KR100982362B1 - 기체와 고체를 역류접촉시키는 장치 - Google Patents

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Abstract

기체와 하향유동 고체입자를 역류접촉시키는 장치(200)는 하우징(205)과 상기 하우징 속에 위치하는 다수의 배플(100)을 포함한다. 상기 배플들은 연속적으로 낮은 위치에 수직하게 이격된 적어도 제 1 및 제 2 레벨에 배열되며, 상기 제 1 및 제 2 레벨의 각 레벨은, 고체입자들의 이동을 용이하게 하고 최대유동면적을 제공하기 위해, 서로 평행하게 배치되어 수평상태로부터 경사진 적어도 두 개의 배플로 된 배플열을 포함한다. 입자들이 한 레벨에서 다음 레벨로 이동함에 따라서 하향유동 입자의 방향을 횡방향으로 이동시키고 상의 채널링을 피하도록 배플들이 배치된다. 배플의 수, 길이 및 간격은 상 사이의 상호작용을 위한 최대 계면적을 제공하도록 최적화되어있다.
역류접촉, 배플, 스트리퍼, 스트리핑 가스, 채널링

Description

기체와 고체를 역류접촉시키는 장치{Apparatus for countercurrent contracting of gas and solids}
본 발명은 기체와 유동고체를 역류접촉시키는 장치에 관한 것으로서, 특히 유동식접촉분해법(FCC: Fluid Catalytic Cracking process)용 스트리퍼(stripper)에 관한 것이다.
다양한 화학물질, 석유 정제 및 연소처리에는 유동고체입자를 상향유동가스와 접촉시켜서 충분한 질량 및/또는 열 전달을 얻는 것이 필요하다. 이런 시스템들은 또한 상(phase)들간의 효과적인 역류접촉에 의해 화학반응을 실행하는데도 사용될 수 있다. 널리 사용되는 이러한 한가지 용도는 무거운(또는 고비점의) 탄화수소화합물을 보다 가치 있는 가벼운(또는 저비점의) 성분으로 전환하기 위해 수년동안 석유정제에 사용된 유동식접촉분해("FCC")로서 알려진 매우 중요한 처리에 있다. 여러 가지 많은 FCC장치의 구조가 있지만, 모든 FCC장치는 기본적으로 동일 기능의 기기편으로 구성된다. 일반적으로, FCC장치는 내부에서 분해반응이 일어나는 수직관 반응기인 라이저(riser)를 포함한다. 일반적으로 액체형태의 탄화수소공급재료는 라이저의 바닥에서 도입되며, 여기서 고온의 재생촉매와 접촉한다. 미세분말형태의 촉매는 오일과 쉽게 혼합하여 열을 방출시키므로 오일을 증발시키고 분해반응 을 지속시킬 수 있게 된다. 촉매와 탄화수소는 둘 다 라이저를 통하여 상향 유동한다. 라이저 속에서의 전환을 향상시키기 위해 오일에 대한 촉매의 비율을 최적화하는 것이 유리하다. 라이저 속에서의 체류시간은 통상 약 10초 미만이다. 라이저의 상부에서의 라이저종결장치는 촉매로부터 반응생성물(증기상)을 분리시킨다. 생성물 증기는 FCC장치에서 나와서 또 다른 처리과정으로 보내진다. 분해반응으로 코크스로 덮여진 촉매입자들은 재생기로 보내지고 여기서 코크스는 산화가스(보통 공기)류 속에서 태워져 없어진다. 탄화수소증기 분위기에서 나오는 촉매는 촉매의 기공 속에 그리고 촉매입자 사이에 탄화수소를 가질 것이다. 촉매가 재생기로 보내지기 전에, 먼저 촉매로부터 동반탄화수소를 제거하거나 촉매의 기공 속에 위치하는 탄화수소를 제거하는 것이 유리하다. 이 것은 통상 하향유동하는 촉매입자를 상향유동류와 접촉시킴으로써 이루어진다. 스트리핑(회수)장치의 효율은 회수되지 않은/제거되지 않은 탄화수소가 가치 있는 생성물의 손실을 의미하므로 중요하다. 또한 회수되지 않고/않거나 제거되지 않은 탄화수소는 대부분의 탄화수소를 연소시키는데 추가량의 산화 또는 연소공기를 필요로 한다는 면에서 재생기에 또 다른 부담을 준다. 또한 이 재생기는 고온에서 운전되는데, 이 고온에서는 오일에 대한 촉매의 비율이 저하할 것이며, 운전유연성 및 가치 있는 생성물의 생산의 면에서 장치성능을 저하시킬 것이다. 또한, 수소가 풍부한 동반탄화수소는 촉매 비활성화를 증대시킬 수 있는 높은 증기분압을 재생기 속에 만들수도 있다.
도 1을 참조하면, 종래의 FCC장치의 개략도가 도시되어있다. 가스오일이나 진공가스오일 등의 고비점공급재료, 또는 더 무거운 공급재료는 재생촉매입자와 혼 합되는 공급재료주입구(2)를 통하여 라이저반응기(6)에 부가된다. 여기서 이 분해반응은 라이저 속에서 완료되며, 분해된 탄화수소와 소모된 촉매는 엘보우(10)에 의해 사이클론(12)속으로 전향되며, 이 사이클론은 생성물로부터 대부분의 소모된 촉매를 분리시킨다. 잔류 촉매입자와 함께 사이클론(12)으로부터 나오는 증기는 바로 대부분의 잔류촉매를 제거하는 사이클론(16)으로 보내진다. 이 사이클론은 소량의 분해된 탄화수소증기는 분리된 촉매와 함께 사이클론의 디플레그(dipleg)측으로 운반된다.
소모된 촉매는 사이클론(12, 16)의 디플레그로부터 촉매스트리퍼(8) 속으로 하방으로 방출되고 여기서 1단계 이상의 증기스트리핑이 일어난다. 스트리핑 증기는 용기의 바닥이나 용기의 상부와 바닥 사이의 어느 중간 지점에서 라인(19, 21)을 통해 주입된다. 스트리핑(회수)된 탄화수소 및 스트리핑 증기는 해제기(14) 속으로 상향 이동하여 사이클론(12) 내의 특수한 개구를 통과한 후에 분해된 생성물과 함께 제거된다. 라이저 반응기의 출구에서 촉매 및 분해된 탄화수소증기를 분리하기 위한 그 외에 많은 사이클론방식 및 비사이클론방식 구조와 장치들이 있다. 그러나 이들 장치 및 구조들의 목적은 동일한 것으로서, 분해된 탄화수소증기로부터 촉매입자들을 분리하는 것이다.
스트리핑(회수)된 촉매는 스탠드파이프(26)를 통해 수평촉매이송라인(27) 속으로 하방으로 방출된다. 촉매의 유동은 밸브(36)에 의해 제어된다. 공기가 라인(28)을 통하여 이송라인(27) 속으로 주입되고, 소모된 촉매가 이송라인(27) 및 리프트라인(29)을 통한 묽은 상의 이송에 의해 재생기측으로 이송된다. 당업자라면 대신에 이용할 수 있는 그 외의 적절한 촉매이송방법이 있음을 알 수 있을 것이다.
촉매는 에어라인을 통해 부가된 공기와 에어그리드 분배기(도시하지 않음)와 접촉함에 의해 재생기(24) 속에서 재생된다. 고비점의 공급재료를 처리할 때 특정 운전에서 재생기로부터 열을 제거할 수 있도록 촉매냉각기(28)를 제공할 수도 있다.
재생된 촉매는 재생기로부터 덕트(34)를 통해 호퍼(31), 스탠드파이프(33) 및 밸브조립체(30) 속으로 회수되어 측방라인(32)을 통하여 라이저반응기의 베이스 속으로 이송된다. 연소배가스와 약간의 동반촉매는 재생기(24)의 상부내의 희석상(dilute phase)영역으로 배출된다. 연소배가스와 동반된 촉매는 다단계의 사이클론(4) 내의 연소배가스로부터 분리된다. 분리된 촉매는 디플레크(35)를 통하여 재생기 속의 촉매상(catalyst bed)으로 복귀한다. 상기 연소배가스는 플레넘(20)을 통하여 배출되고 냉각되어 감지되는 열(sensible heat)을 회수한 후 대기로 방출된다.
통상의 FCC장치의 촉매 스트리퍼는 촉매와 스트리핑 증기의 접촉을 용이하게 하기 위해 원추형의 배플을 사용한다. 이 원추형의 배플은 통상 촉매가 배플 상에 머무르는 것을 방지하기 위해 심하게 경사져있다. 도 2는 내측으로 경사진 배플(42)과 교대로 형성된 외측으로 경사진 배플(41)을 포함하는 스트리퍼(40) 내의 전형적인 종래의 공지 배플의 구조를 보여준다. 배플(41, 42)은 고체-증기 접촉 및 질량이동을 증대시키기 위해 스트리핑가스의 상향유동(G)에 대하여 촉매입자의 하향유동(S)을 전후로 측방향으로 이동시키게 되어있다. 그러나, 촉매의 질량유속이 스트리퍼를 통해 증가함에 따라서 질량이동(또는 FCC스트리퍼의 경우는 탄화수소제거)의 효율이 감소한다는 것을 발견하였다. 일정한 점을 지나면 효율은 매우 급하게 하강할 수 있다. 따라서, 하향유동 입자와 상향유동 가스 사이의 고효율의 질량이동을 얻기 위한 방법 및 장치가 필요하다.
여기서는 기체와 하향유동 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치를 제공한다. 이 장치는, 적어도 부분적으로 내부공간을 형성하는 하우징과, 상기 하우징의 내부공간 속에 위치하는 다수의 배플을 포함하여 이루어지는데, 상기 배플은 연속적으로 낮은 위치로 수직하게 이격된 적어도 제 1 및 제 2 레벨에 정렬된다. 상기 제 1 및 제 2 레벨의 각 레벨은, 하향유동 고체가 상기 하우징을 통해 원활하게 유동하고 가용 단면적을 한정하지 않도록 하기 위해 서로 평행하게 배향되어 수평방향으로부터 경사진 적어도 두 개의 배플로 된 배플열을 포함한다. 그 외에, 입자가 한 레벨에서 다음의 하측 레벨로 이동함에 따라서 하향유동 입자의 방향을 측방향으로 이동시키기 위해 배플들이 연속적인 레벨로 정렬된다. 통상 연속적인 층들은 서로 직각으로 정렬되지만 설치 또는 처리 조건을 만족시키기 위해 그 외의 회전각을 사용할 수 있다.
유리하게도 이 장치는 상향유동 기체와 하향유동 입자 사이에 보다 효과적인 질량이동을 얻기 위해 유동식접촉분해(FCC: Fluid Catalytic Cracking)장치(이하 "FCC장치"라 한다)와 결합될 수 있다. 이 장치는 상(phase) 사이의 최대접촉이 이루어지고 상(phase)의 채널링을 피하도록 설계된다. 또한 상 사이의 질량이동을 위하여 최대의 "계면적"을 이용할 수 있다.
이하 도면을 참고하여 다양한 실시예를 설명한다.
도 1은 종래의 FCC장치의 개략도.
도 2는 종래의 스트리퍼의 개략도.
도 3은 본 발명에 따른 배플 플레이트의 정면도.
도 4, 도 5 및 도 6은 각각 본 발명에 따른 기체-고체 접촉장치의 사시도, 정면도, 및 측면도.
도 7은 배플 사이의 간격을 나타내는 도.
도 8은 본 발명의 기체-고체 접촉장치의 다른 구조를 나타내는 사시도.
도 9는 본 발명의 기체-고체 접촉장치의 또 다른 구조를 나타내는 평면도.
도 10은 본 발명의 뛰어난 효율을 나타내는 배플성능 대 질량유속의 그래프.
본 발명의 장치는 고체입자와 기체가 역류하여 접촉하는 어떤 용도에도 이용할 수 있다. 통상 이런 접촉은 여러 상 사이에서 질량이동하게 하거나 화학반응을 일으키게 하기 위한 것이지만, 또한 열전달을 목적으로도 하는 것이다. 본 발명은 특히 FCC용 스트리퍼(stripper)에서 사용하는데 유리하며 도 1에 도시한 FCC장치와 함께 유리하게 결합될 수 있는데, 본 발명의 범위가 이 용도에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 접촉장치는 독특한 구조를 갖는 어레이(array) 내의 배플(baffle) 을 이용한다. 도 3을 참조하면, 개개의 배플(100)이 도시되어 있는데, 여기서 배플(100)은 운전온도 및 그 외의 운전조건에 따라서 금속, 세라믹, 또는 엔지니어링 플라스틱(예를 들어, 폴리카보네이트(polycarbonate), 아크릴(acrylic), 폴리비닐 클로라이드(polyvinylchloride), 나일론(nylon), 아세탈(acetal), 폴리설폰(polysulfone) 등) 등의 적절한 재료의 플레이트(plate)(101)로 만들어진다.
플레이트(101)는 제 1 및 제 2 직선형 측면(102, 103)을 갖는다. 바람직하게는, 플레이트(101)는 편평하지만 그 외에 굴곡형 플레이트도 이용할 수 있다. 상측면(111)은 바람직하게는 톱니형상으로 되어있으며, 일반적으로 V형상의 치부(teeth)(111a) 및 노치(notch)(111b)가 교대로 형성되어있다. 노치는 바람직하게는 약 60°- 120°, 보다 바람직하게는 약 80°- 100°, 더 바람직하게는 약 88°- 92°의 각도(α)를 형성한다. 가장 바람직하게는 α는 90°이다. 플레이트(101)의 하측면(112)도 바람직하게는 톱니형상을 가지며 치부(112a)와 노치(112b)가 교대로 형성되어있다. 노치(112b)도 전술한 바와 같은 각도(α)를 형성한다. 하측면(112)의 톱니부는, 하측면(112)의 노치(112b)가 상측면(111)의 치부(111a)와 수직방향으로 일치하고 하측면(112)의 치부(112a)가 상측면(111)의 노치(111b)와 수직방향으로 일치하도록 상측면(111)의 톱니부와 교대로 형성된다.
배플플레이트(baffle plate)(101)는 또한 일련의 엇갈리게 배열된 다수의 구멍(115)을 갖는다. 각 플레이트(101)에는 적어도 두 개, 바람직하게는 4열, 6열 또는 그 이상의 열의 구멍이 있다. 예시를 위해, 도 3에는 구멍열(115a, 115b, 115c, 115d)이 도시되어있다. 구멍(115a', 115c')을 예로 들은 구멍열(115a, 115c)은 치 부(111a) 및 노치(112b)와 수직방향으로 일치한다. 구멍(115b', 115d')을 예로 들은 교대배치형태의 구멍열(115b, 115d)은 노치(111b) 및 치부(112a)와 수직방향으로 일치한다.
치부, 노치 및 구멍의 크기는 고체의 입자크기, 처리량의 체적에 따라서 선택할 수 있다. 일예로서, 통상의 크기의 FCC촉매(예를 들어 20 - 160μm 지름)에 있어서 구멍(115)의 직경(M)은 선택적으로 약 0.5 - 6인치의 범위가 될 수 있으며, 통상은 약 1.5 - 3.0인치이다. 적절한 경우에는 이들 범위 외의 치수도 사용할 수 있다.
배플(100)의 길이(L) 및 폭(W)은 장치의 크기에 따라서 선택할 수 있다. 통상, 길이(L)는 약 24 - 240인치이고, 폭(W)은 약 6인치 - 24인치이다. 치부에서 치부까지의 거리(D1)는 선택적으로 약 2.0 - 12.0인치의 범위가 될 수 있다. 적절한 경우는 이들 범위 외의 치수도 사용할 수 있다.
본 발명은 장치의 내부를 통한 고체의 하향유동을 더욱 골고루 분배함으로써 고체접촉을 용이하게 한다. 기체 및 고체 접촉이 효과적으로 이루어질 수 있는 내부용적을 최대로 하기 위해, 교체유동이 방향 이동하므로 제한된 영역으로의 고체의 채널링(channeling)이 방지된다.
이제 도 4, 도 5 및 도 6을 참조하여 고체-기체 접촉장치(200)(예를 들어, 스트리퍼)를 설명한다. 장치(200)는 내부공간을 형성하며 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 측면(201, 202, 203, 204)을 갖는 하우징(205)을 포함한다. 내부골조(208)는 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 열의 배플(100)을 지지한다. 배플은 다양한 방식 중의 어느 방식으로도 지지할 수 있다. 내부골조(208)는 적절한 지지수단의 일 예이다. 각 열의 배플의 높이(H)는 선택적으로 약 3인치 - 30인치가 될 수 있으며, 보다 통상적으로는 약 10 - 18인치가 될 수 있다. 적절한 경우는 이들 범위 외의 치수도 사용할 수 있다. 장치, 소망의 처리량 및/또는 그 외의 운전조건에 따라서 어떤 개수의 배플도 1열로 위치할 수 있다. 일반적으로 각 열에는 5 - 15개의 배플이 포함되지만, 적절한 경우는 이 범위 외의 개수도 사용할 수 있다. 도 4 및 도 6에서 알 수 있듯이, 배플(100)은 1열 중의 배플들은 평행하지만 각 열은 다른 방향으로 하방으로 경사지도록 되어있다. 예를 들어, 열(210) 중의 배플(100)은 측면(203)측으로 하방으로 경사지고, 열(220) 중의 배플(100)은 측면(204)측으로 하방으로 경사지며, 열(230) 중의 배플(100)은 측면(201)측으로 하방으로 경사지며, 열(240) 중의 배플(100)은 측면(202)측으로 경사진다. 따라서, 고체의 하향유동이 장치의 각 측면측으로 이동된다. 보다 구체적으로 고체입자의 유동방향의 측방성분은 입자가 한 레벨에서 아래로 다음의 레벨로 유동함에 따라서 90°만큼 이동된다. 측방향변화는 연속층의 배플의 회전각에 따라서 약 45 - 180°사이가 될 수 있다.
배플(100)의 경사각(β)(즉, 수평방향에 대한 각도)은 바람직하게는 약 20 - 80°의 범위이며, 보다 바람직하게는 약 50 - 60°의 범위이다. 각도(β)는 고체가 배플 상에 머무르거나 축적되는 것을 방지하는데 충분하도록 커야 한다. 최적의 각도(β)는 고체의 특성, 입자크기 및 입자형상에 따라서 변할 수 있다.
배플 사이의 간격(D2)은 인접한 배플의 상측엣지와 하측엣지 사이의 겹침 또는 갭의 량에 의해 결정된다. 도 7을 참조하면, 상측엣지와 하측엣지가 갭 또는 겹침 없이 직접 일치할 수 있다. 다른 방식으로서, 치수(D2')의 겹침 또는 갭이 있을 수 있다. 따라서, 치수(D2)는 배플플레이트의 겹침 또는 갭의 량 및 각도(β) 및 폭(W)에 따라 변하는데, 통상 3 - 30인치의 범위가 될 수 있지만, 적절한 경우 이 범위 외의 치수도 사용할 수 있다.
FCC장치 내의 촉매입자로부터 동반탄화수소증기(entrained hydrocarbon vapor)를 회수하는데 사용할 때, 가스-기체 접촉장치(200)는, 통상적으로 약 5 - 200초의 촉매체류시간, 약 5lbs/ft2-sec 내지 50lbs/ft2-sec의 촉매유량, 약 0.5lbs/촉매 1000lbs 내지 약 5.0lbs/촉매 100lbs의 스트리핑 가스유량을 수용할 수 있는 크기 및 구조로 형성될 것이다. 이들 범위는 FCC장치에 대해서는 전형적이지만 다른 처리에는 보다 높거나 낮은 값을 필요로 할 수 있다.
기체-고체 접촉장치(200)는 평면도에서 사각형 단면을 갖는 것으로 도시되어 있으나, 그 외의 구조도 대신해서 사용할 수 있다. 도 8을 참조하면, 기체-고체 접촉장치(200A)는 배플(100)이 내부에 위치하는 원형 단면의 원통형 하우징(205A)을 구비한다. 도 9는 원통형 외측하우징(205B)과, 예를 들어 FCC장치의 라이저부나 그 외의 구성부가 될 수 있는 축방향컬럼(206)을 구비하는 환형 기체-고체 접촉장치(200B)를 예시한다. 스트리핑은 기체와 고체가 접촉하도록 배플(100)이 위치한 내측컬럼(206)과 외측하우징(205B) 사이의 환형공간에서 일어난다. 206같은 축방향 컬럼이 있거나 없는 타원형, 삼각형 등의 다른 단면구조를 대신해서 사용할 수 있다.
[실시예]
능력과 효율 사이의 관계를 콜드-플로우 테스트에서의 실험으로 알게되었다. 콜드플로모델 실험은 공업적 FCC스트리퍼의 실제 운전을 모의하게 위해 실제의 촉매 및 공기를 사용한다. 종래 기술의 스트리퍼와 신규의 장치의 성능을 조사하기 위해 테스트를 실시하였다. 이 실험에서, 스트리퍼에 들어가기 전에 유동촉매를 헬륨추적가스와 함께 주입하였다. 하향유동하는 촉매입자들은 상향유동하는 공기와 접촉하였다. 상기 추적가스를 제거하는 능력을 촉매유속 및 다수의 기기 구성 및 조건에 걸쳐서 측정하였다. 샘플은 스트리퍼의 입구 및 출구에서 그리고 스트리퍼의 높이에 걸쳐 여러 지점에서 취하여 헬륨농도를 분석하였다.
도 10은 종래의 공지 표준배플설계를 사용한 종래의 공지 스트리퍼와 비교하여 신규의 배플구조를 사용한 본 발명의 장치의 성능을 측정한 것을 보여준다. 본 발명의 장치는 측정된 범위의 질량유속(lbs/sec-ft2)에 대하여 적어도 95%의 효율을 나타낸 반면, 종래의 스트리퍼장치는 최대효율이 94%미만이었으며, 이는 질량유속이 증가함에 따라서 급격히 강하한 것이다. 예를 들어, 18lbs/ft2-sec의 질량유속에서 본 발명의 배플설계의 효율은 약 96%이고 종래의 공지 배플설계는 약 93%였다. 그러나, 22lbs/ft2-sec에서, 종래의 공지 배플설계의 효율은 약 88%까지 떨어지며, 28lbs/ft2-sec에서는 종래의 공지 배플설계의 효율이 78%미만으로 떨어진 반면, 본 발명의 배플설계의 효율은 동일한 질량유속 범위에 대하여 약 95%를 유지하였다. 따라서, 종래의 공지 장치는 낮은 효율을 가질 뿐만 아니라, 질량유속이 증가함에 따라서 효율이 훨씬 급격한 속도로 하강한다.
상기 설명은 상세 내용을 포함하고 있지만, 이들 상세 내용은 본 발명의 범위의 제한으로서 해석되어서는 안 되며, 단지 본 발명의 바람직한 실시예의 예시로서 해석하여야 한다. 당업자라면 첨부하는 특허청구의 범위에 정의된 본 발명의 범위 및 정신 내에서 다양한 가능성을 예상할 수 있을 것이다.

Claims (17)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. a) 부분적으로 내부공간을 형성하는 하우징; 및
    b) 상기 하우징의 내부공간속에 위치하는 다수의 배플(baffle)을 포함하며, 상기 배플은 연속적으로 아래위치로 수직하게 이격된 적어도 제1 및 제2레벨에 정렬되며, 상기 적어도 제1 및 제2레벨의 각 레벨은, 입자들이 한 레벨에서 다음의 하측 레벨로 이동함에 따라서 하향유동입자의 방향을 횡방향으로 이동시키기 위해, 서로 평행하게 배향되어 수평방향으로부터 경사지게 배치되는 일렬의 두 배플을 포함하며, 상기 배플은 1열의 구멍이 인접열의 구멍에 대해 어긋나게 배치되도록 두개 평행열에 배치된 다수의 구멍을 포함하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치에 있어서,
    상기한 각 배플은 배플길이를 형성하는, 서로 대향하며 평행하는 제1 및 제2 톱니형 엣지(edge)를 가지며, 각 톱니형 엣지는 교호로 형성된 능선부와 노치를 포함하며;
    상기 제1톱니형 엣지의 능선부 및 노치는 제2톱니형 엣지의 능선부와 노치에 대하여 어긋나게 형성되는 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 노치는 각도 α를 형성하는데, α는 60° 내지 120°인 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 각각의 구멍은 0.5 내지 6인치의 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 장치는 적어도 4개의 레벨을 포함하며, 입자의 하향유동방향은 입자들이 한 레벨에서 하측의 후속레벨까지 이동함에 따라서 45° 내지 180°의 각도만큼 측방으로 이동되는 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 각도는 90°인 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 3 레벨에서 하향유동하는 입자의 측방향은 상기 제 1 레벨에서 하향유동하는 입자의 측방향의 반대방향이며, 상기 제 4 레벨에서 하향유동하는 입자의 측방향은 상기 제 2 레벨에서 하향유동하는 입자의 측방향의 반대방향인 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 배플은 수평방향으로부터 각도β만큼 경사지는데, β는 20° 내지 80°인 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  12. 제5항에 있어서,
    상기 하우징은 사각형 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  13. 제5항에 있어서,
    상기 하우징은 원형 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 기체와 하향유동하는 고체입자를 역류접촉시키기 위한 장치.
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 하향유동하는 소모된 촉매입자로부터 동반탄화수소증기(entrained hydrocarbon vapor)를 제거하기 위한 스트리퍼(stripper)를 포함하는 유동식접촉분해장치에 있어서,
    상기 스트리퍼는,
    a) 스트리퍼 하우징;
    b) 상기 스트리퍼 하우징속으로 스트리핑가스를 도입하기 위한 수단; 및
    c) 상기 스트리퍼 하우징속에 위치하는 다수의 편평한 배플을 포함하며,
    상기 배플은 연속적으로 아래위치로 수직하게 이격된 적어도 제1 및 제2레벨에 정렬되며,
    상기 제1 및 제2레벨의 각 레벨은, 촉매입자들이 한 레벨에서 다음의 하측 레벨로 이동함에 따라서 가로질러 하향유동촉매입자의 방향을 횡방향으로 이동시키기 위해, 서로 평행하게 배향되어 수평방향으로부터 경사진 일렬의 두 개의 배플을 포함하며,
    상기 각 배플은 배플길이를 형성하는 서로 대향하며 평행하는 제1 및 제2 톱니형 엣지를 가지며, 각 톱니형 엣지는 교호로 형성된 능선부와 노치를 포함하는 것을 특징으로 하는 유동식접촉분해장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 각 배플의 상기 제 1 톱니형 엣지의 능선부 및 노치는 제 2 톱니형 엣지의 능선부와 노치에 대하여 어긋나게 형성되는 것을 특징으로 하는 유동식접촉분해장치.
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