KR101001155B1 - Multi-stage chemical cleaning apparatus for remove high concentration of complex odor - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An integrated multi-staged medical fluid cleaning apparatus is provided to effectively remove bad smell generated from treating food waste, and to install the apparatus regardless of the limitation of the space. CONSTITUTION: An integrated multi-staged medical fluid cleaning apparatus comprises a multi-staged medical fluid cleaning body(10), an acid cleaning unit(30), an alkali cleaning unit(50) and an oxidation cleaning unit(70). A water protecting cover(58) is installed on a gas path of a gas flow direction downstream of the alkali cleaning unit, and on a gas flow direction upstream of the oxidation cleaning unit. An acidic water circulation tank and an alkali water circulation tank are supplied to the acid cleaning unit and the alkali cleaning unit, respectively.

Description

고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치 {MULTI-STAGE CHEMICAL CLEANING APPARATUS FOR REMOVE HIGH CONCENTRATION OF COMPLEX ODOR}MULTI-STAGE CHEMICAL CLEANING APPARATUS FOR REMOVE HIGH CONCENTRATION OF COMPLEX ODOR}

본 발명은 예를 들어 음식물 처리 시설로부터의 고농도 복합 악취를 효과적으로 제거하기 위한 일체형의 다단 약액세정장치에 관한 것이다.The present invention relates, for example, to an integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for effectively removing high concentrations of complex odors from food processing facilities.

음식물 쓰레기의 악취 원인 물질은 대략 30여종으로, 음식물 자체 악취와 미생물의 활동에 의해 발생되는 악취 성분으로 암모니아, 트리메틸아민, 황화수소, 황화메틸, 아세트알데히드, 이황화메틸, 스틸렌 등의 다양한 성분이 검출된다.There are about 30 kinds of odor-causing substances in food waste, and various constituents such as ammonia, trimethylamine, hydrogen sulfide, methyl sulfide, acetaldehyde, methyl disulfide, and styrene are detected as food odor and odor generated by microbial activity. .

이러한 다양한 악취를 처리하기 위하여 종래에는 활성탄흡착탑, 단단 약액세정장치, 바이오필터 등의 탈취방식이 사용되었고, 최근에는 축열식산화장치(RTO)와 플라즈마에 의한 활성 산소 이온에 의한 산화방식 등이 소개되어 사용되고 있다.Conventional deodorization methods such as activated carbon adsorption towers, single-stage chemical liquid cleaning devices, biofilters, etc. have been used to treat various odors, and recently, thermal storage type oxidation apparatus (RTO) and oxidation by active oxygen ions by plasma have been introduced. It is used.

여러 가지 탈취 방식 중에서 취급 및 유지관리가 용이한 약액세정방식의 장치가 많이 사용되고 있으며, 하기 표 1과 같은 특성을 갖는다.Among various deodorizing methods, a device of a chemical liquid cleaning method that is easy to handle and maintain is used, and has characteristics as shown in Table 1 below.

Figure 112010041430984-pat00001
Figure 112010041430984-pat00001

단단 충진식 세정탑은 상기한 바와 같이 설비 구조가 간단하여 사용이 편리하고 유지 관리가 용이하다는 장점을 가지나 처리 대상물질 중 일부 물질만 제거할 수 있고, 약품 취급에 유의해야 하며, 폐수 처리가 요구되는 단점을 갖는다.As mentioned above, the single-stage filling scrubber has the advantage of simple facility structure and convenient use and easy maintenance, but it can remove only some of the substances to be treated, care must be taken for chemical treatment, and waste water treatment is required. Has the disadvantage of being.

또한, 벤츄리식 세정탑은 상기한 바와 같이 설비 구조가 간단하여 사용이 편리하고 유지 관리가 용이하며 분진과 악취를 동시에 처리할 수 있는 장점을 가지나 처리 대상 물질 중 일부 물질만을 제거할 수 있고, 약품 취급에 유의해야 하며, 폐수 처리가 요구되는 단점을 갖는다.In addition, the venturi type washing tower has the advantages of simple facility structure, easy to use, easy to maintain, and can simultaneously process dust and odor, but can remove only some of the substances to be treated. Care must be taken in handling and has the disadvantage of requiring wastewater treatment.

본 발명은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 예를 들어 음식물 처리시설로부터의 고농도 복합 악취를 효과적으로 제거할 수 있는 다단 약액세정장치를 제공하는 데에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a multi-stage chemical liquid cleaning device that can effectively remove the high concentration complex odor from the food treatment facility, for example.

또한, 본 발명의 다른 목적은 일체형 구조에 최적합한 구조를 갖는 동시에 설치의 공간적 제약을 받지 않는 일체형의 다단 약액세정장치를 제공하는 데에 있다.In addition, another object of the present invention is to provide an integrated multi-stage chemical liquid cleaning device having a structure that is optimal for the integrated structure and not subject to space constraints of installation.

상기 및 그 밖의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, In order to achieve the above and other objects,

처리 대상 가스를 내부로 유입시키기 위한 가스 유입구와 처리된 가스를 외부로 배출시키기 위한 가스 배출구를 갖는 약액세정장치 본체;A chemical liquid cleaning device body having a gas inlet for introducing a gas to be processed into the inside and a gas outlet for discharging the treated gas to the outside;

상기 가스 유입구를 통해 유입되는 처리 대상 가스 중의 알칼리성 가스를 산세정하기 위해 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 2단 이상의 산세정부로서, 각각의 산세정부에는 알칼리가스제거용 충진물, 산성수 분사노즐 및 산성 비산수분 제거기가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 산세정부;In order to pickle alkaline gas in the gas to be treated flowing through the gas inlet, two or more stages of pickling are disposed sequentially in the flow direction of the gas to be treated. A pickling unit in which nozzles and acidic fugitive moisture removers are sequentially arranged in the flow direction of the gas to be treated;

상기 산세정부로부터의 잔여 처리 대상 가스 중의 산성 가스를 알칼리세정하기 위한 알칼리세정부로서, 일부 또는 전부가 상기 산세정부와 평행하게 배치되어 있으며 각각의 알칼리세정부에는 산가스제거용 충진물, 알칼리수 분사노즐 및 알칼리성 비산수분 제거기가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 알칼리세정부; 및Alkaline washing unit for alkali washing of acid gas in the residual treatment gas from the pickling unit, part or all of which is disposed in parallel with the pickling unit, and each alkaline washing unit has an acid gas removal filler and an alkaline water injection nozzle. And an alkaline washing unit in which alkaline non-acid water removers are sequentially arranged in the flow direction of the gas to be treated; And

상기 알칼리세정부로부터의 잔여 처리 대상 가스 중의 중성 가스를 세정하기 위한 산화세정부로서, 상기 알칼리세정부의 가스 흐름방향 하류부에 배치되어 있으며, 중성가스제거용 충진물, 산화수 분사노즐 및 산화수 비산수분 제거기가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 산화세정부를 포함하는 고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치를 제공한다.An oxidizing washing unit for cleaning the neutral gas in the residual treatment gas from the alkaline washing unit, and disposed downstream of the gas flow direction of the alkaline washing unit, and includes a neutral gas removing filler, an oxidizing water injection nozzle, and an oxidizing water scattering water remover. Provided is an integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for removing a high concentration of complex odors including an oxidizing cleaner disposed sequentially in the flow direction of a gas to be treated.

본 발명에 있어, 상기 알칼리세정부 중의 가스 흐름방향 하류부와 상기 산화세정부의 가스 흐름방향 상류부 사이의 가스통로에는 처리 대상 가스의 흐름 방향에 대하여 방사상으로 둘레의 일부 또는 전부가 개방된 갓 모양의 물방지 커버가 제공되어 있는 것을 특징으로 한다.In the present invention, in the gas passage between the gas flow direction downstream part of the alkaline washing part and the gas flow direction upstream part of the oxidation washing part, a lampshade is partially or entirely circumferentially opened radially with respect to the flow direction of the gas to be treated. It is characterized in that the water-proof cover is provided.

본 발명에 있어, 상기 산세정부의 가스 흐름방향 하류부와 상기 알칼리세정부의 가스 흐름방향 상류부는 각각에 형성된 측벽에 의해 규정되어 형성된 가스이동통로에 의해 상호 연통되어 있는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the gas flow direction downstream section of the pickling section and the gas flow direction upstream section of the alkali washing section are communicated with each other by a gas movement passage formed by a side wall formed in each of them.

본 발명에 있어, 상기 산세정부와 상기 알칼리세정부의 하부에 산성수 순환수조와 알칼리수 순환수조가 각각 제공되어 있으며, 상기 산성수 순환수조는 상기 산세정부 산세정부에 제공되어 있는 분사노즐과 유체적으로 연통되어 있고, 상기 알칼리수 순환수조는 상기 알칼리세정부에 제공되어 있는 분사노즐과 유체적으로 연통되어 있는 것을 특징으로 한다.In the present invention, an acidic water circulating water tank and an alkaline water circulating water tank are provided under the pickling government and the alkaline washing machine, respectively, and the acidic water circulating water tank is fluidized with the injection nozzle provided in the pickling government. And the alkaline water circulation tank is in fluid communication with the spray nozzle provided in the alkaline washing unit.

본 발명에 있어, 상기 알칼리수 순환수조에 대하여 구획되어 구분되어 있는 산화수 순환 수조가 약액세정장치 본체의 하단에 별도로 마련되어 있으며, 상기 산화수 순환 수조로부터의 산화수가 상기 산화세정부에 제공되어 있는 산화수 분사 노즐과 유체적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 한다.In the present invention, an oxidizing water circulating water tank partitioned with respect to the alkaline water circulating water tank is separately provided at a lower end of the main body of the chemical liquid cleaning device, and an oxidized water injection nozzle is provided for the oxidized water from the oxidizing water circulating water tank to the oxidation washing unit. It is characterized in that it is fluidly connected to.

본 발명에 따른 고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치는 예를 들어 음식물 쓰레기 처리 과정에서 발생하는 고농도의 복합 악취를 효과적으로 제거할 수 있다.The integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for removing high concentration complex odors according to the present invention can effectively remove high concentrations of complex odors generated during food waste disposal, for example.

또한, 본 발명에 의한 약액세정장치는 악취 물질의 특성에 따라 맞춤 설계가 가능하여 수요자의 요구를 만족시킬 수 있다.In addition, the chemical liquid cleaning apparatus according to the present invention can be customized according to the characteristics of the malodorous substance can satisfy the needs of the consumer.

더욱이, 본 발명에 따른 약액세정장치는 저층고의 설치 공간에도 적용을 가능하게 하는 구조여서 설치의 공간적 제약을 받지 않아 유리하다.Moreover, the chemical liquid cleaning apparatus according to the present invention is advantageous in that it is not subject to the spatial constraints of the installation because it is applicable to the low floor installation space.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치의 주요부를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing the main part of an integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for removing high concentration complex odor according to a preferred embodiment of the present invention.

본원에서 사용되는 표현 "상류" 및 "하류"는 세정하고자 하는 가스의 흐름 방향을 기준으로 하는 것으로, 가령, 가스가 하위부에서 상위부로 이동하는 경우에는 하위부가 상류부, 상위부가 하류부가 되는 것으로 이해하여야 한다.As used herein, the expressions "upstream" and "downstream" are based on the flow direction of the gas to be cleaned, for example, when the gas moves from the lower part to the upper part, the lower part becomes the upstream part and the upper part is the downstream part. It must be understood.

이하에서는 첨부한 예시 도면을 참조하여 본 발명이 상세하게 기술되어 있다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying exemplary drawings.

도 1은 본 발명의 하나의 바람직한 실시 예에 따른 고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치의 요부가 개략적으로 도시되어 있다.Figure 1 schematically shows the main part of the integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for removing high concentration complex odor according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 하나의 바람직한 실시 예에 따른 고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치(이하, "본 발명에 따른 약액세정장치" 또는 "본 발명에 따른 장치"라 상호 호환적으로 칭함)는 약액세정장치 본체(10)와 상기 약액세정장치 본체(10)의 내부에 제공되어 있는 산세정부(30), 알칼리세정부(50) 및 산화세정부(70)를 포함한다.1, an integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for removing high concentration complex odors according to one preferred embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "chemical liquid cleaning device according to the present invention" or "device according to the present invention" In general, the chemical cleaning device main body 10 includes an acid washing unit 30, an alkaline washing unit 50, and an oxidizing washing unit 70 provided inside the chemical liquid cleaning unit main body 10.

약액세정장치 본체(10)에는 처리 대상 가스, 예를 들어 음식물 처리 시설로부터의 고농도 복합 악취를 포함하는 가스를 내부로 유입시키기 위한 가스 유입구(12)와 처리된 가스를 외부로 배출시키기 위한 가스 배출구(14)가 제공되어 있다.The chemical liquid cleaning device main body 10 includes a gas inlet 12 for introducing a gas to be treated, for example, a gas containing a high concentration complex odor from a food processing facility, and a gas outlet for discharging the treated gas to the outside. 14 is provided.

가스 유입구(12)는 도 1에 도시된 바와 같이 약액세정장치 본체(10) 내에서의 상향류 가스 흐름에 유리하도록 약액세정장치 본체(10)의 하부에 제공되며, 가스 배출구(14)는 처리된 후의 상향류 가스 흐름에 부합하도록 약액 세정 정치 본체(10)의 상부에 제공된다. 처리 대상 가스는 탈취팬(도면에 미도시)에 의해 가스 유입구(12)로 유입된다.A gas inlet 12 is provided in the lower portion of the chemical liquid cleaner body 10 to favor the upflow gas flow in the chemical liquid cleaner body 10 as shown in FIG. 1, and the gas outlet 14 is treated. Is provided at the top of the chemical cleaning stationary body 10 to conform to the upstream gas flow thereafter. The gas to be treated is introduced into the gas inlet 12 by a deodorizing fan (not shown).

가스 유입구(12)를 통해 유입된 처리 대상 가스(예, 음식물 처리 시설로부터의 고농도 복합 악취 가스)는 도시된 바와 같이 산세정부(30)에 의한 처리 과정을 거치게 된다.The treatment target gas introduced through the gas inlet 12 (eg, a high concentration complex odor gas from a food processing facility) is subjected to a treatment by the pickling unit 30 as shown.

이러한 산세정부(30)는 처리 대상 가스 중의 알칼리성 가스를 산세정하기 위한 구성요소로서, 도시된 바와 같이 가스 유입구(12)를 통해 유입되는 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 알칼리가스제거용 충진물(32a), 산성수 분사노즐(34a), 알칼리가스제거용 충진물(32b), 산성수 분사노즐(34b) 및 산성수 비산수분 제거기(36)가 순차적으로 배치되어 있다. 산세정부(30)에서 일어나는 일련의 반응 메카니즘의 다양한 예는 하기 표 2에 수록되어 있다.The pickling unit 30 is a component for pickling the alkaline gas in the gas to be treated. As shown, the filler 32a for removing alkali gas in the flow direction of the gas to be treated flowing through the gas inlet 12, The acidic water injection nozzle 34a, the alkali gas removal filler 32b, the acidic water injection nozzle 34b, and the acidic water non-acidic water remover 36 are sequentially arranged. Various examples of a series of reaction mechanisms occurring in the pickling government 30 are listed in Table 2 below.

Figure 112010041430984-pat00002
Figure 112010041430984-pat00002

가스 유입구(12)를 통해 유입된 처리 대상 가스(예, 음식물 처리 시설로부터의 고농도 복합 악취 가스)는 도시된 바와 같이 알칼리 가스 제거용 충진물(32a)을 통과하게 된다. 한편, 상기 알칼리 가스 제거용 충진물(32a)의 하부에 마련된 산성수 순환수조(40)로부터의 산성수는 산성수 순환펌프(44)에 의한 펌핑에 의해 산성수 순환 라인(42)을 경유하여 상기 알칼리 가스 제거용 충진물(32a)의 상부에 마련된 산성수 분사노즐(34a)을 통해 분사된다. 이러한 산성수 분사노즐(34a)을 통한 산성수 공급에 의해 적정한 반응이 유도된다. 이때 pH의 조절은 산성수 순환수조(40)에 마련된 pH 조절기(38)에 의해 이루어진다.The treatment target gas introduced through the gas inlet 12 (eg, a high concentration complex malodorous gas from the food treatment facility) passes through the alkali gas removal filler 32a as shown. On the other hand, the acidic water from the acidic water circulation tank 40 provided in the lower portion of the alkali gas removal filler 32a is pumped by the acidic water circulation pump 44 via the acidic water circulation line 42. It is injected through the acidic water injection nozzle 34a provided at the upper portion of the alkali gas removal filler 32a. An appropriate reaction is induced by supplying acidic water through the acidic water injection nozzle 34a. At this time, the pH is adjusted by the pH controller 38 provided in the acidic water circulation tank (40).

또한, 상승하는 처리 대상 가스는 도시된 바와 같이 동일한 과정을 1회 이상 더 거치게 되며, 이러한 과정은 상기한 바와 같이 이루어진다.In addition, the rising object gas is subjected to the same process one or more times as shown in the figure, and this process is performed as described above.

도면부호 42는 제 1 산성수 공급라인을 나타내고, 도면부호 48a는 제 1 산성수 공급조절밸브를 나타내며, 도면부호 32b는 알칼리가스제거용 충진물을 나타내고, 도면부호 46b는 제 2 산성수 공급라인을 나타내며, 도면부호 48b는 제 2 산성수 공급 펌프를 나타내고, 도면부호 34b는 산성수 분사노즐을 나타낸다.Reference numeral 42 denotes a first acidic water supply line, reference numeral 48a denotes a first acidic water supply control valve, reference numeral 32b denotes a filler for removing alkali gas, and reference numeral 46b denotes a second acidic water supply line. Reference numeral 48b denotes a second acidic water supply pump, and reference numeral 34b denotes an acidic water injection nozzle.

이러한 과정을 거친 처리 대상 가스는 산성 비산수분 제거기(36)를 거친 후, 산세정부(30)의 측벽과 다음 단계의 공정을 위해 마련된 알칼리세정부(50)의 측벽에 의해 규정되어 형성된 제 1 가스이동통로를 통해 알칼리세정부(50)의 하부로 유입된다.The gas to be treated has passed through the acidic fugitive moisture remover 36 and is then defined by the side wall of the pickling unit 30 and the side wall of the alkaline washing unit 50 provided for the next step process. It flows into the lower part of the alkaline washing unit 50 through the moving passage.

알칼리세정부(50)에는 일부 또는 전부가 상기 산세정부(30)와 평행하게 배치되어 있으며 각각의 알칼리세정부(50)에는 산가스제거용 충진물(52), 알칼리수 분사노즐(54) 및 알칼리성 비산수분 제거기(56)가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있다.Some or all of the alkaline washing unit 50 is disposed in parallel with the pickling unit 30, and each of the alkaline washing unit 50 has an acid gas removal filler 52, an alkaline water injection nozzle 54 and alkaline scattering. The water remover 56 is disposed in this order in the flow direction of the gas to be treated.

알칼리세정부(50)에서 일어나는 일련의 반응 메카니즘의 다양한 예는 하기 표 3에 수록되어 있다.Various examples of a series of reaction mechanisms that occur in the alkaline washing unit 50 are listed in Table 3 below.

Figure 112010041430984-pat00003
Figure 112010041430984-pat00003

잔여 처리 대상 가스는 알칼리세정부 입구(48)를 통해 유입된 후, 도시된 바와 같이 산가스제거용 충진물(52)을 통과하게 된다. 한편, 상기 산가스제거용 충진물(52)의 하부에 마련된 산화수 순환수조(62)로부터의 알칼리수는 산성수 순환펌프(66)에 의한 펌핑에 의해 산성수 순환라인(64)을 경유하여 상기 산가스제거용 충진물(52)의 상부에 마련된 알칼리수 분사노즐(54)을 통해 분사된다.The remaining gas to be treated is introduced through the alkaline washing unit inlet 48, and then passes through the acid gas removal filler 52 as shown. On the other hand, the alkaline water from the oxidation water circulation tank 62 provided in the lower portion of the acid gas removal filler 52 is pumped by the acidic water circulation pump 66 via the acid water circulation line 64. It is injected through the alkaline water injection nozzle 54 provided on the upper portion of the removal filler (52).

알칼리세정부(50)에서의 처리 과정을 거친 잔여 처리 대상 가스는 도면부호 56으로 도시되어 있는 알칼리성 비산수분 제거기(56)를 거친 후, 갓 모양으로 형상화된 물 방지 커버(58)를 통해 이송된다. 이러한 갓 모양의 물 방지 커버(58)는 도시된 바와 같이 처리 대상 가스의 흐름 방향에 대하여 방사상으로 둘레의 일부 또는 전부가 개방되어 있는 구조를 갖는다.The remaining gas to be treated after the treatment in the alkaline washing unit 50 passes through the alkaline fugitive moisture remover 56, which is indicated by reference numeral 56, and then is conveyed through a freshly shaped water protection cover 58. . The shaded water resistant cover 58 has a structure in which part or all of the circumference is opened radially with respect to the flow direction of the gas to be treated as shown.

알칼리세정부(50)에서의 처리 공정을 거친 가스는 상기 알칼리세정부(50)와 일렬로 배치되어 있는 산화세정부(70)를 거쳐 처리된다.The gas which has undergone the treatment in the alkaline washing unit 50 is treated through the oxidation washing unit 70 arranged in line with the alkali washing unit 50.

산화세정부(70)에는 도시된 바와 같이 상기 알칼리세정부(50)의 가스 흐름방향 하류부에 배치되어 있으며, 중성가스제거용 충진물(72), 산화수분사노즐(74) 및 산화 비산수분 제거기(76)가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있다.Oxidation cleaner 70 is disposed downstream of the gas flow direction of the alkaline cleaner 50, as shown in the neutral gas removal filler 72, the oxidizing water spray nozzle 74 and the oxidizing fly ash removal device 76 ) Are sequentially arranged in the flow direction of the gas to be processed.

산화세정부(70)에서 일어나는 일련의 반응 메카니즘의 다양한 예는 하기 표 4에 수록되어 있다.Various examples of a series of reaction mechanisms occurring in the oxidizer 70 are listed in Table 4 below.

Figure 112010041430984-pat00004
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갓 모양의 물 방지 커버(58)를 통해 방사상으로 빠져나온 잔여 처리 대상 가스는 도시된 바와 같이 중성가스제거용 충진물(72)을 통과하게 된다. 한편, 알칼리세정부(50)의 하부의 일부에 마련된 산화수 순환수조(80)로부터의 산화수는 산화수 순환펌프(84)에 의한 펌핑에 의해 산화수 순환라인(82)을 경유하여 상기 중성가스제거용 충진물(72)의 상부에 마련된 산화수 분사노즐(74)을 통해 분사된다. 도면부호 76은 산화비산수분 제거기를 나타낸다.The remaining gas to be discharged radially through the shaded water protection cover 58 passes through the neutral gas removal filler 72 as shown. On the other hand, the oxidation water from the oxidation water circulation tank 80 provided in a part of the lower portion of the alkaline washing unit 50 is filled with the neutral gas removal via the oxidation water circulation line 82 by pumping by the oxidation water circulation pump 84. It is injected through the oxidation water injection nozzle 74 provided in the upper portion (72). Reference numeral 76 denotes an oxidizing non-acid moisture remover.

이러한 일련의 과정을 거친 처리 대상 가스는 최종적으로 본체의 상부에 마련된 가스 배출구(14)를 통해 배출된다.The gas to be processed which has undergone such a series of processes is finally discharged through the gas outlet 14 provided in the upper portion of the main body.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. It will be appreciated.

10 : 약액세정장치 본체 12 : 가스 유입구
14 : 가스 배출구 30 : 산세정부
32a, 32b : 알칼리가스제거용충진물 34a, 34b : 산성수분사노즐
36 : 산성 비산수분 제거기 38 : pH 조절기
40 : 산성수 순환수조 42 : 산성수 순환라인
44 : 산성수 순환펌프 46 : 제 1 가스이동통로
46a : 제 1 산성수 공급라인 46b : 제 2 산성수 공급라인
48 : 알칼리세정부 입구 48a : 제 1 산성수 공급펌프
48b : 제 2 산성수 공급펌프 50 : 알칼리세정부
52 : 산가스제거용충진물 54 : 알칼리수분사노즐
56 : 알칼리성 비산수분 제거기 58 : 물 방지 커버
60 : pH 조절기 62 : 알칼리수 순환수조
64 : 산성수 순환라인 66 : 산성수 순환펌프
70 : 산화세정부 72 : 중성가스제거용 충진물
74 : 산화수분사노즐 76 : 산화 비산수분 제거기
78 : pH 조절기 80 : 산화수 순환수조
82 : 산화수 순환라인 84 : 산화수 순환펌프10: chemical liquid cleaning device body 12: gas inlet
14 gas outlet 30 sans government
32a, 32b: Alkaline gas removal fillers 34a, 34b: acidic water spray nozzle
36: acidic non-acid water remover 38: pH regulator
40: acidic water circulation line 42: acidic water circulation line
44: acidic water circulation pump 46: the first gas flow passage
46a: first acidic water supply line 46b: second acidic water supply line
48: alkaline washing machine inlet 48a: first acidic water supply pump
48b: second acidic water supply pump 50: alkaline washing machine
52: filler for removing acid gas 54: alkali water spray nozzle
56: alkaline fly ash remover 58: water resistant cover
60: pH regulator 62: alkaline water circulation tank
64: acidic water circulation line 66: acidic water circulation pump
70: oxidant washing unit 72: neutral gas filling
74: oxidized water spray nozzle 76: oxidized fly ash remover
78: pH regulator 80: oxidation water circulation tank
82: oxidation water circulation line 84: oxidation water circulation pump

Claims (5)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 처리 대상 가스를 내부로 유입시키기 위한 가스 유입구(12)와 처리된 가스를 외부로 배출시키기 위한 가스 배출구(14)를 갖는 약액세정장치 본체(10);
상기 가스 유입구(12)를 통해 유입되는 처리 대상 가스 중의 알칼리성 가스를 산세정하기 위해 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 2단 이상의 산세정부(30)로서, 각각의 산세정부에는 알칼리가스제거용 충진물(32a)(32b)(…), 산성수 분사노즐(34a)(34b)(…) 및 산성 비산수분 제거기(36)가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 산세정부(30);
상기 산세정부(30)로부터의 잔여 처리 대상 가스 중의 산성 가스를 알칼리세정하기 위한 알칼리세정부(50)로서, 일부 또는 전부가 상기 산세정부(30)와 평행하게 배치되어 있으며 각각의 알칼리세정부(50)에는 산가스제거용 충진물(52), 알칼리수 분사노즐(54) 및 알칼리성 비산수분 제거기(56)가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 알칼리세정부(50); 및
상기 알칼리세정부(50)로부터의 잔여 처리 대상 가스 중의 중성 가스를 세정하기 위한 산화세정부(70)로서, 상기 알칼리세정부(50)의 가스 흐름방향 하류부에 배치되어 있으며, 중성가스제거용 충진물(72), 산화수분사노즐(74) 및 산화 비산수분 제거기(76)가 처리 대상 가스의 흐름 방향으로 순차적으로 배치되어 있는 산화세정부(70);를 포함하여 이루어지며,
상기 알칼리세정부(50) 중의 가스 흐름방향 하류부와 상기 산화세정부(70)의 가스 흐름방향 상류부 사이의 가스통로에는 처리 대상 가스의 흐름 방향에 대하여 방사상으로 둘레의 일부 또는 전부가 개방된 갓 모양의 물방지 커버(58)가 제공되어 있으며,
상기 산세정부(30)의 가스 흐름방향 하류부와 상기 알칼리세정부(50)의 가스 흐름방향 상류부는 각각에 형성된 측벽에 의해 규정되어 형성된 가스이동통로에 의해 상호 연통되어 있고,
상기 산세정부(30)와 상기 알칼리세정부(50)의 하부에 산성수 순환수조와 알칼리수 순환수조가 각각 제공되어 있으며, 상기 산성수 순환수조는 상기 산세정부(30)에 제공되어 있는 분사노즐(34a, 34b)과 유체적으로 연통되어 있고, 상기 알칼리수 순환수조는 상기 알칼리세정부(50)에 제공되어 있는 분사노즐(54)과 유체적으로 연통되어 있으며,
상기 알칼리수 순환수조에 대하여 구획되어 구분되어 있는 산화수 순환 수조가 약액세정장치 본체(10)의 하단에 별도로 마련되어 있으며, 상기 산화수 순환 수조로부터의 산화수가 상기 산화세정부(70)에 제공되어 있는 산화수 분사 노즐(74)과 유체적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 고농도 복합 악취 제거용의 일체형 다단 약액세정장치.A chemical liquid cleaning device main body (10) having a gas inlet (12) for introducing a gas to be treated therein and a gas outlet (14) for discharging the treated gas to the outside;
In order to pickle the alkaline gas in the gas to be treated flowing through the gas inlet 12, two or more stages of pickling units 30 are sequentially disposed in a flow direction of the gas to be treated, and each pickling unit is free of alkali gas. Pickling parts 30a, 32b, ..., acidic water injection nozzles 34a, 34b, ..., and acidic non-acidic water remover 36 are sequentially arranged in the flow direction of the gas to be treated. );
As the alkaline washing unit 50 for alkali washing the acidic gas in the residual treatment target gas from the pickling unit 30, some or all of them are arranged in parallel with the pickling unit 30, and each alkaline washing unit ( 50, an alkali washing unit 50 in which an acid gas removing filler 52, an alkaline water injection nozzle 54, and an alkaline non-acidic water remover 56 are sequentially arranged in a flow direction of a gas to be treated; And
Oxidation washing unit 70 for cleaning the neutral gas in the residual gas to be processed from the alkaline washing unit 50, disposed downstream of the gas flow direction of the alkaline washing unit 50, the filling material for neutral gas removal 72, an oxidizing water spray nozzle 74 and an oxidizing non-acidic water remover 76 are sequentially disposed in the flow direction of the gas to be treated;
In the gas passage between the gas flow direction downstream part of the alkali washing part 50 and the gas flow direction upstream part of the oxidizing cleaner 70, a part or all of the circumference radially opened with respect to the flow direction of the gas to be treated is formed. Shaped water proof cover 58 is provided,
The gas flow direction downstream portion of the pickling section 30 and the gas flow direction upstream portion of the alkali washing section 50 are communicated with each other by a gas movement passage formed by a side wall formed in each of them.
An acidic water circulating water tank and an alkaline water circulating water tank are provided under the pickling government 30 and the alkaline washing unit 50, respectively, and the acidic water circulating water tank is provided with a spray nozzle provided in the pickling government 30 ( 34a, 34b), and the alkaline water circulation tank is in fluid communication with the injection nozzle 54 provided in the alkaline washing unit 50.
Oxidation water circulation tank partitioned and separated with respect to the alkaline water circulation tank is provided separately at the lower end of the chemical liquid cleaning device main body 10, the oxidation water injection from the oxidation water circulation tank is provided to the oxidation washing unit 70 An integrated multi-stage chemical liquid cleaning device for removing a high concentration of complex odors, which is fluidly connected to the nozzle (74).
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