KR100942351B1 - 노광 장치 - Google Patents

Abstract

기판의 세로방향과 가로방향에 대해서, 평행 평판의 두께·곡률·간격의 어느 것도 변화시키지 않고, 임의의 배율로 종횡 변배(變倍)를 할 수 있도록 하는 것이다.

광 조사부(1)로부터의 광이, 마스크(2), 투영 배율 변경 기구(10), 투영 렌즈(3)를 통해서 워크 스테이지(4)에 올려 놓여진 기판 등의 워크(5) 상에 조사되고, 마스크의 패턴상이 워크(5) 상에 투영되어 노광된다. 투영 배율 변경 기구(10)는, 2차 곡면 형상 혹은 원통면 형상으로 휘어진 같은 두께로 같은 곡률을 갖는 2장의 평행 평판(10a, 10b)과, 평행 평판(10a, 10b)을 광축을 회전축으로 하여 좌우 역방향으로 같은 각도만큼 회전시키는 θ스테이지(11a, 11b), θ스테이지 구동 기구(12)로 구성된다. 2장의 평행 평판(10a, 10b)을 상기와 같이 회전시킴으로써, 평행 평판의 두께·곡률·간격의 어느 것도 변화시키지 않고, 기판의 세로방향과 가로방향에 대해서 임의의 배율로 종횡 변배를 할 수 있다.

Description

노광 장치{EXPOSURE APPARATUS}

도 1은 본 발명의 실시예의 노광 장치의 구성을 도시하는 도면,

도 2는 투영 배율 변경 기구의 구성예를 도시하는 도면,

도 3은 투영 배율 변경 기구의 다른 구성예를 도시하는 도면,

도 4는 평행 평판의 배치예를 설명하는 도면,

도 5는 2장의 평행 평판을 도 4(a)와 같이 배치한 경우에 있어서의 동작의 개요를 설명하는 도면,

도 6은 2장의 평행 평판을 도 4(a)와 같이 배치한 경우에 있어서의 투영상의 변화를 도시하는 도면,

도 7은 투영상이 마름모꼴이 되는 경우를 설명하는 도면,

도 8은 2장의 평행 평판을 도 4(c)와 같이 배치한 경우에 있어서의 동작의 개요를 설명하는 도면,

도 9는 2장의 평행 평판을 도 4(c)와 같이 배치한 경우에 있어서의 투영상의 변화를 도시하는 도면,

도 10은 종래예의 문헌에 기재되는 평행 평판의 배치를 설명하는 도면,

도 11은 도 10에 도시한 평행 평판을 이용한 경우에 있어서의 투영상의 변화를 설명하는 도면이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 광 조사부 1a : 광원

1b : 집광경 2 : 마스크

3 : 투영 렌즈 4 : 워크 스테이지

5 : 워크 10 : 투영 배율 변경 기구

10a, 10b : 평행 평판 11a, 11b : θ스테이지

12 : θ스테이지 구동 기구 13 : 휨 기구

14 : 감압실 20 : 제어부

본 발명은, 프린트 기판이나 액정 기판 등의 기판의 제조에 이용되는 노광 장치에 관한 것이다. 특히, 기판에 투영되는 패턴상을, 기판의 종횡 방향의 신축 길이의 차이에 맞추어, 종횡 방향의 배율을 변화시켜 투영하는 노광 장치에 관한 것이다.

포토레지스트 등의 감광 재료를 도포한 기판 표면에, 소정의 패턴을 노광 장치에 의해 노광하여, 그 후 에칭 공정에 의해 기판 상에 패턴을 형성하는 포토리소그래피법이 여러 가지의 분야에서 널리 응용되고 있고, 프린트 배선 기판, TAB(Tape Automated Bonding) 테이프나 액정 기판 등도 노광 장치를 이용하여 제조되고 있다.

프린트 배선 기판(프린트 기판)이나 TAB 테이프는, 전자 기기의 고속화, 다기능화, 소형화와 함께, 다층화, 고밀도, 미세화되어 오고 있다. 그 때문에, 패턴 노광의 위치 맞춤의 정밀도에 대단히 높은 정밀도의 것이 요구되어 오고 있다.

예를 들면, 다층화란, 기판 상에 형성된 패턴 위에 다른 패턴을 포개어 형성하는 것을 말한다. 이와 같이 패턴을 포개어 형성하는 경우, 「상」「하」패턴 사이에서는, 소정의 위치에서 도통 또는 절연의 관계를 유지할 수 있도록,「하」의 패턴에 대해서,「상」의 패턴을 소정의 위치 관계가 되도록 서로 포개지 않으면 안된다.

그러나, 프린트 기판은, 구성하는 동박과 에폭시 수지의 팽창차에 의해 신축이 생긴다. 특히 동박의 에칭 후에 기판에 생기는 응력은, 종횡 방향에서 다른 것이 일반적이어서, 신축 길이는 종횡 방향에서 동일하게 되지 않는다.

TAB 테이프에 대해서도 동일하게 동박과 폴리이미드 수지의 팽창차에 의한 신축이 생기지만, 또한, 텐션이 가해짐으로써 테이프가 늘어나 종횡비가 변화하는 경우도 있다.

또한, 이하에서는 상기 프린트 기판, TAB 테이프 등과 같이, 종횡 방향의 신축비가 다른 피조사체를 기판(또는 워크)이라고 부른다.

예를 들면 다층화 기판에 있어서, 기판이 신축하면, 그 위에 형성되어 있는「하」패턴도 그것에 따라서 신축한다. 그렇게 되면, 그 위에 패턴을 형성하기 위해서 「상」의 패턴을 투영해도, (「하」패턴이 기판의 신축에 의해 늘어나거나 줄어들거나 하고 있기 때문에) 정밀도 높게 서로 포갤 수 없다.

이와 같은 경우, 투영 렌즈를 갖는 투영 노광 장치를 이용하면, 투영 렌즈의 줌 기구를 이용함으로써, 기판에 투영되는 「상」의 패턴상의 배율을 변경(보정)할 수 있기 때문에, 「하」패턴의 신축에 따라서 적절한 크기로 조정할 수 있다.

그러나, 투영 렌즈의 줌 기구는 전체 방향에 대해서 동률의 배율 보정이다. 상기한 바와 같이, 기판이 예를 들면 프린트 기판이고, 세로방향과 가로방향에서는 신장이 다른 경우, 전체 방향에 대해서 동률의 배율 보정을 행한 것에서는, 종횡에서 신장이 다른「하」의 패턴과, 서로 포개는 것과 같은 투영상은 얻어지지 않는다.

그 때문에, 세로방향과 가로방향에 팽창차가 있고, 신축 길이가 종횡 방향에서 같게는 되지 않는 기판이나 TAB 테이프에 대해서 노광을 행하기 위해서, 기판의 세로방향과 가로방향으로 투영상의 배율을 다르게 할(이하 종횡 변배(變倍), 또는 독립 변배라고 한다) 수 있는 노광 장치가 요구되어 왔다.

상기 문제를 해결하기 위해서, 예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 것이 제안되어 있다.

특허문헌 1에 기재된 종횡 변배의 방법은, 마스크와 기판의 사이에, 2장의 휘어진 평행 평면판(양면이 평행한 투명한 평면판, 이하 평행 평판이라고 한다) 또는 실린드리컬(cylindrical) 렌즈를 삽입하여, 기판의 세로방향 혹은 가로방향으로 확대 또는 축소를 가능하게 하고, 또, 상기 평행 평판, 실린드리컬 렌즈를 회전시킴으로써, 세로방향 혹은 가로방향에서 θ 회전시킨 방향으로 확대 또는 축소를 가능하게 한 것이다.

상기 특허문헌 1의 실시예의 설명은 충분하지 않고, 구체적으로 어떻게 하여 종횡 변배를 행하고 있는지 반드시 명확하지는 않지만, 특허문헌 1에는 요컨대 이하와 같이 기재되어 있다.

『배율 보정 장치를 도 10에 도시하는 바와 같이 2차 곡선 형상으로 휘어지게 한 한 쌍의 평행 평판(10, 10')으로 구성한다. 그리고, 이 2장의 평행 평판(10, 10')을 포토마스크와 투영 렌즈의 사이의 광로 중에 설치하고, 평행 평판의 모선을 원하는 확대, 축소 방향에 맞추어 설치한다.

이 구성에 의해, 포토마스크를 투과해 온 평행 광선속은, 평행 평판에 입사 후에 한 방향으로만 확대, 축소되고 사출되어, 투영 배율을 변화시킨다. 평행 평판의 모선을 기판의 세로 또는 가로에 맞춤으로써, 기판의 세로 혹은 가로방향으로 확대 축소가 가능해진다. 또, 회동 장치에 의해, 배율 보정 장치를 회전시킴으로써, 세로 혹은 가로방향에서 회전시킨 방향으로 확대 축소가 가능하다.

또, 평행 평판 대신에, 실린드리컬 렌즈를 2장 조합하여, 이 모선을 기판의 종횡 방향에 맞추면, 동일하게 기판의 세로, 가로방향으로 확대 또는 축소를 행할 수 있다.』

또한, 특허문헌 1에서는, 상기 평행 평판을 휘어지게 했을 때에 생기는 골짜기 부분을 따른 직선을, 평행 평판의 모선이라고 부르고 있다. 이하, 본 명세서에서는, 이 모선에 상당하는 골짜기(또는 산)의 부분을 따른 직선을 평행 평판의 능선이라고 부른다.

한편, 렌즈의 가공 오차 등에 의해, 어느 방향으로 비뚤어져 투영되고 있는 상을, 비뚤어짐을 고쳐서 바르게 투영시키는 방법이 종래로부터 여러 가지 제안되어 있다.

예를 들면, 특허문헌 2에는, 1장의 평행 평판을 휘어지게 하고, 또 회전시킴으로써, 종횡 배율 및 직사각형의 레티클상이 평행사변 형상으로 비뚤어지는 스큐(skew)를 보정하는 투영 노광 방법 및 장치가 기재되어 있다.

또, 특허문헌 3에는, 2장의 실린드리컬 렌즈를 회전시킴으로써, 투영 광학계 내에 잔존하는 광축에 대해서 회전 비대칭인 광학 특성을 보정 가능하게 한 투영 노광 장치가 기재되어 있다.

또한, 특허문헌 4에는, 2장의 평행 평판의 휘어짐량을 변화시킴으로써, 배율 보정을 하도록 한 노광 장치가 기재되어 있다.

또한, 특허문헌 1에 기재되는 것과, 특허문헌 2∼4에 기재되는 것은 표리 일체의 기술이고, 특허문헌 1에 기재되는 것은, 소정의 방향의 배율을 변경하여 상을 비뚤어지게 하는 것이며, 특허문헌 2∼4에 기재되는 것은, 소정의 방향의 배율을 변경하여 상을 정확하게 되돌리는 것이다.

(특허문헌 1) 일본국 특개 2003-223003호 공보

(특허문헌 2) 일본국 특개평 11-3856호 공보

(특허문헌 3) 일본국 특허 제3341269호 공보

(특허문헌 4) 일본국 특개평 10-303115호 공보

특허문헌 1에 기재된 것은, 상기 도 10에 도시한 평행 평판(10, 10')을 이용 하는 것으로, 평행 평판(10, 10')의 두께, 곡률이 일치하고 있으면, 도 10과 같이 평행 평판(10, 10')의 능선(모선)이 직교하도록 배치하였을 때, 종횡 양 방향으로 같은 배율로 확대(또는 축소)되게 되고, 도 11(a)에 도시하는 바와 같이 변배하지 않는다.

따라서, 도 10에 도시하는 바와 같이 평행 평판을 배치하여, 종횡 방향의 배율을 변화시키고 싶은 경우에는, 평행 평판의 두께 또는 곡률의 적어도 한 쪽을 다르게 할 필요가 있다고 생각된다.

이와 같이 평행 평판의 두께 또는 배율을 다르게 하고, 상기 능선의 방향이 기판의 종횡 방향에 일치하도록 하면, 도 11(b)에 도시하는 바와 같이 세로와 가로의 배율이 다른 상이 투영된다.

특허문헌 1에는, 상기한 바와 같이 『회동 장치에 의해, 배율 보정 장치를 회전시킴으로써, 세로 혹은 가로방향에서 회전시킨 방향으로 확대 축소가 가능하다.』고 기재되어 있다. 특허문헌 1의 기재에서는, 평행 평판을 어떻게 회전시키는지가 명확하지 않지만, 예를 들면, 도 10에 도시하는 바와 같이 2장의 평행 평판을 능선이 직교한 관계를 유지한 상태에서, 2장을 함께(2장을 1조로 하여) 회전시키면, 투영상은, 평행 평판을 θ 회전시킨 방향으로 확대 또는 축소된다. 예를 들면 2장의 평행 평판을 1조로 하여 90°회전시키면, 도 11(c)에 도시하는 바와 같이 종횡의 배율이 반대로 된다.

또, 예를 들면 평행 평판(10, 10') 중의 한 쪽의 평행 평판만을 90°회전시켜, 2장의 평행 평판의 능선의 방향을 일치시키면, 능선에 직교한 방향으로 투영상 은 확대된다.

특허문헌 1에 기재되는 것에 있어서, 상기한 바와 같이 2장의 평행 평판을 함께 회전시킨 경우, 확대 축소하는 방향은 바뀌지만 배율은 변화하지 않는다. 예를 들면, 상기 도 11(b)에 도시하는 바와 같이 세로방향으로 2배의 변배를 가한 상태에서, 도 11(c)와 같이 90°회전시키면, 변배 방향은 가로방향이 되지만, 배율은 2배 그대로이다.

이 때문에, 예를 들면 세로방향으로 2배의 변배를 1.5배의 변배로 바꾸려고 해도, 상기한 2장의 평행 평판을 함께 회전하는 것만으로는 배율은 변화하지 않는다. 또, 한 쪽의 평행 평판만을 90°회전시킨 경우에는, 배율은 더욱 커지지만, 평행 평판의 두께, 곡률에 의해 정해진 배율로 변배될 뿐이고, 배율을 원하는 값으로 할 수는 없다.

또한, 평행 평판(10, 10')을 그 능선이 기판의 세로, 가로방향으로 평행하게 하지 않고, 예를 들면 2장의 평행 평판을 함께 45°로 회전시키면, 도 11(d)에 도시하는 바와 같이, 투영상이 마름모꼴 형상으로 되어 버린다.

특허문헌 1에 기재된 것에 있어서, 배율을 원하는 값이 되도록 변화시키기 위해서는 (i)「평행 평판의 두께를 변화시키거나」(ⅱ)「평행 평판의 곡률을 변화시키거나」(iii)「2장의 평행 평판의 간격을 변화시키는」것을 생각할 수 있다.

그러나, 이들에는 다음과 같은 문제가 있다.

(i)「평행 평판의 두께를 변화시키는」것은, 다른 두께의 평행 평판을 기판의 종횡의 팽창차에 맞추어 다수 준비할 필요가 있고, 또 교환 작업이 수반되기 때 문에, 실제적이지 않다.

(ii)「평행 평판의 곡률을 변화시키는」것은, 도면에 도시하지 않은 평행 평판 유지 기구에 곡률을 변화시키는 기구가 필요해져, 장치 구성이 복잡해진다. 또, 평행 평판의 휨량을 항상 변화시키게 되어, 장기간 사용하고 있으면 파손되는 경우가 있다.

(iii)「2장의 평행 평판의 간격을 변화시키는」것도, 평행 평판 유지 기구를 광축 방향으로 이동하는 기구가 필요해져, 장치 구성이 복잡해지는 동시에, 실제로 평행 평판이 삽입되는 마스크와 투영 렌즈의 사이, 투영 렌즈와 기판 사이에는, 휘어진 평행 평판을 광축 방향으로 이동시킬수록 넓은 스테이스를 취할 수 없는 경우가 있어, 실제적이 아니다.

또, 상기 특허문헌 2, 4에 기재된 것은, 임의의 방향의 배율을 변화시킬 수 있지만, 평행 평판의 휘어짐량을 변화시키는 것으로, 상기 (ii)에서 서술한 바와 같이 장기간 사용하고 있으면, 평행 평판이 파손되는 경우가 있다.

또, 특허문헌 3에 기재된 것은, 2장의 실린드리컬 렌즈를 회전시킴으로써, 회전 비대칭인 광학 특성을 보정 가능하게 한 것이다. 그러나, 실린드리컬 렌즈는, 광학적인 파워를 갖고 있고, 광학계의 설계는 실린드리컬 렌즈를 포함시켜 행하지 않으면 안된다. 그 때문에, 광학 설계의 자유도가 내려가고, 또, 배율을 변화시킬 필요가 없는 것과 같은 경우에도, 실린드리컬 렌즈를 퇴피시키면 초점 위치나 수차 등의 광학 성능이 변화해 버리기 때문에 노광을 행할 수 없다. 상기 특허문헌 1에 기재된 것에 있어서도, 실린드리컬 렌즈를 이용하면 동일한 문제가 생긴 다.

이상과 같이, 실린드리컬 렌즈를 이용하면, 광학계의 설계의 자유도가 내려가는 등의 문제가 있다. 한편, 평행 평판은 광학적 파워를 갖고 있지 않기 때문에, 평행 평판을 이용하면, 광학계의 설계의 자유도는 크다. 그러나, 종래의 평행 평판을 이용하는 것에서는, 간단히 종횡 방향의 확대 축소 배율을 변화시키는 것이 어렵고, 또, 평행 평판의 휘어짐량을 변화시켜 확대 축소 배율을 변화시키는 경우에는, 장기간 사용하고 있으면 평행 평판이 파손된다는 문제가 있었다.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은, 마스크에 형성된 패턴을 워크에 투영하여 노광하는 노광 장치에 있어서, 평행 평판의 두께·곡률·간격의 어느 것도 변화시키지 않고, 워크(기판) 또는 패턴의 세로방향과 가로방향에 대해서 임의의 배율로 변배를 할 수 있도록 하는 것이다.

본 출원인이 여러 가지 검토한 결과, 상기한 바와 같이 2장의 평행 평판을 이용하여 투영 배율의 변경을 행할 때에, 2장의 평행 평판을, 투영 렌즈의 광축을 회전축으로 하여 이 광축을 중심으로 좌우 역방향으로 같은 각도만큼 회전시키면, 종횡 방향의 확대 축소 배율(이하 변배율이라고도 한다)을 연속적으로 변화시킬 수 있는 것을 발견하였다.

즉, 본 발명에서는, 마스크와 워크 스테이지의 사이에 삽입되어, 제1 방향에 대해서 곡률을 갖지 않고, 이 제1 방향에 직교하는 제2 방향에 대해서 곡률을 가지며, 이 제2 방향으로 투영상을 확대 또는 축소하는 투명한 같은 두께로 같은 곡률 을 갖는 2장의 평행 평판을 이용하여, 이 2장의 평행 평판을, 평행 평판 회전 기구에 의해, 투영 렌즈의 광축을 회전축으로 하여 상기 광축을 중심으로 좌우 역방향으로 같은 각도만큼 회전시킨다.

여기에서, 마스크 패턴이 직사각형 형상이고, 이 직사각형 형상의 패턴을 상기 2장의 평행 평판에 의해 종횡의 확대 축소 배율을 변화시켜 기판 상에 투영시키는 경우, 기판에 투영되는 투영상이 항상 직사각형 형상이도록 하기 위해서는, 2장의 평행 평판을 이하와 같이 회전시킨다. 또한, 평행 평판의 골짜기(또는 산)의 부분을 따른 직선을 상기한 바와 같이 능선이라고 부른다.

(a) 2장의 평행 평판이 모두 아래로 볼록 또는 위로 볼록하게 되도록 배치되어 있는 경우.

상기 패턴(또는 기판)의 세로 또는 가로방향의 변에 평행한 직선에 대해서, 2장의 평행 평판의 능선이 항상 선대칭이 되도록 2장의 평행 평판을 좌우 역방향으로 회전시킨다.

(b) 2장의 평행 평판의 한 쪽이 아래로 볼록 다른 쪽이 위로 볼록하게 되도록 배치되어 있는 경우.

상기 패턴(또는 기판)의 세로 또는 가로방향의 변에 대해서 45°기운 직선에 대해서, 2장의 평행 평판의 능선이 항상 선대칭이 되도록 2장의 평행 평판을 좌우 역방향으로 회전시킨다.

이와 같이 평행 평판을 회전시키면, 패턴의 변배의 방향은 패턴(또는 기판)의 종횡 방향이 되어, 상기 직사각형 형상의 패턴이 상기 도 11(d)에 도시한 바와 같은 마름모꼴이 되지 않고, 원하는 변배율로 기판 상에 투영된다.

상기한 바와 같이 하면, 확대/축소(이하 변배라고도 한다)의 방향은 종횡에 한정되어, 임의의 방향으로 변화시킬 수는 없지만, 기판의 한결같지 않은 신축의 문제는, 주로 기판의 종횡 방향에 발생하기 때문에, 종횡 방향의 배율을 변화시킬 수 있으면, 충분히 대응할 수 있다.

또한, 투영되는 패턴 형상이 마름모꼴, 원, 타원 등의 선대칭의 형상이면, 이 패턴을 선대칭으로 분할하는 선에 평행한 직선(평행 평판이 2장 모두 위로 볼록 또는 아래로 볼록한 경우) 또는, 이 선에 대해서 45°기운 직선(평행 평판의 한 쪽이 위로 볼록, 다른 쪽이 아래로 볼록한 경우)에 대해서, 2장의 평행 평판의 능선이 항상 선대칭이 되도록 평행 평판을 좌우 역방향으로 회전시키면, 상기 패턴의 투영상은 선대칭의 선에 평행 또는 직교하는 방향으로 확대, 축소된다.

도 1은 본 발명의 실시예의 노광 장치의 구성을 도시하는 도면이다.

광 조사부(1)는, 노광광을 포함하는 광을 방사하는 램프 등의 광원(1a)과, 광원(1a)으로부터의 광을 반사하는 집광경(1b)을 갖고, 패턴이 형성된 마스크(2)에 대해서 광을 조사한다.

마스크(2)에 형성된 패턴상은, 투영 렌즈(3)를 통해서 워크 스테이지(4)에 올려 놓여진, 프린트 기판 등의 워크(5) 상에 투영되어, 패턴상이 노광된다.

본 실시예의 투영 배율 변경 기구(10)는, 2장의 평행 평판(10a, 10b)과, 이 2장의 평행 평판(10a, 10b)을 휘어지게 하는 평행 평판 휨 기구(후술한다)와, 평행 평판(10a, 10b)을 광축을 회전축으로 하여 대칭으로(좌우 역방향으로 같은 각도만 큼) 회전시키는 평행 평판의 회전 기구로 구성된다.

2장의 평행 평판(10a, 10b)은, 양면이 평행한 같은 두께의, 예를 들면 석영 유리 등의 투명한 자외선 투과 부재로 구성되어, 후술하는 휨 기구에 의해 대략 2차 곡면 형상 혹은 원통면 형상으로 휘어져 있다.

도 1에서는, 상기 평행 평판의 회전 기구는, 평행 평판(10a, 10b)을 광축을 회전 중심으로하여 회전시키는 θ스테이지(11a, 11b)와 θ스테이지 구동 기구(12)로 구성되고, θ스테이지 구동 기구(12)는, 제어부(20)에서 부여되는 배율 신호에 따라서, 상기 θ스테이지(11a, 11b)에 의해 2장의 평행 평판(10a, 10b) 중 한 쪽을 오른쪽 방향으로 회전시키고, 다른 쪽을 왼쪽 방향으로 회전시킨다.

또한, 도 1에서는, 마스크(2)와 투영 렌즈(3)의 사이에 투영 배율 변경 기구(10)가 설치되어 있지만, 투영 렌즈(3)와 워크(5)(또는 워크 스테이지(4))의 사이에 설치해도 되고, 또, 2장의 평행 평판(10a, 10b) 중, 1장은 마스크(2)와 투영 렌즈(3)의 사이에, 또 1장은 투영 렌즈(3)와 워크(5)(또는 워크 스테이지(4))의 사이에 설치해도 된다.

도 2에 투영 배율 변경 기구(10)의 구성예를 도시한다. 도 2(a)는 광축에 평행한 평면으로 자른 단면도를 도시하고, 도 2(b)는 도 2(a)의 A-A 방향에서 본 상면도를 도시한다.

또한, 도 2는 상기 2장의 평행 평판 중의 한 쪽의 평행 평판에 대한 구성을 도시하고 있지만, 평행 평판이 2장 설치되는 경우에는, 같은 구성의 기구가 또 한 세트 설치된다.

동일 도면에 도시하는 바와 같이, θ스테이지(11a)(11b)에는 개구(11c)가 설치되고, 개구(11c)의 양측에, 휨 기구(13)를 구성하는 누름 나사 지지 부재(13a)가 부착되어 있다. 누름 나사 지지 부재(13a)에는, 지지 부재(13b)와, 누름 나사(13c)가 설치되어 있다.

평행 평판(10a)(10b)은, 그 양단이 상기 지지 부재(13b)에 지지되고, 양측의 지지 부재(13b)로부터 내측이, 누름 나사(13c)에 의해 θ스테이지(11a)(11b)측으로 눌러지고 있다.

이 때문에, 평행 평판(10a)(10b)은, 동일 도면에 도시하는 바와 같이, 제1 방향(동일 도면의 Y방향)에 대해서 곡률을 갖지 않고, 이 제1 방향에 직교하는 제2 방향(동일 도면의 X방향)에 대해서 곡률을 갖도록 아래쪽으로 휘어져 있다. 평행 평판(10a)(10b)을 X방향에 평행한 선으로 잘랐을 때의 단면 형상은, 2차 곡선 형상 혹은 원호 형상인 것이 바람직하다.

누름 나사(13c)의 누르는 양을 변화시킴으로써, 평행 평판(10a)(10b)의 휘어짐량을 변화시킬 수 있다. 또한, 도 1에 도시하는 바와 같이 평행 평판(10a)(10b)이 하측으로 볼록한 경우에는, 평행 평판(10a)(10b)의 휘어짐량을 크게 할수록, 평행 평판(10a)(10b)의 능선에 직교하는 방향의 확대 배율이 커진다. 평행 평판(10a)(10b)의 휘어짐량은, 요구되는 확대 축소 배율에 따른 값으로 미리 설정되어 있다.

상기 구성예에서는, 누름 나사(13c)에 의해 평행 평판(10a)(10b)을 휘어지게 하고 있지만, 예를 들면, 도 3에 도시하는 바와 같이, 평행 평판(10a)(10b)의 한 쪽의 면측에, 하면이 석영 유리(14a) 등의 자외선 투과 부재로 구성된 감압실(14)을 설치하고, 감압실(14)의 압력을 변화시킴으로써 평행 평판(10a)(10b)의 휘어짐량을 조정해도 된다.

도 1에서, 2장의 평행 평판(10a, 10b)의 회전은, 상기 θ스테이지(11a, 11b)를 회전시킴으로써 행하지만, 2개의 θ스테이지(11a, 11b)는, 상기한 바와 같이 대칭으로(좌우 역방향으로 같은 각도만큼) 회전시키지 않으면 안된다.

그 순서는, 한 쪽의 θ스테이지를 예를 들면 30°회전시킨 후, 또 한 쪽의 θ스테이지를 반대 방향으로 30° 회전시키는 식으로, 한 쪽씩 순서대로 회전시키는 방법이어도 되고, 2개의 θ스테이지를 기어 등으로 연동시켜, 동시에 서로 역방향으로 회전시키는 방법이어도 된다.

도 1에서는 θ스테이지 구동 기구(12)를 설치하여 θ스테이지(11a, 11b)를 구동하는 예를 도시하였지만, θ스테이지(11a, 11b)의 구동은, 수동이어도 되고 스텝핑 모터 등을 사용하여, 자동적으로 회전하는 것이어도 된다.

그런데, 도 1에서는, 2장의 평행 평판(10a, 10b)을 모두 하측으로 볼록해지도록 배치하는 경우에 대해서 도시하였지만, 평행 평판(10a, 10b)을 도 4(a)∼(d)에 도시하는 바와 같이 배치해도 된다.

동일 도면 (a)는, 같은 두께로 같은 곡률을 갖는 2장의 평행 평판을 모두 아래로 볼록해지도록 배치한 경우를 도시하고 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 하측으로 볼록하게 배치된 평행 평판을, 평행 평판 A, 평행 평판 B라고 한다.

이 경우, 평행 평판 A, B의 능선 방향에 직교하는 방향이 확대되고, 또, 능 선 방향의 배율은 거의 1이다.

또한, 평행 평판 A, B는, 상기한 바와 같이 같은 두께로 같은 곡률을 갖기 때문에, 2장의 평행 평판 A, B의 능선 방향에 직교하는 방향의 확대율은 같다.

동일 도면 (b)는, 같은 두께로 같은 곡률을 갖는 2장의 평행 평판을 모두 위로 볼록해지도록 배치한 경우를 도시하고 있다. 또한, 이하에서는 상측으로 볼록하게 배치된 평행 평판을 평행 평판 C, 평행 평판 D라고 한다.

이 경우, 평행 평판 C, D의 능선 방향에 직교하는 방향이 축소되고, 능선 방향의 배율은 거의 1이다. 이 경우도, 2장의 평행 평판 C, D는, 같은 두께로 같은 곡률을 갖기 때문에, 2장의 평행 평판 C, D의 능선 방향에 직교하는 방향의 축소율은 같다.

동일 도면 (c)는, 같은 두께로 같은 곡률을 갖는 2장의 평행 평판 중의 상측의 평행 평판을 아래로 볼록, 하측의 평행 평판을 위로 볼록해지도록 배치한 경우를 도시하고 있다. 이 경우, 평행 평판 A의 능선 방향에 직교하는 방향은 확대되고, 평행 평판 C의 능선에 직교하는 방향은 축소된다.

또한, 평행 평판 A, C는, 상기한 바와 같이 같은 두께로 같은 곡률을 갖기 때문에, 평행 평판 A의 능선 방향에 직교하는 방향의 확대율과, 평행 평판 C의 능선 방향에 직교하는 방향의 축소율은, [평행 평판 A의 확대율]×[평행 평판 C의 축소율]=1의 관계에 있다.

동일 도면 (d)는, 상측의 평행 평판을 위로 볼록, 하측의 평행 평판을 아래로 볼록해지도록 배치한 경우를 도시하고 있다. 동일 도면 (d)는, 상기 동일 도면 (c)와 평행 평판 A, C의 상하 위치가 교체되었을 뿐이고, 상측의 평행 평판 C에 의해 능선 방향에 직교하는 방향이 축소되고, 하측의 평행 평판 A에 의해 능선 방향에 직교하는 방향이 확대된 점을 제외하고, 상기 (c)와 동일하다.

다음에 본 실시예의 투영 배율 변경 기구의 동작에 대해서 설명한다.

도 5는, 2장의 평행 평판 A, B를 도 4(a)와 같이 배치한 경우에 있어서의 동작의 개요를 설명하는 도면이다. 2장의 평행 평판 A, B는, 상기한 바와 같이 양면이 평행한 같은 두께의 투명한 자외선 투과 부재로 구성되고, 제1 방향에 대해서 곡률을 갖지 않고, 이 제1 방향에 직교하는 제2 방향에 대해서 곡률을 갖도록 휘어져 있으며, 2장의 평행 평판의 곡률은 같다.

여기에서는, 투영상의 패턴이 직사각형 형상인 것으로 하고, 이 직사각형 형상의 패턴의 세로 또는 가로방향의 변에 평행한 직선에 대해서, 2장의 평행 평판의 능선이 항상 선대칭이 되도록 평행 평판을 동일 도면에 도시하는 바와 같이 좌우 역방향으로 회전시키는 경우에 대해서 설명한다.

이와 같이 하면, 투영상은 항상 직사각형 형상이 되고, 마름모꼴로는 되지 않는다. 또한, 투영되는 패턴이 직사각형 형상인 경우, 이 패턴의 변과, 기판(워크)의 종횡 방향의 변은, 통상 평행하게 설정되기 때문에, 2장의 평행 평판의 능선이 기판의 변에 대해서 선대칭이 되도록 회전시켜도 된다.

도 5(a-1)은, 2장의 평행 평판 A, B를, 그 능선 방향이 투영되는 패턴의 세로방향에 일치한 상태에서, 직사각형 형상의 패턴의 세로방향에 평행한 회전 기준이 되는 선 P에 대해서, 평행 평판 A를 왼쪽 방향으로, 또, 평행 평판 B를 오른쪽 방향으로 각각 45°회전시킨 상태를 도시하고 있다.

이 경우, 평행 평판 A, B의 능선 방향은 동일 도면 (a-2)에 도시하는 바와 같이 직교하는 상태가 되고, 능선 방향은 선 P에 대해서, 각각 45°기울어져 있다.

평행 평판 A, B에 의한 확대 방향은, 각각 능선 방향에 직교하는 방향이기 때문에, 투영상은 45° 방향으로 같은 배율로 확대된다.

따라서, 원래의 화상은 상하 좌우 대칭으로 등배(等倍)로 확대되어, 동일 도면 (a-3)에 도시하는 바와 같이, 원래의 화상(마스크 패턴상)의 종횡비가 1 : 1인 경우, 투영상의 종횡비도 1 : 1이 된다. 또한, 원래의 화상의 종횡비가 1 : 1이고 투영상의 종횡비가 1 : 1이라는 것은, 원래의 화상이 등배로 투영된다는 것을 의미하고 있는 것이 아니라, 종횡비가 변화하지 않는다는 것이다. 이하의 설명에서도 동일하다. 도 5의 경우는 아래로 볼록한 평행 평판을 2장 사용하고 있기 때문에, 투영상은 확대된다.

도 5(b-1)은, 2장의 평행 평판 A, B를 역방향으로 15°더 회전시키고, 능선 방향이 일치한 최초의 상태에서 평행 기판 A, B를 60°회전시킨 상태를 도시하고 있다.

이 경우, 평행 평판 A, B의 능선 방향은 동일 도면 (b-2)에 도시하는 바와 같이, 회전 기준이 되는 직선 P에 대해서 각각 60°기운 상태가 된다. 평행 평판 A, B에 의한 확대 방향은, 각각 능선 방향에 직교하는 방향이기 때문에, 세로 방향의 확대율이 가로방향의 확대율보다 커진다.

따라서, 동일 도면 (b-3)에 도시하는 바와 같이, 투영상은 원래의 화상에 비 해서, 세로로 긴 화상이 된다. 또한, 상기한 바와 같이 평행 평판 A, B의 능선 방향(확대 방향)은, 직사각형 형상의 패턴의 세로 또는 가로방향(이 경우는 세로)의 변에 평행한 직선에 대해서 항상 선대칭으로 되어 있기 때문에, 투영상은 패턴의 세로, 가로방향으로 변배되고, 원래의 면상이 직사각형 형상이면, 투영상도 직사각형 형상이 된다.

도 6은, 2장의 평행 평판 A, B를 상기한 바와 같이 회전 기준이 되는 선 P에 대해서, 역방향으로 같은 각도만큼 회전시켜 갔을 때의 투영상의 변화를 도시하는 도면이다.

도 6(a)는 2장의 평행 평판 A, B의 능선의 방향이 같은 경우를 도시하고 있다. 이 경우의 투영상은, 능선에 직교하는 방향(동일 도면 가로방향)으로만 변배되어, 가로로 긴 상이 투영된다.

도 6(b)는, 상기의 상태로부터, 2장의 평행 평판 A, B를, 광축의 둘레에, 대칭으로(좌우 역방향으로 같은 각도만큼) 회전시킨 경우를 도시하고 있다. 평행 평판 A, B를 회전시킴에 따라서, 동일 도면 가로방향의 배율이 작아진다.

도 6(c)는, 평행 평판 A, B가 45°회전하여, 2장의 평행 평판 A, B의 능선이 직교한 경우를 도시하고 있다. 이 경우는, 상기 도 5에서 설명한 바와 같이, 종횡의 배율은 같아진다. 즉 변배하지 않게 된다.

도 6(d)는, 평행 평판 A, B를 더 회전시킨 경우를 도시하고, 동일 도면 세로방향의 배율이 가로방향의 배율보다도 커져, 세로로 길게 된다.

도 6(e)는 평행 평판 A, B가 90°회전하여, 2장의 평행 평판의 능선의 방향 이 도면 가로방향에 맞춰진 상태를 도시하고 있다. 이 경우, 투영상은, 세로방향으로만 변배되어, 세로로 긴 상이 투영된다.

또한, 상기한 바와 같이 평행 평판 A, B를 회전시켜 가면, 투영상의 종횡비가 변화되어 가지만, 세로방향, 가로방향의 크기도 변화한다. 따라서, 필요에 따라서, 투영상의 전체의 크기를 투영 렌즈의 줌 기구에 의해 조정한다.

상기예에서는, 직사각형 형상의 패턴의 세로방향의 변에 평행한 직선에 대해서, 2장의 평행 평판의 능선이 항상 선대칭이 되도록 좌우 역방향으로 회전시키는 경우에 대해서 설명하였지만, 2장의 평행 평판의 능선을, 직사각형 형상의 패턴의 세로(또는 가로) 방향의 변에 평행한 직선에 대해서 선대칭이 되도록 회전시키지 않으면, 도 7에 도시하는 바와 같이, 원래의 화상이 직사각형 형상이라도 투영상이 마름모꼴이 된다.

도 7(a)는, 평행 평판 A의 능선 방향이 패턴의 세로방향으로 평행하고, 평행 평판 B의 능선 방향이 이것에 직교하고 있는 경우를 도시한다.

이 경우에는, 패턴의 세로, 가로방향 모두 확대율이 같기 때문에, 투영상의 종횡비는, 1 : 1이 되어, 투영상은 직사각형 형상이 된다.

도 7(b)는, 도 7(a)의 상태로부터 평행 평판 A, B를, 회전 기준이 되는 선 P에 대해서 역방향과 같은 각도 회전시킨 상태를 도시하고 있다.

평행 평판 A, B에 의한 확대 방향은, 동일 도면에 도시하는 바와 같이, 각각 능선 방향에 직교하는 방향이기 때문에, 평행 평판 A, B에 의해, 원래의 화상은 비스듬한 방향으로 확대된다. 이 때문에, 동일 도면에 도시하는 바와 같이 투영상은 마름모꼴이 된다.

도 7(c)는, 도 7(b)의 상태로부터 평행 평판 A, B를 역방향으로 같은 각도 더 회전시켜, 평행 평판 A의 능선 방향과 평행 평판 B의 능선 방향이 직교하도록 된 상태를 도시하고 있다.

이 경우에는, 도 7(a)와 동일하게, 패턴의 세로, 가로방향 모두 확대율이 같기 때문에, 투영상의 종횡비는, 1 : 1이 되어, 투영상도 직사각형 형상이 된다.

즉, 이 경우는, 투영되는 패턴의 대각선에 평행한 선에 대해서 평행 평판 A, B의 능선이 선대칭이 되도록 평행 평판을 회전시키고 있기 때문에, 투영되는 패턴의 대각선 방향을 세로방향(또는 가로방향)으로 하여 투영상이 변배된다. 이 때문에 투영상은 마름모꼴이 된다.

도 5, 도 6에서는 2장의 평행 평판 A, B의 모두를 아래쪽으로 휘어지게 한 도면을 도시하였지만, 상기 도 4(b)에 도시한 바와 같이 2장의 평행 평판의 모두를 위쪽으로 휘어지게 해도, 실시예와 동일한 작용 효과를 발휘한다.

이 경우는 상기 도 4(b)에서 설명한 바와 같이 투영상이 평행 평판 A, B의 능선에 직교하는 방향으로 축소되어, 평행 평판이 없는 경우에 비해서, 전체상이 축소되어 투영된다.

따라서, 상기 도 6에서는, 확대 방향이 축소 방향이 되어, 예를 들면, 도 6(a)의 경우는 투영상이 세로로 길어진다. 또, 도 6(e)의 경우, 투영상이 가로로 길어진다. 또한, 평행 평판의 능선이 45°회전한 상태에서는, 도 6(c)에 도시한 바와 같이, 종횡의 배율은 1이 되어 변배하지 않는다.

이상에서는 평행 평판의 휨 방향이 같은 경우에 대해서 설명하였지만, 상기 도 4(c), (d)에 도시한 바와 같이, 평행 평판의 휨 방향이 반대 방향이어도, 동일한 투영상의 종횡 변배가 가능하다.

도 8은, 2장의 평행 평판 A, C를 도 4(c)와 같이 배치한 경우에 있어서의 동작의 개요를 설명하는 도면이다. 2장의 평행 평판 A, C는, 한 쪽이 아래로 볼록, 다른 쪽이 위로 볼록하지만, 같은 두께로 같은 곡률을 갖는다. 따라서, 평행 평판 A에 의한 능선에 직교하는 방향의 확대율과, 평행 평판 C에 의한 능선에 직교하는 방향의 축소율은 상기한 바와 같이 [평행 평판 A의 확대율]×[평행 평판 C의 축소율]=1이다.

여기에서는, 투영상의 패턴이 직사각형 형상인 것으로 하고, 이 직사각형 형상의 패턴의 세로 또는 가로방향의 변에 대해서 45°기운 직선에 대해서, 평행 평판 A, C의 능선이 항상 선대칭이 되도록 좌우 역방향으로 회전시키는 경우에 대해서 설명한다.

또한, 이것은, 위로 볼록한 평행 평판 C의 능선에 직교하는 직선과 아래로 볼록한 평행 평판 A의 능선이, 상기 도 5에 도시한 기준이 되는 직선 P(패턴 또는 기판의 세로방향에 평행한 직선)에 대해서 선대칭이 되도록 회전시키는 것에 상당한다.

이와 같이 하면, 상기 도 5에서 설명한 것과 동일하게, 투영상은 항상 직사각형 형상이 되고, 마름모꼴로는 되지 않는다. 또한, 상기한 바와 같이 패턴의 세로방향이 아니라, 기판의 세로방향(또는 가로방향)에 대해서 45°기운 선에 대해서 선대칭이 되도록 2장의 평행 평판을 회전시켜도 된다.

도 8(a-1)은, 직사각형 형상의 패턴의 세로방향(또는 가로방향)에 대해서, 2장의 평행 평판 A, C의 능선 방향을 45°기울여 배치한 상태를 도시하고 있다.

이 경우, 평행 평판 A, C의 능선 방향은 동일 도면 (a-2)에 도시하는 바와 같이 직사각형 형상의 패턴의 세로방향(또는 가로방향)에 대해서 45°기운 회전 기준이 되는 직선 P에 직교하고, 평행 평판 A에 의한 확대 방향과, 평행 평판 C에 의한 축소 방향은, 각각 능선 방향에 직교하는 방향이며 동일 방향이기 때문에, 평행 평판 A에 의한 확대와 평행 평판 C에 의한 축소가 상쇄한다.

따라서, 동일 도면 (a-3)에 도시하는 바와 같이, 원래의 화상(마스크 패턴상)의 종횡비가 1 : 1인 경우, 투영상의 종횡비도 1 : 1이 된다.

도 8(b-1)은, 2장의 평행 평판 A, C를 패턴의 세로방향에 대해서 45°더 기운 회전 기준이 되는 직선 P에 대해서, 역방향으로 15°회전시킨 상태를 도시하고 있다.

평행 평판 A에 의한 확대 방향과, 평행 평판 C에 의한 축소 방향은, 각각 능선 방향에 직교하는 방향이기 때문에, 이 경우, 세로방향의 확대율이 가로방향의 확대율보다 커진다.

따라서, 동일 도면 (b-3)에 도시하는 바와 같이, 투영상은 원래의 화상에 비해서, 세로로 긴 화상이 된다.

도 9는, 상기한 바와 같이 2장의 평행 평판 A, C를 역방향으로 같은 각도만큼 회전시켜 갔을 때의 투영상의 변화를 도시하는 도면이다.

도 9(a)는 2장의 평행 평판 A, C의 능선의 방향이 같고, 투영되는 패턴의 세로방향에 대해서, 45°기울어져 있는 상태를 도시하고 있다. 이 경우, 상기한 바와 같이, 종횡의 변배율은 같아진다. 즉, 원래의 화상의 종횡비가 1 : 1이면, 투영상의 종횡비도 1 : 1이 된다.

도 9(b)는, 상기의 상태로부터, 2장의 평행 평판 A, C를, 광축의 둘레에, 회전 기준이 되는 직선 P에 대해서 대칭으로(좌우 역방향으로 같은 각도만큼) 회전시킨 경우를 도시하고 있다. 평행 평판 A, C를 회전시킴에 따라서, 동일 도면 가로 방향의 배율이 커진다.

도 9(c)는, 평행 평판 A, C가 45°회전하여, 2장의 평행 평판 A, C의 능선이 직교한 경우를 도시하고 있다. 이 경우는, 가로방향으로 확대되고 세로방향으로 축소되기 때문에, 가로로 긴 상이 투영된다.

도 9(d)는, 평행 평판 A, C를 더 회전시킨 경우를 도시하고, 동일 도면 세로방향의 배율이 가로방향의 배율보다도 커져, 세로로 길어진다.

도 9(e)는 평행 평판 A, C가 더 회전하여, 2장의 평행 평판 A, C의 능선의 방향이 직교한 상태를 도시하고 있다. 이 경우, 투영상은, 세로방향으로 확대되고, 가로방향으로 축소되기 때문에, 세로로 긴 상이 투영된다.

또한, 상기한 바와 같이 평행 평판 A, B를 회전시켜 가면, 투영상의 종횡비가 변화하여 가지만, 세로방향, 가로방향의 크기도 변화한다. 따라서, 필요에 따라서, 상기한 바와 같이 투영상의 전체의 크기를 투영 렌즈의 줌 기구에 의해 조정한다.

이상 설명한 실시예에서는, 휨 기구를 이용하여 평행 평판을 휘어지게 한 경우에 대해서 설명하였지만, 미리, 원통면 형상 혹은 2차 곡면 형상으로 변형시킨 평행 평판을 이용해도 된다.

또, 상기 실시예에서는, 평행 평판을 2장 이용하는 경우에 대해서 설명하였지만, 각 평행 평판을 복수장의 평행 평판으로 구성해도 된다.

또, 복수의 평행 평판의 두께가, 오차에 의해 미묘하게 다른 경우에는, 휘어짐량을 조정(판두께가 얇은 경우에는 크게 휘어지게 한다)함으로써, 각 판의 배율을 맞추면 된다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에서는, 기판 또는 패턴의 세로방향과 가로방향에 대해서, 평행 평판의 두께·곡률·간격의 어느 것도 변화시키지 않고, 임의의 배율로 종횡 변배를 할 수 있다.

이 때문에, 곡률이 다른 복수의 평행 평판을 준비하지 않고, 비교적 간단한 구성의 장치로 기판 또는 패턴의 종횡 방향의 확대 축소 배율을 임의의 값으로 할 수 있다. 또, 종횡 방향의 확대 축소 배율을 변경할 때에, 평행 평판의 휘어짐량을 변화시킬 필요가 없기 때문에, 장기간 사용해도 평행 평판이 파손되는 경우가 없다.

Claims (2)

1. 마스크에 형성된 패턴을 워크에 투영하여 노광하는 노광 장치에 있어서,

   패턴이 형성된 마스크와,

   노광되는 워크가 유지되는 워크 스테이지와,

   상기 워크 스테이지에 유지된 워크에, 상기 마스크의 패턴을 투영하는 투영 렌즈와, 투영 배율 변경 기구를 구비하고,

   상기 투영 배율 변경 기구는, 상기 마스크와 상기 워크 스테이지의 사이에 삽입되어, 제1 방향에 대해서 곡률을 갖지 않고, 상기 제1 방향에 직교하는 제2 방향에 대해서 곡률을 가지며, 상기 제2 방향으로 투영상을 확대 또는 축소하는 투명한, 모두 아래로 볼록 또는 위로 볼록하게 배치된 2장의 평행 평판과,

   상기 2장의 평행 평판을, 상기 투영 렌즈의 광축을 회전축으로 하여, 상기 광축을 중심으로, 상기 패턴 또는 워크의 세로 또는 가로방향의 변에 평행한 직선에 대해서, 상기 2장의 평행 평판의 골짜기 또는 산을 따르는 직선인 능선이 항상 선대칭이 되도록 좌우 역방향으로 같은 각도만큼 회전시켜, 종횡 방향의 확대 축소 배율을 연속적으로 변화시키는 평행 평판 회전 기구로 구성되고, 상기 2장의 평행 평판은, 같은 두께로 같은 곡률을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
2. 마스크에 형성된 패턴을 워크에 투영하여 노광하는 노광 장치에 있어서,

   패턴이 형성된 마스크와,

   노광되는 워크가 유지되는 워크 스테이지와,

   상기 워크 스테이지에 유지된 워크에, 상기 마스크의 패턴을 투영하는 투영 렌즈와, 투영 배율 변경 기구를 구비하고,

   상기 투영 배율 변경 기구는, 상기 마스크와 상기 워크 스테이지의 사이에 삽입되어, 제1 방향에 대해서 곡률을 갖지 않고, 상기 제1 방향에 직교하는 제2 방향에 대해서 곡률을 가지며, 상기 제2 방향으로 투영상을 확대 또는 축소하는 투명한, 한 쪽이 아래로 볼록 다른 쪽이 위로 볼록하게 배치된 2장의 평행 평판과,

   상기 2장의 평행 평판을, 상기 투영 렌즈의 광축을 회전축으로 하여, 상기 광축을 중심으로, 상기 패턴 또는 워크의 세로 또는 가로방향의 변에 대해서 45°기운 직선에 대해서, 상기 2장의 평행 평판의 골짜기 또는 산을 따르는 직선인 능선이 항상 선대칭이 되도록 좌우 역방향으로 같은 각도만큼 회전시켜, 종횡 방향의 확대 축소 배율을 연속적으로 변화시키는 평행 평판 회전 기구로 구성되고, 상기 2장의 평행 평판은, 같은 두께로 같은 곡률을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.

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