KR100943139B1 - Voltage supplier for bitline sensing of non volatile memory device - Google Patents

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Abstract

본원 발명의 비트라인 센싱부는 외부 온도의 크기에 비례하여 증가하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와, 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와, 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 증가하는 고전압을 공급하는 풀업부와, 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The bit line sensing unit of the present invention is a temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage that increases in proportion to the magnitude of the external temperature, a comparison unit for comparing the magnitude of the temperature voltage and the reference voltage, and the output voltage of the comparison unit And a pull-up part for supplying a high voltage which increases proportionally, and a voltage divider for distributing the high voltage to supply a first voltage and a second voltage to an output terminal.

또한 본원 발명의 비트라인 센싱부는 외부 온도의 크기에 비례하여 감소하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와, 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와, 상기 비교부의 출력전압의 크기에 따라 상이한 레벨의 전원전압을 공급하는 풀업부와, 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 감소하는 고전압을 공급하는 풀업부와, 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the bit line sensing unit of the present invention, a temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage that decreases in proportion to the magnitude of the external temperature, a comparison unit for comparing the magnitude of the temperature voltage and the reference voltage, the magnitude of the output voltage of the comparison unit A pull-up part for supplying power voltages having different levels according to the power supply, a pull-up part for supplying a high voltage which decreases in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparator, and supplying the first voltage and the second voltage to the output terminal by dividing the high voltage. It characterized in that it comprises a voltage divider.

문턱전압, 온도, 센싱전압 Threshold Voltage, Temperature, Sensing Voltage

Description

불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부{Voltage supplier for bitline sensing of non volatile memory device}Voltage supplier for bitline sensing of non volatile memory device

본원 발명은 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부에 관한 것이다.The present invention relates to a bit line sensing voltage supply unit of a nonvolatile memory device.

최근 들어 전기적으로 프로그램(program)과 소거(erase)가 가능하고, 일정 주기로 데이터를 재작성해야하는 리프레시(refresh) 기능이 필요 없는 불휘발성 메모리 소자에 대한 수요가 증가하고 있다.Recently, there is an increasing demand for a nonvolatile memory device that can be electrically programmed and erased and that does not require a refresh function to rewrite data at regular intervals.

상기 불휘발성 메모리 셀은 전기적인 프로그램/소거 동작이 가능한 소자로서 얇은 산화막에 인가되는 강한 전기장에 의해 전자가 이동하면서 셀의 문턱전압을 변화시켜 프로그램 및 소거 동작을 수행한다.The nonvolatile memory cell is an electric program / eraseable device that performs program and erase operations by changing a threshold voltage of a cell while electrons are moved by a strong electric field applied to a thin oxide film.

상기 불휘발성 메모리 장치는 통상적으로 데이터가 저장되는 셀들이 매트릭스 형태로 구성된 메모리 셀 어레이, 상기 메모리 셀 어레이의 특정 셀들에 대하여 메모리를 기입하거나 특정 셀에 저장되었던 메모리를 독출하는 페이지 버퍼를 포함한다. 상기 페이지 버퍼는 특정 메모리 셀과 접속된 비트라인 쌍, 메모리 셀 어레이에 기록할 데이터를 임시저장하거나, 메모리 셀 어레이로부터 특정 셀의 데이터 를 독출하여 임시 저장하는 레지스터, 특정 비트라인 또는 특정 레지스터의 전압 레벨을 감지하는 감지노드, 상기 특정 비트라인과 감지노드의 접속여부를 제어하는 비트라인 선택부를 포함한다.The nonvolatile memory device typically includes a memory cell array having cells in which data is stored in a matrix form, and a page buffer for writing a memory to a specific cell of the memory cell array or reading a memory stored in a specific cell. . The page buffer may include a pair of bit lines connected to a specific memory cell, a register for temporarily storing data to be written to the memory cell array, or a register for reading and temporarily storing data of a specific cell from the memory cell array, a voltage of a specific bit line or a specific register. It includes a sensing node for sensing a level, a bit line selection unit for controlling the connection of the specific bit line and the sensing node.

이러한 불휘발성 메모리 장치의 독출 동작/검증동작은 판독 대상 셀의 문턱전압이 독출 전압/검증 전압이상인지 여부를 판단하는 것이다. 이를 위해, 비트라인을 하이레벨로 프리차지시키는 과정이 필요한바, 비트라인과 감지노드를 선택적으로 접속시키는 비트라인 센싱부, 감지노드 프리차지부등을 이용한다. 다음으로, 특정 셀이 프로그램되었는지 여부에 따라 비트라인의 전압레벨이 상이하게 되는바, 이때도 비트라인 센싱부를 이용하여 그 차이를 측정할 수 있게된다. 다만, 상기 비트라인 센싱부는 NMOS 트랜지스터를 포함하는바, 온도에 따라 해당 트랜지스터의 문턱전압값이 상이해질 수 있어, 온도 변화에 따라 독출/검증 결과가 상이해지는 문제점이 있다.The read operation / verify operation of the nonvolatile memory device determines whether the threshold voltage of the cell to be read is greater than or equal to the read voltage / verify voltage. To this end, a process of precharging the bit line to a high level is required. A bit line sensing unit, a sensing node precharge unit, and the like, which selectively connect the bit line and the sensing node, are used. Next, the voltage level of the bit line is different depending on whether or not a specific cell is programmed. In this case, the difference can be measured using the bit line sensing unit. However, since the bit line sensing unit includes an NMOS transistor, the threshold voltage value of the transistor may be different according to temperature, and thus the read / verify result is different according to the temperature change.

전술한 문제점에 따라 본원 발명이 해결하고자 하는 과제는 비트라인 센싱부에 인가하는 전압을 온도 변화에 따라 상이하게 인가하여, 온도 변화에 따라 독출/검증 동작시에 나타나는 문제점을 개선하고자 한다.The problem to be solved by the present invention according to the above problem is to apply a voltage applied to the bit line sensing unit differently according to the temperature change, to improve the problem appearing during the read / verify operation according to the temperature change.

전술한 문제를 해결하기 위한 본원 발명의 비트라인 센싱부는 외부 온도의 크기에 비례하여 증가하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와, 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와, 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 증가하는 고전압을 공급하는 풀업부와, 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The bit line sensing unit of the present invention for solving the above-mentioned problem, a temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage that increases in proportion to the magnitude of the external temperature, a comparison unit for comparing the magnitude of the temperature voltage and the reference voltage, and And a pull-up part for supplying a high voltage increasing in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparator, and a voltage divider for distributing the high voltage to supply the first voltage and the second voltage to the output terminal.

또한 본원 발명의 비트라인 센싱부는 외부 온도의 크기에 비례하여 감소하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와, 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와, 상기 비교부의 출력전압의 크기에 따라 상이한 레벨의 전원전압을 공급하는 풀업부와, 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 감소하는 고전압을 공급하는 풀업부와, 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the bit line sensing unit of the present invention, a temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage that decreases in proportion to the magnitude of the external temperature, a comparison unit for comparing the magnitude of the temperature voltage and the reference voltage, the magnitude of the output voltage of the comparison unit A pull-up part for supplying power voltages having different levels according to the power supply, a pull-up part for supplying a high voltage which decreases in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparator, and supplying the first voltage and the second voltage to the output terminal by dividing the high voltage. It characterized in that it comprises a voltage divider.

또한 본원 발명의 불휘발성 메모리 장치는 비트라인 센싱신호에 따라 감지노드와 비트라인을 선택적으로 접속시키는 비트라인 센싱부와, 온도변화에 비례하여 상기 비트라인 센싱신호의 전압레벨을 변화시키는 비트라인 센싱 전압 공급부를 포 함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the nonvolatile memory device of the present invention includes a bit line sensing unit for selectively connecting a sensing node and a bit line according to a bit line sensing signal, and a bit line sensing for changing a voltage level of the bit line sensing signal in proportion to a temperature change. It characterized in that it comprises a voltage supply.

전술한 본원 발명의 구성에 따라 상온보다 고온인 경우 상온보다 높은 비트라인 센싱전압을 인가하고, 상온보다 저온인 경우 상온보다 낮은 비트라인 센싱전압을 인가할 수 있다. 이와 같이 온도변화를 반영하여 상이한 비트라인 센싱전압을 인가함으로써 온도 변화에 따른 독출/검증 동작시의 문제점을 해소할 수 있다.According to the above-described configuration of the present invention, when the temperature is higher than room temperature, a bit line sensing voltage higher than room temperature may be applied, and when the temperature is lower than room temperature, bit line sensing voltage lower than room temperature may be applied. In this way, by applying different bit line sensing voltages in consideration of the temperature change, a problem in the read / verify operation according to the temperature change can be solved.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본원 발명의 바람직한 실시예를 상세히 살펴보기로 한다. 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, only these embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and to those skilled in the art to fully understand the scope of the invention. It is provided to inform you. Like numbers refer to like elements in the figures.

도 1a는 본원 발명에 적용되는 불휘발성 메모리 장치를 도시한 도면이고, 도 1b는 불휘발성 메모리 장치의 통상적인 독출동작/검증동작의 개념을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 1A is a diagram illustrating a nonvolatile memory device applied to the present invention, and FIG. 1B is a diagram for describing a concept of a conventional read / verify operation of the nonvolatile memory device.

상기 불휘발성 메모리 장치(100)는 셀 스트링(110), 비트라인 센싱부(120), 감지노드 프리차지부(130), 비트라인 센싱 전압 공급부(140)를 포함한다.The nonvolatile memory device 100 includes a cell string 110, a bit line sensing unit 120, a sensing node precharge unit 130, and a bit line sensing voltage supply unit 140.

상기 셀 스트링(110)은 직렬 접속된 복수의 메모리 셀(MC0~MCn), 상기 메모리 셀(MCn)과 비트라인 센싱부(120)를 선택적으로 접속시키는 드레인 선택 트랜지 스터(DST), 상기 메모리 셀(MC0)과 접지를 선택적으로 접속시키는 소스 선택 트랜지스터(SST)를 포함한다. The cell string 110 may include a plurality of memory cells MC0 to MCn connected in series, a drain select transistor DST to selectively connect the memory cell MCn to the bit line sensing unit 120, and the memory. And a source select transistor SST for selectively connecting the cell MC0 to ground.

상기 비트라인 센싱부(120)는 비트라인 센싱신호(PBSENSE)에 따라 감지노드(SO)와 셀 스트링을 선택적으로 접속한다. 이를 위해 감지노드와 셀 스트링 사이에 접속된 NMOS 트랜지스터(N120)을 포함한다. 특히 비트라인 센싱신호(PBSENSE)의 전압 레벨을 조절하여, 특정 셀이 독출전압 또는 검증전압(Vread, Vver) 이상으로 프로그램 되었는지 여부를 판독할 수 있게 한다.The bit line sensing unit 120 selectively connects the sensing node SO and the cell string according to the bit line sensing signal PBSENSE. To this end, it includes an NMOS transistor (N120) connected between the sensing node and the cell string. In particular, by adjusting the voltage level of the bit line sensing signal (PBSENSE), it is possible to read whether a specific cell is programmed above the read voltage or the verify voltage (Vread, Vver).

상기 감지노드 프리차지부(130)는 감지노드 프리차지신호(PRECHb)에 따라 전원전압(VDD)을 감지노드에 인가한다. 이를 위해 전원 전압 단자와 감지노드 사이에 접속된 PMOS 트랜지스터(P130)를 포함한다.The sensing node precharge unit 130 applies a power supply voltage VDD to the sensing node according to the sensing node precharge signal PRECHb. To this end, it includes a PMOS transistor (P130) connected between the power supply voltage terminal and the sensing node.

상기 비트라인 센싱 전압 공급부(140)는 온도 변화에 따라 상이하게 변하는 비트라인 센싱 전압(PBSENSE)을 공급한다. 상세 구성은 추후 설명하기로 한다.The bit line sensing voltage supply unit 140 supplies a bit line sensing voltage PBSENSE that varies differently according to temperature change. The detailed configuration will be described later.

도 1b를 참조하여 독출 동작/검증 동작의 원리를 살펴보기로 한다.The principle of the read operation / verification operation will be described with reference to FIG. 1B.

(1) T1 구간(1) T1 section

먼저, 로우 레벨의 감지노드 프리차지신호(PRECHb)를 인가하여 감지노드(SO)를 하이레벨로 프리차지 시킨다. 또한, 제1 전압(V1)의 비트라인 센싱신호(PBSENSE)를 인가하여 비트라인(VBL)을 하이레벨(V1-Vth)로 프리차지 시킨다.First, the sensing node SO is precharged to a high level by applying a low level sensing node precharge signal PRECHb. In addition, the bit line sensing signal PBSENSE of the first voltage V1 is applied to precharge the bit line VBL to the high level V1 -Vth.

(2) T2 구간(2) T2 section

다음으로, 상기 비트라인 센싱신호(PBSENSE)의 인가를 중단하여 판독 대상 셀의 상태에 따라 비트라인의 전압레벨이 유지 또는 디스차지되도록 한다. 이를 위해, 판독 대상 셀이 아닌 셀들의 워드라인에는 패스 전압(Vpass)을 인가하여 해당 셀들을 모두 턴온시킨다. 또한 판독 대상 셀의 워드라인에는 독출전압 또는 검증전압(Vread, Vver)을 인가한다. 만약 판독 대상 셀의 문턱전압이 독출전압 또는 검증전압(Vread, Vver)보다 크다면, 해당 셀은 턴온되지 않게 되며, 상기 프리차지된 하이레벨 전압(V1-Vth)을 그대로 유지하게 된다. 그러나 만약 판독 대상 셀의 문턱전압이 독출전압 또는 검증전압(Vread, Vver)보다 작다면, 해당 셀이 턴온되게 되며, 프리차지되었던 전압은 셀 스트링을 통해 접지로 디스차지 된다.Next, the application of the bit line sensing signal PBSENSE is stopped so that the voltage level of the bit line is maintained or discharged according to the state of the cell to be read. To this end, a pass voltage Vpass is applied to word lines of cells other than the cell to be read to turn on all of the corresponding cells. In addition, a read voltage or a verify voltage Vread or Vver is applied to the word line of the cell to be read. If the threshold voltage of the cell to be read is greater than the read voltage or the verify voltages Vread and Vver, the cell is not turned on and maintains the precharged high level voltages V1 -Vth. However, if the threshold voltage of the cell to be read is less than the read voltage or the verification voltage (Vread, Vver), the cell is turned on and the precharged voltage is discharged to ground through the cell string.

(3) T3 구간(3) T3 section

다음으로, 제2 전압(V2)의 비트라인 센싱신호(PBSENSE)를 인가하여 비트라인(VBL)의 전압 레벨을 감지한다. 한편, 이때 감지노드 프리차지 동작을 중단하여 감지노드를 플로팅 시킨다. Next, the bit line sensing signal PBSENSE of the second voltage V2 is applied to sense the voltage level of the bit line VBL. Meanwhile, at this time, the sensing node is stopped by floating the sensing node precharge operation.

만약 판독 대상셀의 문턱전압이 독출전압 또는 검증전압(Vread, Vver)보다 낮아 상기 비트라인의 전압레벨이 디스차지 되었다면, 상기 제2 전압(V2)의 비트라인 센싱신호(PBSENSE) 인가에 따라 NMOS 트랜지스터(N120)이 턴온되어 감지노드(SO) 역시 로우레벨로 디스차지 된다. 상기 NMOS 트랜지스터(N120)의 게이트 전압(V2)과 소스 전압(0V)의 차이가 문턱전압(Vth)보다 크기 때문이다. If the voltage level of the bit line is discharged because the threshold voltage of the read target cell is lower than the read voltage or the verify voltage Vread and Vver, the NMOS is applied according to the application of the bit line sensing signal PBSENSE of the second voltage V2. The transistor N120 is turned on so that the sensing node SO is also discharged to the low level. This is because the difference between the gate voltage V2 and the source voltage 0V of the NMOS transistor N120 is greater than the threshold voltage Vth.

반면에, 판독 대상셀의 문턱전압이 독출전압 또는 검증전압(Vread, Vver)보다 높아 상기 비트라인의 전압레벨이 하이레벨(V1-Vth)로 유지되었다면, 상기 제2 전압(V2)의 비트라인 센싱신호(PBSENSE) 인가에도 NMOS 트랜지스터(N120)이 턴오프 되어 감지노드(SO) 역시 로우레벨로 디스차지 된다. 상기 NMOS 트랜지스터(N120)의 게이트 전압(V2)과 소스 전압(V1-Vth)의 차이가 문턱전압(Vth)보다 작기 때문이다. 이때, 상기 제2 전압(V2)과 제1 전압(V1)은 상기 게이트 전압(V2)과 소스 전압(V1-Vth)의 차이가 문턱전압(Vth)보다 작게 되도록 설정한다. On the other hand, if the threshold voltage of the read target cell is higher than the read voltage or the verify voltages Vread and Vver, and the voltage level of the bit line is maintained at the high level (V1-Vth), the bit line of the second voltage V2. Even when the sensing signal PBSENSE is applied, the NMOS transistor N120 is turned off so that the sensing node SO is discharged to a low level. This is because the difference between the gate voltage V2 and the source voltages V1-Vth of the NMOS transistor N120 is smaller than the threshold voltage Vth. In this case, the second voltage V2 and the first voltage V1 are set such that a difference between the gate voltage V2 and the source voltages V1 -Vth is smaller than the threshold voltage Vth.

이때, 온도 변화에 따라 상기 비트라인의 전압레벨(VBL)이 상이해지는 특성이 있어 독출동작, 검증 동작의 결과가 상이해지는 문제점이 있다.In this case, the voltage level VBL of the bit line may be different according to the temperature change, and thus the results of the read operation and the verify operation may be different.

도 2는 통상적인 불휘발성 메모리 장치의 독출동작/검증동작에서 나타나는 온도 변화에 따른 문제점을 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a problem caused by temperature change in a read / verify operation of a conventional nonvolatile memory device.

즉, 게이트에 동일한 비트라인 센싱 전압을 인가하는 경우 온도가 낮을수록 비트라인에 프리차지되는 전하의 양(Cbl)이 많아지는 경향이 있다. 그에 따라, 문턱 전압이 독출전압/검증전압보다 낮은 경우에도 디스차지되는 정도가 제2 전압(V2)에서 문턱전압을 뺀 전압보다 높아, 소거된 셀로 독출되지 않게 된다. 고온의 경우에는 비트라인에 프리차지되는 전하의 양(Cbl)이 적어서, 문턱 전압이 독출전압/검증전압보다 높은 경우의 셀들이 소거된 셀로 독출될 수 있는 가능성이 있다.That is, when the same bit line sensing voltage is applied to the gate, the lower the temperature, the greater the amount of charge Cbl precharged to the bit line. Accordingly, even when the threshold voltage is lower than the read voltage / verify voltage, the degree of discharge is higher than the voltage obtained by subtracting the threshold voltage from the second voltage V2, so that the cell is not read to the erased cell. In the case of high temperature, the amount of charges Cbl precharged to the bit line is small, so that cells when the threshold voltage is higher than the read voltage / verify voltage may be read into the erased cell.

도 3은 온도 변화에 따른 셀 커런트의 변화를 도시한 그래프이다.3 is a graph illustrating a change in cell current according to temperature change.

X축은 상기 NMOS 트랜지스터(N120)의 게이트에 인가되는 전압을 나타내며, Y축은 상기 NMOS 트랜지스터(N120)를 통해 흐르는 비트라인 전류(Idsat)를 나타낸다. ZTC(zero temperature coefficient, 1.05V)를 기점으로 그 특성이 상이해 짐을 알 수 있다. 즉 ZTC 보다 낮은 게이트 전압이 인가되는 경우, 온도가 높을수록 비트라인 전류(Idsat) 값이 증가하는 반면에, ZTC 보다 높은 게이트 전압이 인가되는 경우, 온도가 낮을수록 비트라인 전류값(Idsat)이 증가하는 특성을 보인다. 통상적으로, 독출/검증 동작시에 인가되는 제1 전압(V1)은 1.8V로서 ZTC보다 크므로, 온도가 낮을수록 비트라인 전류값이 증가하는 특성이 독출/검증동작시에 문제점이 된다.The X axis represents the voltage applied to the gate of the NMOS transistor N120, and the Y axis represents the bit line current Idsat flowing through the NMOS transistor N120. It can be seen that the characteristics are different from the ZTC (zero temperature coefficient, 1.05V). That is, when a gate voltage lower than ZTC is applied, the bit line current Idsat value increases as the temperature increases, whereas when a gate voltage higher than ZTC is applied, the bit line current value Idsat increases as the temperature is lower. It shows increasing characteristics. Typically, since the first voltage V1 applied in the read / verify operation is 1.8 V and larger than ZTC, the characteristic that the bit line current value increases as the temperature is lower becomes a problem in the read / verify operation.

도 4는 비트라인 센싱부의 특정 전압 인가시에 나타나는 비트라인 전류값의 온도에 따른 변화를 도시한 그래프이다.4 is a graph illustrating a change in temperature of a bit line current value appearing when a specific voltage is applied to the bit line sensing unit.

상기 비트라인 센싱부에 1.8V의 제1 전압(V1)을 인가할 경우, 온도가 낮을수록 비트라인 전류(Idsat)가 증가함을 알 수 있다. 즉, 저온(-40℃)시에 119uA, 상온(25℃)시에 104uA, 고온(90℃)시에 91.2uA가 흐름을 알 수 있다. 정리하면, 비트라인 센싱부(120)에 동일한 게이트 전압을 인가할 경우, 온도가 감소할수록 비트라인 전류(Idsat)가 커짐을 알 수 있다. 따라서 이러한 변화 경향을 감소시킬 필요가 있다. 한편, 상기 수치는 온도 변화에 따른 전류 값의 변화 경향을 설명하는 것일 뿐, 본원 발명의 범위를 한정하지 않는다. When the first voltage V1 of 1.8V is applied to the bit line sensing unit, the bit line current Idsat increases as the temperature is lowered. That is, 119 uA at low temperature (-40 degreeC), 104 uA at normal temperature (25 degreeC), and 91.2 uA at high temperature (90 degreeC) can be seen that a flow. In summary, when the same gate voltage is applied to the bit line sensing unit 120, the bit line current Idsat increases as the temperature decreases. Therefore, there is a need to reduce this change tendency. On the other hand, the numerical value is only for explaining the tendency of the change in the current value with the temperature change, it does not limit the scope of the present invention.

도 5는 비트라인 전류값의 온도에 따른 변화를 최소화하기 위해 본원 발명에서 사용하고자 하는 특성을 도시한 그래프이다.5 is a graph showing characteristics to be used in the present invention in order to minimize the change in temperature of the bit line current value.

온도와 무관하게 동일한 전압을 인가하는 것이 아니라, 온도에 따라 상이한 게이트 전압을 인가함으로써, 비트라인 전류값의 온도에 따른 변화를 최소화시키는 것이다. 도 3, 4의 그래프의 특성을 이용하면, 온도에 따라 동일한 비트라인 전류를 공급하기 위해서는 외부 온도가 높을수록 높은 게이트 전압을 인가해야 함을 알 수 있다. 예를 들어, 저온(-40℃)시에 1.7V, 상온(25℃)시에 1.8V, 고온(90℃)시에 1.9V를 게이트 전압으로 인가시키면, 동일한 값의 비트라인 전류(Idsat)가 흐름을 알 수 있다. It is not to apply the same voltage irrespective of temperature, but to minimize the change in temperature of the bit line current value by applying different gate voltages depending on the temperature. Using the characteristics of the graphs of FIGS. 3 and 4, it can be seen that in order to supply the same bit line current according to temperature, a higher gate voltage should be applied as the external temperature increases. For example, when 1.7V at low temperature (-40 ° C), 1.8V at room temperature (25 ° C) and 1.9V at high temperature (90 ° C) are applied as the gate voltage, the same value of bit line current Idsat You can see the flow.

따라서 본원 발명에서는 외부 온도의 증가에 따라 게이트 전압을 증가시켜 인가함으로써 온도 변화에 따른 독출/검증 동작시의 문제점을 해결하고자 한다.Therefore, the present invention is to solve the problem of the read / verify operation according to the temperature change by applying the gate voltage increases with the increase in the external temperature.

도 6은 본원 발명의 일 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부를 도시한 회로도이다.6 is a circuit diagram illustrating a bit line sensing voltage supply unit of a nonvolatile memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

상기 비트라인 센싱전압 공급부(600)는 온도전압 출력부(610), 비교부(620), 풀업부(630), 전압분배부(640), 제1 전압(V1) 공급부(650), 제2 전압(V2) 공급부(660), 프로그램시 전압공급부(670), 소거시 전압공급부(680)를 포함한다.The bit line sensing voltage supply unit 600 includes a temperature voltage output unit 610, a comparison unit 620, a pull-up unit 630, a voltage divider unit 640, a first voltage V1 supply unit 650, and a second unit. The voltage V2 supply unit 660, a programming voltage supply unit 670, and an erasing voltage supply unit 680 are included.

상기 온도 전압 출력부(610)는 제어신호(CON)에 따라 전원 전압을 공급하는 풀업소자(P612), 상기 풀업소자(P612)와 접지단자 사이에 직렬 접속된 제1 저항(RA) 및 다이오드 접속된 제1 NMOS 트랜지스터(N610), 상기 풀업소자(P612)와 접지단자 사이에 직렬 접속된 제2 저항(RB) 및 제2 NMOS 트랜지스터(N612)를 포함한다. 이때, 상기 NMOS 트랜지스터(N612)의 게이트는 상기 제1 저항(RA) 및 NMOS 트랜지스터(N610)의 접속노드(N1)에 접속된다. 한편, 상기 제1 NMOS 트랜지스터(N610)의 온도 민감성이 제2 NMOS 트랜지스터(N612) 보다 더 크도록 설정한다. 이는 각 NMOS 트랜지스터의 채널 넓이(Width)를 변경하여 조절할 수 있다. The temperature voltage output unit 610 may include a pull-up device P612 for supplying a power voltage according to a control signal CON, a first resistor RA and a diode connection connected in series between the pull-up device P612 and a ground terminal. And a first NMOS transistor N610, a second resistor RB and a second NMOS transistor N612 connected in series between the pull-up element P612 and the ground terminal. In this case, the gate of the NMOS transistor N612 is connected to the connection node N1 of the first resistor RA and the NMOS transistor N610. Meanwhile, the temperature sensitivity of the first NMOS transistor N610 is set to be greater than that of the second NMOS transistor N612. This can be adjusted by changing the channel width of each NMOS transistor.

고온일 경우, 즉 온도가 상온보다 증가하면 다이오드 접속된 제1 NMOS 트랜지스터(N610)의 문턱전압(Vth)이 감소하므로, 상기 접속노드(N1)의 전압이 감소한다. 상기 제2 NMOS 트랜지스터(N612)의 게이트 전압(N1)이 감소함에 따라 제2 NMOS 트랜지스터(N612)와 제2 저항(RB)의 접속노드에서 출력되는 온도전압(Vtemp)이 증가하게 된다.When the temperature is high, that is, when the temperature is higher than room temperature, the threshold voltage Vth of the diode-connected first NMOS transistor N610 is decreased, and thus the voltage of the connection node N1 is decreased. As the gate voltage N1 of the second NMOS transistor N612 decreases, the temperature voltage Vtemp output from the connection node of the second NMOS transistor N612 and the second resistor RB increases.

저온일 경우, 즉 온도가 상온보다 감소하면 다이오드 접속된 제1 NMOS 트랜지스터(N610)의 문턱전압(Vth)이 증가하므로, 상기 접속노드(N1)의 전압이 증가한다. 상기 제2 NMOS 트랜지스터(N612)의 게이트 전압(N1)이 증가함에 따라 제2 NMOS 트랜지스터(N612)와 제2 저항(RB)의 접속노드에서 출력되는 온도전압(Vtemp)이 감소하게 된다. 정리하면, 상기 온도전압 출력부(Vtemp)는 온도 증가에 비례하여 변화하는 온도전압(Vtemp)을 출력하게 된다.When the temperature is lower, that is, when the temperature is lower than room temperature, the threshold voltage Vth of the diode-connected first NMOS transistor N610 increases, so that the voltage of the connection node N1 increases. As the gate voltage N1 of the second NMOS transistor N612 increases, the temperature voltage Vtemp output from the connection node of the second NMOS transistor N612 and the second resistor RB decreases. In summary, the temperature voltage output unit Vtemp outputs the temperature voltage Vtemp that changes in proportion to the temperature increase.

상기 비교부(620)는 상기 온도 전압(Vtemp)과 상기 전압분배부(640)에서 출력되는 기준전압(Vref)을 비교하여 상기 풀업부(630)가 출력하는 전압의 크기를 제어한다. 상기 비교부(620)는 차동 증폭기의 형태로 구성된다.The comparator 620 controls the magnitude of the voltage output by the pull-up unit 630 by comparing the temperature voltage Vtemp and the reference voltage Vref output from the voltage divider 640. The comparison unit 620 is configured in the form of a differential amplifier.

인에이블 신호(EN)에 따라 노드(N3)에 접지 전압을 인가하는 구동소자(N626), 상기 노드(N3)와 소스가 접속되며 온도전압(Vtemp)에 따라 턴온되는 제1 NMOS 트랜지스터(N622), 상기 노드(N3)와 소스가 접속되며 기준전압(Vref)에 따라 턴온되는 제2 NMOS 트랜지스터(N624), 전원전압(VDD) 단자와 상기 제1 NMOS 트랜지 스터의 드레인 사이에 접속되는 제1 PMOS 트랜지스터(P622), 상기 전원전압(VDD) 단자와 상기 제2 NMOS 트랜지스터의 드레인 사이에 접속되는 제2 PMOS 트랜지스터(P624)를 포함한다. 이때, 상기 제1 및 제2 PMOS 트랜지스터의 게이트는 상기 제1 NMOS 트랜지스터의 드레인단에 접속된다. 한편, 출력전압(Vout)은 상기 제2 PMOS 트랜지스터(P624)와 제2 NMOS 트랜지스터(N624)의 접속노드(N2)에 인가되는 전압이다. 따라서 상기 비교부(620)는 상기 온도전압(Vtemp)이 기준전압(Vref)보다 큰 경우 하이레벨의 출력전압(Vout)을 출력하고, 상기 온도전압(Vtemp)이 기준전압(Vref)보다 작은 경우 로우 레벨의 출력전압(Vout)을 출력한다.The driving device N626 for applying a ground voltage to the node N3 according to the enable signal EN, the first NMOS transistor N622 connected to a source of the node N3 and turned on according to the temperature voltage Vtemp. And a second NMOS transistor N624 connected to a source of the node N3 and turned on according to a reference voltage Vref, a first voltage connected between a power supply voltage VDD terminal and a drain of the first NMOS transistor. A PMOS transistor P622 includes a second PMOS transistor P624 connected between the power supply voltage VDD terminal and the drain of the second NMOS transistor. In this case, gates of the first and second PMOS transistors are connected to drain terminals of the first NMOS transistor. The output voltage Vout is a voltage applied to the connection node N2 of the second PMOS transistor P624 and the second NMOS transistor N624. Therefore, the comparison unit 620 outputs a high level output voltage Vout when the temperature voltage Vtemp is greater than the reference voltage Vref, and when the temperature voltage Vtemp is smaller than the reference voltage Vref. Output the low level output voltage (Vout).

상기 풀업부(630)는 상기 비교부(620)의 출력전압에 응답하여 턴온되며 전원 전압 단자와 상기 전압 분배부(640) 사이에 접속된 NMOS 트랜지스터(N630)를 포함한다. The pull-up unit 630 includes an NMOS transistor N630 that is turned on in response to the output voltage of the comparator 620 and is connected between a power supply voltage terminal and the voltage divider 640.

상기 전압 분배부(640)는 상기 풀업부(630)와 접지 단자 사이에 직렬 접속된 제1 내지 제4 저항(R1, R2, R3, R4)을 포함한다. 제1 저항(R1)과 제2 저항(R2)의 접속노드에 인가되는 전압이 제1 전압(V1)으로 사용되고, 제3 저항(R3)과 제4 저항(R4)의 접속노드에 인가되는 전압이 제2 전압(V2)으로 사용된다. 한편, 제2 저항(R2)과 제3 저항(R3)의 접속노드에 인가되는 전압이 비교부(620)에 인가되는 기준전압(Vref)으로 사용된다. 상기 각 저항(R1~R4)의 크기를 조절하여 제1 전압(V1)과 제2 전압(V2)의 크기를 조절할 수 있다. 한편, 상기 풀업부(630)에서 공급하는 전압의 크기에 따라 상기 제1 및 제2 전압, 기준전압의 레벨이 상이해진다.The voltage divider 640 includes first to fourth resistors R1, R2, R3, and R4 connected in series between the pull-up unit 630 and a ground terminal. The voltage applied to the connection node of the first resistor R1 and the second resistor R2 is used as the first voltage V1 and the voltage applied to the connection node of the third resistor R3 and the fourth resistor R4. This second voltage V2 is used. Meanwhile, a voltage applied to the connection node of the second resistor R2 and the third resistor R3 is used as the reference voltage Vref applied to the comparator 620. The magnitudes of the first voltage V1 and the second voltage V2 may be adjusted by adjusting the sizes of the resistors R1 to R4. The level of the first and second voltages and the reference voltage are different depending on the magnitude of the voltage supplied from the pull-up unit 630.

이제 온도에 따른 온도전압(Vtemp)의 변화와 제1 전압(V1), 제2 전압(V2)의 크기 변화의 관계를 살펴보기로 한다.Now, the relationship between the change of the temperature voltage Vtemp according to the temperature and the magnitude change of the first voltage V1 and the second voltage V2 will be described.

온도가 높아 상기 온도 전압(Vtemp)이 높은 경우에는 제1 NMOS 트랜지스터(N622)를 통하여 흐르는 전류(I1)가 증가하게 된다. 차동 증폭기의 특성상 상기 출력전압(Vout)이 증가하여, 상기 풀업부(630)에 전달되는 전압이 증가하고, 그에 따라 제1 및 제2 전압, 기준전압(Vref)의 레벨을 증가시키게 된다. 상기 기준전압(Vref)의 레벨이 온도전압과 거의 동일해 질 때까지 피드백 동작에 의하여 상기 제1 및 제2 전압의 레벨이 상승하게 된다. When the temperature is high and the temperature voltage Vtemp is high, the current I1 flowing through the first NMOS transistor N622 increases. Due to the characteristics of the differential amplifier, the output voltage Vout is increased to increase the voltage delivered to the pull-up unit 630, thereby increasing the levels of the first and second voltages and the reference voltage Vref. The level of the first and second voltages is increased by a feedback operation until the level of the reference voltage Vref is approximately equal to the temperature voltage.

반면에 온도가 낮아 상기 온도 전압(Vtemp)이 낮은 경우에는 제1 NMOS 트랜지스터(N622)를 통하여 흐르는 전류(I1)가 감소하게 된다. 차동 증폭기의 특성상 상기 출력전압(Vout)이 감소하여, 상기 풀업부(630)에 전달되는 전압이 감소하고, 그에 따라 제1 및 제2 전압, 기준전압(Vref)의 레벨이 감소된다. 상기 기준전압(Vref)의 레벨이 온도전압과 거의 동일해 질 때까지 피드백 동작에 의하여 상기 제1 및 제2 전압의 레벨이 감소하게 된다. On the other hand, when the temperature is low and the temperature voltage Vtemp is low, the current I1 flowing through the first NMOS transistor N622 is reduced. Due to the characteristics of the differential amplifier, the output voltage Vout is decreased, so that the voltage transmitted to the pull-up unit 630 is reduced, and thus the levels of the first and second voltages and the reference voltage Vref are reduced. The level of the first and second voltages is decreased by a feedback operation until the level of the reference voltage Vref is approximately equal to the temperature voltage.

정리하면, 고온시에 상기 제1 및 제2 전압이 증가하게 되고, 저온시에 상기 제1 및 제2 전압이 감소하게 된다. 예를 들어, 상온시에 제1 전압(V1)이 1.8V, 제2 전압(V2)이 1.35V라 할 때, 고온시에는 제1 전압(V1)이 1.9V, 제2 전압(V2)이 1.45V, 저온시에는 제1 전압(V1)이 1.7V, 제2 전압(V2)이 1.25V가 되도록 한다.In summary, the first and second voltages increase at high temperatures, and the first and second voltages decrease at low temperatures. For example, when the first voltage V1 is 1.8V and the second voltage V2 is 1.35V at room temperature, the first voltage V1 is 1.9V and the second voltage V2 is at high temperature. At a low temperature of 1.45V, the first voltage V1 is set to 1.7V and the second voltage V2 is set to 1.25V.

상기 제1 전압 공급부(650)는 상기 제1 전압(V1)을 출력단에 전달하는 전달게이트(T650)를 포함한다. 상기 전달게이트(T650)는 제1 전압공급신호(TRANS_V1)에 응답하여, 상기 제1 전압(V1)을 출력단에 공급한다.The first voltage supply unit 650 includes a transfer gate T650 for transmitting the first voltage V1 to an output terminal. The transfer gate T650 supplies the first voltage V1 to an output terminal in response to the first voltage supply signal TRANS_V1.

마찬가지로, 상기 제2 전압공급부(660)는 상기 제2 전압(V2)을 출력단에 전달하는 전달게이트(T660)를 포함한다. 상기 전달게이트(T660)는 제2 전압공급신호(TRANS_V2)에 응답하여, 상기 제2 전압(V2)을 출력단에 공급한다.Similarly, the second voltage supply unit 660 includes a transfer gate T660 that transfers the second voltage V2 to an output terminal. The transfer gate T660 supplies the second voltage V2 to the output terminal in response to the second voltage supply signal TRANS_V2.

상기 프로그램시 전압공급부(670)는 전원전압(VDD)을 출력단에 전달하는 PMOS 트랜지스터(P670)를 포함한다. 상기 PMOS 트랜지스터(P670)는 프로그램신호(PGM)에 응답하여 전원전압을 출력단으로 전달한다. 프로그램 동작시에는 상기 비트라인 센싱부(N120)를 완전히 턴온시켜 감지노드에 인가되는 데이터가 각 비트라인으로 잘 전달되도록 한다.The programming voltage supply unit 670 includes a PMOS transistor P670 that transfers a power supply voltage VDD to an output terminal. The PMOS transistor P670 transfers a power supply voltage to an output terminal in response to the program signal PGM. During the program operation, the bit line sensing unit N120 is turned on completely so that data applied to the sensing node is transferred to each bit line well.

상기 소거시 전압공급부(670)는 접지전압을 출력단에 전달하는 NMOS 트랜지스터(N680)를 포함한다. 상기 NMOS 트랜지스터(N680)는 소거신호(ERASE)에 응답하여 접지전압을 출력단으로 전달한다. 소거 동작시에는 비트라인과 감지노드를 차단시키기 위함이다.The voltage supply unit 670 may include an NMOS transistor N680 for transmitting a ground voltage to an output terminal. The NMOS transistor N680 transfers a ground voltage to an output terminal in response to an erase signal ERASE. This is to block the bit line and the sensing node during the erase operation.

도 7은 본원 발명의 또 다른 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부를 도시한 회로도이다.7 is a circuit diagram illustrating a bit line sensing voltage supply unit of a nonvolatile memory device according to still another embodiment of the present invention.

상기 비트라인 센싱전압 공급부(700)는 온도전압 출력부(710), 비교부(720), 풀업부(730), 전압분배부(740), 제1 전압(V1) 공급부(750), 제2 전압(V2) 공급 부(760), 프로그램시 전압공급부(770), 소거시 전압공급부(780)를 포함한다.The bit line sensing voltage supply unit 700 includes a temperature voltage output unit 710, a comparator 720, a pull-up unit 730, a voltage divider 740, a first voltage V1 supply unit 750, and a second unit. The voltage V2 supply unit 760, a programming voltage supply unit 770, and an erasing voltage supply unit 780 are included.

전체적인 구성은 도 6의 비트라인 센싱전압 공급부(680)와 유사하나, 상기 온도전압 출력부(710)와 풀업부(730)의 구성이 상이하다. 이에 설명의 간략을 위해 그 차이점만을 설명해 보기로 한다.The overall configuration is similar to the bit line sensing voltage supply unit 680 of FIG. 6, but the configuration of the temperature voltage output unit 710 and the pull-up unit 730 is different. For the sake of simplicity, only the differences will be explained.

상기 온도 전압 출력부(710)는 제어신호(CON)에 따라 전원 전압을 공급하는 풀업소자(P712), 상기 풀업소자(P712)와 접지단자 사이에 직렬 접속된 저항(RA) 및 다이오드 접속된 NMOS 트랜지스터(N710)를 포함한다. 이때, 상기 저항(RA)과 NMOS 트랜지스터(N710)의 접속노드에 인가되는 전압이 온도전압(Vtemp)으로 사용된다는 점이 도 6의 실시예에 상이하다.The temperature voltage output unit 710 is a pull-up device P712 for supplying a power voltage according to a control signal CON, a resistor RA connected in series between the pull-up device P712 and a ground terminal, and a diode-connected NMOS. The transistor N710 is included. In this case, the voltage applied to the connection node of the resistor RA and the NMOS transistor N710 is used as the temperature voltage Vtemp.

고온일 경우, 즉 온도가 상온보다 증가하면 다이오드 접속된 NMOS 트랜지스터(N710)의 문턱전압(Vth)이 감소하므로, 온도 전압(Vtemp)도 감소한다. When the temperature is high, that is, when the temperature is higher than room temperature, the threshold voltage Vth of the diode-connected NMOS transistor N710 is reduced, so that the temperature voltage Vtemp is also reduced.

저온일 경우, 즉 온도가 상온보다 감소하면 다이오드 접속된 NMOS 트랜지스터(N710)의 문턱전압(Vth)이 증가하므로, 온도 전압(Vtemp)도 증가한다. When the temperature is low, that is, when the temperature is lower than room temperature, the threshold voltage Vth of the diode-connected NMOS transistor N710 increases, so that the temperature voltage Vtemp also increases.

즉, 도 6의 실시예와 비교할 때 온도 변화에 따른 온도 전압(Vtemp)의 변화방향이 상이함을 알 수 있다. That is, compared with the embodiment of FIG. 6, it can be seen that the change direction of the temperature voltage Vtemp according to the temperature change is different.

한편, 상기 풀업부(730)는 상기 비교부(720)의 출력전압에 응답하여 턴온되며 전원 전압 단자와 상기 전압 분배부(740) 사이에 접속된 PMOS 트랜지스터(P730)를 포함한다. 상기 도 6의 실시예와 달리 풀업부에 PMOS 트랜지스터(P730)를 사용함에 따라, 상기 비교부(720)의 출력전압이 낮을수록 풀업부(730)의 공급전압의 레벨이 커지게 된다.On the other hand, the pull-up unit 730 includes a PMOS transistor (P730) is turned on in response to the output voltage of the comparator 720 and connected between a power supply voltage terminal and the voltage divider (740). Unlike the embodiment of FIG. 6, as the PMOS transistor P730 is used in the pull-up unit, as the output voltage of the comparator 720 is lower, the level of the supply voltage of the pull-up unit 730 is increased.

이제 온도에 따른 온도전압(Vtemp)의 변화와 제1 전압(V1), 제2 전압(V2)의 크기 변화의 관계를 살펴보기로 한다.Now, the relationship between the change of the temperature voltage Vtemp according to the temperature and the magnitude change of the first voltage V1 and the second voltage V2 will be described.

온도가 낮아 상기 온도 전압(Vtemp)이 높은 경우에는 제1 NMOS 트랜지스터(N722)를 통하여 흐르는 전류(I1)가 증가하게 된다. 차동 증폭기의 특성상 상기 출력전압(Vout)이 증가하여, 상기 풀업부(730)에 전달되는 전압이 증가하고, 그에 따라 제1 및 제2 전압, 기준전압(Vref)의 레벨을 감소시키게 된다. 상기 기준전압(Vref)의 레벨이 온도전압과 거의 동일해 질 때까지 피드백 동작에 의하여 상기 제1 및 제2 전압의 레벨이 감소하게 된다. When the temperature is low and the temperature voltage Vtemp is high, the current I1 flowing through the first NMOS transistor N722 increases. Due to the characteristics of the differential amplifier, the output voltage Vout is increased, so that the voltage delivered to the pull-up unit 730 is increased, thereby reducing the levels of the first and second voltages and the reference voltage Vref. The level of the first and second voltages is decreased by a feedback operation until the level of the reference voltage Vref is approximately equal to the temperature voltage.

반면에 온도가 높아 상기 온도 전압(Vtemp)이 낮은 경우에는 제1 NMOS 트랜지스터(N722)를 통하여 흐르는 전류(I1)가 감소하게 된다. 차동 증폭기의 특성상 상기 출력전압(Vout)이 감소하여, 상기 풀업부(730)에 전달되는 전압이 감소하고, 그에 따라 제1 및 제2 전압, 기준전압(Vref)의 레벨이 증가한다. 상기 기준전압(Vref)의 레벨이 온도전압과 거의 동일해 질 때까지 피드백 동작에 의하여 상기 제1 및 제2 전압의 레벨이 증가하게 된다. On the other hand, when the temperature is high and the temperature voltage Vtemp is low, the current I1 flowing through the first NMOS transistor N722 is reduced. Due to the characteristics of the differential amplifier, the output voltage Vout decreases, so that the voltage delivered to the pull-up unit 730 decreases, thereby increasing the levels of the first and second voltages and the reference voltage Vref. The level of the first and second voltages is increased by a feedback operation until the level of the reference voltage Vref is approximately equal to the temperature voltage.

상기 온도전압 출력부(710), 풀업부(730)의 구성이 도 6의 실시예와 상이할 뿐, 온도 변화에 따른 제1 및 제2 전압의 변화 방향은 동일하다.The configuration of the temperature voltage output unit 710 and the pull-up unit 730 is different from the embodiment of FIG. 6, and the direction of change of the first and second voltages according to the temperature change is the same.

즉, 고온시에 상기 제1 및 제2 전압이 증가하게 되고, 저온시에 상기 제1 및 제2 전압이 감소하게 된다. That is, the first and second voltages increase at high temperatures, and the first and second voltages decrease at low temperatures.

한편, 본 발명은 비트라인 선택부와 감지노드 사이에 비트라인 센싱부가 별 도로 접속되어 있는 구조뿐만 아니라, 비트라인 선택부가 상기 비트라인 센싱부의 기능을 포함하는 경우까지 적용될 수 있다.Meanwhile, the present invention can be applied not only to the structure in which the bit line sensing unit is separately connected between the bit line selecting unit and the sensing node, but also to the case where the bit line selecting unit includes the function of the bit line sensing unit.

도 8a와 8b는 본원 발명이 적용되는 비트라인 선택부와 비트라인 센싱부의 구성을 도시한 도면이다. 상기 구성의 상세 설명은 당업자에게 공지된 기술에 해당한다.8A and 8B illustrate the configuration of a bit line selecting unit and a bit line sensing unit to which the present invention is applied. Details of the configuration correspond to techniques known to those skilled in the art.

도 8a는 비트라인 선택부(810)와 비트라인 센싱부(820)가 분리된 구조로서, 비트라인 센싱전압(PBSENSE)의 형태로 본원 발명이 적용된다. 도 8b는 비트라인 선택부(830)에 포함된 NMOS 트랜지스터(N834, N836)가 비트라인 센싱부로 동작하게 된다. 이때, 인가되는 비트라인 선택전압(BSLe, BSLo)은 이븐 비트라인 센싱 중인지 오드 비트라인 센싱 중인지에 따라 인가되는 시점이 다를 뿐, 앞서 설명한 비트라인 센싱전압(PBSENSE)과 같은 형태의 전압이 인가된다. 따라서 본원 발명을 도 8b와 같은 구조에도 적용할 수 있다. 8A illustrates a structure in which the bit line selection unit 810 and the bit line sensing unit 820 are separated, and the present invention is applied in the form of a bit line sensing voltage PBSENSE. 8B illustrates that the NMOS transistors N834 and N836 included in the bit line selector 830 operate as bit line sensing units. In this case, the applied bit line selection voltages BSLe and BSLo are different from each other depending on whether they are even bit line sensing or odd bit line sensing, and a voltage having the same shape as the bit line sensing voltage PBSENSE described above is applied. . Therefore, the present invention can be applied to a structure as shown in FIG. 8B.

도 1a는 본원 발명에 적용되는 불휘발성 메모리 장치를 도시한 도면이고, 도 1b는 불휘발성 메모리 장치의 통상적인 독출동작/검증동작의 개념을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 1A is a diagram illustrating a nonvolatile memory device applied to the present invention, and FIG. 1B is a diagram for describing a concept of a conventional read / verify operation of the nonvolatile memory device.

도 2는 통상적인 불휘발성 메모리 장치의 독출동작/검증동작에서 나타나는 온도 변화에 따른 문제점을 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a problem caused by temperature change in a read / verify operation of a conventional nonvolatile memory device.

도 3은 온도 변화에 따른 셀 커런트의 변화를 도시한 그래프이다.3 is a graph illustrating a change in cell current according to temperature change.

도 4는 비트라인 센싱부의 특정 전압 인가시에 나타나는 비트라인 전류값의 온도에 따른 변화를 도시한 그래프이다.4 is a graph illustrating a change in temperature of a bit line current value appearing when a specific voltage is applied to the bit line sensing unit.

도 5는 비트라인 전류값의 온도에 따른 변화를 최소화하기 위해 본원 발명에서 사용하고자 하는 특성을 도시한 그래프이다.5 is a graph showing characteristics to be used in the present invention in order to minimize the change in temperature of the bit line current value.

도 6은 본원 발명의 일 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부를 도시한 회로도이다.6 is a circuit diagram illustrating a bit line sensing voltage supply unit of a nonvolatile memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 본원 발명의 또 다른 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부를 도시한 회로도이다.7 is a circuit diagram illustrating a bit line sensing voltage supply unit of a nonvolatile memory device according to still another embodiment of the present invention.

도 8a와 8b는 본원 발명이 적용되는 비트라인 선택부와 비트라인 센싱부의 구성을 도시한 도면이다.8A and 8B illustrate the configuration of a bit line selecting unit and a bit line sensing unit to which the present invention is applied.

<도면의 주요 부분에 대한 설명>Description of the main parts of the drawing

610, 710: 온도 전압 출력부 620, 720: 비교부610, 710: temperature voltage output unit 620, 720: comparison unit

630, 730: 전원 전압 공급부 640, 740: 전압분배부630, 730: power supply voltage supply unit 640, 740: voltage distribution

650, 750: 제1 전압 공급부 660, 760: 제2 전압 공급부650, 750: first voltage supply 660, 760: second voltage supply

670, 770: 프로그램시 전압 공급부 680, 780: 소거시 전압 공급부670, 770: voltage supply part in programming 680, 780: voltage supply part in erasing

Claims (21)

외부 온도의 크기에 비례하여 증가하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와,A temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage increasing in proportion to the magnitude of the external temperature; 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와,A comparison unit comparing the magnitudes of the temperature voltages and the reference voltages; 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 증가하는 고전압을 공급하는 풀업부와,A pull-up unit for supplying a high voltage which is increased in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparison unit; 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And a voltage divider for distributing the high voltage to supply a first voltage and a second voltage to an output terminal of the bit line sensing voltage supply unit of the nonvolatile memory device. 제1항에 있어서, 상기 온도 전압 출력부는 제어신호에 따라 전원 전압을 공급하는 풀업소자와, According to claim 1, wherein the temperature voltage output unit and a pull-up element for supplying a power supply voltage in accordance with a control signal; 상기 풀업소자와 접지단자 사이에 직렬 접속된 제1 저항 및 다이오드 접속된 제1 NMOS 트랜지스터와, A first resistor and a diode-connected first NMOS transistor connected in series between the pull-up element and the ground terminal; 상기 풀업소자와 접지단자 사이에 직렬 접속된 제2 저항 및 제2 NMOS 트랜지스터를 포함하되,A second resistor and a second NMOS transistor connected in series between the pull-up element and the ground terminal, 제2 NMOS 트랜지스터의 게이트는 상기 제1 저항 및 제1 NMOS 트랜지스터의 접속노드에 접속되는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And a gate of a second NMOS transistor is connected to a connection node of the first resistor and the first NMOS transistor. 제2항에 있어서, 상기 제2 저항 및 제2 NMOS 트랜지스터의 접속노드에서 출력되는 온도전압은 온도 증가에 따라 증가하고, 온도 감소에 따라 감소하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.The bit line sensing voltage of the nonvolatile memory device of claim 2, wherein the temperature voltage output from the connection node of the second resistor and the second NMOS transistor increases with increasing temperature and decreases with decreasing temperature. Supply department. 제1항에 있어서, 상기 비교부는 상기 온도전압이 기준전압보다 큰 경우 하이레벨의 출력전압을 출력하고,The method of claim 1, wherein the comparison unit outputs a high level output voltage when the temperature voltage is greater than the reference voltage, 상기 온도전압이 기준전압보다 작은 경우 로우 레벨의 출력전압을 출력하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And outputting a low level output voltage when the temperature voltage is less than a reference voltage. 제1항에 있어서, 상기 풀업부는 상기 비교부의 출력전압에 응답하여 턴온되고, 전원전압단자와 상기 전압분배부 사이에 접속된 NMOS 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.The bit line sensing voltage of the nonvolatile memory device of claim 1, wherein the pull-up part comprises an NMOS transistor that is turned on in response to an output voltage of the comparator and is connected between a power supply voltage terminal and the voltage divider. Supply department. 제1항에 있어서, 상기 풀업부는 상기 비교부의 출력전압의 증가에 따라 제1 레벨의 고전압을 상기 전압분배부에 공급하고,The method of claim 1, wherein the pull-up unit supplies a high voltage of the first level to the voltage distribution unit as the output voltage of the comparison unit increases, 상기 비교부의 출력전압의 감소에 따라 상기 제1 레벨보다 낮은 제2 레벨의 고전압을 상기 전압분배부에 공급하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And supplying a high voltage having a second level lower than the first level to the voltage divider as the output voltage of the comparator decreases. 제1항에 있어서, 상기 제1 전압 및 제2 전압은 온도 증가에 비례하여 증가하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부. The bit line sensing voltage supply unit of claim 1, wherein the first voltage and the second voltage increase in proportion to an increase in temperature. 외부 온도의 크기에 비례하여 감소하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와,A temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage that decreases in proportion to the magnitude of the external temperature; 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와,A comparison unit comparing the magnitudes of the temperature voltages and the reference voltages; 상기 비교부의 출력전압의 크기에 따라 상이한 레벨의 전원전압을 공급하는 풀업부와,A pull-up unit for supplying power voltages having different levels according to the magnitude of the output voltage of the comparison unit; 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 감소하는 고전압을 공급하는 풀업부와,A pull-up unit for supplying a high voltage which decreases in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparison unit; 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And a voltage divider for distributing the high voltage to supply a first voltage and a second voltage to an output terminal of the bit line sensing voltage supply unit of the nonvolatile memory device. 제8항에 있어서, 상기 온도 전압 출력부는 제어신호에 따라 전원 전압을 공급하는 풀업소자와, The apparatus of claim 8, wherein the temperature voltage output unit comprises: a pull-up element configured to supply a power voltage according to a control signal; 상기 풀업소자와 접지단자 사이에 직렬 접속된 저항 및 다이오드 접속된 NMOS 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And a resistor connected in series between the pull-up element and the ground terminal, and a diode-connected NMOS transistor. 제9항에 있어서, 상기 저항 및 NMOS 트랜지스터의 접속노드에서 출력되는 온도전압은 온도 증가에 따라 감소하고, 온도 감소에 따라 증가하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.The bit line sensing voltage supply unit of claim 9, wherein the temperature voltage output from the connection node of the resistor and the NMOS transistor decreases with increasing temperature and increases with decreasing temperature. 제8항에 있어서, 상기 비교부는 상기 온도전압이 기준전압보다 큰 경우 하이레벨의 출력전압을 출력하고,The method of claim 8, wherein the comparison unit outputs a high level output voltage when the temperature voltage is greater than the reference voltage, 상기 온도전압이 기준전압보다 작은 경우 로우 레벨의 출력전압을 출력하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And outputting a low level output voltage when the temperature voltage is less than a reference voltage. 제8항에 있어서, 상기 풀업부는 상기 비교부의 출력전압에 응답하여 턴온되고, 전원전압단자와 상기 전압분배부 사이에 접속된 PMOS 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.The bit line sensing voltage of the nonvolatile memory device of claim 8, wherein the pull-up part comprises a PMOS transistor that is turned on in response to an output voltage of the comparator and is connected between a power supply voltage terminal and the voltage divider. Supply department. 제8항에 있어서, 상기 풀업부는 상기 비교부의 출력전압의 증가에 따라 제1 레벨의 고전압을 상기 전압분배부에 공급하고,The method of claim 8, wherein the pull-up unit supplies a high voltage of the first level to the voltage distribution unit in accordance with the increase in the output voltage of the comparison unit, 상기 비교부의 출력전압의 감소에 따라 상기 제1 레벨보다 높은 제2 레벨의 고전압을 상기 전압분배부에 공급하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And supplying a high voltage having a second level higher than the first level to the voltage divider as the output voltage of the comparator decreases. 제8항에 있어서, 상기 제1 전압 및 제2 전압은 온도 증가에 비례하여 증가하 는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부. The bit line sensing voltage supply unit of claim 8, wherein the first voltage and the second voltage increase in proportion to an increase in temperature. 제1항 또는 제8항에 있어서, 프로그램 신호에 응답하여 전원전압을 상기 출력단으로 공급하는 프로그램시 전압 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.The bit line sensing voltage supply unit of claim 1 or 8, further comprising a programming voltage supply unit configured to supply a power supply voltage to the output terminal in response to a program signal. 제1항 또는 제8항에 있어서, 소거 신호에 응답하여 접지전압을 상기 출력단으로 공급하는 소거시 전압 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.The bit line sensing voltage supply unit of claim 1, further comprising an erase voltage supply unit supplying a ground voltage to the output terminal in response to an erase signal. 제1항 또는 제8항에 있어서, 제1 전압공급신호에 응답하여 상기 제1 전압을 상기 출력단으로 공급하는 제1 전압 공급부와,The apparatus of claim 1 or 8, further comprising: a first voltage supply unit configured to supply the first voltage to the output terminal in response to a first voltage supply signal; 제2 전압공급신호에 응답하여 상기 제2 전압을 상기 출력단으로 공급하는 제2 전압 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱 전압 공급부.And a second voltage supply unit configured to supply the second voltage to the output terminal in response to a second voltage supply signal. 비트라인 센싱신호에 따라 감지노드와 비트라인을 선택적으로 접속시키는 비트라인 센싱부와,A bit line sensing unit for selectively connecting the sensing node and the bit line according to the bit line sensing signal; 온도변화에 비례하여 상기 비트라인 센싱신호의 전압레벨을 변화시키는 비트라인 센싱 전압 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.And a bit line sensing voltage supply unit configured to change a voltage level of the bit line sensing signal in proportion to a temperature change. 제18항에 있어서, 상기 비트라인 센싱 전압 공급부는 온도 증가에 비례하여 상기 비트라인 센싱신호의 전압을 증가시키는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.19. The nonvolatile memory device of claim 18, wherein the bit line sensing voltage supply unit increases the voltage of the bit line sensing signal in proportion to an increase in temperature. 제18항에 있어서, 상기 비트라인 센싱 전압 공급부는 외부 온도의 크기에 비례하여 증가하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와,19. The method of claim 18, wherein the bit line sensing voltage supply unit is a temperature voltage output unit for supplying a temperature voltage that increases in proportion to the magnitude of the external temperature; 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와,A comparison unit comparing the magnitudes of the temperature voltages and the reference voltages; 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 증가하는 고전압을 공급하는 풀업부와,A pull-up unit for supplying a high voltage which is increased in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparison unit; 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.And a voltage divider configured to distribute the high voltage to supply a first voltage and a second voltage to an output terminal. 제18항에 있어서, 상기 비트라인 센싱 전압 공급부는 외부 온도의 크기에 비례하여 감소하는 온도전압을 공급하는 온도전압 출력부와,19. The apparatus of claim 18, wherein the bit line sensing voltage supply part comprises a temperature voltage output part supplying a temperature voltage which decreases in proportion to the magnitude of an external temperature; 상기 온도 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와,A comparison unit comparing the magnitudes of the temperature voltages and the reference voltages; 상기 비교부의 출력전압의 크기에 따라 상이한 레벨의 전원전압을 공급하는 풀업부와,A pull-up unit for supplying power voltages having different levels according to the magnitude of the output voltage of the comparison unit; 상기 비교부의 출력전압의 크기에 비례하여 감소하는 고전압을 공급하는 풀업부와,A pull-up unit for supplying a high voltage which decreases in proportion to the magnitude of the output voltage of the comparison unit; 상기 고전압을 분배하여 제1 전압 및 제2 전압을 출력단으로 공급하는 전압 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.And a voltage divider configured to distribute the high voltage to supply a first voltage and a second voltage to an output terminal.
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