KR100988691B1 - 광학 측정장치 - Google Patents

Abstract

안정된 측정을 간편하게 실시할 수 있는 광학 측정장치, 및 기판 유지장치를 제공한다.

본 실시의 형태에 관한 광학 측정장치는, 시료를 투과한 투과광을 이용하여 측정을 실시하는 광학 측정장치로서, 시료(50)의 끝단부가 얹어 놓여지는 얹어놓음대(12)와, 시료(50)의 아래쪽에서 Y방향으로 이동 가능하게 설치되어, 시료를 흡착하는 흡착구를 갖는 흡착대(18)와, 흡착대(18)에 설치되어, 상기 시료를 아래쪽으로부터 조명광을 출사하는 조명광원(41)과, 조명광원(41)으로부터 시료를 투과한 투과광을 시료(50)의 위쪽에서 수광하는 측정헤드(22)와, 시료(50)의 아래쪽에 설치되어, 얹어놓음대(12)보다 안쪽에서 시료(50)를 지지하는 복수의 지지부재(16)와, 흡착대(18)에 설치되어, 지지부재(16)와 접촉하는 것에 의해서 일부의 지지부재(16)의 상단을 시료(50)로부터 이간시키는 접촉부(48)를 구비하는 것이다.

Description

광학 측정장치{OPTICAL MEASUREMENT APPARATUS}

본 발명은, 광학 측정장치, 및 기판 유지장치에 관한 것으로, 특히 상세하게는, 시료를 투과한 투과광을 이용하여 측정을 실시하는 광학 측정장치, 및 기판을 흡착하여 유지하는 기판 유지장치에 관한 것이다.

액정표시장치 등의 제조공정에서는, 투명기판에 조명광을 조사하고, 검사를 실시한다. 이러한 검사공정에서는, 시료를 투과한 투과광을 이용하는 경우와, 시료로 반사한 반사광을 이용하는 경우가 있다. 투명한 기판으로서는, 예를 들면, 컬러필터기판, 액정패널, TFT 어레이기판 등이 있다. 근래에는, 이들 기판의 기판 사이즈가 대형화하고 있다.

투과광을 이용한 투과형의 검사장치에서는, 검사대상이 되는 기판을 스테이지상에 얹어 놓는다. 이것에 의해, 안정된 상태로 유지할 수 있다. 기판을 스테이지에 얹어놓은 상태로 기판의 표면측, 또는 이면측으로부터 광원으로부터의 빛을 조사한다. 그리고, 기판 및 스테이지를 투과한 빛을 CCD나 포토 다이오드의 검출기로 검출한다. 따라서, 투과형의 결함 검사장치에 이용되는 스테이지에는 광원으 로부터의 빛을 투과하는 투명한 스테이지가 이용되고 있다(특허문헌 1).

예를 들면, 기판의 상부에 검출기를 배치하고, 투명 스테이지의 하부에 조명광원을 배치한다. 이것에 의해, 기판의 투과상을 촬상할 수 있다. 이러한 투명 스테이지에는, 통상, 유리판 등이 이용된다. 기판상의 미세한 결함을 정확하게 검출하기 위해서는, 기판이 진동하지 않는 것이 바람직한다. 즉, 기판이 진동하면 안정된 측정을 실시할 수 없게 되어 버린다. 기판의 대형화에 수반하여, 그것을 얹어놓기 위한 투명 스테이지도 대형화를 초래해 버린다. 그 때문에, 제진대책이 보다 중요하게 된다. 그러나, 투명한 유리 스테이지의 두께에는, 제한이 있어 일정 이상의 두께로 하는 것이 곤란하다.

또한, 제진로드를 갖는 스테이지장치가 개시되어 있다(특허문헌 2). 제진로드는, 스테이지의 아래쪽에 설치되어 있다. 또한, 기판을 흡착하기 위한 유닛을 기판의 아래에 설치한 검사장치가 개시되어 있다(특허문헌 3). 이 검사장치에서는, 유리기판의 아래에 유닛이 설치되어 있다. 유닛에는, 흡착구, 및 분출구가 설치되어 있다. 흡착구에서 기판을 흡착하는 것에 의해서, 진동을 저감할 수 있다. 기판을 이동시킬 때는, 유닛의 분출구로부터 에어를 분출하고 있다. 그리고, 2개의 유닛의 사이에 수광부(受光部)를 배치하고 있다.

[특허문헌 1] 일본 특허공개공보 2001-148625호(단락번호 0011)

[특허문헌 2] 일본 특허공개공보 2006-337542호

[특허문헌 3] 일본 특허공개공보 2003-279495호

그러나, 특허문헌 2의 스테이지장치에서는, 헤드의 이동에 따라 제진로드를 승강시킬 필요가 있다. 따라서, 제진로드를 승강시키는 구동기구를 제어할 필요가 있다. 또한 특허문헌 3의 검사장치에서는, 기판 전체의 검사를 행하기 위해, 기판을 이동시키고 있다. 기판을 이동시키는 경우, 검사장치가 대형화되어 버린다. 이와 같이, 이들 장치에서는, 투과조명을 하기 위해서 장치가 복잡하게 되어 버린다. 따라서, 투과조명을 이용한 장치에서는, 안정된 측정을 간편하게 실시할 수 없게 되어 버린다고 하는 문제점이 있다.

본 발명은, 이러한 문제점을 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 안정된 측정을 간편하게 실시할 수 있는 광학 측정장치, 및 기판 유지장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 제 1 형태에 관한 광학 측정장치는, 시료를 투과한 투과광을 이용하여 측정을 실시하는 광학 측정장치로서, 상기 시료의 끝단부가 얹어 놓여지는 얹어놓음대와, 상기 시료의 아래쪽에서 제 1 방향으로 이동 가능하게 설치되어, 상기 시료를 흡착하는 흡착구를 갖는 흡착대와, 상기 흡착대에 설치되어, 상기 시료를 아래쪽으로부터 조명광을 출사하는 조명광원과, 상기 조명광원으로부터 상기 시료를 투과한 투과광을 상기 시료의 위쪽에서 수광하는 측정헤드와, 상기 시료의 아래쪽에 설치되어, 상기 얹어놓음대보다 안쪽에서 상기 시료를 지지하는 복수의 지지 부재와, 상기 흡착대에 설치되어, 상기 지지부재와 접촉하는 것에 의해서 일부의 상기 지지부재의 상단을 상기 시료로부터 이간시키는 접촉부를 구비하는 것이다. 이것에 의해, 투과 조명을 이용한 장치이더라도, 안정된 측정을 간편하게 실시할 수 있다.

본 발명의 제 2 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 복수의 지지부재 중 2 이상을 연결하는 샤프트를 더 구비하고, 상기 접촉부가 상기 지지부재에 접촉하는 것에 의해서 상기 샤프트를 회전축으로서 상기 지지부재가 회전하고, 상기 일부의 지지부재의 상단이 상기 시료로부터 이간하는 것이다. 이것에 의해, 지지부재의 수를 증가시킨 경우에서도, 간편한 구성으로 할 수 있다.

본 발명의 제 3 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 조명광원이, 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향을 따라서 선형상으로 상기 시료를 조명하는 것이다. 이것에 의해, 제 1 방향으로만 흡착대를 이동시키면 좋기 때문에, 시료 전체를 간편하게 측정할 수 있다.

본 발명의 제 4 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 제 1 방향에 있어서, 상기 흡착대에 설치된 흡착구가, 상기 조명광원의 양측에 배치되어 있는 것이다. 이것에 의해, 조명되는 영역에 있어서의 진동을 저감할 수 있기 때문에, 안정된 측정이 가능하게 된다.

본 발명의 제 5 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 접촉부의 상기 지지부재와 접촉하는 접촉면이 테이퍼형상이 되어 있는 것이다. 이것에 의해, 충격을 완화할 수 있어, 흡착대를 신속하게 이동시킬 수 있다.

본 발명의 제 6 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 흡착대가, 상기 시료에 대해서 기체를 분출하는 분출구를 갖고 있는 것이다. 이것에 의해, 흡착대의 이동을 신속하게 실시할 수 있다.

본 발명의 제7의 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 접촉부에 의해서 상기 시료로부터 이간한 상기 지지부재가 상기 시료를 지지하는 상태로 되돌아오는 복귀속도가, 상기 지지부재의 위치에 따라서, 다른 것을 특징으로 하는 것이다. 이것에 의해, 지지부재나 시료가 받는 충격을 완화할 수 있다.

본 발명의 제 8 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 제 1 방향을 따라서 설치된 상기 얹어놓음대가 상기 시료의 양측에 각각 배치되어, 상기 복수의 지지부재 중, 상기 제 1 방향에 있어서의 끝단에 설치된 상기 지지부재의 복귀속도가, 다른 지지부재보다 빨라지고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. 이것에 의해, 시료의 중앙에서의 충격을 완화할 수 있다.

본 발명의 제9의 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 지지부재를 원래의 각도로 되돌리는 스프링이 설치되어, 상기 스프링의 강도를 바꾸는 것에 의해서, 상기 지지부재의 복귀속도를 바꾸고 있는 것이다. 이것에 의해, 간편하게 충격을 완화할 수 있다.

본 발명의 제 10 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 지지부재와 충돌하는 것에 의해서, 상기 지지부재가 원래대로 되돌아갈 때의 충격을 흡수하는 쇼크 업소버를 더 갖고, 상기 쇼크 업소버의 강도를 바꾸는 것에 의해서, 상기 지지부재의 복귀속도를 바꾸고 있는 것이다. 이것에 의해, 간편하게 충격을 완화할 수 있다.

본 발명의 제 11 형태에 관한 광학 측정장치는, 상술의 광학 측정장치로서, 상기 접촉부와 상기 지지부재가 접촉하는 부분의 형상을 바꾸는 것에 의해서, 상기 지지부재의 복귀속도를 바꾸고 있는 것이다. 이것에 의해, 간편하게 충격을 완화할 수 있다.

본 발명의 제 12 형태에 관한 기판 유지장치는, 기판의 끝단부가 얹어 놓여지는 얹어놓음대와, 상기 얹어놓음대에 설치되어, 상기 기판을 흡착하는 제 1 및 제 2 흡착부와, 상기 기판의 아래쪽에서 이동 가능하게 설치되어, 상기 기판에 대해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 가동대를 구비하고, 상기 제 1 및 제 2 흡착부의 ON/OFF를 전환하는 전환부를 구비하고, 상기 전환부가, 상기 기판에 대한 상기 가동대의 위치에 따라서, 상기 제 1 및 제 2 흡착부의 한 쪽을 ON하고, 다른 쪽을 OFF하는 것이다. 이것에 의해, 가동대가 이동할 때에, 그 부분의 기판을 확실히 부상할 수 있다. 얹어놓음대와 가동대와의 높이를 접근할 수 있기 때문에, 기판의 평면도를 향상할 수 있다. 따라서, 안정된 측정, 가공 등이 가능하게 된다.

본 발명의 제 13 형태에 관한 기판 유지장치는, 상기의 기판 유지장치로서, 상기 얹어놓음대가 상기 기판의 양측의 끝단부를 얹어놓고, 상기 가동대가 양측의 상기 얹어놓음대의 사이를 통과하도록, 제 1 방향을 따라서 이동하고, 상기 기판의 양측에 설치된 상기 얹어놓음대의 각각에는, 상기 제 1 방향에 있어서의 양단에 상기 제 1 흡착부가 설치되어, 상기 양단에 설치된 상기 제 1 흡착부의 사이에, 상기 제 2 흡착부가 설치되어, 상기 가동대가 상기 제 1 흡착부에 대응하는 위치로 이동했을 때에, 상기 제 1 흡착부가 OFF하고, 또한 상기 제 2 흡착부가 ON하여, 상기 가동대가 상기 제 2 흡착부에 대응하는 위치로 이동했을 때에, 상기 제 1 흡착부가 ON하고, 또한 상기 제 2 흡착부가 OFF하는 것을 특징으로 하는 것이다. 이것에 의해, 가동대가 이동할 때에, 그 부분의 기판을 확실히 부상할 수 있다. 얹어놓음대와 가동대와의 높이를 접근할 수 있기 때문에, 기판의 평면도를 향상할 수 있다. 따라서, 안정된 측정, 가공 등이 가능하게 된다.

본 발명의 제 14 형태에 관한 기판 유지장치는, 상기의 기판 유지장치로서, 상기 제 1 흡착부에 대응하는 위치와, 상기 제 2 흡착부에 대응하는 위치의 경계영역에서는, 상기 제 1 및 제 2 흡착부가 ON이 되는 것이다. 이것에 의해, 경계영역을 통과할 때에도 기판이 이동하지 않기 때문에, 안정된 측정이 가능하게 된다.

본 발명에 의하면, 안정된 측정을 간편하게 실시할 수 있는 광학 측정장치, 및 기판 유지장치를 제공할 수 있다.

실시의 형태 1

본 실시의 형태에 관한 측정장치는, 시료를 투과한 투과광을 이용하여 측정을 실시하는 광학 측정장치이다. 측정장치는, 시료에 설치되어 있는 패턴이나 결함을 측정한다. 구체적으로는, 패턴형상, 패턴폭, 결함의 위치, 결함의 크기, 결함의 형상 등을 측정한다. 따라서, 투과광을 이용하는 현미경이나 검사장치를, 본 실시의 형태에 관한 측정장치로 할 수 있다.

본 발명에 관한 측정장치에 대해 도 1, 및 도 2를 이용하여 설명한다. 도 1은 측정장치의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다. 도 2는 측정장치에 이용되고 있는 스테이지장치의 구성을 모식적으로 나타내는 사시도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 측정장치(100)는, 정반(定盤)(11), 얹어놓음대(12), 가이드 레일 (14), 지지부재(16), 흡착대(18), X레일(21), 측정헤드(22), Y레일(23), 및 접촉부 (48)를 갖고 있다. 측정장치(100)는, 시료(50)를 검사하기 위한 검사장치이다. 또한, 도 2에 나타내는 바와 같이, 시료(50)를 유지하기 위한 스테이지장치(10)는, 정반(11), 얹어놓음대(12), 가이드 레일(14), 지지부재(16), 흡착대(18)를 갖고 있다.

여기에서는, 시료(50)를 액정표시장치 등의 표시장치에 이용되는 컬러필터기판으로서 설명한다. 컬러필터기판은 R, G, B의 삼색의 착색층과 착색층의 사이에 설치된 차광층을 구비하고 있다. 본 실시의 형태에 관한 측정장치(100)에서는 시료(50)의 아래에 흡착대(18)가 설치되어 있다. 그리고, 흡착대(18)에 설치된 조명광원(41)에 의해 시료(50)를 이면측으로부터 조명하고 있다. 시료(50)의 위에는, 측정헤드(22)가 배치된다. 이 측정헤드(22)에 설치된 광검출기로 시료(50)를 투과한 투과광을 수광한다. 검출기는, 예를 들면, CCD카메라 등이다. 이것에 의해, 시료(50)의 상을 촬상할 수 있다. 이것에 의해, 시료(50)의 패턴형상, 패턴폭 등이 측정된다. 또한, 정상적인 패턴과 비교하는 것에 의해서, 결함의 크기나 위치를 측정할 수 있다. 그리고, 시료(50)가 정상인지 아닌지의 검사를 한다.

도 1, 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 수평면을 XY평면으로 한다. 또한, X방향과 Y방향과는 서로 직교한다. 시료(50)는, XY평면에 대략 수평으로 배치되어 있다. 또한, 연직방향을 Z방향으로 한다. 한편, 정반(11)의 상면은, XY면에 평행하게 된다. 정반(11)은, 예를 들면, 마루면에 대해서 움직이지 않도록, 고정되어 있다. 또한, 진동을 흡수하는 덤퍼 등을 사이에 두고 정반(11)을 고정시켜도 좋다.

정반(11)의 양단에는, Y레일(23)이 각각 배열설치되어 있다. Y레일(23)은, Y방향을 따르고 있다. 즉, Y레일(23)의 길이방향이 Y방향으로 평행하게 된다. 이 2개의 Y레일(23)의 위에는 X레일(21)이 설치되어 있다. 이 X레일(21)은 시료(50)를 타넘도록, X방향을 따라서 설치되어 있다. X레일(21)의 길이방향이 X방향으로 평행하게 된다. X레일(21)에는 측정헤드(22)가 부착되어 있다. 측정헤드(22)는 X레일(21)에 대해서 이동 가능하게 설치되어 있다. 이것에 의해, 측정헤드(22)가 X방향을 따라서 이동한다. 측정헤드(22)에는, 카메라 등의 광검출기나, 렌즈 등이 설치되어 있다. 측정헤드(22)는, 후술하는 흡착대(18)의 조명광원(41)으로부터의 빛을 수광한다. 게다가, 측정헤드(22)에 낙사(落射) 조명 광학계를 배치해도 좋다. 이것에 의해, 투과 조명과 낙사 조명과의 양쪽 모두를 이용할 수 있다. 또한, 측정헤드(22)에 레이저 가공용의 레이저 광원을 배열설치해도 좋다. 이것에 의해, 결함 개소를 수정할 수 있게 된다.

게다가, X레일(21)은 Y레일(23)에 대해서 이동 가능하게 설치되어 있다. 이것에 의해, X레일(21)이 Y방향으로 이동한다. 따라서, 측정헤드(22)는 시료(50)의 위를 XY방향으로 이동한다. 즉, 측정헤드(22)를 X방향으로 이동시켜, 측정헤드 (22)가 부착된 X레일(21)을 Y방향으로 이동시킴으로써, 측정헤드(22)를 2차원적으로 이동시킬 수 있다. 이것에 의해, 시료(50) 전면에 대해서 측정을 실시할 수 있다. 또한, 측정장치(100)의 자국을 작게 할 수 있기 때문에, 생산성을 향상할 수 있다. 측정헤드(22)나 X레일(21)의 구동은, AC써보모터 등의 공지의 방법을 이용하여 실시할 수 있다.

게다가, 정반(11)의 위에는, 2개의 얹어놓음대(12)가 고정되어 있다. 시료 (50)는, 이 얹어놓음대(12)의 위에 얹어놓여진다. 얹어놓음대(12)는 Y방향을 따라서 설치되어 있다. 즉, 얹어놓음대(12)의 길이방향이 Y방향과 평행하게 된다. 그리고, 얹어놓음대(12)는, 2개의 Y레일(23)의 사이에 배치된다. 얹어놓음대(12)는, 시료(50)에 크기 대응하는 거리만큼 이간되어 있다. 따라서, 시료(50)의 양단이 얹어놓음대(12)의 위에 얹어놓여진다. 즉, 얹어놓음대(12)의 상면이 시료(50)를 얹어놓기 위한 얹어놓음면이 된다.

정반(11)의 위에는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 2개의 가이드 레일(14)이 고정되어 있다. 한편, 도 2에서는, 1개의 가이드 레일(14)에 대해서 생략하여 도시하고 있다. 가이드 레일(14)은, Y방향을 따라서 설치되어 있다. 즉, 가이드 레일(14)의 길이방향이 Y방향과 평행하게 된다. 가이드 레일(14)은, 2개의 얹어놓음대(12)의 사이에 배치되어 있다. 가이드 레일(14)의 위에는, 시료(50)가 배열설치되어 있다. 따라서, 가이드 레일(14)은, 얹어놓음대(12)보다 낮아져 있다. 즉, 가이드 레일(14)의 상면은, 얹어놓음대(12)의 얹어놓음면보다 낮아져 있다. 이것 에 의해, 가이드 레일(14)과 시료(50)의 사이에 틈새가 형성된다.

이 가이드 레일(14)의 위에는, 흡착대(18)가 이동 가능하게 지지되어 있다. 예를 들면, 리니어 가이드 등에 의해서, 흡착대(18)가 가이드 레일(14)에 부착되어 있다. 여기에서는, 2개의 가이드 레일(14)에 의해서, 흡착대(18)가 슬라이드 이동 가능하게 지지되어 있다. 이것에 의해, 흡착대(18)를 수평으로 지지할 수 있다. 흡착대(18)는, 가이드 레일(14)을 따라서, Y방향으로 이동한다. 이것에 의해, 조명을 실시하는 위치까지, 흡착대(18)를 이동할 수 있다.

흡착대(18)는, 예를 들면, 직사각형의 평판형상 부재이다. 흡착대(18)는, X방향을 따라서 설치되어 있다. 즉, 흡착대(18)의 길이방향이, X방향과 평행하게 된다. 흡착대(18)는, 2개의 얹어놓음대(12)의 사이에 배치되어 있다. 흡착대(18)는, 2개의 얹어놓음대(12)의 간격과 대략 같은 길이가 되고 있다. 따라서, 흡착대 (18)는, 한 쪽의 얹어놓음대(12)의 안쪽 근방으로부터, 다른 쪽의 얹어놓음대(12)의 안쪽 근방까지 설치되어 있다. 즉, 흡착대(18)는, X방향에 있어서의 검사범위 전체를 포함하고 있다. 흡착대(18)는, 가이드 레일(14)을 따라서, Y방향으로 슬라이드한다. 즉, 가이드 레일(14)이 흡착대(18)를 이동시키기 위한 슬라이드 레일이 된다. 흡착대(18)의 구동은, AC써보모터 등의 공지의 방법을 이용하여 실시할 수 있다.

흡착대(18)에는, 조명광원(41)이 설치되어 있다. 조명광원(41)은, 예를 들면, 선형상의 빛을 출사하는 선형상 광원이다. 여기에서는, X방향으로 평행한 선형상의 스포트를 갖는 조명광이, 조명광원(41)으로부터 출사된다. 이것에 의해, X 방향에 대해 검사범위 전체를 조명할 수 있다. 이 흡착대(18)의 위에, 시료(50)가 얹어놓여진다. 그리고, 흡착대(18)에는, 시료(50)를 흡착하기 위한 흡착구가 설치되어 있다. 시료(50)를 흡착한 상태로, 측정을 한다. 이것에 의해, 진동을 저감할 수 있어, 안정된 측정을 실시할 수 있다.

이 흡착대(18)의 구성에 대해서, 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은, 흡착대(18)의 구성을 나타내는 측면도이다. 도 3(a)은, 흡착대(18)가 이동하고 있는 상태를 나타내고, 도 3(b)은, 흡착대(18)가 정지하고 있는 상태를 나타내고 있다.

흡착대(18)에는, 선형상 광원인 조명광원(41)이 설치되어 있다. 조명광원 (41)은, Y방향에 있어서의 흡착대(18)의 거의 중앙에 배치되어 있다. 조명광원 (41)은 LED(Light Emitting Diode)(42)와 확산판(43)을 갖고 있다. LED(42)와 확산판(43)은, 흡착대(18)에 설치된 오목부에 매설되어 있다. 구체적으로는, Y방향에 있어서의 흡착대(18)의 거의 중앙에 오목부를 형성한다. 오목부는 X방향을 따라서 형성되어 있다. 이 오목부는, X방향에 있어서, 흡착대(18)의 대략 전체에 설치된 홈이다. 그리고, 그 오목부 안에, 점광원인 LED(42)를 배열설치한다. 여기에서는, 복수의 LED(42)가 X방향을 따라서 배열되어 있다. 복수의 LED(42)를 등간격으로 X방향을 따라서 일렬로 배치한다. 예를 들면, LED(42)를 2cm 간격으로 배치한다. 그리고, 복수의 LED(42)의 위에, 확산판(43)을 씌운다. 확산판(43)은, X방향을 길이방향으로 하는 직사각형의 평판형상 부재이다. 이것에 의해, 일렬로 배치된 LED(42)가 확산판(43)으로 덮인다. 확산판(43)은, 흡착대(18)의 오목부 안에 배열설치된다. 따라서, 확산판(43), 및 LED(42)는 오목부의 위쪽으로는 불거져 나오지 않았다. 흡착대(18)에 의해서 흡착된 시료(50)와 조명광원(41)과의 사이에 틈새가 생긴다. 이것에 의해, 시료(50)를 수평으로 유지할 수 있다.

LED(42)는 위쪽으로 조명광을 출사한다. 확산판(43)을 향하여 조명광이 출사된다. 그리고, LED(42)로부터 출사된 빛이, 확산판(43)으로 확산된다. 즉, 확산판(43)을 사이에 두고 LED(42)로부터의 빛이 시료(50)에 입사한다. 이것에 의해, 선형상의 영역을 균일하게 조명할 수 있다. 한편, 조명광원(41)은, 선형상 광원인 것이 바람직하다. 선형상 광원을 이용하는 것에 의해서, X방향에 있어서의 검사 범위 전체를 조명할 수 있다. 따라서, 조명광원을 Y방향으로만 이동시키는 것만으로, 시료(50) 전체를 검사할 수 있다. 즉, 흡착대(18)에 한 방향의 구동기구가 있으면, 시료(50)의 임의의 위치에서 측정할 수 있다.

또한, 확산판(43) 대신에, 굴절률이 높은 도광판을 이용할 수 있다. 이 경우, 도광판의 측면이나 하면에 빛을 입사하면, 그 빛은, 도광판내에서 전반사를 반복하여 전파한다. 그리고, 도광판의 상면으로부터 빛이 출사한다. 이것에 의해, LED(42)의 수를 적게 해도, 선형상의 영역을 균일하게 조명할 수 있다. 게다가, 조명광원(41)으로서 예를 들면, 램프광원 등을 이용할 수 있다. 물론, 조명광원 (41)은 이들 구성으로 한정되는 것은 아니다. 게다가, 조명광원(41)은 선형상 광원에 한정되는 것은 아니다. 측정헤드(22)로 측정되고 있는 영역만을 조명하도록 해도 좋다. 즉, 측정헤드(22)에 설치되어 있는 광검출기의 시야가 균일하게 조명되고 있으면 좋다. 구체적으로는, 복수의 LED(42) 중 일부만을 발광시켜, 시야를 균일하게 조명할 수 있다. 이 경우, 측정헤드(22)가 X방향으로 이동하면, 발광하 는 LED(42)가 차례대로 스캔 된다. 즉, 측정헤드(22)의 위치에 따라서, LED(42)의 온 오프를 전환한다. 이와 같이, 선형상의 조명영역을 조명 가능한 조명광원(41)을 이용하는 것이 바람직하다. 즉, Y방향으로 이동하지 않고도, 조명광원(41)이 X방향에 따른 선형상의 영역을 조명한다. 띠형상의 영역을 조명하도록 해도 좋다.

흡착대(18)는, 시료(50)를 흡착하기 위한 흡착구(45)가 설치되어 있다. 따라서, 흡착구(45)로부터 기체를 흡인하면, 시료(50)의 일부가, 흡착대(18)에 흡착된다. 구체적으로는, X방향을 길이방향으로 하는 띠형상의 영역이, 도 3(b)에 나타내는 바와 같이, 흡착된다. 이것에 의해, 흡착대(18)에 대응하는 영역에 있어서, 시료(50)가 유지된다. 이와 같이, 흡착대(18)는, 시료(50)의 일부를 흡착하고, 유지한다. 측정을 실시하고 있는 동안은, 흡착대(18)에 의해서 시료(50)가 흡착되어 있다. 따라서, 측정중에 발생하는 진동을 저감할 수 있어, 보다 안정된 측정이 가능하게 된다.

흡착구(45)는, X방향을 길이방향으로 하는 조명광원(41)의 양측에 배치되어 있다. 즉, 2개의 흡착구(45)가 Y방향에 있어서, 이간 배치되어 있다. 그리고, 2개의 흡착구(45)의 사이에, 조명광원(41)이 배치된다. 흡착구(45)는, X방향으로 이어진 홈형상의 것이다. 혹은, 복수의 흡착구(45)를 X방향을 따라서 배열해도 좋다. 조명광원(41)의 양측에 흡착구(45)를 설치하는 것에 의해서, 조명되어 있는 조명영역을 확실히 흡착할 수 있다. 따라서, 정확하게 측정할 수 있다.

게다가, 흡착대(18)에는, 기체를 분출하는 분출구(46)가 설치되어 있다. 흡착구(45)의 바깥쪽에 분출구(46)가 배치된다. 따라서, Y방향에 있어서, 흡착구 (45)는, 조명광원(41)의 양측에 설치되어 있다. 분출구(46)로부터 기체가 분출되면, 시료(50)와 흡착대(18)와의 사이에 틈새(에어 갭)가 생긴다. 도 3(a)에 나타내는 바와 같이, 분출구(46)로부터 기체가 분출된 부분에서는, 시료(50)가 부상한다. 즉, 시료(50)의 흡착대(18)에 대응하는 부분이 위쪽으로 부풀어 오른다. 이것에 의해, 흡착대(18)와 시료(50)와의 사이에 틈새가 생긴다. 따라서, 이동할 때는, 흡착을 정지하고, 분출구(46)로부터 기체를 분출하게 한다. 이것에 의해, 시료(50)에 간섭하지 않고, 흡착대(18)를 이동시킬 수 있다. 흡착대(18)를 신속하게 이동시킬 수 있다. 분출구(46)는, X방향으로 이어진 홈형상의 것이다. 혹은, 복수의 분출구(46)를 X방향을 따라서 배열해도 좋다. 흡착구(45)의 바깥쪽에 분출구 (46)를 설치하는 것에 의해서, 시료(50)와 흡착대(18)를 확실히 이간시킬 수 있다. 분출구(46)는, Y 방향에 있어서의 흡착대(18)의 끝단 근방에 설치하는 것이 바람직하다. 흡착대(18)를 보다 신속하게 이동시킬 수 있다.

실제로 검사를 실시할 때는, 흡착대(18)의 위에 측정헤드(22)를 배치한다. 즉, 흡착대(18)와 측정헤드(22)의 사이에, 시료(50)가 배치된다. 그리고, 시료 (50)를 흡착하여 유지한다. 흡착대(18)의 조명광원(41)에 의해서, 시료(50)를 아래쪽으로부터 조명한다. 시료(50)를 투과한 투과광을 측정헤드(22)에 설치된 광검출기로 수광한다. 광검출기는, 전형적으로는, CCD카메라이다. 이 CCD카메라에 의해서 시료(50)의 상을 촬상한다. 이것에 의해, 시료(50)의 패턴형상 등을 측정할 수 있다. 그 위치에서의 측정이 종료하면, 측정헤드(22), 및 흡착대(18)를 동기하여 이동시킨다. 이동시키는 경우는, 우선, 흡착을 정지하고, 분출구(46)로부터 기 체를 분출시킨다. 이것에 의해, 시료(50)와 흡착대(18)와의 사이에 틈새가 생긴다. 그리고, 다음의 측정위치까지 이동하면, 분출을 정지하고, 흡착구(45)로부터 흡착한다. 이것에 의해, 시료(50)가 유지된다. 이와 같이 하여, 시료(50)의 전체 또는 일부에 대해서, 검사를 실시한다.

시료(50)의 대략 전체를 검사하는 경우, 시료(50)의 일단까지 흡착대(18)를 이동시킨다. 또한, 측정헤드(22)를 흡착대(18)의 바로 위로 이동시킨다. 여기에서는, 측정헤드(22)를 X방향에 있어서의 끝단까지 이동시켜 둔다. 그리고, 흡착구(45)로부터 에어를 흡인하여, 시료(50)를 흡착한다. 시료(50)를 흡착 유지한 상태로, 조명광원(41)으로부터 선형상의 조명광을 출사시킨다. 이 조명광 중, 시료 (50)를 투과한 투과광을 측정헤드(22)로 검출한다. 측정헤드(22)는, 시료(50)의 위쪽에서, 시료(50)를 투과한 투과광을 수광한다. 측정헤드(22)는, 선형상의 조명영역 중 일부를 촬상한다. 이것에 의해, 시료(50)의 상이 촬상되어, 시료(50)의 일부를 관찰할 수 있다. 그리고, 측정헤드(22)를 X방향으로 이동시켜가, 1라인분의 검사를 실시한다. 즉, 측정헤드(22)를 일단으로부터 타단까지 이동시켜 간다. 이동중에, 조명광원(41)으로 조명되고 있는 선형상의 조명영역을 차례대로 촬상한다. 이와 같이 하여, 선형상의 조명영역 전체에 대한 측정을 실시해 간다.

1라인의 검사가 종료하면, 흡착대(18)에 의한 흡착을 해제하고, 분출구(46)로부터 기체를 분출한다. 이것에 의해, 시료(50)와 흡착대(18)가 이간된 상태가 된다. 그리고, 분출시킨 채로, 흡착대(18)와 측정헤드(22)를 Y방향으로 옮긴다. 즉, 1라인분만큼, 흡착대(18), 및 측정헤드(22)를 이동시킨다. 그리고, 마찬가지로 X방향으로 측정헤드(22)를 이동시키고, 2라인분의 측정을 실시한다. 이것을 반복하여, 시료(50)의 타단까지 측정을 실시한다. 이와 같이 하여, 시료(50)에 대해서 측정할 수 있다. 즉, 흡착대(18)를 Y방향으로 주사하는 것과 함께, 측정헤드 (22)를 래스터 주사한다. 이것에 의해서, 시료(50)의 전체를 검사할 수 있다.

이와 같이, 측정을 실시하는 영역이 흡착대(18)의 바로 위쪽에 배치된다. 그리고, 흡착대(18)의 일부에 대응하는 영역만이 조명되고 있다. 즉, 흡착대(18)의 조명광원(41)에 대응하는 선형상의 영역만이, 조명되고 있다. 이 조명광으로 조명된 조명영역의 일부만이 측정헤드(22)의 시야가 되고 있다. 흡착하는 것에 의해서, 촬상되고 있는 영역에 발생하는 진동을 저감할 수 있다.

게다가, 도 1, 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 정반(11)의 위에는, 복수의 지지부재(16)가 설치되어 있다. 지지부재(16)는, 얹어놓음대(12)의 안쪽에 배치된다. 지지부재(16)는, 시료(50)를 지지하는 핀형상의 부재이다. 각각의 지지부재 (16)는, Z방향을 따라서 설치되어 있다. 그리고, 지지부재(16)의 상단이 시료(50)에 접촉하는 것에 의해서, 시료(50)가 지지된다. 즉, 흡착대(18) 이외의 부분을, 지지부재(16)로 지지할 수 있다. 이것에 의해, 시료(50)에 대한 진동을 보다 저감할 수 있다. 또한, 시료(50)의 휘어짐이 저감된다.

복수의 지지부재(16)가 매트릭스형상으로 배열되어 있다. 복수의 지지부재 (16)를 등간격으로 배열해도 좋다. 도 1, 및 도 2에서는, X방향으로 4개의 지지부재(16)가 배열되고, Y방향으로 7개의 지지부재(16)가 배열되어 있다. 따라서, 28개의 지지부재(16)가 설치되어 있다. 물론, 지지부재(16)의 수나 배열은, 상기의 예에 한정되는 것은 아니다. 여기서, 지지부재(16)의 배열에 있어서, X방향을 가로열로 하고, Y방향을 세로열로 한다. X방향에 있어서, 지지부재(16)는, 가이드 레일(14)의 양측에 배치된다. 즉, 지지부재(16)의 세로열과 세로열과의 사이에, 가이드 레일(14)이 배치된다. 보다 구체적으로는, 도 1의 오른쪽에서 1열째의 지지부재(16)와 2열째의 지지부재(16)의 사이에 1개의 가이드 레일(14)이 배치된다. 또한, 도 1의 오른쪽에서 3열째의 지지부재(16)와 4열째의 지지부재(16)의 사이에 1개의 가이드 레일(14)이 배치된다.

지지부재(16)는 시료(50)의 아래쪽에 배치된다. 따라서, 얹어놓음대(12)의 얹어놓음면보다 지지부재(16)의 상단이 대략 같은 높이가 되어 있다. 또한, 시료 (50)의 휘어짐을 고려하여, 지지부재(16)의 상단을 얹어놓음면보다 약간 낮게 해도 좋다. 지지부재(16)의 상세한 구성에 대해서는, 후술한다.

게다가, 흡착대(18)에는, 접촉부(48)가 설치되어 있다. 접촉부(48)는, 흡착대(18)와 함께 이동한다. 이 접촉부(48)가 지지부재(16)와 접촉하는 것에 의해서, 지지부재(16)가 회전한다. 이것에 의해, 지지부재(16)가 넘어져, 지지부재(16)와 시료(50)와의 사이에 틈새가 발생한다. 이 틈새를 흡착대(18)가 통과한다. 흡착대(18)와 지지부재(16)가 충돌하는 것을 막을 수 있다. 즉, 흡착대(18)가 이동할 때에, 지지부재(16)와 간섭하지 않게 된다. 예를 들면, 흡착대(18)가 이동한 위치의 지지부재(16)가 회전한다. 따라서, Z방향으로 연장하여 설치되어 있는 지지부재(16)가 넘어져, 지지부재(16)가 Z방향으로부터 기울어진다. 이것에 의해, 지지부재(16)의 상단이, 시료(50)의 하면으로부터 이간한다. 시료(50)의 바로 아래를 흡착대(18)가 통과하기 위한 스페이스가 형성되는 흡착대(18)가 시료(50)와 지지부재(16)와의 사이를 통과한다.

다음에 도 4, 및 도 5를 이용하여 지지부재(16)의 회전동작에 대해서 설명한다. 도 4는, 스테이지장치(10)의 구성을 모식적으로 나타내는 측면도이다. 보다 구체적으로는, 도 4(a)는, 지지부재(16)가 시료(50)를 지지하고 있는 상태를 나타내는 측면도이며, 도 4(b)는, 시료(50)를 지지하고 있지 않는 상태를 나타내는 측면도이다. 즉, 도 4(a)는 지지부재(16)가 접촉부(48)와 접촉하고 있지 않는 상태를 나타내고 있다. 도 4(b)는, 지지부재(16)가 접촉부(48)와 접촉하고, 지지부재 (16)가 회전하고 있는 상태를 나타내고 있다. 도 5는, 지지부재(16)의 동작을 설명하기 위한 도면이다.

도 4(a)에 나타내는 바와 같이, 복수의 지지부재(16)가 샤프트(35)에 의해서 연결되어 있다. 샤프트(35)가, 지지부재(16)를 회전시키기 위한 회전축이 된다. 샤프트(35)는, X방향을 따라서 설치되어 있다. 샤프트(35)는, 지지부재(16)의 하부에 설치된 접속부(32)에 접속되어 있다. 이것에 의해, X방향에 인접하는 지지부재(16)가 샤프트(35)에 의해서 접속된다. 접속부(32)의 위쪽에는, 지지 핀(34)이 연장하여 설치되어 있다. 지지부재(16)가 접촉부(48)에 접촉하고 있는 상태에서는, 지지 핀(34)의 상단이 시료(50)와 접촉하고 있다.

게다가, X방향에 있어서의 양단의 지지부재(16)에 접속된 샤프트(35)는, 얹어놓음대(12)에 부착되어 있다. 얹어놓음대(12)는, 샤프트(35)를 회전 가능하게 지지하고 있다. 샤프트(35)는, 가이드 레일(14)에 설치된 관통구멍에 삽입되어 있 다. 이와 같이, X방향에 배열된 4개의 지지부재(16)가 샤프트(35)에 의해서 연결된다. 즉, 가로 일렬 모든 지지부재(16)가 샤프트(35)에 의해서 연결된다. 이것에 의해, Y방향에 있어서 같은 위치에 있는 복수의 지지부재(16)가, 동시에 회전한다. 예를 들면, 1개의 지지부재(16)가 샤프트(35)를 회전축으로서 회전하면, 다른 3개의 지지부재(16)도 회전한다. 이 때, 4개의 지지부재(16)는 같은 각도로 회전한다. 가로 일렬의 지지부재(16)가 동시에 회전한다.

게다가, 4개의 지지부재(16)의 하나에는, 캠 롤러(31)가 설치되어 있다. 도 4에서는, 오른쪽에서 2개째의 지지부재(16)에 캠 롤러(31)가 설치되어 있다. 흡착대(18)가 지지부재(16)의 근방까지 이동하면, 접촉부(48)가 캠 롤러(31)에 접촉한다. 접촉부(48), 및 캠 롤러(31)는 캠 기구를 구성하고 있다. 따라서, 접촉부 (48)가 캠 롤러(31)와 접촉하면, 도 5에 나타내는 바와 같이, 지지부재(16)가 회전한다. 즉, 접촉부(48)의 Y방향의 직진운동이, 샤프트(35)를 회전축으로 하는 회전운동으로 변환된다. 이것에 의해, 캠 롤러(31)가 부착된 지지부재(16)가 회전한다. 따라서, 시료(50)를 지지하고 있던 지지 핀(34)의 상단(37)이 시료(50)로부터 이간한다. 즉, 회전한 지지부재(16)는, 시료(50)를 지지하지 않게 된다.

또한, 캠 롤러(31)가 설치된 지지부재(16)와 다른 지지부재(16)는 샤프트 (35)에 의해서 연결되어 있다. 이 때문에, 가로 일렬의 지지부재(16)가 동시에 회전한다. 도 4(b)에 나타내는 바와 같이, 시료(50)와 지지부재(16)가 이간한다. 즉, 흡착대(18)가 통과하기 위한 스페이스가 시료(50)의 아래에 형성된다. 흡착대 (18)가 회전한 가로 일렬의 지지부재(16)를 통과할 수 있게 된다. 이와 같이, 간 편한 기구로, 흡착대(18)와 지지부재(16)와의 간섭을 막을 수 있다.

도 5에 나타내는 바와 같이, 접촉부(48)는, Y방향에 있어서 흡착대(18)의 흡착면보다 넓은 폭으로 형성되어 있다. 이것에 의해, 흡착대(18)의 바로 아래에 배치되는 지지부재(16)가 회전한다. 흡착대(18)가 통과 가능한 스페이스가 확보된다. 지지부재(16)의 바로 위쪽에 대해서도 측정할 수 있다. 게다가, 도 5에 나타내는 바와 같이, 캠이 되는 접촉부(48)의 양단이, 테이퍼형상이 되어 있다. 즉, 접촉부(48)의 캠 롤러(31)와 접촉하는 접촉면이, 수평면으로부터 경사진 테이퍼면으로 되어 있다. 여기에서는, 접촉부(48)의 접촉면이 곡면으로 되어 있다. 따라서, 접촉부(48)의 접촉면이 매끄럽게 변화하고 있다. 이것에 의해, 지지부재(16)가 서서히 회전해 간다. 따라서, 충격을 완화할 수 있다. 따라서, 흡착대(18)의 이동속도를 향상할 수 있어, 흡착대(18)를 신속하게 이동시킬 수 있다.

흡착대(18)가 더 이동하여, 회전한 지지부재(16)를 완전하게 통과하면, 접촉부(48)가 캠 롤러(31)로부터 멀어진다. 이것에 의해, 지지부재(16)가 원래대로 되돌아가, 시료(50)와 접촉한다. 즉, 지지부재(16)의 상단(37)이 시료(50)의 하면과 접촉한다. 또한, 접촉부(48)의 양단이 테이퍼형상이 되어 있기 때문에, 지지부재(16)는 서서히 회전하여, 원래의 각도로 되돌아온다. 이 때문에, 시료(50)와 지지부재(16)가 접촉할 때의 충격을 완화할 수 있다. 한편, 캠 롤러(31)와 접촉부 (48)가 접촉하고 있지 않는 상태로, 지지부재(16)가 원래대로 되돌아가도록 힘을 가하고 있어도 좋다. 이것에 의해, 접촉부(48)가 캠 롤러(31)로부터 멀어지면, 지지부재(16)가 원래의 회전 각도로 되돌아온다. 지지부재(16)의 상단이 시료(50)와 접촉하여, 시료(50)를 지지한다. 따라서, 도 4에 나타내는 상태로 되돌아온다. 한편, 지지부재(16)는 샤프트(35)를 회전축으로 하여, 양방향으로 회전운동한다. 이것에 의해, 흡착대(18)가 ±Y방향의 어느 쪽으로 이동하고 있는 경우에서도, 시료(50)와 지지부재(16)와의 사이에 틈새가 생긴다.

이와 같이, 흡착대(18)의 바로 아래 이외의 지지부재(16)는, 시료(50)를 지지한다. 즉, 흡착대(18)에 대응하는 가로 일렬의 지지부재(16)만이 회전한다. 따라서, 접촉부(48)와 접촉한 지지부재(16)와 같은 가로열의 지지부재(16)가 회전한다. 접촉부(48)와 접촉한 지지부재(16)와 다른 가로열의 지지부재(16)가 회전하지 않고, 시료(50)를 지지하고 있다. 회전한 지지부재(16) 이외의 지지부재(16)가 시료(50)와 접촉하고 있다. 이와 같이, 흡착대(18) 이외의 개소에서는, 지지부재(16)와 지지된다. 따라서, 진동을 저감할 수 있다. 또한, 흡착대(18)의 폭, 및 위치에 의해서, 동시에 가로 2열 이상의 지지부재(16)를 회전시켜도 좋다. 물론, 흡착대(18)가 Y방향에 인접하는 지지부재(16)의 사이에 있는 경우, 모든 지지부재(16)가 시료(50)와 접촉하고 있어도 좋다.

이와 같이, 접촉부(48)는, 흡착대(18)와 함께 이동한다. 이 접촉부(48)가 지지부재(16)와 접촉함으로써, 지지부재(16)가 시료(50)로부터 이간한다. 이 때문에, 진동을 저감하기 위해서 지지부재(16)를 설치한 구성이더라도, 흡착대(18)를 자유롭게 이동시킬 수 있다. 또한, 지지부재(16)를 승강시킬 필요가 없기 때문에, 간편한 구성으로 할 수 있다. 즉, 지지부재의 승강기구, 및 그 제어가 불필요해진다. 측정장치(100)가 단순한 구조가 되기 때문에, 조립공정이 큰 폭으로 단축된 다. 따라서, 생산성을 향상할 수 있다.

게다가, 시료(50)를 반송할 때에, 지지부재(16)의 승강이 불필요하게 된다. 이것에 의해, 택트 타임을 단축할 수 있다. 예를 들면, 시료(50)의 반송, 반출을 실시할 때는, X레일(21), 및 흡착대(18)를 정반(11)의 끝단까지 이동시킨다. 이것에 의해, 측정헤드(22), 및 흡착대(18)가 얹어놓음대(12)보다 바깥쪽으로 퇴피한다. 그리고, 시료(50)를 유지한 반송로봇을 구동하고, 시료(50)를 얹어놓음대(12)상에 반송한다. 그리고, 반송로봇을 하강하고, 얹어놓음대(12)에 시료(50)를 주고 받는다. 이 때, 반송로봇의 핸드는, 지지부재(16), 및 가이드 레일(14)에 간섭하지 않는 위치로 이동한다. 예를 들면, 가이드 레일(14)과 지지부재(16)와의 사이에 반송로봇의 핸드를 이동시킨다. 지지부재(16)와 지지부재(16)와의 사이에 핸드를 이동시켜도 좋다. 이것에 의해, 시료(50)의 로딩, 언로딩을 단시간에 실시할 수 있다. 따라서, 택트타임이 단축되어, 생산성을 향상할 수 있다.

한편, 가로 일렬로 나열한 2개 이상의 지지부재(16)에 캠 롤러(31)를 설치해도 좋다. 그리고, 각각의 캠 롤러(31)에 대해서 접촉부(48)를 접촉시켜도 좋다. 한편, 캠 롤러(31)를 설치하는 지지부재(16)의 수를 줄이는 것에 의해서, 캠 기구의 부품점을 삭감할 수 있다. 게다가, 2 이상의 지지부재(16)를 샤프트(35)로 연결하는 것에 의해서, 캠 기구의 수를 삭감할 수 있다. 따라서, 대형 기판을 검사하기 위해서, 지지부재(16)의 수를 늘린 경우에서도, 간편한 구성으로 할 수 있다.

게다가, 지지부재(16)를 회전시키는 구성에 한정하지 않고, 상하 방향으로 이동시키는 구성으로 해도 좋다. 수평방향의 운동이 연직방향의 운동으로 변환하 는 캠 기구가 설치되어 있으면 좋다. 또한, 흡착대(18)의 이동방향과 조명광원의 조명영역의 방향은 직교하는 것에 한정되지 않는다. 즉, 흡착대(18)의 이동방향과 조명광원의 조명영역의 방향이 다른 방향이면 좋다.

한편, 상술의 설명에서는 액정표시장치 등의 표시장치의 컬러필터기판으로 설명했지만, CCD카메라 등의 고체 촬상소자용의 컬러필터기판에 이용할 수도 있다. 물론, 컬러필터기판 이외의 패턴기판에 대해서 이용 가능하다. 예를 들면, PDP나 브라운관 등의 형광체의 수정에 이용하는 것도 가능하다. 나아가서는, 액정표시장치의 박막 트랜지스터 어레이기판에 대해서 이용하는 것도 가능하다. 또한, 액정표시패널이나 포토마스크 등이더라도 좋다.

변형예

본 변형예에 관한 광학 측정장치에 대해서, 도 6을 이용하여 설명한다. 도 6은, 스테이지장치(10)에 설치되어 있는 지지부재(16)의 배치를 모식적으로 나타내는 상면도이다. 한편, 실시의 형태 1과 같은 구성에 대해서는, 설명을 생략한다. 또한, 도 6에서는, 설명의 간략화를 위해, 일부의 구성에 대해서 생략하고 있다.

여기에서는, 도 6에 나타내는 바와 같이, Y방향에 있어서, 양단이 배치되어 있는 지지부재(16)를 끝단측 지지부재(16a)로 하고, 그 이외의 지지부재(16)를 안쪽 지지부재(16b)로 한다. 따라서, 위로부터 1열째와 위로부터 7열째(아래로부터 1열째)의 지지부재(16)가 끝단측 지지부재(16a)가 된다. 위로부터 2열째∼6열째의 지지 핀이 안쪽 지지부재(16b)가 된다. Y방향에 있어서, 2개의 끝단측 지지부재(16a)의 사이에 안쪽 지지부재(16b)가 배치되어 있다. 또한, 얹어놓음대(12)에 있어서, 시료(50)가 진공 흡착되어 있다.

본 변형예에서는, 접촉부(48)에 의해서 시료(50)로부터 멀어진 지지부재(16)가, 원래의 상태로 되돌아오는 복귀속도를 바꾸고 있다. 즉, 지지부재(16)가 시료 (50)와 이간하고 있는 상태로부터, 시료(50)를 지지하고 있는 상태로 되돌아오는 속도가 다르다. 구체적으로는, 지지부재(16)의 위치에 따라서 지지부재(16)의 복귀속도를 바꾸고 있다. 끝단측 지지부재(16a)와 안쪽 지지부재(16b)에서, 샤프트 (35)를 회전축으로서 회전하는 회전속도가 변화하고 있다. 이 때문에, 접촉부 (48)가 지지부재(16)와 이간한 지지하지 않는 상태로부터, 지지부재(16)가 시료 (50)와 접촉하는 지지상태로 옮길 때까지의 시간이, 지지부재(16)에 따라 다르다. 여기에서는, 끝단측 지지부재(16a)의 복귀속도를 안쪽 지지부재(16b)의 복귀속도보다 빠르게 하고 있다.

얹어놓음대(12)는, 직사각형형상의 시료(50)의 양측을 지지하고 있다. 여기에서는, 시료(50)의 긴 변이 얹어놓음대(12)에 얹어놓여져 있다. 즉, 시료(50)의 긴 변측의 끝단부가 얹어놓음대(12)에 의해서 지지된다. 이 때문에, 직사각형형상의 시료(50)의 짧은 변측의 끝단부는 얹어놓음대(12)에 의해서 지지되지 않는다. 즉, 시료(50)의 짧은 변측은 개방하고 있다. 시료(50)의 짧은 변 근방에서는, 지지하지 않는 상태에서의 휘어짐량이 커진다. 이 때문에, 끝단측 지지부재(16a)의 복귀속도를 안쪽 지지부재(16b)보다 빠르게 하고 있다.

한편, 안쪽 지지부재(16b)에서는, 복귀속도를 늦게 할 수 있다. 안쪽 지지부재(16b)에 대응하는 부분에서는, Y방향에 있어서의 양측에 지지부재(16)가 배치 된다. 예를 들면, 3열째의 안쪽 지지부재(16b)의 양측에는 2열째와 4열째의 안쪽 지지부재(16b)가 배치된다. 따라서, 일렬의 안쪽 지지부재(16b)가 지지하지 않는 상태가 되었다고 해도, 양측의 지지부재(16)가 시료(50)를 지지한다. 이 때문에, 안쪽 지지부재(16b)에 대응하는 부분에서는, 끝단측 지지부재(16a)에 대응하는 부분보다, 시료(50)의 휘어짐량이 작아진다. 즉, 끝단측 지지부재(16a)의 근방에서는, 지지하지 않는 상태에 있어서의 시료(50)의 휘어짐량이 커진다. 이 때문에, 안쪽 지지부재(16b)의 복귀속도를 끝단측 지지부재(16a)의 복귀속도의 복귀속도보다 늦게 하고 있다. 이것에 의해, 시료(50)인 유리기판의 충격이나 흡착대(18)에의 부하를 억제하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 내구성을 향상할 수 있다. 또한, 시료(50)인 유리기판의 과대한 변형을 억제할 수 있다. 따라서, 얹어놓음대 (12)의 진공흡착이 어긋나는 것을 막을 수 있다.

다음에, 지지부재(16)의 복귀속도를 바꾸는 구성예에 대해서 도 7을 이용하여 설명한다. 도 7은, 지지부재(16)가 회전동작하고 있는 모양을 나타내는 측면도이다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 접촉부(48)의 접촉면이 캠 롤러(31)와 접촉하는 것에 의해서, 지지 핀(34)이 회전한다. 여기에서는, 상기와 같이, 지지 핀(34)이 샤프트(35)를 회전축으로서 회전한다. 한편, 상기의 실시형태와 같은 구성에 대해서는, 적당히 설명을 생략한다. 또한, 도 7에서는, 3개의 지지부재(16)가 Y방향으로 나열되어 있다. 그리고, 접촉부(48)가 우측에서 좌측으로 이동해 가서, 지지 핀(34)의 각도가 도 7(a)에 나타내는 상태로부터 도 7(b), 및 도 7(c)에 나타내는 상태를 거쳐, 도 7(d)의 상태로 변화한다.

도 7에 나타내는 바와 같이, 접촉부(48)에는, 캠 롤러(31)와 접촉하는 테이퍼면이 설치되어 있다. 즉, 접촉부(48)의 캠 롤러(31)와 접촉하는 접촉면이 테이퍼형상으로 되어 있다. Y방향에 있어서, 테이퍼면은 접촉부(48)의 양측에 설치되어 있다. 좌측 테이퍼면의 형상은 우측의 테이퍼면의 형상과 대칭이 되어 있다. 이것에 의해, ±Y방향으로 이동한 경우에서도, 지지부재(16)와 같이 구동할 수 있다. 접촉부(48)에 있어서, 양단에 설치되어 있는 테이퍼면의 사이에는, 수평면이 형성되어 있다.

한가운데의 지지부재(16)에 설치되어 있는 캠 롤러(31)에 접촉부(48)가 접촉하면, 지지부재(16)가 회전한다. 즉, 캠 롤러(31)를 지지하고 있는 접속부(32)가 기울어진다. 여기에서는, 도 7(a)에 나타내는 바와 같이, 접촉부(48)의 좌측의 테이퍼면과 캠 롤러(31)가 접촉한다. 이것에 의해, 지지 핀(34)이 접촉부(48)의 진행 반대방향으로 경사진다. 따라서, 지지 핀(34)의 상단이 시료(50)(도시하지 않음)로부터 멀어져 간다. 시료(50)를 지지하고 있지 않는 지지하지 않는 상태가 된다. 여기에서는, 테이퍼면과 캠 롤러(31)가 접촉하고 있다. 이 때문에, 접촉부 (48)가 좌측으로 진행됨에 따라서, 지지 핀(34)이 넘어져 각이 커져 간다.

도 7(a)의 상태로부터 접촉부(48)가 좌측으로 진행되면, 도 7(b)에 나타내는 바와 같이 접촉부(48)의 하면에 캠 롤러(31)가 접촉한다. 여기에서는, 접촉부(48)의 수평면과 캠 롤러(31)가 접촉한다. 도 7(b)에 나타내는 상태에서는, 도 7(a)에 나타내는 상태보다, 지지 핀(34)이 더 우측으로 넘어져 있다. 따라서, 지지 핀(34)이 넘어져 각이 커진다. 한편, 캠 롤러(31)가 수평면과 접촉하고 있는 동안 은, 지지 핀(34)이 넘어져 각이 변화하지 않는다.

게다가, 접촉부(48)가 진행되면, 접촉부(48)의 수평면에 있어서, 캠 롤러 (31)의 접촉위치가 우측으로 이동해 간다. 그리고, 도 7(c)에 나타내는 바와 같이 접촉부(48)의 우측의 테이퍼면과 캠 롤러(31)가 접촉한다. 지지 핀(34)이 회전해 가고, 지지 핀(34)이 넘어져 각이 작아진다. 접촉부(48)가 왼쪽으로 이동하는 것에 따라 넘어져 각이 작아져 간다. 접촉부(48)의 테이퍼면이 캠 롤러(31)로부터 멀어지면, 도 7(d)에 나타내는 바와 같이, 지지 핀(34)이 원래의 각도로 되돌아온다. 즉, 지지 핀(34)이 직립하여, 상단(37)과 시료(50)가 접촉한다. 이것에 의해, 지지부재(16)가 시료(50)를 지지하는 상태가 된다.

본 변형예에서는, 지지 핀(34)을 원래로 되돌리기 위해서, 스프링(38)이 설치되어 있다. 스프링(38)은 일단이 접속부(32)에 부착되고, 타단이 정반(11)(도 7에서는 도시하지 않음) 등에 고정되어 있다. 예를 들면, 접촉부(48)와 캠 롤러 (31)가 접촉하고, 지지 핀(34)이 기울어지면, 스프링(38)이 늘어난다. 그리고, 이 스프링(38)의 탄성력에 의해서, 지지 핀(34)이 원래대로 되돌아간다. 즉, 접촉부 (48)의 캠 롤러(31)와 접촉하는 부분이 수평면으로부터 테이퍼면으로 진행되어 가면, 스프링(38)이 줄어들어 간다. 즉, 도 7(c)에 나타내는 상태에서는, 도 7(b)에 나타내는 상태보다 스프링(38)이 짧아지고 있다. 스프링(38)의 탄성력에 의해서, 지지 핀(34)이 직립하는 방향으로 회전해 간다. 그리고, 접촉부(48)의 테이퍼면이 캠 롤러(31)를 지나면, 스프링(38)의 탄성력에 의해서, 지지 핀(34)이 원래의 각도로 되돌아와, 직립상태가 된다. 즉, 지지부재(16)가 지지하지 않는 상태로부터 지 지상태로 복귀한다.

게다가, 지지부재(16)가 원래대로 되돌아갈 때의 충격을 흡수하는 쇼크 업소버(39)가 설치되어 있다. 쇼크 업소버(39)는 정반(11) 등에 고정되어 있다. 그리고, 쇼크 업소버(39)는, 원래대로 되돌아갈 때의 지지부재(16)와 충돌한다. 예를 들면, 도 7((b))에 나타내는 상태로부터 도 7(c)로 이행하는 도중에, 쇼크 업소버 (39)와 지지부재(16)와 접촉한다. 여기에서는, 지지부재(16)의 접속부(32)로부터 하부로 연장된 부분에, 쇼크 업소버(39)가 접촉한다. 이것에 의해, 지지부재(16)에 관한 충격이 완화된다.

예를 들면, 스프링(38), 또는 쇼크 업소버(39)의 강도를 바꾸는 것에 의해서, 복귀속도를 조정할 수 있다. 스프링(38)의 강도에 의해서 복귀속도를 조정하는 경우, 빠르게 되돌리고 싶은 지지부재(16)에 설치되어 있는 스프링(38)의 스프링 강도(스프링 정수)를 높게 한다. 따라서, 끝단측 지지부재(16a)의 스프링(38)의 스프링 강도를, 안쪽 지지부재(16b)의 스프링(38)의 스프링 강도보다 강하게 한다. 이것에 의해, 끝단측 지지부재(16a)의 복귀시간이 짧아진다.

쇼크 업소버(39)로 복귀속도를 조정하는 경우, 늦게 되돌리고 싶은 지지부재 (16)에 설치되어 있는 쇼크 업소버(39)의 강도를 강하게 한다. 따라서, 끝단측 지지부재(16a)의 쇼크 업소버(39)의 강도를, 안쪽 지지부재(16b)의 쇼크 업소버(39)의 강도보다 강하게 한다. 이것에 의해, 안쪽 지지부재(16b)의 복귀속도를 늦게 할 수 있다. 따라서, 안쪽 지지부재(16b)가 시료(50)와 충돌할 때의 충격을 억제할 수 있다.

나아가서는, 안쪽 지지부재(16b)와 끝단측 지지부재(16a)를, 다른 캠으로 구동함으로써 복귀속도를 바꿔도 좋다. 예를 들면, 안쪽 지지부재(16b)와 끝단측 지지부재(16a)에서 캠 롤러(31)의 위치를 바꾼다. 즉, X방향에 있어서의 캠 롤러 (31)의 위치를 늦춘다. 이렇게 함으로써, 끝단측 지지부재(16a)와 안쪽 지지부재 (16b)에서, X방향에 있어서의 접촉면의 위치가 변화한다. 게다가, 안쪽 지지부재 (16b)와 끝단측 지지부재(16a)에서, 캠 롤러(31)와 접촉하는 접촉면의 형상을 변화시킨다. 예를 들면, 늦게 되돌리는 쪽의 지지부재(16)에 설치되어 있는 접촉면의 테이퍼 각도를 완만하게 한다. 즉, 안쪽 지지부재(16b)에 설치되어 있는 접촉면의 경사를 완만하게 하고, Y방향에 있어서의 접촉면의 길이를 길게 한다. 이와 같이, 캠 롤러(31)의 위치를 바꿈으로써, 접촉면의 형상을 변화시킬 수 있다. 따라서, 지지부재(16)가 되돌아오는 속도나 되돌아오는 타이밍을 열에 따라서 바꿀 수 있다.

혹은, 접촉면이 아니라, 캠 롤러(31)의 형상이 달라도 좋다. 물론, 캠 롤러 (31)와 접촉면의 양쪽 모두가 달라도 좋다. 접촉부(48)와 지지부재(16)가 접촉하는 부분의 형상을 바꾸는 것에 의해서, 복귀속도를 조정할 수 있다. 이와 같이, 안쪽 지지부재(16b)와 끝단측 지지부재(16a)를 다른 캠으로 구동한다. 즉, 안쪽 지지부재(16b)와 끝단측 지지부재(16a)에 다른 형상의 캠을 설치함으로써, 복귀속도를 조정시킬 수 있다.

이와 같이 함으로써, 안쪽 지지부재(16b)가 시료(50)와 충돌할 때의 충격을 억제할 수 있다. 또한, 얹어놓음대(12)에 있어서, 시료(50)를 흡착하는 경우, 충 돌할 때의 충격에 의해서, 지지부재(16)와 시료(50)와의 흡착이 어긋나는 것을 막을 수 있다. 물론, 스프링(38), 쇼크 업소버(39), 및 캠 형상 중의 2 이상을 조합하여, 복귀속도를 바꿔도 좋다. 또한, 이들 이외 방법으로, 복귀속도를 바꿔도 좋다.

지지부재(16)를 모두 같은 속도로 원래로 되돌리는 경우, 빠르게 되돌리는 지지부재(16)의 복귀속도에 맞출 필요가 있다. 즉, 휘어짐량이 큰 부분의 지지부재(16)를 빠르게 복귀시키기 위해서 그 지지부재(16)의 복귀속도에 맞출 필요가 있다. 따라서, 휘어짐량이 작고 빠르게 되돌릴 필요가 없는 지지부재(16)에 대해서도, 복귀속도가 빨라진다. 이 때문에, 지지부재(16)가 시료(50)에 충돌할 때의 충격을 억제하는 것이 곤란하다. 본 변형예에서는, 지지부재(16)의 복귀속도를 지지부재(16)의 위치에 따라서 변화시키고 있기 때문에, 일부의 지지부재(16)의 복귀속도를 늦게 할 수 있다. 따라서, 지지부재(16)가 시료(50)에 충돌할 때에 가해지는 충격을 억제할 수 있다. 물론, 복귀속도를 늦게 하는 지지부재(16)는, 안쪽 지지부재(16b)에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 지지부재(16)를 이간한 상태에서의 휘어짐량이 커지는 지지부재(16)의 복귀속도를 빠르게 하고, 그 이외의 지지부재(16)의 복귀속도를 늦게 한다. 이와 같이 함으로써, 나아가서는, 스프링(38) 등을 3종류 이상으로 준비하는 것에 의해서, 복귀속도를 3단계 이상으로 해도 좋다. 예를 들면, 열마다 지지부재(16)의 복귀속도를 조정할 수 있다.

실시형태 2

본 실시의 형태에 관한 스테이지장치(10)의 구성에 대해서, 도 8을 이용하여 설명한다. 도 8은, 실시형태 2에 관한 스테이지장치(10)의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다. 한편, 실시형태 1과 같은 구성에 대해서는, 적당히 설명을 생략한다. 예를 들면, 지지부재(16) 등의 동작, 구성에 대해서는, 실시의 형태 1과 같기 때문에, 도시, 및 설명을 생략한다. 본 실시의 형태에서는, 기판 유지장치인 스테이지장치(10)의 구성을 중심으로 설명을 실시한다.

실시형태 2에 관한 스테이지장치(10)에서는, 얹어놓음대(12)에 흡착부(13)가 설치되어 있다. 흡착부(13)은, 흡착구멍이나 흡착홈 등을 갖고 있다. 즉, 얹어놓음대(12)의 상면에는, 흡착구멍이나 흡착홈 등이 형성되어 있다. 그리고, 흡착부 (13)의 흡착구멍 등으로부터 대기가 흡인된다. 시료(50)를 얹어놓음대(12)의 위에 얹어놓은 상태로 흡인을 실시하면, 흡착구멍내가 감압된다. 이것에 의해, 시료 (50)를 진공 흡착할 수 있다. 게다가, 본 실시의 형태에서는, 흡착부(13)를 2계통으로 나누고 있다. 즉, 얹어놓음대(12)에는, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부 (13b)가 형성되어 있다.

도 8에 나타내는 바와 같이, 얹어놓음대(12)에는, 시료(50)의 양측에 배치되어 있다. 즉, 시료(50)의 우측, 및 좌측에, 얹어놓음대(12)가 각각 배치되어 있다. 따라서, 2개의 얹어놓음대(12)가 이간하여 배치되어 있다. 즉, 2개의 얹어놓음대(12)는, X방향에 대해 이간하여 배치되어, 그 사이를 가동대인 흡착대(18)가 이동한다.

각각의 얹어놓음대(12)는, Y방향을 따라서 설치되어 있다. 각각의 얹어놓음대(12)에는, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)가 설치되어 있다. 여기서, 1개의 얹어놓음대(12)에는, 7개의 흡착구멍이 설치되어 있다. 7개의 흡착구멍은, Y 방향을 따라서 배열되어 있다. 그리고, 양단의 흡착구멍이 제 1 흡착부(13a)가 되어, 그 사이의 흡착구멍이 제 2 흡착부(13b)가 된다. 따라서, Y방향에 있어서의 얹어놓음대(12)의 끝단부에 제 1 흡착부(13a)가 설치되고, 얹어놓음대(12)의 중앙부에 제 2 흡착부(13b)가 설치되어 있다. 한 쪽의 얹어놓음대(12)에 있어서, 제 1 흡착부(13a)는 2개의 흡착구멍을 갖고, 제 2 흡착부(13b)는 5개의 흡착구멍을 갖고 있다.

제 1 흡착부(13a)에는, 배관을 사이에 두고 제 1 전환부(15a)가 접속되어 있다. 제 1 전환부(15a)는, 제 1 흡착부(13a)의 동작을 제어한다. 구체적으로는, 제 1 흡착부(13a)의 ON/OFF가 제 1 전환부(15a)에 의해서 전환된다. 예를 들면, 제 1 전환부(15a)는 진공펌프, 및 그 배관중에 설치된 밸브 등을 갖고 있다. 그리고, 밸브를 개폐하는 것에 의해서, 제 1 흡착부(13a)의 ON/OFF 동작이 제어된다. 제 1 전환부(15a)가 제 1 흡착부(13a)를 ON으로 하면, 시료(50)의 네 모서리가 흡착된다. 또한, 제 1 전환부(15a)가 제 1 흡착부(13a)를 OFF로 하면, 시료(50)의 네 모서리의 흡착이 해방된다.

마찬가지로, 제 2 흡착부(13b)에는, 배관을 사이에 두고 제 2 전환부(15b)가 접속되어 있다. 제 2 전환부(15b)는, 제 1 전환부(15a)와 같이, 제 2 흡착부(13b)의 동작을 제어한다. 이것에 의해, 제 2 흡착부(13b)의 ON/OFF 동작을 전환할 수 있다. 제 2 전환부(15b)가 제 2 흡착부(13b)를 ON으로 하면, 시료(50)의 긴 변 중앙부가 흡착된다. 또한, 제 2 전환부(15b)가 제 2 흡착부(13b)를 OFF로 하면, 시료(50)의 긴 변 중앙부의 흡착이 해방된다. 이와 같이, 제 1 전환부(15a), 및 제 2 전환부(15b)에서, 흡착의 전환을 실시하는 영역이 다르다.

제 1 전환부(15a)와 제 2 전환부(15b)는, 독립하고 있다. 따라서, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)의 한 쪽을 ON으로 하고, 다른 쪽을 OFF로 할 수 있다. 물론, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)의 양쪽 모두를 ON으로 해도 좋다. 제 1 전환부(15a), 및 제 2 전환부(15b)는, 흡착대(18)의 위치에 따라서, ON/OFF를 전환한다. 한편, 도 8에서는, 좌측의 얹어놓음대(12)에 접속되어 있는 제 1 전환부(15a), 및 제 2 전환부(15b)에 대해서는, 우측의 얹어놓음대(12)에 접속되어 있는 제 1 전환부(15a), 및 제 2 전환부(15b)와 같기 때문에, 생략되어 있다.

예를 들면, 흡착대(18)가 제 1 흡착부(13a)에 대응하는 A의 영역에 있는 경우, 제 1 흡착부(13a)를 OFF로 하고, 제 2 흡착부(13b)를 ON으로 한다. 즉, Y방향에 있어서, 흡착대(18)가 시료(50)의 끝단부에 있는 경우, 얹어놓음대(12)의 끝단에 있는 제 1 흡착부(13a)를 ON으로부터 OFF로 전환한다. 한편, 흡착대(18)가 제 2 흡착부(13b)에 대응하는 C의 영역에 있는 경우, 제 1 흡착부(13a)를 ON으로 하고, 제 2 흡착부(13b)를 OFF로 한다. 즉, 흡착대(18)가 시료(50)의 중앙부에 있는 경우, 얹어놓음대(12)의 중앙에 있는 제 2 흡착부(13b)를 ON으로부터 OFF로 전환한다. 또한, 흡착대(18)가 제 1 흡착부(13a)와 제 2 흡착부(13b)와의 경계에 대응하는 B의 영역에 있는 경우, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)의 흡착을 ON한다.

이와 같이 흡착대(18)가 근처에 있는 흡착부(13)을 OFF한다. 이것에 의해, 흡착대(18)에 대해서 시료(50)를 확실히 부상시킬 수 있다. 예를 들면, 흡착대 (18)의 분출구(46)로부터의 에어에 의해서, 흡착대(18)로부터 시료(50)가 부상한다. 이것에 의해, 흡착대(18)가 통과하기 위한 틈새가 발생한다. 그리고, 시료 (50)가 부상한 상태에서, 흡착대(18)가 이동한다. 이 때, X방향에 있어서의 흡착대(18)의 양 바깥쪽에서는, 얹어놓음대(12)에 의해서 시료(50)가 흡착되어 있지 않다. 따라서, 흡착대(18)로부터의 에어에 의해서, 시료(50)를 충분히 부상시킬 수 있다. 흡착대(18)가 통과하기 위한 틈새를 확실히 설치할 수 있다. 흡착대(18)와 얹어놓음대(12)의 높이의 차이를 작게 한 경우에서도, 흡착대(18)와 시료(50)가 충돌하는 것을 막을 수 있다. 따라서, 시료(50)와 흡착대(18)가 접촉하지 않게 되기 때문에, 시료(50)나 흡착대(18)가 손상되는 것을 막을 수 있다. 흡착대(18)와 얹어놓음대(12)의 높이의 차를 작게 할 수 있다.

이와 같이, 흡착대(18)와 시료(50)와의 틈새를 확보하기 때문에, 흡착대(18)를 얹어놓음대(12)에 비해 낮게 하지 않아도 좋아진다. 이 때문에, 시료(50)의 평면도를 높게 할 수 있다. 예를 들면, 흡착대(18)와 얹어놓음대(12)와의 높이의 차를 ㎛오더로 맞출 수 있다. 따라서, 얹어놓음대(12)와 흡착대(18)의 사이에 있어서도, 안정하게 측정을 실시할 수 있다. 또한, 흡착대(18)가 A, C의 영역에 있는 경우에서도, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)의 한 쪽이 시료(50)를 흡착하고 있다. 이 때문에, 시료(50)의 위치 어긋남을 막을 수 있다.

게다가, A, C의 경계가 되는 B의 영역에 있어서, 제 1 흡착부(13a)와 제 2 흡착부(13b)의 양쪽 모두를 ON하고 있다. 이것에 의해, 제 1 흡착부(13a)와 제 2 흡착부(13b)의 양쪽 모두가 OFF하는 순간이 없어진다. 즉, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)의 동작 전환시에는, 일단, 제 1 흡착부(13a)와 제 2 흡착부(13b)의 양쪽 모두가 ON한다. 따라서, 시료(50)가 상시, 1 이상의 흡착부(13)에 의해서 흡착되어 있기 때문에, 시료(50)가 이동하는 것을 막을 수 있다. 이것에 의해, 안정된 측정을 실시할 수 있다.

상기의 구성은, 특히 시료(50)의 결함을 연마 수정하는 경우에 유효하다. 예를 들면, 측정헤드(22)에 연마 테이프 등이 설치되어 있는 것으로 한다. 그리고, 측정헤드(22)를 흡착대(18)의 바로 위쪽까지 이동한다. 즉, 측정헤드(22)와 흡착대(18)와의 사이에 시료(50)가 배치된다. 이 상태에서, 측정헤드(22)에 설치되어 있는 연마테이프를 이용하여 시료(50)의 결함을 수정한다. 즉, 연마 테이프가 시료(50)의 표면에 접촉한 상태로, 연마 테이프를 보낸다. 이것에 의해, 연마 테이프에 의해서, 결함인 돌기가 연마된다. 시료(50)상의 돌기가 제거되고, 결함이 수정된다. 상기와 같이 흡착부(13)를 제어함으로써, 시료(50)의 평면도를 높게 할 수 있다. 이 때문에, 안정된 연마, 수정을 실시하는 것이 가능하게 된다.

또한, 연마 이외의 가공을 실시하는 가공장치로 이용해도 좋다. 즉, 본 실시의 형태에 관한 기판 유지장치는, 시료(50)상을 이동하는 가공용 헤드가 설치되어 있는 가공장치에 적합하다. 게다가, 측정헤드(22)와는 별도로 가공 헤드가 설치되어 있어도 좋다. 한편, 흡착부(13)를 3계통 이상으로 나누어도 좋다.

흡착대(18)의 위치에 따라서, 제 1 흡착부(13a), 및 제 2 흡착부(13b)의 ON/OFF를 전환한다. 즉, 제 1 흡착부(13a)의 근방에 흡착대(18)가 이동했을 때에 는, 제 1 흡착부(13a)를 OFF하고, 제 2 흡착부(13b)만으로 흡착한다. 한편, 제 2 흡착부(13b)의 근방에 흡착대(18)가 이동했을 때에는, 제 2 흡착부(13b)를 OFF하고, 제 1 흡착부(13a)만으로 흡착한다. 이것에 의해, 흡착대(18)가 통과하는 틈새를 확보할 수 있다. 게다가, 제 1 흡착부(13a)와 제 2 흡착부(13b)와의 경계를 통과할 때에는, 제 1 흡착부(13a) 및 제 2 흡착부(13b)를 ON한다. 이것에 의해, 어느 쪽의 흡착부(13)가 흡착하기 때문에, 확실히 유지할 수 있다.

흡착대(18)의 위치에 관계없이, 제 1 흡착부(13a) 및 제 2 흡착부(13b)의 양쪽 모두를 상시 ON해 두면, 틈새를 확보할 수 없게 되어 버리는 경우가 있다. 이 때문에, 얹어놓음대(12)에 비해, 흡착대(18)를 낮게 할 필요가 생겨 버린다. 그렇게 하면, 시료(50)의 평탄도가 열화(劣化)되기 때문에, 안정된 측정, 가공을 실시할 수 없게 되어 버린다. 따라서, 본 실시의 형태에 관한 스테이지장치(10)에서는, 안정된 측정, 가공을 실현할 수 있다.

한편, 상기의 실시형태 1, 2 및 변형예를 적당히 조합하여 사용하는 것도 가능하다.

도 1은 본 실시의 형태에 관한 광학 측정장치의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다.

도 2는 본 실시의 형태에 관한 광학 측정장치에 이용되는 스테이지장치의 구성을 모식적으로 나타내는 사시도이다.

도 3은 본 실시의 형태에 관한 광학 측정장치에 이용되는 흡착대의 구성을 모식적으로 나타내는 측면 단면도이다.

도 4는 본 실시의 형태에 관한 광학 측정장치에 이용되는 스테이지장치의 구성을 모식적으로 나타내는 측면도이다.

도 5는 본 실시의 형태에 관한 지지부재의 동작을 설명하기 위한 도면이다.

도 6은 변형예에 관한 지지부재의 배치를 모식적으로 나타내는 상면도이다.

도 7은 지지부재가 회전동작하고 있는 모습을 나타내는 측면도이다.

도 8은 실시형태 2에 관한 스테이지장치의 구성을 모식적으로 나타내는 상면도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 스테이지장치

12 : 얹어놓음대

14 : 가이드 레일

16 : 지지부재

18 : 흡착대

21 : X레일

22 : 측정헤드

23 : Y레일

31 : 캠 롤러

32 : 접속부

34 : 지지 핀

35 : 샤프트

37 : 상단

41 : 조명광원

42 : LED

43 : 확산판

45 : 흡착구

46 : 분출구

50 : 시료

13 : 흡착부

13a : 제 1 흡착부

13b : 제 2 흡착부

15a : 제 1 전환부

15b : 제 2 전환부

16a : 끝단측 지지부재

16b : 안쪽 지지부재

38 : 스프링

39 : 쇼크 업소버

Claims (14)

1. 시료(50)를 투과한 투과광을 이용하여 측정을 실시하는 광학 측정장치로서, 상기 시료의 끝단부가 얹어 놓여지는 얹어놓음대(12)와,

   상기 시료의 아래쪽에서 제 1 방향으로 이동 가능하게 설치되어, 상기 시료를 흡착하는 흡착구(45)를 갖는 흡착대(18)와,

   상기 흡착대에 설치되어, 상기 시료를 아래쪽으로부터 조명광을 출사하는 조명광원(41)과,

   상기 조명광원으로부터 상기 시료를 투과한 투과광을 상기 시료의 위쪽에서 수광하는 측정헤드(22)와, 상기 시료의 아래쪽에 설치되어, 상기 얹어놓음대보다 안쪽에서 상기 시료를 지지하는 복수의 지지부재(16)와,

   상기 흡착대에 설치되어, 상기 지지부재와 접촉하는 것에 의해서 일부의 상기 지지부재의 상단(37)을 상기 시료로부터 이간시키는 접촉부(48)를 구비하는 광학 측정장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 복수의 지지부재 중 2 이상을 연결하는 샤프트(35)를 더 구비하고,

   상기 접촉부가 상기 지지부재에 접촉하는 것에 의해서 상기 샤프트를 회전축으로서 상기 지지부재가 회전하고, 상기 일부의 지지부재의 상단이 상기 시료로부터 이간하는 광학 측정장치.
3. 제 1 항, 또는 제 2 항에 있어서, 상기 조명광원이, 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향을 따라서 선형상으로 상기 시료를 조명하는 광학 측정장치.
4. 제 1 항, 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 방향에서, 상기 흡착대에 설치된 흡착구가, 상기 조명광원의 양측에 배치되어 있는 광학 측정장치.
5. 제 1 항, 또는 제 2 항에 있어서, 상기 접촉부의 상기 지지부재와 접촉하는 접촉면이 테이퍼형상으로 되어 있는 광학 측정장치.
6. 제 1 항, 또는 제 2 항에 있어서, 상기 흡착대가, 상기 시료에 대해서 기체를 분출하는 분출구(46)를 갖고 있는 광학 측정장치.
7. 제 1 항, 또는 제 2 항에 있어서, 상기 접촉부에 의해서 상기 시료로부터 이간한 상기 지지부재가 상기 시료를 지지하는 상태로 되돌아오는 복귀속도가, 상기 지지부재의 위치에 따라서, 다른 것을 특징으로 하는 광학 측정장치.
8. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 방향을 따라서 설치된 상기 얹어놓음대가 상기 시료의 양측에 각각 배치되어, 상기 복수의 지지부재 중, 상기 제 1 방향에 있어서의 끝단에 설치된 상기 지지부재의 복귀속도가, 다른 지지부재보다 빨라지고 있는 것을 특징으로 하는 광학 측정장치.
9. 제 7 항에 있어서, 상기 지지부재를 원래의 각도로 되돌리는 스프링(38)이 설치되어,

   상기 스프링의 강도를 바꾸는 것에 의해서, 상기 지지부재의 복귀속도를 바꾸고 있는 광학 측정장치.
10. 제 7 항에 있어서, 상기 지지부재와 충돌하는 것에 의해서, 상기 지지부재가 원래대로 되돌아갈 때의 충격을 흡수하는 쇼크 업소버(39)를 더 갖고,

    상기 쇼크 업소버의 강도를 바꾸는 것에 의해서, 상기 지지부재의 복귀속도를 바꾸고 있는 광학 측정장치.
11. 제 7 항에 있어서, 상기 접촉부와 상기 지지부재가 접촉하는 부분의 형상을 바꾸는 것에 의해서, 상기 지지부재의 복귀속도를 바꾸고 있는 광학 측정장치.
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