KR100982495B1 - 액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법 - Google Patents

액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 공정 시간을 단축시킴과 아울러 챔버 내부의 온도를 일정하게 유지시켜 기판에 도포된 포토레지스트의 손상을 줄일 수 있도록 한 액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 액정 표시 패널의 제조장치는 포토레지스트가 도포된 기판이 실장되는 챔버와, 상기 챔버 내에 제 1 핫에어를 공급하는 열풍장치와, 상기 챔버 내에 설치되어 상기 포토레지스트에 흡착된 이물질들을 승화시키기 위한 제 2 핫에어를 발생하는 열원과, 상기 열풍장치와 상기 챔버 사이에 설치되며, 상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 1 유량조절기를 포함하여, 상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부로 흡입하는 흡입구와, 상기 챔버 내부에 존재하는 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 제 2 핫에어에 의해 상기 기판으로부터 승화되는 승화물의 배기량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 2 유량조절기를 포함하여, 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 승화물을 배출하는 배기구를 구비하고, 상기 제 1 유량조절기에 의한 유입량과 상기 제 2 유량조절기에 의한 배기량은 동일한 것을 특징으로 한다.

Description

액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법{FABRICATION APPARATUS AND METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL}
도 1은 종래의 오븐 시스템을 나타내는 도면.
도 2는 도 1에 도시된 흡입구 및 배기구의 일례를 나타내는 도면.
도 3은 도 1에 도시된 흡입구 및 배기구의 다른 예를 나타내는 도면.
도 4는 팹에어에 의한 챔버 내의 온도 분포를 나타내는 도면.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 오븐 시스템을 나타내는 도면.
도 6은 도 5에 도시된 흡입구 및 배기구의 상세도.
도 7은 챔버 내로 흡입 및 배출되는 흡입각도 및 배출각도를 나타내는 도면.
도 8은 챔버 내로 흡입 및 배출되는 흡입량 및 배출량을 나타내는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
2, 22 : 기판 3, 23 : 포토레지스트
4, 24 : 열원 6, 26 : 리프트 핀
8, 28 : 흡입구 10, 20 : 챔버
12, 32 : 배기구 14 : 배기압 조절기
30 : 열풍장치 34, 38 : 각도조절기
36, 40 : 유량조절기

본 발명은 액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 공정 시간을 단축시킴과 아울러 챔버 내부의 온도를 일정하게 유지시켜 기판에 도포된 포토레지스트의 손상을 줄일 수 있도록 한 액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법에 관한 것이다.
통상, 액정 표시 패널(Liquid Crystal Display; LCD)은 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상이 표시된다. 이를 위하여, 액정 표시 패널은 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정패널과, 이 액정패널을 구동하기 위한 구동회로를 구비하게 된다. 액정패널에는 액정셀들 각각에 전계를 인가하기 위한 화소전극들과 기준전극, 즉 공통전극이 마련되게 된다. 통상, 화소전극은 하부기판 상에 액정셀별로 형성되는 반면 공통전극은 상부기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 화소전극들 각각은 스위칭소자로 사용되는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)에 접속된다. 화소전극은 TFT를 통해 공급되는 데이터신호에 따라 공통전극과 함께 액정셀이 구동된다.
액정 표시 패널의 제조공정은 기판 세정과, 기판 패터닝, 배향막형성, 기판합착/액정주입, 실장 공정으로 나뉘어진다. 기판 세정 공정에서는 상/하부기판의 패터닝 전후에 기판들의 이물질을 세정제를 이용하여 제거하게 된다. 기판 패터닝 공정은 증착공정, 세정공정, 포토레지스트 도포공정, 노광공정, 현상공정, 식각 공정, 포토레지스트패턴 박리공정 및 검사공정 등으로 나뉘어진다. 이 기판 패터닝 공정에서는 상부기판의 패터닝과 하부기판의 패터닝으로 나뉘어진다. 상부기판에는 칼라필터, 공통전극, 블랙 매트릭스 등이 형성된다. 하부기판에는 데이터라인과 게이트라인 등의 신호배선이 형성되고, 데이터라인과 게이트라인의 교차부에 TFT가 형성되며, TFT의 소스전극에 접속되도록 데이터라인과 게이트라인 사이의 화소영역에 화소전극이 형성된다. 기판합착/액정주입 공정에서는 하부기판 상에 배향막을 도포하고 러빙하는 공정에 이어서, 실(Seal)재를 이용한 상/하부기판 합착공정, 액정주입, 주입구 봉지공정이 순차적으로 이루어진다. 마지막으로, 실장공정에서는 게이트 드라이브 및 데이터 드라이브 등의 집적회로가 실장된 테이프 케리어 패키지(Tape Carrier Package : TCP)를 기판 상의 패드부에 접속시키게 된다.
이 중 기판 패터닝 공정에 속하는 포토레지스트 도포공정에서는 기판 상에 마스크를 이용하여 포토레지스트를 도포하게 된다. 여기서, 포토레지스트는 TFT가 형성될 수 있도록 특정 패턴 형태로 도포된다. 기판 상에 포토레지스트가 도포될 때 대기중의 이물질들이 포토레지스트의 내부에 흡착되게 된다. 이러한 이물질들은 도 1과 같은 오븐 시스템(Oven System)에 의해 제거된다.
도 1을 참조하면, 종래의 오븐 시스템은 그 내부에 기판(2)이 실장되는 챔버(10)와, 도시하지 않은 공장배기실로부터 챔버(10) 내부로 팹에어(Fab Air)를 흡입하는 흡입구(8)와, 기판(2)을 상/하로 이동시키기 위한 리프트 핀(6)과, 기판(2)에 핫에어(Hot Air)를 공급하는 열원(4)과, 기판(2)으로부터 승화되는 승화물 및 챔버(10) 내부의 공기를 배출하는 배기구(12)를 구비한다.
챔버(10)는 그 내부에 다수의 액정 표시 패널이 형성된 기판(2)을 실장하게 된다.
흡입구(8)는 도시하지 않은 공장배기실로부터의 팹에어를 챔버(10) 내부에 전달하게 된다. 이러한 흡입구(8)는 도 2에 도시된 홀형(Hole Type)과 도 3에 도시된 슬림형(Slim Type)이 사용된다. 이와 같은 홀형 및 슬림형의 흡입구(8)는 배기압 상승시 팹에어의 유입을 최소화시키게 된다. 또한, 슬림형의 흡입구(8)는 흡입구(8)의 일측에 설치된 배기압 조절기(14)에 의해 챔버(10) 내부로 흡입되는 팹에어의 배기압을 조절하게 된다.
리프트 핀(6)은 챔버(10) 내부에 실장된 기판(2)을 도시하지 않은 리프트 장치에 의해 하강 및 상승시키게 된다.
열원(4)은 도시하지 않은 열발생장치에 의해 가열되어 챔버(10) 내부에 100℃ 내지 180℃ 정도 바람직하게는 140℃ 정도의 핫에어를 공급하게 된다. 이로 인해, 포토레지스트 도포공정 시 포토레지스트 내부에 흡착된 이물질들을 승화시키게 된다.
배기구(12)는 챔버(10) 내부의 핫에어 및 기판(2)으로부터 승화된 이물질들을 배출하게 된다. 이러한 배기구(12)는 도 2에 도시된 홀형과 도 3에 도시된 슬 림형이 사용된다.
보다 자세히 설명하면, 챔버(10) 내부에 기판(2)이 들어오면 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 흡입구(8) 및 배기구(12)가 동시에 오픈(Open)되어 챔버(10) 내부에 팹에어를 공급하게 된다. 팹에어가 공급된 후 흡입구(8) 및 배기구(12)는 닫히게 되고, 리프트 핀(6)에 의해 기판(2)은 열원(4)쪽으로 하강된다. 이와 동시에 열원(4)은 도시하지 않은 열발생장치에 의해 100℃ 내지 180℃ 정도 바람직하게는 140℃ 정도의 핫에어를 발생시키게 된다. 이때, 핫에어는 기판(2)쪽으로 이동하여 기판(2) 상에 도포된 포토레지스트(3)의 내부에 흡착된 이물질들을 승화시키게 된다. 이물질들이 승화될 때 흡입구(8) 및 배기구(12)가 동시에 오픈된다. 이때, 흡입구(8)는 공장배기실로부터 공급되는 팹에어를 챔버(10) 내부에 공급하게 되고, 배기구(12)는 챔버(10) 내부의 승화물 및 핫에어를 배출하게 된다.
그러나, 이와 같은 종래의 오븐 시스템은 배기구(12)의 배기압을 상승시키게 되면 흡입구(8)를 통해 대략 23℃정도의 팹에어가 과도하게 챔버(10) 내부로 유입되어 도 4에 도시된 바와 같이 "A"영역과 "B"영역의 온도 편차가 발생하게 된다. 이로 인해, 기판(2) 상에 도포된 포토레지스트(3) 및 기판(2)이 국부적인 온도 편차에 의해 손실이 발생하게 된다. 그리고, 기판(2)의 온도 편차를 최소화 하기 위해 배기구(12)의 배기압을 낮추게 되면 공정 시간이 길어지게 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 공정 시간을 단축시킴과 아울러 챔버 내부의 온도 를 일정하게 유지시켜 기판에 도포된 포토레지스트의 손상을 줄일 수 있도록 한 액정 표시 패널의 제조장치 및 방법을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 액정 표시 패널의 제조 장치는 포토레지스트가 도포된 기판이 실장되는 챔버와, 상기 챔버 내에 제 1 핫에어를 공급하는 열풍장치와, 상기 챔버 내에 설치되어 상기 포토레지스트에 흡착된 이물질들을 승화시키기 위한 제 2 핫에어를 발생하는 열원과, 상기 열풍장치와 상기 챔버 사이에 설치되며, 상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 1 유량조절기를 포함하여, 상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부로 흡입하는 흡입구와, 상기 챔버 내부에 존재하는 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 제 2 핫에어에 의해 상기 기판으로부터 승화되는 승화물의 배기량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 2 유량조절기를 포함하여, 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 승화물을 배출하는 배기구를 구비하고, 상기 제 1 유량조절기에 의한 유입량과 상기 제 2 유량조절기에 의한 배기량은 동일한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 액정 표시 패널의 제조 장치는 상기 기판을 상승 및 하강 시키기 위한 리프트 핀을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 흡입구는, 상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입각도를 조절하기 위한 제 1 각도조절기를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 배기구는, 상기 승화물과 상기 제 1 및 제 2 핫에어의 배기각도를 조절하기 위한 제 2 각도조절기를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 및 제 2 핫에어의 온도는 동일한 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 및 제 2 핫에어는 100℃ 내지 180℃인 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 및 제 2 핫에어의 온도는 140℃인 것을 특징으로 한다.
상기 액정 표시 패널의 제조 장치는 상기 제 1 및 제 2 핫에어의 온도를 동일하게 유지시키기 위한 온도조절기를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 각도조절기의 유입각도는 상기 제 2 각도조절기의 배기각도와 동일한 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 각도조절기의 유입각도는 20도 내지 60도인 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 각도조절기의 유입각도는 45도인 것을 특징으로 한다.
상기 액정 표시 패널의 제조 장치는 상기 제 1 및 제 2 유량조절기의 유입량 및 배기량과 상기 제 1 및 제 2 각도조절기의 유입각도 및 배기각도를 조절하기 위한 컨트롤러를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 액정 표시 패널의 제조 방법은 포토레지스트가 도포된 기판을 챔버 내부에 실장하는 단계와, 열풍장치로부터 제 1 핫에어를 발생하는 단계와, 상기 챔버 내부의 열원으로부터 제 2 핫에어를 발생하는 단계와, 상기 제 2 핫에어를 상기 기판에 공급하는 단계와, 상기 제 2 핫에어를 통해 상기 포토레지스트의 내부에 흡착된 승화물을 승화시키는 단계와, 상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 1 유량조절기를 포함한 흡입구를 통해 상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부에 공급하는 단계와, 상기 챔버 내부에 존재하는 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 제 2 핫에어에 의해 상기 기판으로부터 승화되는 승화물의 배기량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 2 유량조절기를 포함한 배기구를 통해 상기 승화물과 상기 제 1 및 제 2 핫에어를 배출하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 유량조절기에 의한 유입량과 상기 제 2 유량조절기에 의한 배기량은 동일한 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부에 공급하는 단계는, 상기 제 2 핫에어가 상기 챔버 내부의 상면을 향하도록 제 1 각도조절기의 유입각도를 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 승화물과, 상기 제 1 및 제 2 핫에어를 배출하는 단계는, 상기 챔버 내부의 상면을 향하도록 제 2 각도조절기의 배기각도를 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하, 도 5 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 오븐 시스템을 나타내는 도면이고, 도 6은 도 5에 도시된 오븐 시스템의 흡입구 및 배기구의 상세도이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 오븐 시스템은 그 내부에 기판(22)이 실장되는 챔버(20)와, 제 1 핫에어를 발생하는 열풍장치(30)와, 열풍장치(30)로부터 챔버(20) 내부로 제 1 핫에어를 전달하는 흡입구(28)와, 기판(22)을 상/하로 이동시키기 위한 리프트 핀(26)과, 기판(22)에 제 2 핫에어를 공급하는 열원(24)과, 기판(22)으로부터 승화되는 승화물 및 챔버(20) 내부의 핫에어를 배출하는 배기구(32)를 구비한다.
챔버(20)는 그 내부에 다수의 액정 표시 패널이 형성된 기판(22)을 실장하게 된다.
열풍장치(30)는 대략 100℃ 내지 180℃ 정도 바람직하게는 140℃ 정도의 제 1 핫에어를 발생시킨다. 이때, 열풍장치(30)로부터 발생되는 제 1 핫에어는 도시하지 않은 온도조절기에 의해 열원(24)에서 발생되는 제 2 핫에어와 동일한 온도로 유지된다.
흡입구(28)는 열풍장치(30)로부터 공급되는 제 1 핫에어의 양을 조절하기 위한 제 1 유량조절기(36)와, 챔버(20) 내부에 공급되는 제 1 핫에어의 유입각도를 조절하기 위한 제 1 각도조절기(34)로 구성된다. 제 1 유량조절기(36)는 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 도 8에 도시된 바와 같이 상/하로 이동하여 열풍장치(30)로부터 공급되는 제 1 핫에어의 양을 조절하게 된다. 이때, 도시하지 않은 컨트롤러는 제 1 유량조절기(36)에 의해 조절된 흡입량과 제 2 유량조절기(40)에 의해 조절된 배기량이 동일하도록 유지시킨다. 이로 인해, 배기압을 원하는 만큼 상승시킬 수 있게 된다. 제 1 각도조절기(34)는 도 7에 도시된 바와 같이 제 1 핫에어가 챔버(20) 내부의 상면을 향하도록 대략 20도 내지 60도 정도 바람직하게는 45도의 각도로 조절된다. 이로 인해, 제 1 핫에어에 의해 챔버(20) 내부에 실장된 기판(22)에 가해지는 열충격을 방지 할 수 있다. 이때, 제 1 각도조절기(34)는 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 제 2 각도조절기(38)와 동일한 각도로 유지된다.
리프트 핀(26)은 챔버(20) 내부에 실장된 기판(22)을 도시하지 않은 리프트 장치에 의해 하강 및 상승시키게 된다.
열원(24)은 도시하지 않은 열발생장치에 의해 챔버(20) 내부에 100℃ 내지 180℃ 정도 바람직하게는 140℃ 정도의 제 2 핫에어를 공급하게 된다. 이로 인해, 포토레지스트 도포공정 시 포토레지스트 내부에 흡착된 이물질들을 승화시키게 된다.
배기구(32)는 승화물, 제 1 및 제 2 핫에어가 챔버(20) 내부로부터 배출될 때 기판(22)에 손상을 주지않도록 배출하기 위한 제 2 각도조절기(38)와, 챔버(20) 내부로부터 배출되는 승화물, 제 1 및 제 2 핫에어의 배기량을 조절하기 위한 제 2 유량조절기(40)로 구성된다. 제 2 각도조절기(38)는 도 7에 도시된 바와 같이 챔버(20) 내부의 승화물, 제 1 및 제 2 핫에어를 배출하기 위해 챔버(20) 내부의 상면을 향하도록 대략 20도 내지 60도 정도 바람직하게는 45도로 조절된다. 이로 인해 승화물, 제 1 및 제 2 핫에어가 배출될 때 기판(22)에 가해지는 열충격을 방지 할 수 있다. 이때, 제 2 각도조절기(38)는 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 제 1 각도조절기(34)와 동일한 각도로 유지된다. 제 2 유량조절기(40)는 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 도 8에 도시된 바와 같이 상/하로 이동하여 챔버(20) 내부로부터 배출되는 배출량을 조절하게 된다. 이때, 도시하지 않은 컨트롤러는 제 2 유량조절기(40)에 의해 조절된 흡입량과 제 1 유량조절기(36)에 의해 조절된 배기량이 동일하도록 유지시킨다. 이로 인해, 챔버(20) 내부의 온도는 일정하게 유지된다.
보다 자세히 설명하면, 챔버(20) 내부에 기판(22)이 들어오면 리프트 핀(26)은 기판(22)을 열원(24) 쪽으로 하강시키게 된다. 이때, 열원(24)은 도시하지 않은 열 발생 장치에 의해 대략 100℃ 내지 180℃ 정도 바람직하게는 140℃ 정도의 제 2 핫에어를 발생하게 된다. 발생된 제 2 핫에어는 기판(22) 쪽으로 이동하여 기판(22) 상에 도포된 포토레지스트(23)의 내부에 흡착된 이물질들을 승화시키게된다. 열원(24)으로부터 제 2 핫에어가 발생될 때 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 흡입구(28) 및 배기구(32)가 동시에 오픈된다. 이로 인해, 흡입구(28)는 열풍장치(30)에서 발생된 제 1 핫에어를 챔버(20) 내로 유입하게 된다. 이때, 흡입구(28)는 제 1 유량조절기(36)에 의해 열풍장치(30)에서 발생된 제 1 핫에어의 흡입량을 조절하게 된다. 또한, 챔버(20) 내로 흡입되는 제 1 핫에어에 의해 기판(22) 상에 도포된 포토레지스트(23)가 손상되지 않도록 제 1 각도조절기(34)를 이용하여 챔버(20) 내부의 상면을 향하도록 각도를 조절하게 된다. 이때, 제 1 각도조절기(34)는 대략 20도 내지 60도 정도 바람직하게는 45도의 각도를 유지하게 된다. 흡입구(28)가 오픈될 때 배기구(32)도 동시에 오픈되어 챔버(20) 내부에 잔존하는 제 1 핫에어 및 승화물들을 배출하게 된다. 이때, 배기구(32)에 설치된 제 2 각도조절기(38)는 배기되는 제 1 핫에어 및 승화물들에 의해 기판(22) 상에 도포된 포토레지스트(23)에 손상이 가해지지 않도록 대략 20도 내지 60도 정도 바람직하게는 45도의 각도를 유지하게 된다. 또한, 제 2 유량조절기(40)는 흡입구(28)로부터 흡입되는 제 1 핫에어의 흡입량과 동일하도록 배기량을 조절하게 된다. 이렇게 흡입량과 배기량을 동일하게 조절하게 되면 챔버(20) 내부의 온도를 일정하게 유지시킬 수 있을 뿐만 아니라 배기압을 원하는 만큼 상승시킬 수 있다. 배기압이 상승되면 챔버(20) 내부의 승화물, 제 1 및 제 2 핫에어가 신속하게 제거되므로 액정 표시 패널의 제조 공정 시간을 단축시킬 수 있게 된다.
이와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 액정 표시 패널의 제조 장치는 제 1 핫에어와 제 2 핫에어의 온도를 동일하게 유지시킴으로써 챔버(20) 내부의 온도를 일정하게 유지시켜 기판(22) 및 기판(22) 상에 도포된 포토레지스트(23)의 손상을 방지 할 수 있다. 또한, 흡입량과 배기량을 동일하게 조절하기 때문에 원하는 만큼 배기압을 상승시킬 수 있다. 이로 인해, 액정 표시 패널의 제조 공정 시간을 단축 시킬 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 액정 표시 패널의 제조 장치 및 방법은 열풍장치에서 발생되는 핫에어를 이용하여 챔버 내부의 온도를 일정하게 유지시킴으로써 원하는 만큼 배기압을 상승시킬 수 있다. 이로 인해, 공정 시간을 단축 시킬 수 있다. 또한, 흡입구 및 배기구를 챔버 내부의 상면을 향하도록 소정 각도로 유지시켜 핫에어 및 승화물에 의해 기판 상에 도포된 포토레지스트가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (16)

  1. 포토레지스트가 도포된 기판이 실장되는 챔버와,
    상기 챔버 내에 제 1 핫에어를 공급하는 열풍장치와,
    상기 챔버 내에 설치되어 상기 포토레지스트에 흡착된 이물질들을 승화시키기 위한 제 2 핫에어를 발생하는 열원과,
    상기 열풍장치와 상기 챔버 사이에 설치되며, 상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 1 유량조절기를 포함하여, 상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부로 흡입하는 흡입구와,
    상기 챔버 내부에 존재하는 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 제 2 핫에어에 의해 상기 기판으로부터 승화되는 승화물의 배기량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 2 유량조절기를 포함하여, 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 승화물을 배출하는 배기구를 구비하고,
    상기 제 1 유량조절기에 의한 유입량과 상기 제 2 유량조절기에 의한 배기량은 동일한 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판을 상승 및 하강 시키기 위한 리프트 핀을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 흡입구는,
    상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입각도를 조절하기 위한 제 1 각도조절기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 배기구는,
    상기 승화물과 상기 제 1 및 제 2 핫에어의 배기각도를 조절하기 위한 제 2 각도조절기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 핫에어의 온도는 동일한 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 핫에어는 100℃ 내지 180℃인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 핫에어의 온도는 140℃인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 핫에어의 온도를 동일하게 유지시키기 위한 온도조절기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  9. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 각도조절기의 유입각도는 상기 제 2 각도조절기의 배기각도와 동일한 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 각도조절기의 유입각도는 20도 내지 60도인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 1 각도조절기의 유입각도는 45도인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  12. 삭제
  13. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 유량조절기의 유입량 및 배기량과 상기 제 1 및 제 2 각도조절기의 유입각도 및 배기각도를 조절하기 위한 컨트롤러를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 장치.
  14. 포토레지스트가 도포된 기판을 챔버 내부에 실장하는 단계와,
    열풍장치로부터 제 1 핫에어를 발생하는 단계와,
    상기 챔버 내부의 열원으로부터 제 2 핫에어를 발생하는 단계와,
    상기 제 2 핫에어를 상기 기판에 공급하는 단계와,
    상기 제 2 핫에어를 통해 상기 포토레지스트의 내부에 흡착된 승화물을 승화시키는 단계와,
    상기 챔버 내부에 공급되는 상기 제 1 핫에어의 유입량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 1 유량조절기를 포함한 흡입구를 통해 상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부에 공급하는 단계와,
    상기 챔버 내부에 존재하는 상기 제 1 및 제 2 핫에어와 상기 제 2 핫에어에 의해 상기 기판으로부터 승화되는 승화물의 배기량을 조절하기 위해 상하로 이동하는 제 2 유량조절기를 포함한 배기구를 통해 상기 승화물과 상기 제 1 및 제 2 핫에어를 배출하는 단계를 포함하고,
    상기 제 1 유량조절기에 의한 유입량과 상기 제 2 유량조절기에 의한 배기량은 동일한 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 핫에어를 상기 챔버 내부에 공급하는 단계는,
    상기 제 2 핫에어가 상기 챔버 내부의 상면을 향하도록 제 1 각도조절기의 유입각도를 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 승화물과, 상기 제 1 및 제 2 핫에어를 배출하는 단계는,
    상기 챔버 내부의 상면을 향하도록 제 2 각도조절기의 배기각도를 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980038356A (ko) * 1996-11-26 1998-08-05 시마자키 기요시 승화물 대책 부착 열처리장치
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