KR100943264B1

KR100943264B1 - 액정표시장치 및 이의 제조방법

Info

Publication number: KR100943264B1
Application number: KR1020030020592A
Authority: KR
Inventors: 추대호; 오세준
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2003-04-01
Filing date: 2003-04-01
Publication date: 2010-02-23
Also published as: KR20040085792A

Abstract

광 특성과 동시에 생산성을 향상시키기 위한 액정표시장치 및 이의 제조방법이 개시된다. 액정표시장치의 컬러필터는 제1 투명기판 상의 박막 트랜지스터에 인접하여 형성되며, 유기 격벽층은 컬러필터가 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하고, 컬러필터에 따른 광 누설을 방지하기 위하여 박막 트랜지스터 상부에 형성되며, 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖는다. 또한, 화소전극은 유기 격벽층 상부에 일부 오버랩되고, 컬러필터 상부에 형성되며, 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터와 접속된다. 따라서, 컬러필터와 박막 트랜지스터가 동일한 기판에 구성되어 광 특성을 향상시킬 수 있고, 유기 또는 무기 격벽층 및 컬러필터 필름 등을 사용함에 따라 생산성을 향상시킬 수 있다.

Description

액정표시장치 및 이의 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.

도 2a 내지 도 2f는 도 1에 도시된 액정표시장치의 제조 공정을 나타낸 단면도이다.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.

도 4a 내지 도 4j는 도 3에 도시된 액정표시장치의 제조 공정을 나타낸 단면도이다.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.

도 6은 도 5의 컬러필터를 형성하기 위한 컬러필터 필름 구조를 나타낸 도면이다.

도 7a 내지 도 7h는 도 5에 도시된 액정표시장치의 제조 공정을 나타낸 단면도이다.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

100 : 제1 기판 120 : 박막 트랜지스터

130 : 컬러필터 140 : 유기 격벽층

150 : 화소전극 200 : 제2 기판

300 : 액정층

본 발명은 액정표시장치 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광 특성을 향상시킴과 동시에 생산성을 향상시키기 위한 액정표시장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

오늘날과 같은 정보화 사회에서 전자 디스플레이 장치(electronic display device)의 역할은 갈수록 중요해지며, 각종 전자 디스플레이 장치가 다양한 산업 분야에 광범위하게 사용되고 있다.

현재 개발된 여러 가지 디스플레이 장치 중에서 액정표시장치는 다른 디스플레이 장치에 비해 얇고 가벼우며, 낮은 소비 전력 및 낮은 구동 전압을 갖추고 있을 뿐만 아니라, 음극선관에 가까운 화상 표시가 가능하기 때문에 다양한 전자 장치에 광범위하게 사용되고 있다.

이러한, 액정표시장치는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: 이하, TFT 라 칭함)가 형성된 제1 기판, R,G,B 색화소들에 의한 컬러필터가 형성된 제2 기판, 제1 기판과 제2 기판과의 사이에 개재된 액정층으로 이루어진 액정표시패널을 구비하고, 액정표시패널의 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 투과되는 빛의 양을 조절하여 화상을 표시한다.

여기서, 제1 기판의 TFT와 제2 기판의 컬러필터의 상호 어셈블리(Assembly) 가 얼마나 정밀하게 되는지가 액정표시장치의 디스플레이 품질에 상당한 영향을 끼친다.

이러한, TFT와 컬러필터의 어셈블리 미스(Assembly Miss)에 따른 액정표시장치의 영향을 감소시키기 위하여 제안된 액정표시장치 구조가 COA(Color Filter On Array)이다.

즉, COA 구조의 액정표시장치는 TFT와 컬러필터가 하나의 기판에 동시에 형성된 구조를 갖는다.

여기서, COA 구조의 액정표시장치는 제조하는 방법은 다음과 같다.

첫 번째 방법은 TFT가 형성된 기판 상부에 사진 식각(Photolithography) 공정을 이용하여 블랙 매트릭스 및 R,G,B 색화소들로 구성된 컬러필터를 적층시키는 방법이다.

두 번째 방법은 컬러필터의 R,G,B 색화소들에 대응되는 위치에 염료타입의 컬러 레진 잉크를 사용하여 기판상에 디스펜싱(Dispensing)시키는 방법이다.

마지막 방법은 TFT가 형성된 기판 상부에 스크린 프린팅(Screen Printing) 방식으로 R,G,B 색화소들을 프린팅하는 전사방법이다.

이때, 첫 번째 방법은 사진 식각 공정에 의해 컬러필터를 적층시켜야 하므로, 포토 마스크의 수가 증가한다. 그에 따라 일반적인 액정표시장치보다 수율 및 공정 단순화 등 생산성이 저하되는 문제점이 있다.

두 번째 방법은 잉크젯 방식을 이용하기 위하여 컬러필터를 기존의 안료 타입에서 염료 타입으로 변환해야 한다는 문제점이 있다. 또한, 염료 타입의 컬러필 터는 안료 타입의 컬러필터와 비교하여, 열적 특성이 약하다. 현재의 액정표시장치의 최대 공정 온도가 230℃임을 고려할 때 염료 방식의 컬러필터를 갖는 액정표시장치는 기존의 장치에 비하여 디바이스의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있다.

또한, 염료 타입의 컬러필터가 TFT 쪽으로 번지는 것을 방지하기 위한 격벽이 필요하고, 상기 격벽은 투명한 유기 절연막에 의해 구성된다. 이때, 두 번째 방법에 의해 제조된 액정표시장치는 격벽과 광의 누설을 방지하기 위하여 유기 블랙 매트릭스가 함께 구성된 형태를 가진다. 따라서, 두 번째 방법에 의해 제조된 액정표시장치는 액정적하 주입공정 등의 열적 공정에서 공정상의 불량을 유발시키는 유기 절연막이 두 개가 구성되어 있는 형태이므로, 디바이스의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있다.

또한, 세 번째 방법은 안료 타입의 컬러필터를 전사시키기 위해서는 수지판과 같은 전사판이 필요하고, 상기한 수지판에 의하여 컬러필터를 전사시킬 경우, 겔 형태의 베이스 레진(Base Resin)과 안료(Pigment)가 균일하게 전사되는데 문제점이 있다.

따라서, 본 발명은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 광 특성 향상과 동시에 생산성을 향상시키기 위한 액정표시장치를 제공함에 그 목적이 있다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 상기한 액정표시장치를 제조하는 방법을 제공함에 있다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1 특징에 따른 액정표시장치의 박막 트랜지스터는 제1 투명기판에 형성되고, 컬러필터는 제1 투명기판 상의 박막 트랜지스터에 인접하여 형성되며, 유기 격벽층은 컬러필터가 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하고, 컬러필터에 따른 광 누설을 방지하기 위하여 박막 트랜지스터 상부에 형성되며, 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖는다. 또한, 본 발명의 제1 특징에 따른 액정표시장치의 화소전극은 유기 격벽층 상부에 일부 오버랩되고, 컬러필터 상부에 형성되며, 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터와 접속되고, 공통전극은 제2 투명기판에 화소 전극과 대향하도록 형성되며, 액정은 제1 투명기판과 제2 투명기판 사이에 개재된다.

본 발명의 제1 특징에 따른 액정표시장치는 제1 투명기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하고, 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖는 유기 격벽층을 박막 트랜지스터 상부에 형성하며, 제1 투명기판 상의 박막 트랜지스터에 인접하게 컬러필터를 형성하고, 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터와 접속되며, 유기 격벽층 상부에 일부 오버랩되도록 컬러필터 상부에 화소전극을 형성하고, 제2 투명기판에 화소 전극과 대향하도록 공통전극을 형성하며, 제1 투명기판 및 제2 투명기판 사이에 액정을 개재함에 의해 제조된다. 여기서, 유기 격벽층은 컬러필터가 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하고, 컬러필터에 의한 광 누설을 차단한다.

본 발명의 제2 특징에 따른 액정표시장치의 박막 트랜지스터는 제1 투명기판 에 형성되고, 컬러필터는 제1 투명기판 상의 박막 트랜지스터에 인접하여 형성되며, 무기 격벽층은 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖고, 박막 트랜지스터의 상부에 형성되어 컬러필터가 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단한다. 또한, 본 발명의 제2 특징에 따른 액정표시장치의 블랙 매트릭스는 무기 격벽층 상부 및 컬러필터에 일부 오버랩되도록 형성되어 컬러필터의 광 누설을 차단하고, 보호막은 블랙 매트릭스를 포함한 제1 투명기판 전면에 형성되어 박막 트랜지스터 및 컬러필터를 보호하며, 화소전극은 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터와 접속되고, 박막 트랜지스터와 일부 오버랩되도록 컬러필터에 대응하는 보호막 상부에 형성되며, 공통전극은 제2 투명기판에 화소 전극과 대향하도록 형성되고, 액정은 제1 투명기판과 제2 투명기판과의 사이에 개재된다.

본 발명의 제2 특징에 따른 액정표시장치는 제1 투명기판에 박막 트랜지스터를 형성하고, 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖고, 박막 트랜지스터의 상부에 무기 격벽층을 형성하며, 제1 투명기판 상의 박막 트랜지스터에 인접하게 컬러필터를 형성하고, 컬러필터의 광 누설을 차단하기 위하여 무기 격벽층 상부 및 컬러필터에 일부 오버랩되도록 블랙 매트릭스를 형성하며, 박막 트랜지스터 및 컬러필터를 보호하기 위하여 블랙 매트릭스를 포함한 제1 투명기판 전면에 보호막을 형성하고, 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터와 접속되며, 박막 트랜지스터와 일부 오버랩되도록 컬러필터에 대응하는 보호막 상부에 화소 전극 형성하고, 제2 투명기판에 화소 전극과 대향하도록 공통전극을 형성하며, 제1 투명기판과 제2 투명기판과의 사이에 액정을 개재함에 의해 제조된다. 여기서, 무기 격벽층은 컬러 필터가 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단한다.

본 발명의 제3 특징에 따른 액정표시장치는 제1 투명기판에 박막 트랜지스터를 형성하고, 박막 트랜지스터가 형성된 제1 투명기판 상에 컬러필터 필름을 부착시키며, 박막 트랜지스터에 인접하는 영역에 대응하는 컬러필터 필름에 열처리를 수행하여 컬러필터를 형성하고, 박막 트랜지스터의 일부를 노출시키기 위한 콘택홀을 갖고, 컬러필터가 형성된 제1 투명기판 전면에 절연막을 형성하며, 컬러필터의 광 누설을 차단하기 위한 블랙 매트릭스를 컬러필터에 일부가 오버랩되고, 박막트랜지스터 상부에 대응하는 절연막상에 형성하고, 블랙 매트릭스를 포함하는 제1 유리기판 전면에 보호막을 형성하며, 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터와 접속되는 화소 전극을 형성하고, 제2 투명기판에 화소전극과 대향하도록 공통전극을 형성하며, 제1 투명기판과 제2 투명기판과의 사이에 액정을 개재함에 의해 제조된다.

이러한, 액정표시장치 및 이의 제조방법에 따르면, 광 특성을 향상시킴과 동시에 생산성을 향상시킬 수 있다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

<제1 실시예>

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치는 제1 기판(100), 제1 기판(100)과 대향하여 구비되는 제2 기판(200) 및 상기 제1 기판(100)과 상기 제2 기판(200)과의 사이에 주입된 액정층(300)을 포함하여 이루어 진다.

여기서, 제1 기판(100)은 제1 유리기판(110) 상에 형성된 TFT(120), 제1 기판(110)상의 TFT(120) 인접 영역에 형성된 컬러필터(130), TFT(120) 상부에 형성된 격벽층(140) 및 컬러필터(130) 상부와 TFT(120)상에 일부분이 오버랩되도록 형성된 화소 전극(Pixel electronic)(150)을 포함한다.

TFT(120)는 게이트 전극(121), 소오스 전극(122) 및 드레인 전극(123)을 포함한다. 또한, 게이트 전극(121)은 게이트 절연막(124)을 통하여 소오스 전극(122) 및 드레인 전극(123)과 절연 상태를 유지한다. 게이트 절연막(124) 상에는 게이트 전극(121)에 전원이 인가됨에 따라 소오스 전극(122)으로부터 드레인 전극(123)으로 전원을 인가하기 위한 액티브 패턴(125) 및 오믹 콘택 패턴(126)이 형성된다. 상기 액티브 패턴(125) 및 오믹 콘택 패턴(126) 상에 소오스 전극(122) 및 드레인 전극(123)이 형성된다.

또한, 컬러필터(130)의 재질은 겔 형태의 베이스 레진(Base Resin)에 컬러(color)를 구현하는 고체 형태의 안료(Pigment)가 전면에 걸쳐 일정 비율로 분산되어 있는 형태의 안료 타입이다. 이때, 안료 타입의 재질인 컬러필터(130)는 모터 구동방식의 디스펜싱(Dispensing) 장치에 의해 제1 기판(110)상에 분사된다.

즉, 안료 타입의 R,G,B 색화소들은 기존의 공기(Air) 가압식 분사장치(Dispenser)에 의해 제1 기판(110)상에 분사되는 경우, 베이스 레진과 안료간 계면에서 발생하는 상호 인력차이에 의하여 분사되는 베이스 레진과 안료의 비율이 변경되어 컬러필터(130)의 R,G,B 색화소에 따른 색좌표를 제대로 구현할 수 없다. 따라서, 안료 타입의 컬러필터(130)는 모터의 구동에 따라 일정 변위가 변하는 가압부재에 의해 분사됨에 의해 형성된다.

격벽층(140)은 안료 타입의 컬러필터(130)가 TFT(120) 쪽으로 번지는 것을 차단하기 위한 차단막의 기능을 수행한다. 또한, 격벽층(140)은 TFT(120)가 형성된 영역에 대응하는 액정표시장치의 화면에 TFT(120)가 투영되는 것을 방지하고, 컬러필터(130)로부터 누설되는 광을 차단하기 위한 블랙 매트릭스(Black Matrix)의 역할도 수행한다.

즉, 격벽층(140)은 컬러필터(130)를 차단하는 차단막과 블랙 매트릭스의 역할을 수행하기 위하여 유기 BM(Black Matrix) 물질로 구성된다. 이때, 유기 BM 물질은 비저항이 10¹⁴Ω/cm 이상인 유기 물질로서, 폴리머(Polymer) 베이스 레진에 카본(Carbon)이 균일하게 분산되어 있는 매트릭스 형태를 갖는 물질이다.

또한, 격벽층(140)은 TFT(120)의 드레인 전극(123) 일부가 노출되기 위한 콘택홀(145)을 갖는다.

화소전극(150)은 격벽층(140)의 콘택홀(145)을 통해 TFT(120)의 드레인 전극(123)과 접속되도록 컬러필터(130) 상부 및 TFT(120) 상에 일부분이 오버랩되도록 균일한 두께로 도포되어 형성된다.

한편, 제2 기판(200)은 제2 유리기판(210) 상에 공통전극(220)이 형성된 기판이다. 여기서, 공통전극(220)은 제1 기판(100)의 화소전극(150)과 대향되도록 형성된다.

이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 첨부 도면을 참조하여 설명한다.

도 2a 내지 도 2f는 도 1에 도시된 액정표시장치의 제조 공정을 나타낸 단면도이다. 여기서, 도 2a 내지 도 2e는 컬러필터의 R,G,B 색화소들 중에서 R 색화소만을 대표적으로 도시하였다.

도 2a를 참조하면, 유리 또는 세라믹과 같은 절연 물질로 이루어진 제1 유리기판(110) 상에 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW)으로 이루어진 제1 금속막(도시되지 않음)을 스퍼터링 방법에 의해 증착한 후, 상기 제1 금속막을 패터닝하여 게이트 전극(121)을 형성한다.

이어서, 게이트 전극(121)이 형성된 제1 유리기판(110)의 전면에 실리콘 질화물을 플라즈마 화학기상증착(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition; 이하, PECVD라 칭함) 방법에 의해 증착하여 게이트 절연막(124)을 형성한다.

게이트 절연막(124) 상에 액티브층(도시되지 않음)으로서, 예를 들어, 비정질실리콘막을 PECVD 방법에 의해 증착하고, 그 위에 오믹 콘택층(도시되지 않음)으로서, 예를 들어, n⁺ 도핑된 비정질실리콘막을 PECVD 방법에 의해 증착한다. 이때, 비정질실리콘막과 n⁺ 도핑된 비정질실리콘막을 PECVD 설비의 동일 챔버 내에서 인-시튜(in-situ)로 증착한다. 이어서, 오믹 콘택층과 액티브층을 차례로 패터닝하여 게이트 전극(121) 상부의 게이트 절연막(124) 상에 비정질실리콘막으로 이루어진 액티브 패턴(125)과 n⁺ 도핑된 비정질실리콘막으로 이루어진 오믹 콘택층 패턴(126) 을 형성한다.

상기 결과물의 전면에 크롬(Cr)과 같은 제2 금속막(도시되지 않음)을 스퍼터링 방법에 의해 증착한 후, 제2 금속막을 패터닝하여 소오스 전극(122)과 드레인 전극(123)을 형성한다. 이어, 소오스 전극(122)과 드레인 전극(123) 사이의 노출된 오믹 콘택층 패턴(126)을 반응성 이온 식각(Reactive Ion Etching; RIE) 방법에 의해 제거한다.

이로써, 제1 유리기판(110) 상에는 게이트 전극(121), 액티브 패턴(125), 오믹 콘택층 패턴(126), 소오스 전극(122) 및 드레인 전극(123)을 포함하는 TFT(120)가 형성된다.

도 2b를 참조하면, TFT(120)가 형성된 제1 유리기판(110)의 전면에는 유기 BM(Black Matrix)층(도시되지 않음)이 스핀-코팅 방법이나 슬릿-코팅 방법을 통해 도포된다. 여기서, 유기 BM층의 물질은 고저항을 가지는 물질로서, 폴리머 베이스 레진에 카본이 균일하게 분산되어 있는 매트릭스 형태의 재료이다.

이어, 유기 BM층의 상부에는 소정의 패턴을 가지는 마스크(230)가 형성된다. 이때, 마스크(230)는 컬러필터(130) 형성영역에 대응하는 제1 개구부(232) 및 드레인 전극(123)의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀(145) 형성영역에 대응하는 제2 개구부(234)를 포함한다.

상기 마스크(230)를 이용하여 유기 BM층을 노광한 후, 테트라메틸 수산화암모늄(TMAH) 현상액을 이용하여 현상한다. 그러면, 마스크(230)의 제1 개구부(232)에 의해 노광된 영역 즉, 컬러필터(130) 형성영역에서 유기 BM층이 제거되고, 마스 크(230)의 제2 개구부(234)에 의해 노광된 영역에서도 유기 BM층이 제거되어 콘택홀(145)이 형성된다. 이로써, 상기 TFT(120) 상에는 콘택홀(145)을 포함하는 격벽층(140)이 형성된다.

도 2c를 참조하면, 제1 유리기판(110) 상의 컬러필터(130) 형성영역에 안료 타입의 컬러필터(130)를 모터 구동방식의 젯팅 디스펜싱(Jetting Dispensing) 방법에 의해 컬러필터(130)를 형성한다. 즉, 모터 구동에 따라 일정 변위가 변하는 가압부재(도시되지 않음)에 의해 제1 유리기판(110) 상에 분사됨에 따라 컬러필터(130)가 형성된다.

이어, 도 2d에 도시된 바와 같이, 컬러필터(130)의 경화 및 안정화를 위하여 컬러필터(130)가 형성된 제1 유리기판(110)의 큐어링(curing)을 수행한다. 즉, 제1 유리기판(110)을 퍼니스 또는 오븐(240)에 넣은 후 약 110℃ 내지 115℃ 온도에서 110초 내지 140초 동안 프리 큐어링(pre curing) 시키고, 이어, 130℃온도에서 18분 정도로 하드 큐어링(hard curing) 시킨다.

도 2e를 참조하면, 상기 컬러필터(130), 콘택홀(145) 및 격벽층(140) 상부 일부분에 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전막을 스퍼터링등의 박막 제조방법에 의해 균일한 두께로 증착하여 화소전극(150)을 형성한다. 이때, 화소전극(150)은 콘택홀(145)을 통해 TFT(120)의 드레인 전극(123)과 전기적으로 접속된다. 이로써, TFT(120) 및 컬러필터(130)가 형성된 제1 기판(100)이 완성된다.

도 2f를 참조하면, 제2 유리기판(210) 상에 공통전극(220)이 균일한 두께로 적층됨에 따라 제2 기판(200)이 완성된다.

이후, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 기판(100)의 화소전극(150)과 제2 기판(200)의 공통전극(220)이 서로 마주보도록 제1 기판(100)과 제2 기판(200)이 얼라인먼트(alignment)되고, 제1 기판(100)과 제2 기판(200) 사이에 액정층(300)이 형성됨으로써, 액정표시장치가 완성된다.

<제2 실시예>

도 3을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치는 TFT(120) 및 컬러필터(310)가 형성된 제1 기판(320), 제1 기판(320)과 대향하여 구비되는 제2 기판(400) 및 상기 제1 기판(320)과 상기 제2 기판(400)과의 사이에 주입된 액정층(450)을 포함하여 이루어진다.

여기서, 제1 기판(322)상에 형성된 TFT(120)는 본 발명의 제1 실시예와 동일한 구조를 가지므로, 동일번호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

또한, 제1 기판(320)은 TFT(120) 상부에 형성되어 안료형태의 컬러필터(310)가 TFT(120) 쪽으로 번지는 것을 차단하기 위한 무기 격벽층(330)을 포함한다. 여기서, 무기 격벽층(330)은 컬러필터(310)의 높이를 감안하여 최소한 1 내지 2㎛의 두께를 가지는 무기물질에 의해 형성된 격벽층이다. 이때, 무기 격벽층(330)은 무기 물질의 특성상 박막의 스트레스가 가장 적은 재질인 산화 알루미늄(Al₂O₃)에 의해 형성된다.

이처럼, 무기 격벽층(330)을 무기물에 의해 형성하는 이유를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.

액정표시장치의 액정표시패널 내에 아크릴 계열의 유기 물질이 많은 경우, 액정표시패널 내부에서 후속 열적 공정시 공정 조건에 따라 일부 반응 생성가스가 발생되어 액정표시패널 내부에 존재할 가능성이 있다. 이러한, 반응 생성가스는 차압식 방식의 액정주입 공정에서는 액정표시패널의 내부가 장시간 진공 중에 노출되어 있기 때문에 상기한 반응 생성가스가 공정 진행중 발생되어도 액정표시패널 외부로 방출될 수 있다.

한편, 액정적하 방식의 액정주입 공정에서는 액정표시패널이 진공에 노출되어 있는 시간이 1 내지 3분 정도로 짧아 유기물질에서 반응 생성가스가 발생하면 액정표시패널 내부가 순간적으로 차폐되기 때문에, 반응 생성가스가 액정과 상호 물리적/화학적으로 반응하거나 또는 섞여 액정표시패널의 광 특성에 악영향을 미치는 단점이 있다. 이러한, 단점을 해결하기 위하여 반응 생성가스를 발생시키기 않는 무기물질에 의한 무기 격벽층(330)을 형성한다.

제1 기판(320)은 TFT(120) 상부와 컬러필터(310)의 일부가 오버랩되도록 형성되어, 액정표시장치의 화면에 TFT(120)가 투영되는 것을 방지하고, 컬러필터(310)로부터 누설된 광을 차단하기 위한 블랙 매트릭스(340)를 포함한다.

또한, 제1 기판(320)은 블랙 매트릭스(340)를 포함한 제1 유리기판(322) 전면에 형성된 보호막(350)을 포함하고, TFT(120)의 드레인 전극(123) 일부분을 노출시키기 위하여 콘택홀(335)을 통해 접속되도록 상기 보호막(350) 상부에 균일한 두 께로 형성된 화소전극(360)을 포함한다. 여기서, 화소전극(360)은 컬러필터(310) 및 TFT(210)의 일부에 대응하는 영역의 보호막(350) 상부에 형성된다.

한편, 제2 기판(400)은 제2 유리기판(410) 상에 공통전극(420)이 형성된 기판이다. 여기서, 공통전극(420)은 제1 기판(320)의 화소전극(360)과 대향되도록 형성된다.

이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 4a 내지 도 4j는 도 3에 도시된 액정표시장치의 제조 공정을 나타낸 단면도이다. 여기서, 도 4a 내지 도 4i는 컬러필터의 R,G,B 색화소들 중에서 R 색화소만을 대표적으로 도시하였다.

먼저, 도 4a를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 TFT(120)는 본 발명의 제1 실시예와 동일한 제조 공정을 통해 형성되므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

도 4b를 참조하면, 상기 TFT(120)가 형성된 제1 유리기판(322)상에 리프트-오프(Lift-Off) 공정용 포토 레지스트 패턴(430)을 형성한다. 즉, 포토 레지스트 패턴(430)은 콘택홀(335) 형성 영역 및 컬러필터(310) 형성 영역 상에 소정 두께를 갖도록 형성된다.

이어, 도 4c를 참조하면, 상기 포토 레지스트 패턴(430)을 포함한 제1 유리기판(322) 전면에 저 스트레스의 무기물층(440)을 형성한다. 여기서, 무기물층(440)은 알루미늄 산화물(Al₂O₃)이 1 내지 2㎛의 두께를 가지고 적층됨에 의해 형성된다.

도 4d를 참조하면, 포토 레지스트 스트리퍼(Photo Resist Stripper)를 이용하여 제1 유리기판(322)상의 컬러필터(310) 형성 영역 및 콘택홀 형성 영역(335)에 형성된 포토 레지스트 패턴(430)을 제거한다. 이때, 포토 레지스트 패턴(430)이 제거되면서, 그 상부에 적층되어 있는 무기물층(440)이 동시에 제거됨에 따라 TFT(120)의 드레인 전극(123) 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀(335)을 갖는 무기 격벽층(330)이 완성된다.

이어, 도 4e에 도시된 바와 같이, 제1 유리기판(322) 상의 컬러필터(310) 형성영역에 모터 구동방식의 젯팅 디스펜싱(Jetting Dispensing) 방법으로 안료 타입의 컬러필터(310)를 분사한다. 이로써, TFT(120)의 인접 영역에 컬러필터(310)가 형성된다.

도 4f를 참조하면, 컬러필터(310)의 경화 및 안정화를 위하여 컬러필터(310)가 형성된 제1 유리기판(322)의 큐어링(curing)을 수행한다. 즉, 제1 유리기판(322)을 퍼니스 또는 오븐(450)에 넣은 후 약 110℃ 내지 115℃ 온도에서 110초 내지 140초 동안 프리 큐어링(pre curing) 시킨 후, 130℃ 온도에서 18분 정도 동안 하드 큐어링(hard curing) 시킨다.

다음, 도 4g에 도시된 바와 같이, 컬러필터(310)가 형성된 제1 유리기판(322) 전면에 크롬 산화물 또는 크롬 성분의 무기 또는 유기 블랙 매트릭 스층(도시되지 않음)을 형성한다. 이어, 블랙 매트릭스층의 상부에는 소정 패턴을 갖는 제1 마스크(460)가 형성된다. 이때, 제1 마스크(460)는 컬러필터(310)의 일부를 제외한 전면에 대응하는 제1 개구부(462) 및 콘택홀(355)에 대응하는 제2 개구부(464)를 포함한다.

상기 제1 마스크(460)를 이용하여 블랙 매트릭스층을 노광한 후, 테트라메틸 수산화암모늄 현상액을 이용하여 현상한다. 그러면, 제1 마스크(460)의 제1 개구부(462)에 의해 노광된 영역 즉, 무기 격벽층(330)과 접하는 영역의 블랙 매트릭스층 일부를 제외한 컬러필터(310) 상부의 블랙 매트릭스층이 제거된다. 또한, 제1 마스크(460)의 제2 개구부(464)에 의해 노광된 영역인 콘택홀(335)에 대응하는 영역의 블랙 매트릭스층도 제거된다. 이로써, 블랙 매트릭스(340)는 컬러필터(310) 상부에 일부가 오버랩되고, 콘택홀(335)에 대응하는 영역에서 관통된 형태를 가지고, TFT(120) 상부의 무기 격벽층(330)상에 형성된다.

도 4h를 참조하면, 블랙 매트릭스(340)를 포함한 제1 유리기판(322) 전면에 실리콘 질화물의 보호막(350)을 형성한다. 이어, 보호막(350) 상부에 소정 패턴을 갖는 제2 마스크(470)가 형성된다. 이때, 제2 마스크(470)는 콘택홀(335)에 대응하는 제3 개구부(472)를 갖는다.

상기 제2 마스크(470)를 이용하여 보호막(350)을 노광한 후, 일정의 현상액을 이용하여 현상한다. 그러면, 제2 마스크(470)의 제3 개구부(472)에 의해 노광된 영역 즉, 콘택홀(335)에 대응하는 영역의 보호막(350)이 제거된다.

이어, 도 4i를 참조하면, 보호막(350) 상부 및 콘택홀(335)에 ITO 또는 IZO 와 같은 투명 도전막을 스퍼터링등의 박막 제조방법에 의해 균일한 두께로 증착하여 화소전극(360)을 형성한다. 이때, 화소전극(360)은 콘택홀(335)을 통해 TFT(120)의 드레인 전극(123)과 전기적으로 접속된다. 이로써, TFT(120) 및 컬러필터(310)가 형성된 제1 기판(320)이 완성된다.

도 4j를 참조하면, 제2 유리기판(410) 상에 공통전극(420)이 균일한 두께로 적층됨에 따라 제2 기판(400)이 완성된다.

이후, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 기판(320)의 화소전극(360)과 제2 기판(400)의 공통전극(420)이 서로 마주보도록 제1 기판(320)과 제2 기판(400)이 얼라인먼트(alignment)되고, 제1 기판(320)과 제2 기판(400) 사이에 액정층(450)이 형성됨으로써, 액정표시장치가 완성된다.

<제3 실시예>

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이고, 도 6은 도 5의 컬러필터를 형성하기 위한 컬러필터 필름 구조를 나타낸 도면이다.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치는 TFT(120) 및 컬러필터용 컬러필터 필름에 의해 형성된 컬러필터(500)가 형성된 제1 기판(510), 제1 기판(510)과 대향하여 구비되는 제2 기판(570) 및 상기 제1 기판(510)과 상기 제2 기판(570)과의 사이에 주입된 액정층(580)을 포함하여 이루어진다.

여기서, 제1 기판(510)상에 형성된 TFT(120)는 본 발명의 제1 실시예와 동일한 구조를 가지므로, 동일번호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

컬러필터(500)는 전체 면적으로 프리 큐어(Pre Cure)되어 있는 컬러필터 필름을 TFT(120)가 형성된 제1 기판(510)의 제1 유리기판(512)상에 부착시킨 후 열적 지그 또는 레이저를 이용하여 컬러필터 형성 영역에 일정 시간동안 가열 처리하여 전사시킴에 의해 형성된다.

즉, 도 6에 도시된 바와 같이, 컬러필터 필름(600)은 R,G,B의 컬러를 나타내는 색화소 필름(610)이 접착제(620)에 의해 베이스 필름(630)에 라미네이팅(Laminating)되어 있는 형태로 구성된다.

여기서, 상기한 컬러필터 필름(600)을 제1 기판(510)상에 부착시키고, 컬러필터 형성영역에 열적 지그를 이용하여 80℃ 정도의 온도로 1 내지 2분 정도로 가열하면, 가열된 부위의 색화소 필름(610)이 베이스 필름(630)으로부터 분리되어 해당 영역에 남는다.

한편, 상기한 컬러필터 필름(600)을 제1 유리기판(512) 상에 부착시키고, 컬러필터 형성 영역에 레이저(Laser)를 이용하여 가열하면, 가열된 부위의 베이스 필름(630)이 색화소 필름(610)으로부터 분리되고, 색화소 필름(610)만이 해당 영역에 남는다.

이때, 컬러필터 필름을 열적 지그 또는 레이저에 의해 전사시킬 때 전사 온도와 시간은 컬러필터 필름의 재질에 따라 다소 변경될 수 있다.

이처럼, 컬러필터 필름(600)에 의해 형성되는 컬러필터(500)는 유동성이 없는 고체 상태이므로, 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치는 컬러필터(500)가 TFT(120) 쪽으로 번지는 것을 방지하기 위한 별도의 격벽이 요구되지 않는다.

또한, 제1 기판(510)은 블랙 매트릭스(520), 절연층(530), 보호막(540) 및 화소전극(550)을 포함한다.

여기서, 블랙 매트릭스(520)는 TFT(120)가 형성된 영역에 대응하는 액정표시장치의 화면에 TFT(120)가 투영되는 것을 방지하고, 컬러필터(500)로부터 누설되는 광을 차단하기 위하여 TFT(120) 상부 전면에 형성되고, 컬러필터(500)에 일부가 오버랩되도록 형성된다.

또한, 절연층(530)은 블랙 매트릭스(520)와 TFT(120)의 소오스 전극(122) 및 드레인 전극(123)을 절연시키기 위하여 TFT(120)와 블랙 매트릭스(520) 사이의 제1 유리기판(512) 전면에 형성된다. 보호막(540)은 블랙 매트릭스(520)를 포함한 제1 유리기판(512) 전면에 형성되어 TFT(120)와 컬러필터(500)를 보호한다. 여기서, 절연층(530), 블랙 매트릭스(520) 및 보호막(540)에는 드레인 전극(123)의 일부를 노출시키기 위한 콘택홀(535)이 형성된다.

화소전극(550)은 콘택홀(535)을 통해 TFT(120)의 드레인 전극(123)과 접속되도록 컬러필터(500) 상부 및 TFT(120) 상에 일부분이 오버랩되도록 균일한 두께로 도포되어 형성된다.

한편, 제2 기판(570)은 제2 유리기판(572) 상에 공통전극(574)이 형성된 기판이다. 여기서, 공통전극(574)은 제1 기판(510)의 화소전극(550)과 대향되도록 형성된다.

이와 같이 구성되는 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 7a 내지 도 7h는 도 5에 도시된 액정표시장치의 제조 공정을 나타낸 단면도이다. 여기서, 도 7a 내지 도 7g는 컬러필터의 R,G,B 색화소들 중에서 R 색화소만을 대표적으로 도시하였다.

먼저, 도 7a를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 TFT(120)는 본 발명의 제1 및 제2 실시예와 동일한 제조 공정을 통해 형성되므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

이어, 도 7b에 도시된 바와 같이, 전체 면적으로 프리 큐어(Pre Cure)되어 있는 컬러필터 필름(600)을 TFT(120)가 형성된 제1 유리기판(512)상에 부착시키고, 열적 지그 또는 레이저에 의해 컬러필터 형성영역(C)에 일정시간 동안 가열한다.

이때, 열적 지그 또는 레이저에 의해 가열된 영역 즉, 컬러필터 형성영역(C)의 색화소 필름(610)이 베이스 필름(630)으로부터 분리되어 해당 영역에 남는다. 여기서, 컬러필터 필름(600)에 의해 형성되는 컬러필터(500)는 유동성이 없는 고체 상태이므로, 컬러필터(500)가 TFT(120) 쪽으로 번지는 것을 방지하기 위한 별도의 격벽이 요구되지 않는다.

도 7c를 참조하면, 컬러필터(500)의 경화 및 안정화를 위하여 컬러필터(500)가 형성된 제1 유리기판(512)의 큐어링(curing)을 수행한다. 즉, 제1 유리기판(512)을 퍼니스 또는 오븐(700)에 넣은 후 약 110℃ 내지 115℃ 온도에서 110초 내지 140초 동안 프리 큐어링(pre curing) 시킨 후, 130℃온도에서 18분 정도 동안 하드 큐어링(hard curing) 시킨다.

다음, 도 7d를 참조하면, 컬러필터(500)가 형성된 제1 유리기판(512) 전면에 절연막(530)을 형성한다. 이어, 제1 유리기판(512) 상부에 소정 패턴을 갖는 제1 마스크(710)가 형성된다. 이때, 제1 마스크(710)는 드레인 전극(123)의 일부를 노출시키기 위한 콘택홀(535)에 대응하는 제1 개구부(712)를 갖는다.

상기 제1 마스크(712)를 이용하여 절연막(530)을 노광한 후, 일정의 현상액을 이용하여 현상한다. 그러면, 제1 마스크(710)의 제1 개구부(712)에 노광된 영역의 절연막(530)이 제거되어 콘택홀(535)이 형성된다.

도 7e를 참조하면, 콘택홀(534)을 갖는 절연막(530)이 형성된 제1 유기기판(512) 전면에 크롬 산화물(CrOx) 또는 크롬(Cr) 성분의 무기 또는 유기 블랙 매트릭스층(도시되지 않음)을 형성한다. 이어, 상기 블랙 매트릭스층의 상부에는 소정 패턴을 갖는 제2 마스크(720)가 형성된다. 이때, 제2 마스크(720)는 컬러필터(500)의 일부를 제외한 상부 영역에 대응하는 제2 개구부(722) 및 콘택홀(535)에 대응하는 제3 개구부(724)를 포함한다.

상기 제2 마스크(720)를 이용하여 블랙 매트릭스층을 노광한 후, 현상액을 이용하여 현상한다. 그러면, 제2 마스크(720)의 제2 개구부(722)에 의해 노광된 영역 즉, 컬러필터(500)와 TFT(120)가 접하는 영역 상부의 일부를 제외한 컬러필터(500) 상부의 블랙 매트릭스층이 제거된다. 또한, 제2 마스크(720)의 제3 개구부(724)에 의해 노광된 영역인 콘택홀(535)에 대응하는 영역의 블랙 매트릭스층도 제거된다. 이로써, 컬러필터(535) 상부에 일부가 오버랩되고, 콘택홀(535)에 대응하는 영역에서 관통된 형태를 가지고, TFT(120) 상부의 절연층(530) 상부에 블랙 매트릭스(520)가 형성된다.

도 7f에 도시된 바와 같이, 블랙 매트릭스(520)가 형성된 제1 유리기판(512) 전면에 실리콘 질화물(SiNx)의 보호막(540)을 형성한다. 이어, 보호막(540) 상부에 소정 패턴을 갖는 제3 마스크(730)가 형성된다. 이때, 제3 마스크(730)는 콘택홀(535)에 대응하는 제4 개구부(732)를 갖는다.

상기 제3 마스크(730)를 이용하여 보호막(540)을 노광한 후, 일정의 현상액을 이용하여 현상한다. 그러면, 제3 마스크(730)의 제4 개구부(732)에 의해 노광된 영역 즉, 콘택홀(535)에 대응하는 영역의 보호막(540)이 제거된다.

이어, 도 7g를 참조하면, 보호막(540) 상부 및 콘택홀(535)에 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전막을 스퍼터링등의 박막 제조방법에 의해 균일한 두께로 증착하여 화소전극(550)을 형성한다. 이때, 화소전극(550)은 콘택홀(535)을 통해 TFT(120)의 드레인 전극(123)과 전기적으로 접속된다. 이로써, TFT(120) 및 컬러필터(500)가 형성된 제1 기판(510)이 완성된다.

도 7h를 참조하면, 제2 유리기판(572) 상에 공통전극(574)이 균일한 두께로 적층됨에 따라 제2 기판(570)이 완성된다.

이후, 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 기판(510)의 화소전극(550)과 제2 기판(570)의 공통전극(574)이 서로 마주보도록 제1 기판(510)과 제2 기판(570)이 얼라인먼트(alignment)되고, 제1 기판(510)과 제2 기판(570) 사이에 액정층(580)이 형성됨으로써, 액정표시장치가 완성된다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치는 동일한 기 판상에 형성되는 컬러필터가 TFT 쪽으로 번지는 것을 차단하기 위한 유기 BM 격벽층을 포함한다.

또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치는 컬러필터가 TFT 쪽으로 번지는 것을 차단하기 위하여 무기 BM 격벽층을 포함한다.

또한, 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치는 컬러필터를 고체 형태의 컬러필터 필름에 의해 형성한다.

그러므로, 본 발명은 TFT와 컬러필터를 동일한 기판에 형성하기 위하여 일반적인 액정표시장치와 동일하게 안료 타입의 재질에 의해 컬러필터를 구성하므로, 기존의 액정표시장치를 제조하는 장치에 의해 본 발명을 구현할 수 있어, 광 특성을 향상시킴과 동시에 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명은 격벽층을 유기 BM 물질에 의해 구성하므로, 격벽의 기능과 블랙 매트릭스의 기능을 하나의 격벽층에 의해 구현할 수 있는 효과도 있다.

또한, 본 발명은 격벽층을 무기물질에 의해 구성하므로, 유기물질에 의해 발생하는 공정 불량을 방지할 수 있는 효과도 있다.

또한, 본 발명은 컬러필터를 고체 형태의 컬러필터 필름에 의해 구성하므로, 컬러필터가 TFT 쪽으로 번지는 것을 방지하기 위한 격벽이 별도로 필요하지 않아 생산성을 높일 수 있는 효과도 있다.

본 발명은 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims

제1 투명기판에 형성된 박막 트랜지스터,

상기 제1 투명기판 상의 상기 박막 트랜지스터에 인접하여 형성되는 컬러필터,

상기 컬러필터가 상기 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하고, 상기 컬러필터에 따른 광 누설을 방지하기 위하여 상기 박막 트랜지스터 상부에 형성되고, 상기 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 포함하는 유기 격벽층,

상기 유기 격벽층 상부에 일부 오버랩되고, 상기 컬러필터 상부에 형성되며, 상기 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되는 화소전극을 포함하는 제1 기판;

제2 투명기판에 상기 화소 전극과 대향하도록 형성된 공통전극을 포함하는 제2 기판; 및

상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 개재된 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제1항에 있어서, 상기 컬러필터는 안료 타입의 컬러필터 재료에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제1항에 있어서, 상기 컬러필터는 모터 구동방식에 의해 분사되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제1항에 있어서, 상기 유기 격벽층은 10¹⁴Ω/cm의 저항값을 가짐을 특징으로 하는 액정표시장치.
제1항에 있어서, 상기 유기 격벽층은 폴리머 베이스 레진에 카본이 균일하게 분산되어 있는 매트릭스 형태를 갖는 물질에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제1 투명기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;

상기 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖는 유기 격벽층을 상기 박막 트랜지스터 상부에 형성하는 단계;

상기 제1 투명기판 상의 상기 박막 트랜지스터에 인접하게 컬러필터를 형성하는 단계;

상기 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되고, 상기 유기 격벽층 상부에 일부 오버랩되며, 상기 컬러필터 상부에 화소전극을 형성하는 단계;

제2 투명기판에 상기 화소 전극과 대향하도록 공통전극을 형성하는 단계; 및

상기 제1 투명기판 및 상기 제2 투명기판 사이에 액정을 개재하는 단계를 포 함하고,

상기 유기 격벽층은 상기 컬러필터가 상기 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하고, 상기 컬러필터에 의한 광 누설을 차단하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제6항에 있어서, 상기 컬러필터는 안료 타입의 컬러필터 재료가 모터 구동방식의 분사 방법에 의해 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제6항에 있어서, 상기 유기 격벽층은 10¹⁴Ω/cm의 저항값을 가짐을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제6항에 있어서, 상기 유기 격벽층은 폴리머 베이스 레진에 카본이 균일하게 분산되어 있는 매트릭스 형태를 갖는 물질에 의해 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제1 투명기판에 형성된 박막 트랜지스터,

상기 제1 투명기판 상의 상기 박막 트랜지스터에 인접하여 형성되는 컬러필터,

상기 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖고, 상기 박 막 트랜지스터의 상부에 형성되어 상기 컬러필터가 상기 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하는 무기 격벽층,

상기 무기 격벽층 상부 및 상기 컬러필터에 일부 오버랩되도록 형성되어 상기 컬러필터의 광 누설을 차단하는 블랙 매트릭스,

상기 블랙 매트릭스를 포함한 상기 제1 투명기판 전면에 형성되어 상기 박막 트랜지스터 및 컬러필터를 보호하는 보호막,

상기 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되고, 상기 박막 트랜지스터와 일부 오버랩되며, 상기 컬러필터에 대응하는 상기 보호막 상부에 형성되는 화소전극을 포함하는 제1 기판;

제2 투명기판에 상기 화소 전극과 대향하도록 형성된 공통전극을 포함하는 제2 기판; 및

상기 제1 기판과 상기 제2 기판과의 사이에 개재되는 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제10항에 있어서, 상기 무기 격벽층은 저 스트레스 박막 물질에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제11항에 있어서, 상기 저 스트레스 박막 물질은 알루미늄 산화물(Al₂O₃)임을 특징으로 하는 액정표시장치.
제10항에 있어서, 상기 컬러필터는 안료 타입의 컬러필터 재료에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제10항에 있어서, 상기 컬러필터는 모터 구동방식에 의해 분사되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
제1 투명기판에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;

상기 박막 트랜지스터의 일부분을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖고, 상기 박막 트랜지스터의 상부에 무기 격벽층을 형성하는 단계;

상기 제1 투명기판 상의 상기 박막 트랜지스터에 인접하게 컬러필터를 형성하는 단계;

상기 컬러필터의 광 누설을 차단하기 위하여 상기 무기 격벽층 상부 및 상기 컬러필터에 일부 오버랩되도록 블랙 매트릭스를 형성하는 단계;

상기 박막 트랜지스터 및 상기 컬러필터를 보호하기 위하여 상기 블랙 매트릭스를 포함한 제1 투명기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;

상기 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되고, 상기 박막 트랜지스터와 일부 오버랩되며, 상기 컬러필터에 대응하는 상기 보호막 상부에 화소 전극을 형성하는 단계;

제2 투명기판에 상기 화소 전극과 대향하도록 공통전극을 형성하는 단계;

상기 제1 투명기판과 상기 제2 투명기판과의 사이에 액정을 개재하는 단계를 포함하고,

상기 무기 격벽층은 상기 컬러필터가 상기 박막 트랜지스터 쪽으로 번지는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제15항에 있어서, 상기 컬러필터는 안료 타입의 컬러필터 재료가 모터 구동방식의 분사 방법에 의해 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제15항에 있어서, 상기 무기 격벽층은 저 스트레스 박막 물질에 의해 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제17항에 있어서, 상기 저 스트레스 박막 물질은 알루미늄 산화물(Al₂O₃)임을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제16항에 있어서, 상기 무기 격벽층을 형성하는 단계는

상기 제1 투명기판의 상기 콘택홀 형성 영역과 상기 컬러필터 형성 영역에 포토 레지스트 패턴을 형성하는 단계;

상기 포토 레지스트 패턴을 포함하는 상기 제1 투명기판 전면에 무기물층을 증착하는 단계; 및

상기 포토 레지스트 패턴을 스트립(Strip)하여 상기 컬러필터 형성 영역 및 상기 콘택홀 형성 영역의 상기 무기물층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제1 투명기판에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;

상기 박막 트랜지스터가 형성된 제1 투명기판 상에 컬러필터 필름을 부착시키는 단계;

상기 박막 트랜지스터에 인접하는 영역에 대응하는 상기 컬러필터 필름에 열처리를 수행하여 컬러필터를 형성하는 단계;

상기 박막 트랜지스터의 일부를 노출시키기 위한 콘택홀을 갖고, 상기 컬러필터가 형성된 제1 투명기판 전면에 절연막을 형성하는 단계;

상기 컬러필터의 광 누설을 차단하기 위한 블랙 매트릭스를 상기 컬러필터에 일부가 오버랩되고, 상기 박막트랜지스터 상부에 대응하는 상기 절연막상에 형성하는 단계;

상기 블랙 매트릭스를 포함하는 상기 제1 유리기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;

상기 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되는 화소 전극을 형성하는 단계;

제2 투명기판에 상기 화소전극과 대향하도록 공통전극을 형성하는 단계;

상기 제1 투명기판과 상기 제2 투명기판과의 사이에 액정을 개재하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
제20항에 있어서, 상기 컬러필터 필름은 베이스 필름, 색상을 나타내는 컬러필름 및 상기 컬러필름을 상기 베이스 필름에 접착하는 접착제를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.