KR100951929B1 - 항온수 순환장치 - Google Patents

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Abstract

항온수 순환장치를 제공한다.
본 발명은 일정온도를 갖는 항온수를 일방향으로 순환시키는 장치에 있어서, 일정량의 항온수가 저장되는 저장탱크 ; 상기 저장탱크와 외부장치와의 사이를 연결하는 공급용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치내로 공급되어 통과하는 항온수를 일정온도로 유지하도록 열교환되는 열교환부 ; 상기 외부장치를 관통하는 공급용 순환배관으로부터 연장되어 상기 외부장치에서 사용된 항온수를 상기 저장탱크로 배출안내하는 리턴용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치를 관통하는 배관 내에 음압이 걸리도록 상기 항온수를 강제흡입하여 순환시키는 외력을 제공하는 흡입펌프; 및 상기 순환배관에 걸리는 내부압을 근거로 하여 상기 흡입펌프의 구동을 제어하는 제어부를 포함한다.
항온수, 순환, 흡입펌프, 압축펌프, 순환배관, 열교환

Description

항온수 순환장치{APPARATUS FOR CIRCULATING CONSTANT TEMPERATURE WATER}
본 발명은 항온수를 순환시키는 장치에 관한 것으로, 더욱 상세히는 일정온도를 유지하는 항온수를 순환시키는 순환라인에서 항온수의 강제순환시 발생되는 항온수 리크에 의한 공정불량을 방지하고, 리크발생위치를 정확하게 검지할 수 있도록 개선한 항온수 순환장치에 관한 것이다.
일반적으로 최근들어 급속한 기술 개발이 진행되고 있는 반도체 제품은 매우 다양하면서 정밀한 반도체 제조 공정을 수행하는 반도체 제조 설비에 의하여 생산된다.
이때, 반도체 제조 설비들은 인위적인 환경, 예를 들면, 공정에 필요한 고온환경, 초저압환경, 반도체를 생성하기 위한 각종 화학물질을 사용하게 되는 바, 일부 제조 설비들은 이와 같은 인위적인 환경 중 특히, 고온 환경으로부터 고가의 설비를 보호하기 위하여 반도체 설비를 항상 일정 온도를 유지시키도록 해야할 필요가 있다.
즉, 반도체를 제조하는 공정에서 필수적으로 산화 및 확산과정을 거친 웨이퍼는 박막을 형성하기 위해서 포토 레지스트로 패터닝되어진 후 마스크의 패턴과 정렬한 상태로 자외선, 레이저 및 전자빔을 이용한 노광공정이 이루어진다.
노광 공정 후 웨이퍼의 포토 레지스트는 부분적으로 현상약액인 케미칼액에 의해서 세정되어 소망하는 패턴을 얻게 된다.
이러한 현상공정이 이루어지기 위해서는 포토 레지스트가 노광된 부분이나 그렇치 않은 부분과 반응하는 케미칼액을 웨이퍼로 분사하거나 담궈서 에칭작업을 수행해야한다. 이때, 공급되는 케미칼액을 항상 일정온도로 유지해야 하기 때문에 도 1에 도시한 바와 같은 항온수 순환장치를 이용하여야 한다.
도 1은 일반적인 항온수 순환장치를 도시한 개략도로서, 저장탱크(10)에 채워진 항온수는 압축펌프(20)에 의해서 공급용 순환배관(15)을 통하여 반도체설비의 웨이퍼 세정장치와 같은 외부장치(50)의 내부로 공급되고, 상기 외부장치(50)의 내부로 공급된 항온수는 리턴용 순환배관(16)을 통해 상기 저장탱크(10)로 재저장되어 채워지는 순환라인을 형성하게 된다.
상기 압축펌프(20)와 외부장치(50)사이에는 일방향으로 순환되는 항온수의 온도를 일정하게 유지하도록 냉각수가 공급되어 열교환된 후 외부로 배출되는 냉각수배관(35)을 포함하는 열교환부(30)가 설치된다.
그리고, 상기 열교환부(30)로부터 외부장치(50)까지 연장되어 일정온도를 갖는 항온수가 일방향으로 흐르는 공급용 순환배관(15)은 케미칼액이 저장된 액저장탱크(40)로부터 연장된 액배관(45)과 연결되어 이를 내부관으로 배치하는 외부관형태로 구비되어 이중배관구조를 갖는다.
이에 따라, 상기 내부관인 액배관(45)을 통해 공급되는 케미칼액은 일정하게 온도를 유지하면서 상기 외부장치(50)의 내부까지 공급된 다음 웨이퍼상으로 분사되는 반면에 상기 외부관인 공급용 순환배관(15)을 통해 공급되는 항온수는 이에 일체로 연결되는 리턴용 순환배관(16)을 통하여 상기 저장탱크(10)에 저장된 후 상기 압축펌프(20)에 의해서 상기 열교환부(30) 및 외부장치(50)를 거쳐 반복순환되는 것이다.
도 1에서 미설명 부호 56은 솔레노이드밸브이며, 57은 유량계이다.
그러나, 이러한 종래의 항온수 순환장치에서 외부관인 상기 공급용 순환배관(15)이 손상되는 경우, 도 2에 도시한 바와 같이, 항온수를 강제 순환시키기 위해 작동되는 압축펌프에 의해서 순환배관(15)의 내부는 대기압보다 상대적으로 높은 양압이 인가되기 때문에, 상기 공급용 순환배관(15)의 손상부위(L1)를 통해 항온수가 외부로 유출되는 항온수 리크불량을 발생하게 된다.
이때, 이러한 항온수 리크현상이 외부장치(50)의 내부에서 발생되면,리크된 항온수가 웨이퍼 상에 떨어지면서 제품불량을 초래하는 치명적인 문제점이 있었다.
또한, 내부관인 액배관(45)이 손상되는 경우, 대기압보다 높은 양압이 걸리는 공급용 순환배관내의 항온수가 손상부위(L2)를 통하여 액배관(45)의 내부로 유입되어 케미칼액과 혼합되어 용액불량을 발생하고, 이로 인하여 외부장치에서 케미칼액을 이용한 후속공정에 대한 공정불량을 초래하는 치명적인 문제점을 초래하였다.
그리고, 이러한 액배관(45)의 손상은 매우 미세하기 때문에 외부관인 공급용 순환배관을 통하여 불량부위를 감지하는 것이 곤란하였다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 항온수를 순환배관을 통하여 순환시키는 과정에서 배관의 손상부위로부터 항온수가 외부로 리크되지 않도록 하여 항온수 낙하에 의한 오염불량을 방지하고, 손상부위를 용이하게 확인할 수 있는 항온수 순환장치를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 케미칼액을 항온수가 강제 순환되는 외부관의 내부에 배치되는 내부관을 통해 순환시키는 과정에서 항온수가 내부관 내로 유입되는 것을 방지하고, 내부배관의 손상부위를 외부에서 용이하고 정확하게 확인할 수 있는 항온수 순환장치를 제공하고자 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 구체적인 수단으로서, 본 발명은 일정온도를 갖는 항온수를 일방향으로 순환시키는 장치에 있어서, 일정량의 항온수가 저장되는 저장탱크 ; 상기 저장탱크와 외부장치와의 사이를 연결하는 공급용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치내로 공급되어 통과하는 항온수를 일정온도로 유지하도록 열교환되는 열교환부 ; 상기 외부장치를 관통하는 공급용 순환배관으로부터 연장되어 상기 외부장치에서 사용된 항온수를 상기 저장탱크로 배출안내하는 리턴용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치를 관통하는 배관 내에 음압이 걸리도록 상기 항온수를 강제흡입하여 순환시키는 외력을 제공하는 흡입펌프; 및 상기 순환배관에 걸리는 내부압을 근거로 하여 상기 흡입펌프의 구동을 제어하는 제어부를 포 함함을 특징으로 하는 항온수 순환장치를 제공한다.
바람직하게, 상기 제어부는 상기 순환배관의 내부압이 대기압보다 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어한다.
바람직하게, 상기 공급용 순환배관은 길이중간에 상기 저장탱크의 항온수를 상기 외부장치의 입구까지 공급하는 압축펌프를 더 포함한다.
더욱 바람직하게, 상기 흡입펌프에서 제공되는 흡입력의 세기는 상기 압축펌프에서 제공되는 압축력의 세기보다 상대적으로 크게 설정된다.
바람직하게, 상기 외부장치에서 사용되는 케미칼액이 저장된 액저장조와, 상기 액저장조로부터 연장된 액배관을 통하여 케미칼액을 외부장치내로 공급하는 외력을 제공하는 액공급용 압축펌프를 더 포함하고, 상기 공급용 순환배관은 액배관을 내부배치하여 케미칼액의 온도를 일정하게 유지하는 외부관으로 구비된다.
더욱 바람직하게, 상기 제어부는 상기 공급용 순환배관의 내부압이 상기 액배관의 내부압보다 상대적으로 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수와, 상기 액공급용 압축펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수를 동시에 제어하거나 선택적으로 제어한다.
더욱 바람직하게, 상기 제어부는 상기 흡입펌프와 열교환부사이에 구비되는 공급용 순환배관 및 리턴용 순환배관의 내부압이 대기압보다 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어한다.
본 발명에 의하면, 외부장치를 관통하는 공급용 순환배관으로부터 연장되어 외부장치에서 사용된 항온수를 상기 저장탱크로 배출안내하는 리턴용 순환배관에 흡입펌프를 구비함으로써, 항온수를 강제흡입하여 순환시키는 외력을 제공하는 흡입펌프에 의해서 흡입펌프와 열교환부사이에 해당하는 배관내에 대기압보다 낮은 내부압이 걸리어 순환배관을 통하여 항온수를 순환시키는 과정에서 배관의 손상부위를 통해 항온수가 관외부로 리크되지 않고 항온수가 순환되는 관내부로 유입시킬수 있기 때문에, 항온수 낙하에 의한 제품의 오염불량을 방지하고, 손상부위에 발생되는 버블현상을 통하여 손상부위를 용이하게 확인할 수 있다.
또한, 항온수가 강제 순환되는 외부관의 내부에 배치되는 내부관을 통하여 케미칼액을 순환시키는 과정에서 케미칼액이 공급되는 배관의 손상부위를 통해 항온수가 케미칼액이 공급되는 내부관 내로 유입되어 케미칼액을 오염시키는 방지하고, 내부관의 손상부위를 외부에서 용이하고 정확하게 확인할 수 있는 효과가 얻어진다.
이하 본 발명의 실시 예에 대해 첨부된 도면에 따라 더욱 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 항온수 순환장치를 도시한 개략적인 구성도이고, 도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 항온수 순환장치에 채용되는 배관의 손상부위에서 항온수의 리크상태를 도시한 상태도이다.
본 발명의 실시 예에 따른 항온수 순환장치(100)는 도 3과 도 4에 도시한 바와 같이, 일정온도를 갖는 항온수가 외부장치를 관통하여 연속하여 통과하도록 항온수를 연속하여 순환시키는 것으로, 이는 저장탱크(110), 열교환부(130), 흡입펌 프(170)를 포함한다.
상기 저장탱크(110)는 일정량의 항온수를 저장할 수 있도록 일정크기의 내부공간을 갖는 저장조이며, 상측 외부면에는 상기 외부장치(150)를 통과한 항온수가 리턴되는 리턴용 순환배관(116)을 구비하며, 하측 외부면에는 순환하고자 하는 항온수를 공급하는 공급용 순환배관(115)을 구비한다.
이에 따라, 상기 공급용 순환배관(115)과 리턴용 순환배관(115)은 항온수를 일방향으로 순환시키는 일련의 순환라인으로 구비된다.
그리고, 상기 저장탱크(110)에는 항온수의 수위가 기준수위보다 낮아질 때 이를 보충할 수 있도록 밸브부재(111a)를 갖는 항온수 보충라인(111) 및 불필요한 항온수를 외부배출할 수 있도록 밸브부재(112a)를 갖는 항온수 드레인라인(112)을 구비할 수 있다.
상기 열교환부(130)는 상기 저장탱크(110)와 외부장치(150)와의 사이를 연결하는 공급용 순환배관(115)의 길이중간에 배치되어 상기 외부장치(150)내로 공급되어 통과하는 항온수를 일정온도로 유지하도록 온도가 상승된 항온수의 온도를 낮출 수 있도록 항온수와 열교환되는 것이다.
이러한 열교환부(130)에는 순환되는 항온수보다 상대적으로 낮은 온도를 갖는 냉각수가 공급되어 순환되는 냉각수라인(131)을 구비하며, 상기 열교환부의 내부에는 열전달율이 높은 열전달물질(133)이 채워질 수 있다.
상기 열교환부(130)에는 열전달에 의한 열교환이 이루어지는 상태를 모니터링할 수 있도록 온도센서(132)를 구비할 수도 있다.
상기 흡입펌프(170)는 상기 외부장치(150)를 관통하는 공급용 순환배관(115)으로부터 연장되어 상기 외부장치(150)를 통과하면서 외부장치의 내부와 열교환되되는 항온수를 상기 저장탱크(110)로 배출안내하는 리턴용 순환배관(116)의 길이중간에 구비됨으로써, 상기 외부장치(150)를 관통하는 순환배관(115,116)내에 대기압보다 낮은 음압이 걸리도록 흡입펌프용 모터부재(171)의 구동시 상기 항온수를 강제흡입하여 리턴순환시키는 외력을 제공하는 것이다.
상기 외부장치(150)에 근접하는 공급용 순환배관(115)과 리턴용 순환배관(116)에는 배관의 내부압을 측정하여 모니터링할 수 있도록 압력계(115a,116a)를각각 구비하는 것이 바람직하다.
상기 제어부(180)는 상기 공급용 순환배관(115) 및 리턴용 순환배관(116)에 걸리는 내부압을 측정하는 압력계(115a,116a)의 측정값을 수신하여 이를 근거로 하여 상기 흡입펌프(170)를 구동시키는 모터부재(171)의 구동을 제어하게 된다.
여기서, 상기 제어부(180)는 상기 공급용 순환배관(115) 및 리턴용 순환배관(116)에 걸리는 내부압을 측정하는 압력계(115a,116a)의 측정값과 대기압을 서로 비교한 다음 비교된 값을 근거로 하여 상기 공급용 순환배관 및 리턴용 순환배관의 내부압이 대기압보다 상대적으로 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프(170)를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어할 수 있다.
이러한 경우, 상기 외부장치(150)의 내부를 통과시키도록 항온수를 일방향으로 순환시키는 공급용 순환배관(115) 및 리턴용 순환배관(116)의 내부압이 대기압보다 상대적으로 낮게 유지되면, 도 4에 도시한 바와 같이, 상기 공급용 순환배 관(115) 및 리턴용 순환배관(116)의 외부표면에 다양한 원인에 의하여 미세한 홀 및 틈새와 같은 손상부위(L1)에 의한 항온수 리크가 발생되더라도 관내부에는 대기압보다 낮은 내부압이 걸리기 때문에 압력차이에 의해서 배관 내의 항온수는 외부로 유출되지 않고 항온수가 순환되는 관내부로 유입되고, 이로 인하여 항온수의 외부리크에 의해서 초래하는 제품불량을 방지할 수 있는 것이다.
즉, 설비의 핵심장치인 외부장치(150)내의 배관에 손상부위(L1)가 발생되는 경우 항온수가 장치내부로 리크되어 장치내의 부품을 오염시키거나 처리제품을 오염시키는 것을 사전에 방지할 수 있는 것이다.
또한, 상기 손상부위(L1)를 통하여 외부공기가 유입되면서 관내부에 거품(B)이 발생되는 버블링 현상을 유발시키기 때문에 작업자는 이를 육안으로 간편하고 신속하게 확인하여 손상부위(L1)가 발생된 배관을 새로운 배관으로 교체하는 작업을 수행함으로써, 손상부위를 그대로 장시간 방치하는 경우 초래될 수 있는 대형사고를 사전에 예방할 수 있다.
한편, 상기 저장탱크(110)와 연결된 공급용 순환배관(115)의 길이중간에는 상기 저장탱크(110)의 항온수를 상기 외부장치(150)의 입구까지 공급하는 외력을 제공하는 압축펌프(120)를 더 포함할 수도 있다.
이는 설비특성상 상기 외부장치(150)가 항온수가 저장되는 저장탱크(110)보다 상대적으로 높은 곳에 위치하는 경우, 상기 흡입펌프(170)에 의해서 제공되는 흡입력에 의해서 상기 저장탱크(110)에 저장된 항온수를 공급용 순환배관(115)을 통하여 상기 외부장치(150)의 입구까지 이송하기 곤란할 수도 있기 때문이다.
이때, 상기 제어부(180)는 상기 흡입펌프(120)에서 제공되는 흡입력이 상기 순환배관에서 걸리는 내부압을 대기압보다 낮은 상태로 유지할 수 있도록 상기 압축펌프(120)에서 제공되는 압축력보다 상대적으로 크게 발생되도록 상기 압축펌프(120) 및 흡입펌프(180)를 구동시키는 각 모터부재(121,181)의 회전수를 동시에 제어하거나 선택적으로 제어할 수 있다.
도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 항온수 순환장치를 도시한 개략적인 구성도이고, 도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 항온수 순환장치에 채용되는 배관의 손상부위에서 항온수와 케미칼액의 리크상태를 도시한 상태도이다.
본 발명의 실시 예에 따른 항온수 순환장치(100a)는 도 5과 도 6에 도시한 바와 같이, 일정온도를 갖는 항온수가 외부장치를 관통하여 연속하여 통과하도록 항온수를 연속하여 순환시키는 것으로, 이는 제1실시예와 마찬가지로 저장탱크(110), 열교환부(130), 흡입펌프(170)를 포함함과 동시에 상기 외부장치에서 사용되는 케미칼액이 일정량 저장된 액저장조(140)를 더 포함한다.
이러한 액저장조(140)는 상기 외부장치(150)에서 사용하고자 하는 유체인 케이칼액을 공급하고, 상기 공급용 순환배관(115)의 내부에 배치되는 액배관(145)을 구비하며, 상기 액배관(145)에는 케미칼액이 공급되는 관내부의 내부압을 측정하는 압력계(145a)를 구비한다.
이에 따라, 상기 공급용 순환배관(115)은 상기 액저장조(140)로부터 연장되어 케미칼액이 공급되는 액배관(145)을 내부배치하여 이를 내부관으로 하고, 이를 통해 공급되는 케미칼액의 온도를 일정하게 유지하는 외부관으로 구비됨으로써, 상기 외부장치(150)와 열교환부(140)사이는 이중배관구조를 갖게 된다.
여기서, 상기 액배관(145)의 길이중간에는 상기 케미칼액을 상기 액배관(145)의 단부에 설치된 노즐(146)을 통해 분사하도록 압축력을 제공하는 액공급용 압축펌프(141)를 구비하며 상기 액공급용 압축펌프(141)는 모터부재(142)에 의해서 구동된다.
그리고, 상기 제어부(180)는 이중배관구조를 갖는 공급용 순환배관(115) 및 액배관(145)에 걸리는 내부압을 측정하는 압력계(115a,145a)의 측정값을 서로 비교한 다음 비교된 값을 근거로 하여 상기 공급용 순환배관의 내부압이 상기 액배관(145)의 내부압보다 상대적으로 낮게 항상 유지되도록 상기 흡입펌프(170)를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어한다.
이러한 경우, 상기 외부장치(150)의 내부를 통과시키도록 항온수를 일방향으로 순환시키는 공급용 순환배관(115)의 내부압이 상기 액배관(145)의 내부압보다 상대적으로 낮게 유지되면, 도 6에 도시한 바와 같이, 상기 액배관(145)의 외부표면에 다양한 원인에 의하여 미세한 홀 및 틈새와 같은 손상부위(L2)가 발생되더라도 상기 공급용 순환배관(115)에 비하여 액배관(145)의 내부압이 상대적으로 높게 형성되기 때문에, 압력차이에 의해서 액배관(145)내의 케미칼액이 외부관인 공급용 순환배관(115)내로 유입되어 항온수와 더불어 순환되는 것이다. 이로 인하여 종래와 같이 상기 공급용 순환배관(115)내의 항온수가 액배관(145)으로 유입되어 외부장치에서 사용되는 케미칼액을 오염시키는 것을 근본적으로 예방할 수 있는 것이 다.
특히, 설비의 핵심장치인 외부장치(150)가 반도체설비에서 웨이퍼에 현상약액과 같은 케미칼액을 분사하는 공정시 케미칼액에 항온수와 같은 불순물이 추가 혼합된 케미칼액의 분사에 의한 공정불량을 사전에 예방할 수 있는 것이다.
그리고, 상기와 같이, 상기 공급용 순환배관(115)과 액배관(145)의 내부압력차이에 의해서 액배관(145)내의 케미칼액이 외부관인 공급용 순환배관(115)내로 유입되는 과정에서 손상부위(L1)에 해당하는 관내부에 거품(B)이 발생되는 버블링 현상을 유발시키기 때문에 작업자는 이를 육안으로 간편하고 신속하게 확인할 수 있다.
한편, 상기 제어부(180)는 상기 흡입펌프(170)와 열교환부(130)사이에 구비되는 공급용 순환배관(115) 및 리턴용 순환배관(116)의 내부압을 상기 액배관(145)의 내부압보다 상대적으로 낮게 유지함과 동시에 대기압보다 낮게 유지하도록 상기 흡입펌프(170)를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어하는 것이 바람직하다.
이러한 경우, 도 6에 도시한 바와 같이, 상기 공급용 순환배관(115)이나 리턴용 순환배관(116)의 외부표면에 다양한 원인에 의하여 미세한 홀 및 틈새와 같은 손상부위(L1)에 의한 항온수 리크가 발생되더라도 관내부에는 대기압보다 낮은 내부압이 걸리기 때문에 압력차이에 의해서 배관내의 항온수가 외부로 유출되면서 초래하는 제품불량을 방지할 수 있는 것이다.
또한, 상기 손상부위(L1)를 통하여 외부공기가 유입되면서 관내부에 거품(B)이 발생되는 버블링 현상을 유발시키기 때문에 작업자는 이를 육안으로 간편하고 신속하게 확인할 수 있다.
여기서, 상기 외부장치는 반도체설비에서 웨이퍼에 일정온도를 유지하는 현상약액을 분사하여 처리하는 장치로 예시하여 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 일정온도를 갖는 항온수가 일방향으로 순환되는 모든 장치에 적용될 수 있다.
또한, 상기 외부장치를 통과하는 유체는 일정온도를 갖는 항온수로 한정하여 설명하엿지만 이에 한정되는 것은 아니며 일정하지 않은 온도를 갖는 유체가 순환되면서 통과될 수도 있다.
본 발명은 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있음을 밝혀두고자 한다.
도 1은 일반적인 항온수 순환장치를 도시한 개략도이다.
도 2는 일반적인 항온수 순환장치에 채용되는 배관의 손상부위에서 발생되는 불량을 도시한 상태도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 항온수 순환장치를 도시한 개략적인 구성도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 항온수 순환장치에 채용되는 배관의 손상부위에서 항온수의 리크상태를 도시한 상태도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 항온수 순환장치를 도시한 개략적인 구성도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 항온수 순환장치에 채용되는 배관의 손상부위에서 항온수와 케미칼액의 리크상태를 도시한 상태도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
110 : 저장탱크 115 : 공급용 순환배관
116 : 리턴용 순환배관 120 : 압축펌프
130 : 열교환부 140 : 액저장조
145 : 액배관 150 : 외부장치
170 : 흡입펌프 180 : 제어부
L1, L2 : 손상부위

Claims (7)

  1. 일정온도를 갖는 항온수를 일방향으로 순환시키는 장치에 있어서,
    일정량의 항온수가 저장되는 저장탱크 ;
    상기 저장탱크와 외부장치와의 사이를 연결하는 공급용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치내로 공급되어 통과하는 항온수를 일정온도로 유지하도록 열교환되는 열교환부 ;
    상기 외부장치를 관통하는 공급용 순환배관으로부터 연장되어 상기 외부장치에서 사용된 항온수를 상기 저장탱크로 배출안내하는 리턴용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치를 관통하는 배관 내에 음압이 걸리도록 상기 항온수를 강제흡입하여 순환시키는 외력을 제공하는 흡입펌프; 및
    상기 순환배관에 걸리는 내부압을 근거로 하여 상기 흡입펌프의 구동을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 공급용 순환배관은 길이중간에 상기 저장탱크의 항온수를 상기 외부장치의 입구까지 공급하는 압축펌프를 더 포함하며, 상기 흡입펌프에서 제공되는 흡입력의 세기는 상기 압축펌프에서 제공되는 압축력의 세기보다 상대적으로 크게 설정됨을 특징으로 하는 항온수 순환장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어부는 상기 순환배관의 내부압이 대기압보다 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어함을 특징으로 하는 항온수 순환장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 일정온도를 갖는 항온수를 일방향으로 순환시키는 장치에 있어서,
    일정량의 항온수가 저장되는 저장탱크 ;
    상기 저장탱크와 외부장치와의 사이를 연결하는 공급용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치내로 공급되어 통과하는 항온수를 일정온도로 유지하도록 열교환되는 열교환부 ;
    상기 외부장치를 관통하는 공급용 순환배관으로부터 연장되어 상기 외부장치에서 사용된 항온수를 상기 저장탱크로 배출안내하는 리턴용 순환배관에 구비되어 상기 외부장치를 관통하는 배관 내에 음압이 걸리도록 상기 항온수를 강제흡입하여 순환시키는 외력을 제공하는 흡입펌프; 및
    상기 순환배관에 걸리는 내부압을 근거로 하여 상기 흡입펌프의 구동을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 외부장치에서 사용되는 케미칼액이 저장된 액저장조와, 상기 액저장조로부터 연장된 액배관을 통하여 케미칼액을 외부장치내로 공급하는 외력을 제공하는 액공급용 압축펌프를 더 포함하고,
    상기 공급용 순환배관은 액배관을 내부배치하여 케미칼액의 온도를 일정하게 유지하는 외부관으로 구비되며,
    상기 제어부는 상기 공급용 순환배관의 내부압이 상기 액배관의 내부압보다 상대적으로 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수와, 상기 액공급용 압축펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수를 동시에 제어하거나 선택적으로 제어하며,
    상기 제어부는 상기 흡입펌프와 열교환부사이에 구비되는 공급용 순환배관 및 리턴용 순환배관의 내부압이 대기압보다 낮게 유지되도록 상기 흡입펌프를 구동시키는 모터부재의 회전수를 제어함을 특징으로 하는 항온수 순환장치.
  6. 삭제
  7. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH1050603A (ja) 1997-04-17 1998-02-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回転式基板処理装置
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