KR100929110B1 - A sticking unit of photo mask in glass pcb and a sticking method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 유리기판에 포토마스크용 필름을 자동으로 부착하는 포토 마스크 제조장치 및 이를 통해 제조되는 포토 마스크에 관한 것으로, 특히 유리기판을 진공패널의 상부에 탑재한 상태에서 180도 회전시켜 진공패널의 하부에 위치토록 하고, 상기 진공패널을 좌우로 유동시켜 접착제 및 포토마스크용 필름을 순차적으로 부착시키도록 구성한 것을 특징으로 하는 유리기판에 포토마스크용 필름을 자동으로 부착하는 포토 마스크 제조장치 및 이를 통해 제조되는 포토 마스크에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask manufacturing apparatus for automatically attaching a film for a photomask to a glass substrate and a photomask manufactured through the same, in particular, by rotating the glass substrate 180 degrees on the upper portion of the vacuum panel, Photomask manufacturing apparatus for automatically attaching the film for the photomask to the glass substrate, characterized in that the lower portion, and the vacuum panel flows to the left and right to sequentially attach the adhesive and the film for the photomask, and through this It relates to a photo mask to be manufactured.
일반적으로 포토마스크는 빛을 이용하여 회로 등의 패턴을 패터닝화하는 포토리소그래피공정에 사용되는 것으로서, 반도체나 LCD/PDP 등의 디스플레이용 패널을 포함하는 고도의 정밀성을 요구하는 전자장치의 제조에 사용되며, 통상 감광액(포토레지스트)이 입혀진 웨이퍼나 스테인리스, LCD/PDP용 유리기판 위에 노광공정을 통해서 회로패턴이 형성되게 하는 제품이다.In general, photomasks are used in photolithography processes that pattern patterns of circuits using light, and are used in the manufacture of electronic devices requiring high precision, including display panels such as semiconductors and LCD / PDPs. In general, a circuit pattern is formed on a wafer coated with a photoresist (photoresist), stainless steel, or a glass substrate for LCD / PDP through an exposure process.
이러한 포토마스크로는 통상 에멀전마스크 또는 크롬마스크가 사용되고 때로는 마스크용 필름과 유리기판을 접합한 것을 사용하기도 하는데, 포토마스크를 포토마스크지그 등에 고정시킨 후 노광공정에 의한 회로패턴이 형성되게 한다.As such a photomask, an emulsion mask or a chrome mask is usually used, and sometimes a mask film and a glass substrate are bonded to each other. The photomask is fixed to a photomask jig or the like to form a circuit pattern by an exposure process.
그런데, 종래 노광공정을 위하여 사용되는 포토마스크에 있어서, 필름을 유리기판에 접합하여 사용하는 경우 광투과성을 고려하여 필름의 모서리 부분에 접착테이프를 붙여 유리기판 위에 고정시키는 방식을 이용한다. 상기의 경우 모서리 부분만 접합을 하므로 유리기판과 필름의 접합시 필름의 가운데 부분이 떨어져 노광 작업시 필름이 처지는 문제점이 발생되고 이에 따라 초점 및 얼라인이 맞지 않으므로 패턴형성대상물에 정교한 회로패턴의 형성이 어렵고, 패턴형성대상물 위의 포토레지스트가 필름에 묻어서 노광 횟수가 줄어드는 문제점이 발생되고 있었으며, 이러한 접착테이프에 의한 필름과 유리기판의 모서리 부분 고정방식은 작업의 불편함을 야기할 뿐만 아니라 제조시간을 증대시키고 생산성의 저하를 초래하는 요인이 되고 있다.By the way, in the photomask used for the conventional exposure process, in the case where the film is bonded to the glass substrate, the adhesive tape is attached to the edge of the film in consideration of the light transmittance, and a method of fixing on the glass substrate is used. In the above case, since only the edges are bonded, a problem arises that the film is sag when the glass substrate and the film are bonded, and the film sags during the exposure operation. Accordingly, the focus and alignment are not corrected, thereby forming a precise circuit pattern on the pattern forming object. This difficulty, the photoresist on the pattern forming object is buried in the film has been a problem of reducing the number of exposure, and the fixing method of the edge portion of the film and the glass substrate by the adhesive tape not only causes inconvenience in the work but also manufacturing time To increase the productivity and decrease the productivity.
즉, 접착 테이프에 의한 부착방법은 노광작업시 필름이 처져서 정교한 회로패턴 형성이 어려울 뿐만 아니라, 손으로 테이프를 부착하므로 작업성이 매우 떨어지는 문제가 있는 것이다.That is, the method of attaching with adhesive tape is not only difficult to form a precise circuit pattern due to sagging of the film during exposure, but also has a problem of poor workability because the tape is attached by hand.
이를 해결하기 위해 특허등록 제 10-0746491에는 필름을 유리기판에 접착제를 이용하여 부착하되, 필름을 진공압제공장치와 구동롤러를 이용하여 흡착 및 밀착을 가능토록 하여 제조시간의 절감 및 생산성의 향상을 기대할 수 있도록 한 반도체장치 및 디스플레이 패널용 포토마스크 제조장치가 제안되어 있고, 등록특허 제 10-0749801에는 필름을 유리기판에 접착제를 이용하여 부착하되, 필름을 진공압 제공장치와 롤러를 이용하여 흡착 및 밀착을 가능토록 하여 제조시간의 절감 및 생산성의 향상을 기대할 수 있도록 한 반도체장치 및 디스플레이 패널용 포토마스크 제조방법을 제안하고 있다.In order to solve this problem, Patent Registration No. 10-0746491 attaches a film to a glass substrate using an adhesive, but allows the film to be adsorbed and adhered by using a vacuum pressure providing device and a driving roller, thereby reducing manufacturing time and improving productivity. A device for manufacturing a photomask for semiconductor devices and display panels has been proposed, and in Patent No. 10-0749801, a film is attached to a glass substrate by using an adhesive, and the film is attached using a vacuum pressure providing device and a roller. A photomask manufacturing method for semiconductor devices and display panels has been proposed to enable adsorption and adhesion to reduce manufacturing time and improve productivity.
그리고, 상기 등록특허는 유리기판에 접착제를 별도로 도포하는 장치 및 방법이 필수적으로 제시되고 있다.In addition, the registered patent is essentially presented an apparatus and method for applying an adhesive to a glass substrate separately.
그러나, 상기 특허는 자동화 공정에 의해서 필름을 접착하는 것이 아니고 접착제를 도포하는 공정과 필름을 부착하는 장치가 별도로 구성되기 때문에 작업의 효율성이 떨어지는 문제가 있었다.However, the patent does not adhere the film by an automated process, but there is a problem in that the efficiency of the work is lowered because the process of applying the adhesive and the apparatus for attaching the film are configured separately.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결코자 하는 것으로, 유리기판을 진공패널에 장착시킨 상태에서 180도 상하로 회전되도록 장치를 구성하고 접착제 및 포토마스크용 필름을 장착하는 진공패널을 별도로 구비한 상태에서 상기 유리기판용 진공패널을 좌우로 이동시켜서 접착제 및 포토마스크용 필름을 순차적으로 부착시키도록 함으로서 단순한 장치를 이용하여 자동으로 유리기판에 포토마스크용 필름을 접착시키도록 하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, in a state in which the glass substrate is mounted on the vacuum panel, the apparatus is configured to rotate up and down 180 degrees, and the vacuum panel for mounting the adhesive and the photomask film is separately provided. By moving the vacuum panel for the glass substrate to the left and right to attach the adhesive and the film for the photomask in order to automatically adhere the film for the photomask to the glass substrate using a simple device.
상기 목적을 달성하기 위한 수단으로,As a means for achieving the above object,
본 발명은 사각패널 형태로서 외부로부터 진공압을 제공받아 진공압을 형성하며 상부에 유리기판(500)을 접촉한 상태에서 수직회전 및 수평 이송시키는 유리기판 구동수단(100)과;The present invention is a rectangular panel form to receive a vacuum pressure from the outside to form a vacuum pressure and the glass substrate driving means 100 for vertical rotation and horizontal transfer in the state in contact with the
상기 유리기판 구동수단(100)의 측면에 설치되고, 사각 프레임 형상으로서 외부로부터 진공압을 제공받아 접착제 및 포토마스크용 필름을 진공패널의 상부면에 임시로 흡입하여 고정시키며, 유리기판 구동수단(100)의 구동으로 유리기판이 진입시에 접착제 및 포토마스크용 필름을 유리기판에 접면시키는 접착제 및 포토마스크용 필름 장착수단(200)과;It is installed on the side of the glass substrate driving means 100, receives a vacuum pressure from the outside as a rectangular frame shape to temporarily suck and fix the adhesive and photomask film on the upper surface of the vacuum panel, the glass substrate driving means ( Adhesive and photomask film mounting means 200 for contacting the glass substrate with the adhesive and the photomask film when the glass substrate enters by driving of 100;
상기 접착제 및 포토마스크용 필름 장착수단(200)의 좌측에 설치되고, 외부 동력을 전달받아 상하로 유동 가능하며 상기 유리기판 구동수단(100)이 좌우로 움 직이는 과정에서 유리기판(500)에 접착제(400) 및 포토마스크 필름(600)을 압착시키는 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 포함하여 이루어지며;The
상기 접착제(400)는,The adhesive 400,
제 1 이형지층(410)과, 제 1 이형지층 하부에 배치되는 접착층(420)과, 접착제층의 하부에 배치되는 제 2 이형지층(430)으로 이루어짐이 특징이다.The first
또한, 상기 유리기판 구동수단(100)은,In addition, the glass substrate driving means 100,
사각패널 형태로서 외부로부터 진공압을 제공받아 유리기판을 고정시키는 유리기판 장착용 진공패널(110)과;A glass panel
상기 유리기판 장착용 진공패널(110)의 중심축을 가로질러 설치되며 외부로부터 회전동력을 전달받아 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 단위로 상하 방향으로 회전시키는 진공패널 상하 회전축(120)과;It is installed across the central axis of the glass panel
상기 유리기판 장착용 진공패널(110)의 좌측에 배치되며 유리기판 장착용 진공패널 상부를 좌우로 이동하면서 진공압에 의해서 접착제(400)의 제 2 이형지층을 제거하는 제 1 이형지 제거용 롤러(130)와;The first release paper removal roller is disposed on the left side of the glass substrate
상기 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌우로 이동시키는 가이드 역할을 하는 진공패널 좌우 이송용 레일(140)을 포함하여 구성함이 특징이다.Characterized in that it comprises a vacuum panel left and
또한, 상기 접착제 및 포토마스크용 필름 장착수단(200)은,In addition, the adhesive and photomask film mounting means 200,
사각 프레임 형상으로서 외부로부터 진공압을 제공받아 접착제(400) 및 포토마스크용 필름(600)을 진공패널의 상부면에 임시로 흡입하여 고정시키는 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)과;A
상기 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 상부에 설치되며 외부로부터 진공압을 제공받은 상태에서 좌우로 유동하여 접착제(400)를 구성하는 제 1 이형지층(410)을 벗겨내는 제 2 이형지 제거용 롤러(220)를 포함하여 이루어짐이 특징이다.A second release device installed on the adhesive and photomask film
또한, 상기 접착제 및 포토마스크용 필름(600)은,In addition, the adhesive and the
접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)에 일부가 걸처지도록 배치되는 것이 특징이다.Part of the adhesive and the photomask film pressing means 300 is characterized in that arranged to be caught.
상술한 바와 같이 본 발명은 유리기판을 진공패널에 장착시킨 상태에서 180도 상하로 회전되도록 장치를 구성하고 접착제 및 포토마스크용 필름을 장착하는 진공패널을 별도로 구비한 상태에서 상기 유리기판용 진공패널을 좌우로 이동시켜서 접착제 및 포토마스크용 필름을 순차적으로 부착시키도록 함으로서 단순한 장치를 이용하여 자동으로 유리기판에 포토마스크용 필름을 접착시키는 효과가 있다.As described above, the present invention provides a vacuum panel for the glass substrate in a state in which the apparatus is configured to rotate up and down by 180 degrees while the glass substrate is mounted on the vacuum panel, and the vacuum panel for mounting the adhesive and the photomask film is provided separately. By moving the left and right to sequentially attach the adhesive and the film for the photomask there is an effect of automatically bonding the film for the photomask to the glass substrate using a simple device.
아울러 전 과정이 자동으로 이루어져 초보 작업자도 손쉽게 유리기판에 필름을 부착할 수 있는 효과가 있다.In addition, the whole process is automatic, even beginners can easily attach the film to the glass substrate.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 하기에서 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First of all, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used as much as possible even if displayed on different drawings. In addition, in the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 설정된 용어들로서 이는 생산자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있으므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.The following terms are terms set in consideration of functions in the present invention, which may vary depending on the intention or custom of the producer, and their definitions should be made based on the contents throughout the specification.
도 23은 본 발명에 의한 반도체 및 디스플레이 패널용 포토마스크를 나타낸 분해 사시도.23 is an exploded perspective view showing a photomask for a semiconductor and a display panel according to the present invention.
도 24는 본 발명에 의한 도 23의 포토마스크에 대한 결합상태 단면도.24 is a cross-sectional view of the bonding state of the photomask of Figure 23 according to the present invention.
도 25는 본 발명의 포토마스크에 있어 필름마스크의 구조를 보인 단면 상세도.25 is a detailed cross-sectional view showing the structure of a film mask in the photomask of the present invention.
도 26은 본 발명에 의해 필름 마스크를 유리기판에 부착한 실시예도로서, 본 발명의 포토마스크는 포토마스크용 필름(10)과, 접착층(20)과, 유리기판(30)으로 이루어진다.FIG. 26 shows an embodiment in which a film mask is attached to a glass substrate according to the present invention. The photomask of the present invention includes a
상기 포토마스크용 필름(10)은 레이저 플로팅 및 노광에 의한 일정 패턴이 형성되고, 광투과성 접착층(20)을 이용하여 유리기판(30)에 접착하여 이루어진다.The
아울러, 상기 포토마스크용 필름(10)은 투명한 PET(Poly Ethylene Terephthalate; 폴리에틸렌 테레프탈레이트)필름(11)의 상면에 보호층(12)과 감광층(13) 및 산란빛 흡수층(14)을 위에서 아래로 순차 형성하고 그 하면에는 정전기방지층(15)과 백코팅층(16)을 형성시킨 상태에서, 상기 PET필름(11)의 상면 즉 보호층(12)의 표면에 캐드/캠(CAD/CAM) 프로그램 출력에 의한 레이저 플로팅을 행하 여 패턴을 인쇄한 후 노광을 행하여 감광층(13)에 패턴이 감광되어 형성되는 인쇄필름으로 구성되며, 이때, 상기 PET필름(11)의 상/하면으로 형성되는 각각의 적층구조는 스퍼터링방식에 의한 증착으로 구성되며, 상기 보호층(12)과 감광층(13) 및 산란빛 흡수층(14)이 포토마스크용 필름(10) 상에서 인쇄된 패턴을 갖는 인쇄층(P)을 형성하게 되고, 상기 PET필름(11)과 정전기방지층(15) 및 백코팅층(16)이 필름층(F)을 형성하게 되는 것이다.In addition, the
이하에서 도 1 내지 도 22를 통해 본 발명의 포토마스크 제작 장치를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the photomask fabrication apparatus of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 22.
본 발명의 포토 마스크 제작장치는 크게 유리기판 구동수단(100)과, 접착제 및 포토마스크용 필름 장착수단(200) 및, 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)으로 이루어진다. 아울러, 본 발명에 작용되는 접착제(400)는 3개층으로 이루어지는바 제 1 이형지층(410)과, 제 1 이형지층 하부에 배치되는 접착층(420)과, 접착제층의 하부에 배치되는 제 2 이형지층(430)으로 이루어진다.The photomask fabrication apparatus of the present invention comprises a glass substrate driving means 100, an adhesive and photomask film mounting means 200, and an adhesive and photomask film pressing means 300. In addition, the adhesive 400 acting on the present invention is composed of three layers: a first
상기 유리기판 구동수단(100)은 유리기판 장착용 진공패널(110)과, 진공패널 상하 회전축(120)과, 제 1 이형지 제거용 롤러(130) 및, 진공패널 좌우 이송용 레일(140)로 이루어진다.The glass substrate driving means 100 includes a glass panel
상기 유리기판 장착용 진공패널(110)은 사각패널 형태로서 외부로부터 진공압을 제공받아 진공압이 형성되며, 상부면에 진공 흡입홀이 다수개 형성되어 이루어진다. 상기 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부면에 유리기판(500)을 장착하고 유리기판에 진공압을 제공하여 유리기판이 유리기판 장착용 진공패널(110)에 흡 입되어 외부로 이탈되는 것을 방지한다.The glass panel
상기 진공패널 상하 회전축(120)은 유리기판 장착용 진공패널(110)의 중심축을 가로질러 설치되며 외부로부터 회전동력을 전달받아 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 단위로 상하 방향으로 회전시킴으로서 유리기판 장착용 진공패널의 상부에 장착되는 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)을 중심으로 상부에 위치되거나 하부에 위치되도록 한다. The vacuum panel
상기 제 1 이형지 제거용 롤러(130)는 후술하는 필름 접착제(400)를 구성하는 제 2 이형지층(430)을 한꺼풀 벗겨내는 동작을 하는바, 외부로부터 진공압을 제공받아 접착제에 접촉하면서 회전하여 접착제를 구성하는 이형지를 벗겨내어 접착층이 외부로 들어나도록 한다.The first release
상기 진공패널 좌우 이송용 레일(140)은 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌우로 이동시키는 가이드 역할을 하는바, 접착제를 부착할 경우와 포토마스크용 필름(600)을 부착할 경우 유리기판 장착용 진공패널(110)이 우측으로 유동할 수 있도록 가이드하고 각각의 작업이 마무리되면 유리기판 장착용 진공패널(110)이 좌측으로 유동할 수 있도록 가이드한다.The vacuum panel left and right transport rails 140 serve as a guide for moving the glass panel mounting
상기 접착제 및 포토마스크용 필름 장착수단(200)은 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)과, 제 2 이형지 제거용 롤러(220)로 이루어진다.The adhesive and photomask film mounting means 200 includes a
상기 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)은 사각 프레임 형상으로서 외부로부터 진공압을 제공받아 접착제(400) 및 포토마스크용 필름(600)을 진공패널의 상부면에 임시로 흡입하여 고정시키는 역할을 한다. The adhesive and photomask film mounting
상기 제 2 이형지 제거용 롤러(220)는 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 상부에 설치되며 외부로부터 진공압을 제공받은 상태에서 좌우로 유동하여 접착제(400)를 구성하는 제 1 이형지층(410)을 벗겨내는 역할을 한다.The second release
상기 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)은 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 좌측에 설치되고, 외부 동력을 전달받아 상하로 유동 가능하며 유리기판(500)에 접착층(420) 및 포토마스크 필름(600)을 압착시키는 역할을 한다.The adhesive and photomask film pressing means 300 is installed on the left side of the
이하에서 공정별로 본 발명을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by processes.
(1) 제 1 공정(S10):(1) First step (S10):
유리기판 장착용 진공패널(110)을 준비하고, 상기 유리기판 장착용 진공패널(110)의 중심축상에 진공패널 상하 회전축(120)을 설치하며, 유리기판 장착용 진공패널(110)을 진공패널 좌우 이송용 레일(140)에 위치시키고, 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부 좌측면에 제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 위치시키며, 상기 유리기판 장착용 진공패널(110)의 우측에 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)을 설치하고, 상기 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 좌측에 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 배치하며, 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 우측면에 제 2 이형지 제거용 롤러(220)를 위치시킨다.A glass panel mounting
(2) 제 2 공정(S20):(2) Second Step (S20):
유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부에 유리기판(500)을 배치시키고, 유리기판 장착용 진공패널(110)에 진공압을 제공하여 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)에 달라붙도록 하며, 동시에 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)에 접착제(400)를 배치시키고 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)에 진공압을 제공하여 접착제(400)가 진공패널에 달라붙도록 한다. 상기 접착제(400)는 상부에 제 1 이형지층(410)과 중간에 접착층(420)과 하부에 제 2 이형지층(430) 등 총 3개의 층으로 이루어져 있다.The
상기 접착제(400)는 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)에 일측이 걸쳐지도록 배치하는바 이는 나중에 접착제의 접착층을 유리기판에 접착시에 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)이 순차적으로 접착제의 접착층을 압박하여 유리기판에 순차적으로 부착시킬 수 있도록 하기 위함이다.The adhesive 400 is disposed so that one side of the adhesive and the photomask film pressing means 300 extends later, when the adhesive layer of the adhesive is adhered to the glass substrate, the adhesive and the photomask film pressing means 300 are sequentially adhesive. This is to press the adhesive layer of the glass substrate to be sequentially attached.
(3) 제 3 공정(S30):(3) Third Step (S30):
유리기판 상하 회전축(120)을 회전시켜 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시키며, 이에 따라 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부에 위치하는 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 위치되도록 한다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)의 중심축상에 설치된 유리기판 상하 회전축(120)을 180도 회전시켜서 유리기판 장착용 진공패널(110)이 180도 회전되도록 하여 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 위치되도록 하는 것이다.By rotating the glass substrate
(4) 제 4 공정(S40):(4) Fourth Step (S40):
접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)에 위치하는 제 2 이형지 제거용 롤러(220)를 좌측으로 이동시키면서 접착제의 최상부층인 제 1 이형지층(410)을 제거한다. 이때 제 2 이형지 제거용 롤러(220)에 진공압을 제공하여 롤러에 제 2 이형지층(410)을 감으면서 제거시킬 수 있다. 즉, 제 2 이형지 제거용 롤러(220)를 이용하여 접착제를 구성하는 제 1 이형지층(410)을 제거토록하여 제 1 이형지층(410) 하부에 위치하는 접착층(420)이 외부로 서서히 들어나도록 한다.The first
(5) 제 5 공정(S50):(5) Fifth Step (S50):
제 2 이형지 제거용 롤러(220)를 좌측 끝단부로 이동하여 접착제(400)의 상부측에 위치하는 제 1 이형지층(410)을 완전히 제거한다. 이에 따라 접착제(400)의 접착층(420)이 완전히 외부로 들어나게 된다. 즉, 제 2 이형지 제거용 롤러(220)로 접착제(400)의 제 1 이형지층(410)을 완전히 제거토록 함으로서 접착제(400)의 중간측에 배치된 접착층(20)이 외부로 완전히 들어나도록 하는 것이다.The second release
(6) 제 6 공정(S60): (6) 6th process (S60):
유리기판 장착용 진공패널(110)을 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)이 위치하는 우측으로 이동시킨다. 즉, 유리기판(500)이 하부에 장착된 상태로 유리기판 장착용 진공패널(110)을 레일(140)을 따라 우측으로 이동시켜 접착 제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210) 위치로 이동시킨다.The glass substrate mounting
(7) 제 7 공정(S70):(7) 7th process (S70):
유리기판 장착용 진공패널(110)을 우측 끝단부까지 완전히 이동시켜 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)과 완전히 겹치도록하여 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하단에 위치하는 유리기판(500)에 접착제(400)의 접착층(420)이 접면되도록 한다.The glass substrate mounted at the bottom of the glass panel mounting
(8) 제 8 공정(S80):(8) 8th process (S80):
접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 좌측에 배치되는 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 상승시킨다. 즉, 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)은 상하로 유동할 수 있도록 구성되는바, 접착층(420)의 압착을 위하여 잡착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 상승시키며, 상승위치는 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 높이와 동일한 위치까지이다.The adhesive and the photomask film pressing means 300 which are disposed on the left side of the adhesive and photomask film mounting
(9) 제 9 공정(S90):(9) 9th process S90:
접착층(420)이 부착된 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌측으로 이동시키되 압착수단(300)이 접착제(400)의 하부에 밀착되어 접착층(420)와 유리기판(500)이 강하게 부착되면서 유리기판 장착용 진공패널(110)이 좌측으로 이동되도록 한다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌측으로 이동시키게 되면 접착제(400)의 하부를 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(3300)이 밀착시켜 순차적으로 접착층(420)과 유리기판(500)이 강하게 접착이 이루어지도록 한다. 상기 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)은 롤러로 구성되기 때문에 순차적인 압착이 가능하다.The glass substrate mounting
(10) 제 10 공정(S100):(10) 10th process (S100):
유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌측면 끝단까지 이동시켜 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 장착된 유리기판(500)에 접착제(400)의 접착층(420) 부착이 완료되며, 이때 접착제(400)는 제 1 이형지층(410)은 이미 제거되었기 때문에 접착층(420)과 제 2 이형지층(430)으로 이루어진 상태이며, 상기 접착층(420)이 유리기판(500)의 하부에 밀착 접촉된다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌측으로 완전히 이동시키게 되면 유리기판 장착용 패널(110)의 하단에 위치하는 유리기판(500)에 접착층(420)이 강하게 압착된 상태를 유지한다. 특히, 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)으로 접착제(400)를 압착시키면서 부착시키기 때문에 공기가 스며들지 않은 상태로 정밀하게 유리기판(500)에 접착층(420)을 부착시킬 수 있게 된다.Attaching the
(11) 제 11 공정(S110):(11) 11th process (S110):
유리기판(500)에 접착층(420)의 부착이 마무리된 시점에서 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 좌측에 배치되는 접착제 및 포토마스크 필름 압 착수단(300)을 하강시킨다. 즉, 유리기판(500)에 접착층(420)의 부착이 마무리되면 다음 작업을 위해서 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 하부로 하강시킨다.When the
(12) 제 12 공정(S120):(12) 12th process (S120):
유리기판 상하 회전축(120)을 회전시켜 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시키며, 이에 따라 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 위치하는 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부에 위치되도록 한다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시켜 원래 위치로 복귀시키며, 이에 따라 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부에 접착제(400)가 부착된 유리기판(500)이 위치되는 것이다.Rotating the glass substrate
(13) 제 13 공정(S130):(13) 13th process (S130):
포토마스크용 필름(600)을 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 상부에 위치시킨다. 즉, 유리기판(500)에 접착층(420)의 부착이 마무리되면 다음 작업으로 포토마스크용 필름(600)을 유리기판(500)에 접착시키야 하기 때문에 이를 위하여 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210) 상부에 포토마스크용 필름(600)을 배치시키고 진공압을 제공하여 포토마스크용 필름(600)이 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)에 달라붙어 있도록 한다.The
이때, 포토마스크용 필름(600)은 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300) 에 일부분이 걸쳐지도록 배치하는바, 이는 나중에 포토마스크용 필름을 유리기판에 부착할시에 포토마스크 필름 압착수단(300)이 포토마스크용 필름을 순차적으로 압박하여 유리기판에 순차적으로 부착되도록 하기 위함이다.At this time, the
(14) 제 14 공정(S140):(14) 14th process (S140):
유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부 좌측면 배치된 제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 구동하여 접착제(400)의 하부측에 부착되어 있던 제 2 이형지(430)를 제거한다. 즉, 유리기판(500)에 포토마스크용 필름(600)을 부착시키기 위하여 접착제(400)의 하부측에 부착되어 있던 제 2 이형지층(430)을 제거하는바, 현재 공정에서는 유리기판(500)의 상부에 접착층(420)이 배치되고 접착층(420)의 상부에 제 2 이형지층(430)이 배치된 상태이며, 이 상태에서 제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 구동하여 진공압을 제공한 상태에서 제 2 이형지층(430)을 흡착시키면서 우측으로 이송되면서 제 2 이형지층(430)의 제거를 시작하는 것이다.The
(15) 제 15 공정(S150):(15) 15th process (S150):
제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 구동하여 우측 끝단부로 이동시키면서 제 2 이형지층(430)를 완전히 제거한다. 이에 따라 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부에 위치한 유리기판(500)의 상부에는 접착층(420)만이 존재한다. 즉, 제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 우측 끝단까지 구동하면서 제 2 이형지층(430)을 흡착하여 롤러에 감도록 함으로서 제 2 이형지층(430)이 완전히 제거되어 유리기판(500)의 상부에 접착층(420)만이 배치되는 것이다.The second
(16) 제 16 공정(S160):(16) 16th Step (S160):
제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 좌측 끝단으로 이동시켜 원위치 시킨다. 즉, 제 2 이형지층(430)의 제거작업이 마무리되면 다음 작업을 위해서 제 1 이형지 제거용 롤러(130)는 원래 위치되었던 자리로 원위치 시키는바, 이는 제 1 이형지 제거용 롤러(130)를 우측에 놔두게 되면 다음 작업에 방해가 되기 때문이다.The first release
(17) 제 17 공정(S170):(17) 17th process (S170):
유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시켜 접착층(420)이 부착된 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 위치되도록 한다. 즉, 포토마스크용 필름(600)을 부착시키기 위한 선행 작업으로서 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 위치할 수 있도록 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시키며, 이에 따라 유리기판 장착용 진공패널(110)의 하부에 유리기판(500)이 위치되고 유리기판(500)의 하부에 접착층(420)이 위치되게 된다.The glass substrate mounting
(18) 제 18 공정(S180):(18) 18th process (S180):
유리기판 장착용 진공패널(110)을 오른쪽으로 이동시켜 포토마스크용 필름(600)과 접촉되도록 하여 포토 마스크용 필름(600)이 유리기판(500)의 접착층(420)에 접면되도록 한다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)을 오른쪽으로 이동시키게 되면 유리기판(500) 하부에 접착층(420)이 위치되고 그 하부에 포토마스크용 필름(600)이 위치되어 상기 접착층(420)에 포토마스크용 필름(600)이 접면되도록 하는 것이다.The glass substrate mounting
(19) 제 19 공정(S190):(19) 19th process (S190):
접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210)의 좌측에 배치되는 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 상승시킨다. 즉, 포토마스크용 필름(600)을 유리기판(500)에 강하게 압착하면서 부착시킬 수 있도록 하기 위해서 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)을 상부로 상승시키며, 이때 상승위치는 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널(210) 위치까지이다.The adhesive and the photomask film pressing means 300 which are disposed on the left side of the adhesive and photomask film mounting
(20) 제 20 공정(S200):(20) 20th process (S200):
포토마스크용 필름(600)이 부착된 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌측으로 이동시키되 압착수단(300)이 포토마스크용 필름(600)의 하부를 유리기판(500)에 밀착시켜 포토마스크용 필름(600)과 유리기판(500)이 접착되면서 유리기판 장착용 진공패널(110)이 좌측으로 이동되도록 한다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)이 좌측으로 이동되는 도중에 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단(300)이 포토마스크용 필름(600)을 유리기판(500)에 강하게 압착시켜 상호 접착되도록 하면서 유리기판 장착용 진공패널(110)이 좌측으로 이동되도록 하는 것이다.The glass substrate mounting
(21) 제 21 공정(S210):(21) 21st process (S210):
포토마스크용 필름(600)이 부착된 유리기판 장착용 진공패널(110)을 좌측으로 완전히 이동시킨다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)이 레일(140)을 따라 좌측으로 완전히 이동되도록 함으로서 원래 유리기판 장착용 진공패널(110)의 위치로 복귀시키는 것이다.The glass substrate mounting
(22) 제 22 공정(S220):(22) 22nd process (S220):
포토마스크용 필름(600)이 부착된 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시켜 유리기판(500)이 유리기판 장착용 진공패널(110)의 상부에 위치되도록 한다. 즉, 유리기판 장착용 진공패널(110)을 180도 회전시켜 포토마스크용 필름(600)이 부착된 유리기판(500)이 상부로 위치되도록하며, 작업이 마무리되면 유리기판 장착용 진공패널(110)의 진공압을 해제시켜 유리기판 장착용 진공패널(110)로부터 유리기판(500)을 이탈시킨다.The
이상의 설명은 본 발명의 기술사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 즉, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 것이 아니라 설명하기 위한 것이기 때문에 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 아래 청구범위의 의하여 해석되 어야 하며, 그와 동등한 범위내에 있는 모든 기술사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. That is, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention but to describe the scope of the technical spirit of the present invention by these embodiments. Therefore, the protection scope of the present invention should be interpreted by the claims below, and all technical ideas within the equivalent scope should be construed as being included in the scope of the present invention.
도 1은 유리기판 장착용 진공패널과, 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널을 배치한 동작 상태도.1 is a view showing an operation state in which a vacuum panel for mounting a glass substrate and a vacuum panel for mounting an adhesive and a photomask film are arranged.
도 2는 유리기판 장착용 진공패널에 유리기판을 배치한 동작 상태도.2 is a view illustrating an operation state in which a glass substrate is disposed in a glass panel mounting vacuum panel.
도 3은 유리기판 상하 회전축을 구동하여 유리기판을 하부로 위치이동 시키는 동작 상태도.3 is an operation state diagram for moving the glass substrate up and down the axis of rotation to move the glass substrate to the lower position.
도 4는 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널의 상부에 배치된 접착제로부터 제 1 이형지층을 제거하는 동작 상태도.Figure 4 is an operating state of removing the first release paper layer from the adhesive disposed on top of the vacuum panel for mounting the adhesive and photomask film.
도 5는 제 2 이형지 롤러를 좌측 끝단으로 이송시켜 제 1 이형지층을 완전히 제거한 동작 상태도.5 is an operation state in which the first release paper layer is completely removed by transferring the second release paper roller to the left end;
도 6은 유리기판 장착용 진공패널을 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널측으로 이송시키는 동작 상태도.6 is an operation state diagram for transferring the glass substrate mounting vacuum panel to the adhesive and photomask film mounting vacuum panel side.
도 7은 유리기판 장착용 진공패널을 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널과 겹치는 동작 상태도.7 is an operation state of overlapping the glass panel mounting vacuum panel and the adhesive and photomask film mounting vacuum panel.
도 8은 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단을 상승시키는 동작 상태도.8 is an operating state of raising the adhesive and the photomask film pressing means.
도 9는 유리기판 장착용 진공패널을 좌측으로 이송시키면서 접착층을 유리기판에 접착시키는 동작 상태도.9 is an operational state diagram of adhering the adhesive layer to the glass substrate while transferring the glass panel mounting vacuum panel to the left side.
도 10은 유리기판 장착용 진공패널을 좌측 끝단으로 이송시켜 접착층을 유리기판에 완전히 부착시키는 동작 상태도.10 is a view showing an operation state in which a vacuum substrate for mounting a glass substrate is transferred to the left end so that the adhesive layer is completely attached to the glass substrate.
도 11은 접착제 및 포토마스크 필름 압착 수단을 하강 시키는 동작 상태도.11 is an operational state diagram for lowering the adhesive and the photomask film pressing means.
도 12는 유리기판이 유리기판 장착용 진공패널 상부에 위치되도록 회전시키는 동작 상태도.12 is an operation state in which the glass substrate is rotated to be positioned above the glass panel mounting vacuum panel.
도 13은 포토 마스크용 필름을 접착제 및 포토 마스크 필름 장착용 진공패널의 상부에 위치시키는 동작 상태도.FIG. 13 is an operation state diagram in which the film for photomask is placed on the vacuum panel for attaching the adhesive and photomask film; FIG.
도 14는 제 1 이형지 제거용 롤러를 이용하여 제 2 이형지층을 제거하는 동작 상태도.14 is an operation state diagram of removing the second release paper layer using the first release paper removal roller.
도 15는 제 1 이형지 제거용 롤러를 우측 끝단으로 이송하여 제 2 이형지층을 완전히 제거하는 동작 상태도.FIG. 15 is an operation state diagram of completely removing the second release paper layer by transferring the first release paper removing roller to the right end; FIG.
도 16은 제 1 이형지 제거용 롤러를 좌측 끝단으로 원위치 시키는 동작 상태도.FIG. 16 is an operation state diagram in which the first release paper removing roller is returned to the left end; FIG.
도 17은 유리기판이 하부에 위치되도록 유리기판 장착용 진공패널을 회전시키는 동작 상태도.17 is an operation state of rotating the glass substrate mounting vacuum panel so that the glass substrate is located at the bottom.
도 18은 유리기판 장착용 진공패널을 우측으로 이송시켜 포토 마스크용 필름에 접촉 시키는 동작 상태도.18 is a view illustrating an operation state in which a glass substrate mounting vacuum panel is transferred to a right side to be in contact with a film for a photo mask.
도 19는 접착제 및 포토 마스크 필름 압착수단을 상승시키는 동작 상태도.19 is an operational state diagram for raising the adhesive and the photo mask film pressing means.
도 20은 유리기판에 포토마스크 필름을 압착시키면서 좌측으로 이송시키는 동작 상태도.20 is an operation state to transfer to the left side while pressing the photomask film on the glass substrate.
도 21은 유리기판 장착용 진공 패널을 완전히 좌측으로 이송시키는 동작 상태도.Fig. 21 is an operational state diagram of completely transferring the glass substrate mounting vacuum panel to the left side;
도 22는 유리기판 장착용 진공패널을 180도 회전시켜 유리기판이 상부에 위 치되도록 하는 동작 상태도.FIG. 22 is a view illustrating an operation state in which a glass substrate is mounted on the upper side by rotating the glass panel mounting vacuum panel 180 degrees. FIG.
도 23은 본 발명에 의한 반도체 및 디스플레이 패널용 포토마스크를 나타낸 분해 사시도.23 is an exploded perspective view showing a photomask for a semiconductor and a display panel according to the present invention.
도 24는 본 발명에 의한 도 23의 포토마스크에 대한 결합상태 단면도.24 is a cross-sectional view of the bonding state of the photomask of Figure 23 according to the present invention.
도 25는 본 발명의 포토마스크에 있어 필름마스크의 구조를 보인 단면 상세도.25 is a detailed cross-sectional view showing the structure of a film mask in the photomask of the present invention.
도 26은 본 발명에 의해 필름 마스크를 유리기판에 부착한 실시예도.Fig. 26 is an embodiment in which a film mask is attached to a glass substrate according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100: 유리기판 구동수단100: glass substrate driving means
110: 유리기판 장착용 진공패널110: glass panel mounting vacuum panel
120: 진공패널 상하 회전축120: vertical axis of the vacuum panel
130: 제 1 이형지 제거용 롤러130: first release paper removal roller
140: 진공패널 좌우 이송용 레일140: vacuum panel left and right transfer rail
200: 접착제 및 포토마스크용 필름 장착수단200: film mounting means for the adhesive and photomask
210: 접착제 및 포토마스크 필름 장착용 진공패널210: vacuum panel for mounting adhesive and photomask film
220: 제 2 이형지 제거용 롤러220: second release paper removal roller
300: 접착제 및 포토마스크 필름 압착수단300: adhesive and photomask film pressing means
400: 접착제400: adhesive
410: 제 1 이형지층410: first release layer
420: 접착층420: adhesive layer
430: 제 2 이형지층430: second release layer
500: 유리기판500: glass substrate
600: 포토마스크용 필름600: film for photomask
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111326081A (en) * | 2020-03-20 | 2020-06-23 | 深圳视爵光旭电子有限公司 | Preparation method of novel display screen external member and special clamp |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020142234A1 (en) | 2001-03-29 | 2002-10-03 | Hansel Gregory A. | Photomask |
KR20080064718A (en) * | 2007-01-04 | 2008-07-09 | 가부시키가이샤 히타치플랜트테크놀로지 | A film adherence method and apparatus |
JP2009093027A (en) | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Csun Mfg Ltd | Crimping structure of crimping machine for mask pattern film and crimping method of the same |
-
2009
- 2009-08-12 KR KR1020090074052A patent/KR100929110B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020142234A1 (en) | 2001-03-29 | 2002-10-03 | Hansel Gregory A. | Photomask |
KR20080064718A (en) * | 2007-01-04 | 2008-07-09 | 가부시키가이샤 히타치플랜트테크놀로지 | A film adherence method and apparatus |
JP2009093027A (en) | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Csun Mfg Ltd | Crimping structure of crimping machine for mask pattern film and crimping method of the same |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111326081A (en) * | 2020-03-20 | 2020-06-23 | 深圳视爵光旭电子有限公司 | Preparation method of novel display screen external member and special clamp |
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