and the data wire may be connected by irradiating a laser beam.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 기판을 도시한 평면도이다.4 is a plan view illustrating a substrate for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 데이터 배선 리페어 패턴을 데이터 배선과 완전히 중첩되도록 형성하며, 중첩되는 부분을 꺽여진 형상의 단층 구조로 구성함으로써 웰딩 공정시 데이터 배선과 데이터 배선 리페어 패턴을 안정적으로 연결할 수 있게 된다. The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention forms the data wiring repair pattern so as to completely overlap the data wiring, and configures the overlapped portion in a single layer structure having a bent shape to stably stabilize the data wiring and the data wiring repair pattern during the welding process. Will be able to connect.

도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에는 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선(220, 230)이 형성되어 있고, 게이트 및 데이터 배선(220, 230)과 연결되는 스위칭 소자로서 박막트랜지스터(T)와, 박막트랜지스터(T)와 연결되는 화소 전극(240)이 형성되어 있다. 그리고, 데이터 배선(230) 일부를 따라, 데이터 배선(230)의 패턴 불량에 따른 단선(open)을 방지하기 위해 데이터 배선 리페어 패턴(250)이 형성되어 있다. As illustrated, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention has a gate and data lines 220 and 230 which are orthogonal to each other, and is a thin film transistor as a switching element connected to the gate and data lines 220 and 230. (T) and the pixel electrode 240 connected to the thin film transistor T are formed. The data line repair pattern 250 is formed along a part of the data line 230 to prevent open due to a bad pattern of the data line 230.

또한, 게이트 및 데이터 배선(220, 230) 각각은, 게이트 및 데이터 배선(220, 230)의 일끝단에 위치하는 게이트 및 데이터 패드(225, 235)와 연결되어 주사 및 화상 신호를 전달받게 된다. 게이트 및 데이터 패드(225, 235)는 외부의 신호 전달 회로인 게이트 및 데이터 구동부(미도시)와 연결되어 주사 및 화상 신호를 전달받게 된다. In addition, each of the gate and data lines 220 and 230 is connected to gates and data pads 225 and 235 positioned at one end of the gate and data lines 220 and 230 to receive scan and image signals. The gate and data pads 225 and 235 are connected to a gate and a data driver (not shown), which are external signal transfer circuits, to receive scan and image signals.

박막트랜지스터(T)는 게이트 배선(220)에 분기한 게이트 전극(221)과, 게이트 전극(221) 상에 형성된 반도체층(215)과, 반도체층(215)에 상에 형성되고 데이터 배선(230)에서 분기한 소스 전극(231) 및, 소스 전극(231)과 일정 간격 이격된 드레인 전극(233)으로 이루어진다. 박막트랜지스터(T)는 게이트 전극(221)에 전달된 주사 신호에 따라 온/오프 구동되며, 그에 따라 소스 전극(231)에 전달된 화상 신호를 드레인 전극(233)에 전달하게 된다.The thin film transistor T is formed on the gate electrode 221 branched to the gate wiring 220, the semiconductor layer 215 formed on the gate electrode 221, and on the semiconductor layer 215, and the data wiring 230. ) And a drain electrode 233 spaced apart from the source electrode 231 by a predetermined distance. The thin film transistor T is driven on / off according to the scan signal transmitted to the gate electrode 221, thereby transferring the image signal transferred to the source electrode 231 to the drain electrode 233.

화소 전극(240)은 드레인 전극(233)과 연결된다. 화소 전극(240)은 인듐-틴-옥사이드(Indium-Tin-Oxide : 이하, ITO라 함.), 인듐-징크-옥사이드(Indium-Zinc-Oxide, 이하, IZO라 함.)와 같은 투명 도전성 금속 물질로 이루어진다. The pixel electrode 240 is connected to the drain electrode 233. The pixel electrode 240 is a transparent conductive metal such as indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) or indium zinc oxide (hereinafter referred to as IZO). Made of matter.

데이터 배선 리페어 패턴(250)은 데이터 배선(230) 패턴 불량에 따라 데이터 신호가 전달되지 못하는 것을 방지하기 위해 형성된다. 데이터 배선(230)은 선폭이 미세하게 형성되기 때문에, 패턴 형성시 데이터 배선(230)이 단선(open)되는 문제가 발생할 수 있어 데이터 배선 리페어 패턴(250)을 형성하게 된다. 데이터 배선 리페어 패턴(250)은 게이트 배선(220) 형성 과정에서 형성되며, 데이터 배선(230) 형성 후에 웰딩 공정을 통해 데이터 배선(230)과 데이터 배선 리페어 패턴(250)을 연결하게 된다. The data line repair pattern 250 is formed to prevent a data signal from being transmitted due to a bad pattern of the data line 230. Since the data line 230 has a fine line width, a problem may occur in that the data line 230 is open when the pattern is formed, thereby forming the data line repair pattern 250. The data line repair pattern 250 is formed during the formation of the gate line 220. The data line repair pattern 250 connects the data line 230 and the data line repair pattern 250 through a welding process after the data line 230 is formed.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따라 형성된 데이터 배선 리페어 패턴에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a data line repair pattern formed according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5와 6은 각각, 본 발명의 실시예에 따른 데이터 배선 리페어 패턴이 형성된 부분을 도시한 평면도와 단면도로서, 도 6은 도 5의 절단선 Ⅵ-Ⅵ을 따라 도시한 것이다. 5 and 6 are a plan view and a cross-sectional view showing a portion in which a data wiring repair pattern is formed according to an exemplary embodiment of the present invention, respectively, and FIG. 6 is taken along the cutting line VI-VI of FIG. 5.

도시한 바와 같이, 데이터 배선 리페어 패턴(250)은 데이터 배선(230)이 연장된 방향, 즉 장축 방향으로 평행하게 형성된 연장부(250a)와, 데이터 배선(230)과 중첩되는 연결부(250b)로 이루어진다. As illustrated, the data line repair pattern 250 includes an extension part 250a formed in parallel in a direction in which the data line 230 extends, that is, a long axis direction, and a connection part 250b overlapping the data line 230. Is done.

연결부(250b)는 데이터 배선(230)과 교차하며 데이터 배선(230)의 단축방향으로 연장되어 데이터 배선(230)과 중첩되는데, 데이터 배선(230)의 폭을 따라 완전히 중첩될 정도로 형성된다. 따라서, 데이터 배선(230)이 단선되어 웰딩 공정이 진행되는 경우에 데이터 배선(230)과 연결부(250b)는 안정적으로 연결될 수 있게 된다. The connection part 250b intersects the data line 230 and extends in the short axis direction of the data line 230 to overlap the data line 230, and is formed to overlap completely with the width of the data line 230. Therefore, when the data line 230 is disconnected and the welding process is performed, the data line 230 and the connection part 250b may be stably connected.

한편, 데이터 배선(230)과 교차하는 연결부(250b)의 측선, 즉 경계선은 꺽여진 형상의 단층 구조를 가지게 된다. 연결부(250b)의 경계선이 꺽여진 형상의 단층 구조를 가지게 됨으로써, 데이터 배선(230)과 교차하는 연결부(250b)의 경계선의 길이는 데이터 배선(230)의 폭의 길이보다 길어진다. On the other hand, the side line, that is, the boundary line of the connection portion 250b that intersects the data line 230 has a single layer structure having a bent shape. Since the boundary line of the connection part 250b has a bent structure, the length of the boundary line of the connection part 250b intersecting with the data line 230 becomes longer than the length of the width of the data line 230.

데이터 배선(230)과 교차하는 연결부(250b)의 경계선이 꺽여진 형상을 갖게 됨에 따라, 데이터 배선(230)이 단차부(A)에서 단선되지 않게 된다. As the boundary line of the connection part 250b intersecting the data line 230 is bent, the data line 230 is not disconnected from the stepped portion A. FIG.

예를 들면, 연결부(250b)의 경계선이 데이터 배선(230)과 수직한 직선 형상인 경우에 데이터 배선(230)은 단차부(A)에서 단선될 수 있다. 그러나, 데이터 배선(230)의 단차부(A)가 연결부(250b)의 경계선을 따라 형성되고 연결부(250b)의 경계선은 꺽여진 형상을 갖게 됨에 따라, 경계선을 따르는 단차부(A) 중 일부에서 데이터 배선(230)이 단선된다 하더라도 단선된 단차부의 양 측은 단차부가 형성되지 않게 된다. 따라서, 연결부(250b)에 의해 데이터 배선(230)이 그 폭을 따라 단선되지 않게 된다. For example, when the boundary line of the connection part 250b is a straight line perpendicular to the data line 230, the data line 230 may be disconnected at the stepped portion A. FIG. However, as the stepped portion A of the data line 230 is formed along the boundary line of the connection portion 250b and the boundary line of the connection portion 250b has a bent shape, at some of the stepped portions A along the boundary line. Even if the data line 230 is disconnected, the stepped portions are not formed at both sides of the disconnected stepped portion. Therefore, the data line 230 is not disconnected along the width by the connection part 250b.

연결부(250b)의 경계선이 꺽여진 형상을 갖게 되어 데이터 배선(230)이 단차부(A)에서 단선되지 않음으로써, 연결부(250b)는 데이터 배선(230)과 완전히 중첩될 정도로 형성할 수 있게 된다. Since the boundary line of the connection part 250b has a bent shape, the data line 230 is not disconnected at the stepped portion A, so that the connection part 250b can be formed to overlap the data line 230 completely. .

한편, 연결부(250b)의 경계선은 전술한 꺽여진 형상과 다른 형상을 가질 수 있는데, 그와 같은 형상은 연결부(250b)의 경계선이 데이터 배선(230)의 폭보다 더 큰 길이를 가질 수 있는 경우에는 어떠한 형상이라도 가능하다.On the other hand, the boundary line of the connection portion 250b may have a shape different from the above-described bent shape, such a shape is when the boundary line of the connection portion 250b may have a length larger than the width of the data line 230. Can be any shape.

전술한 바와 같은 액정표시장치용 기판을 제조한 후에 그 구동 여부에 대한 검사 공정을 진행하게 되는데, 검사 공정에 의해 데이터 배선(230)이 단선되면, 웰딩 공정을 진행하여 데이터 배선 리페어 패턴(250)과 데이터 배선(230)을 연결하게 된다. 예를 들면, 데이터 배선 리페어 패턴의 연결부(250b)에 대응하여 레이저를 조사하여 연결부(250b)와 데이터 배선(230) 사이의 게이트 절연막(211)을 녹여 연결부(250b)와 데이터 배선(230)을 연결하게 된다.
After fabricating the substrate for the liquid crystal display as described above, an inspection process for driving the same is performed. When the data line 230 is disconnected by the inspection process, the welding process is performed to perform the data line repair pattern 250. And the data line 230 are connected. For example, by irradiating a laser corresponding to the connection portion 250b of the data line repair pattern, the gate insulating layer 211 between the connection portion 250b and the data line 230 is melted to form the connection portion 250b and the data line 230. Will be connected.

전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 데이터 배선 리페어 패턴을 데이터 배선과 완전히 중첩되도록 하며, 중첩되는 부분을 꺽여진 형상의 단층 구조로 구성함으로써 웰딩 공정시 데이터 배선과 데이터 배선 리페어 패턴을 안정적으로 연결할 수 있게 된다.
As described above, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention completely overlaps the data line repair pattern with the data line, and configures the overlapped portion in a single-layered structure having a bent shape so that the data line and the data line in the welding process. The repair pattern can be connected reliably.

전술한 바와 같이, 본 발명은, 데이터 배선 리페어 패턴을 데이터 배선과 완전히 중첩되도록 하며, 중첩되는 부분을 꺽여진 형상의 단층 구조로 구성함으로써 웰딩 공정시 데이터 배선과 데이터 배선 리페어 패턴을 안정적으로 연결할 수 있는 효과가 있다. As described above, in the present invention, the data wiring repair pattern is completely overlapped with the data wiring, and the overlapping portion is formed in a single layer structure having a bent shape to stably connect the data wiring and the data wiring repair pattern during the welding process. It has an effect.

Claims (11)

기판 상에 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선과;Gate and data lines orthogonal to each other on the substrate; 상기 게이트 및 데이터 배선이 교차하는 부분에 위치하고, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되는 스위칭 소자와;A switching element positioned at a portion where the gate and data lines cross each other and connected to the gate and data lines; 상기 스위칭 소자와 연결되는 화소 전극과;A pixel electrode connected to the switching element; 상기 데이터 배선과 이격되며 평행하게 연장된 연장부와, 상기 데이터 배선의 폭방향으로 연장되어 상기 데이터 배선과 중첩되는 연결부를 갖는 데이터 배선 리페어 패턴을 포함하고,A data line repair pattern having an extension part spaced apart from and parallel to the data line, and a connection part extending in the width direction of the data line to overlap the data line; 상기 데이터 배선과 중첩되는 상기 연결부는, 상기 데이터 배선의 폭방향을 따라 꺽여진 형상의 단층구조를 갖는 The connection portion overlapping the data line has a single layer structure that is bent along a width direction of the data line. 액정표시장치.LCD display device. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연결부는 상기 데이터 배선의 폭을 따라 완전히 중첩되는 액정표시장치.And the connection part completely overlaps the width of the data line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 데이터 배선 리페어 패턴은 상기 게이트 배선과 동일층에 형성된 액정표시장치.And the data line repair pattern is formed on the same layer as the gate line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스위칭 소자는, The switching device, 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극과;A gate electrode branched from the gate wiring; 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및, 상기 소스 전극과 일정 간격 이격되고 상기 화소 전극과 연결되는 드레인 전극과;A source electrode branched from the data line, a drain electrode spaced apart from the source electrode at a predetermined interval, and connected to the pixel electrode; 상기 소스 및 드레인 전극과 접촉하는 반도체층을 포함하는 액정표시장치.And a semiconductor layer in contact with the source and drain electrodes. 기판 상에 게이트 배선과, 연장부와 연결부를 갖는 데이터 배선 리페어 패턴을 형성하는 단계와;Forming a data wiring repair pattern having a gate wiring, an extension, and a connection on the substrate; 상기 게이트 배선과 직교하고 상기 연장부와 이격되고 평행하며 상기 연결부와 중첩되는 데이터 배선과, 상기 게이트 및 데이터 배선이 교차하는 부분에 위치하고, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되는 스위칭 소자와, 상기 스위칭 소자와 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, A data element perpendicular to the gate line, spaced apart from and parallel to the extension part, overlapping with the connection part, a switching element positioned at an intersection portion of the gate and data line, and connected to the gate and data line; Forming a pixel electrode connected to the pixel electrode; 상기 데이터 배선과 중첩되는 상기 연결부는, 상기 데이터 배선의 폭방향으로 연장되며, 상기 데이터 배선의 폭방향을 따라 꺽여진 형상의 단층구조를 갖는 The connecting portion overlapping with the data line extends in the width direction of the data line, and has a single layer structure that is bent along the width direction of the data line. 액정표시장치 제조방법.Liquid crystal display device manufacturing method. 삭제delete 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 연결부를 상기 데이터 배선의 폭을 따라 완전히 중첩되도록 형성하는 액정표시장치 제조방법.And forming the connection part so as to completely overlap the width of the data line. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 스위칭 소자를 형성하는 단계는,Forming the switching element, 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극을 형성하는 단계와;Forming a gate electrode branched from the gate wiring; 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및, 상기 소스 전극과 일정 간격 이격되고 상기 화소 전극과 연결되는 드레인 전극을 형성하는 단계와;Forming a source electrode branched from the data line and a drain electrode spaced apart from the source electrode at a predetermined interval and connected to the pixel electrode; 상기 소스 및 드레인 전극과 접촉하는 반도체층을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법.Forming a semiconductor layer in contact with the source and drain electrodes. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 화소 전극 형성 후에, 상기 데이터 배선의 단선 여부를 검사하는 단계와;Inspecting whether the data line is disconnected after the pixel electrode is formed; 상기 검사 단계에서, 상기 데이터 배선이 단선된 경우에 상기 연결부와 상기 데이터 배선을 연결하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법.And in the inspecting step, connecting the connection part and the data line when the data line is disconnected. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 연결부와 상기 데이터 배선은 레이저 빔을 조사함으로써 연결되는 액정표시장치 제조방법.And the connection part and the data line are connected by irradiating a laser beam.
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