KR100921962B1 - Background operation for memory cells - Google Patents

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Abstract

메모리 셀들(105)에서 작동(예를들면, 삭제, 프로그램, 또는 읽기)을 수행하기 위한 기술은 메모리 셀들의 게이트들(111,113)에 연속적인 작동 전압 보다는 주기적으로 작동 전압을 인가하는 것이 더 낫다. 이는 작동하는 동안 소비된 전력을 감소시킨다. 선택된 메모리 셀들이 작동되는 동안 동적 작동 또는 기본 삭제와 같은 기본 작동은 또한 읽기, 프로그램 또는 삭제와 같은 나머지 작동들을 허용한다. 이는 연속적인 작동과 비교하여 동적 작동을 사용하는 집적회로의 작동상의 속도를 향상시킨다. 기본 삭제를 위한 실시예에서, 상기 삭제 게이트들은 전류펌프을 사용하여 삭제 전압으로 충전된다(204,208). 상기 펌프는 그런 다음 턴 오프되며(212), 상기 삭제 게이트들은 동적으로 삭제 전압으로서 지속된다(216). 삭제 게이트에서의 상기 삭제 전압은 메모리 셀들이 완전히 삭제될 때까지 필요에 따라 주기적으로 검사되며 리프레시될 것이다(224). 전하 펌프가 오프되어 삭제 전압이 삭제 게이트들에 동적으로 유지되는 동안, 다른 작동들은, 아마도 나머지 메모리 셀들에서, 수행될 수 있다(220).
Techniques for performing an operation (e.g., erase, program, or read) in memory cells 105 are better to apply the operating voltage periodically to the gates 111 and 113 of the memory cells than to the continuous operating voltage. This reduces the power consumed during operation. While the selected memory cells are active, basic operations such as dynamic operation or basic erase also allow the remaining operations such as read, program or erase. This improves the operational speed of integrated circuits using dynamic operation as compared to continuous operation. In an embodiment for basic erase, the erase gates are charged to the erase voltage using a current pump (204, 208). The pump is then turned off 212 and the erase gates dynamically persist as a erase voltage (216). The erase voltage at the erase gate will be periodically checked and refreshed as needed until the memory cells are completely erased (224). While the charge pump is off to keep the erase voltage dynamically at the erase gates, other operations may be performed 220, perhaps in the remaining memory cells.

Description

메모리 셀을 위한 기본 작동{BACKGROUND OPERATION FOR MEMORY CELLS}Basic operation for memory cells {BACKGROUND OPERATION FOR MEMORY CELLS}

본 발명은 비휘발성의 삭제할 수 있는 프로그램 가능한 메모리들 및 특히, 이러한 메모리 유형들의 삭제(erasing), 프로그래밍(programming), 또는 읽기(reading)를 위한 기술에 관한 것이다.The present invention relates to nonvolatile erasable programmable memories and, in particular, techniques for erasing, programming, or reading these memory types.

메모리(memory) 및 저장소자(storage)는 정보화 시대의 성장을 가능하게 하는 핵심 기술 영역의 하나이다. 인터넷의 급속한 성장에 의해, 월드 와이드 웹(WWW), 무선 전화, 개인 디지털 보조 수단, 디지털 카메라, 디지털 음악 재생기, 컴퓨터, 네트워크, 및 계속적으로 더 좋은 메모리 및 저장 기술을 필요로 한다. 특정 메모리 유형으로 비휘발성 메모리가 있다. 비휘발성 메모리는 전원이 제거되더라도 그것의 메모리 또는 저장된 상태로 존재한다. 비휘발성의 삭제할 수 있는 프로그래밍 가능한 메모리들 중에는 플래시, EEPROM, EPROM, MRAM, FRAM, 강유전성 및 자기성의 메모리를 포함한다. 비휘발성 저장 제품들 중에는 컴팩트플래시(CompactFlash, CF) 카드, 멀티미디어 카드(MMC), 플래시 PC 카드(예를 들면, ATA 플래시 카드), 스마트미디어카드 및 메모리스틱을 포함한다.Memory and storage are one of the key technology areas that enable the growth of the information age. The rapid growth of the Internet requires the World Wide Web (WWW), wireless phones, personal digital assistants, digital cameras, digital music players, computers, networks, and continually better memory and storage technologies. One particular memory type is nonvolatile memory. Non-volatile memory remains in its memory or stored state even when power is removed. Nonvolatile erasable programmable memories include flash, EEPROM, EPROM, MRAM, FRAM, ferroelectric and magnetic memories. Non-volatile storage products include CompactFlash (CF) cards, multimedia cards (MMC), flash PC cards (eg, ATA flash cards), smart media cards and memory sticks.

널리 사용되는 반도체 메모리 저장 셀(cell)의 유형으로 부동 게이트(floating gate) 메모리 셀이 있다. 부동 게이트 메모리 셀의 유형들 중에는 플래시, EEPROM, 및 EPROM을 포함한다. 상기 메모리 셀들은 바람직한 구성 상태를 위해 구성되거나 또는 프로그램된다. 특히, 전하(electric charge)는 메모리를 두개 이상의 저장된 상태들로 만들기 위해 플래시 메모리 셀의 부동 게이트로부터 위치되거나 제거된다. 대안적으로, 기술(technology) 및 전문 용어(terminology)에 따라, 프로그램된 상태 및 하나 이상의 삭제된 상태들로 존재할 수 있다. 플래시 메모리 셀은 적어도 2개의 2진 상태, 즉 0 또는 1로 나타내어 사용될 수 있다. 플래시 메모리 셀은 00, 01,10 또는 11과 같이, 2개의 2진 상태보다 더 저장시킬 수 있다; 상기 셀은 다중 상태들을 저장할 수 있으며, 다중상태 메모리 셀로 불릴 수 있다. 상기 셀은 하나 이상의 프로그램된 상태들을 가질 수 있다. 하나의 상태가 삭제된 상태(00)라면, 상태들의 실제 인코딩이 변화할지라도, 프로그램된 상태들은 01, 10 및 11이 될 것이다.A widely used type of semiconductor memory storage cell is a floating gate memory cell. Types of floating gate memory cells include flash, EEPROM, and EPROM. The memory cells are configured or programmed for the desired configuration state. In particular, electrical charge is located or removed from the floating gate of the flash memory cell to make the memory into two or more stored states. Alternatively, there may be a programmed state and one or more deleted states, depending on technology and terminology. Flash memory cells may be used, represented by at least two binary states, i.e., zero or one. Flash memory cells can store more than two binary states, such as 00, 01, 10 or 11; The cell may store multiple states and may be called a multistate memory cell. The cell may have one or more programmed states. If one state is the deleted state (00), the programmed states will be 01, 10, and 11 even if the actual encoding of the states changes.

비휘발성 메모리들의 성과에도 불구하고, 또한 기술을 향상시키기 위한 요구가 계속된다. 이러한 메모리들의 밀도, 속도, 내구성, 및 신뢰성을 향상시키는 것은 바람직하다. 또한 전력 소비를 줄이는 것도 바람직하다. 보여진 바와 같이, 비휘발성 메모리들의 작동을 개선하기 위한 요구가 있다. 특히, 비휘발성 메모리 셀들의 기본 작동을 허용함으로써, 이는 작동들을 빠르게 하며 전력소비를 감소시킬 것이다.Despite the performance of nonvolatile memories, there is also a continuing need to improve the technology. It is desirable to improve the density, speed, durability, and reliability of such memories. It is also desirable to reduce power consumption. As shown, there is a need to improve the operation of nonvolatile memories. In particular, by allowing basic operation of non-volatile memory cells, this will speed up operations and reduce power consumption.

발명의 개요Summary of the Invention

본 발명은 메모리 셀들의 게이트에 연속 전압(continuous voltage)보다 작동전압(operating voltage)을 동적으로 인가하여 비휘발성 메모리 셀의 삭제(erasing), 프로그래밍(programming), 또는 읽기(reading) 기술을 제공한다. 이는 작동하는 동안 소비된 전력을 경감시킨다. 동적 삭제, 동적 프로그램, 동적 읽기과 같은 동적 작동은 또한 선택된 메모리 셀들이 활성화되는 동안 발생하는 읽기, 프로그램 또는 삭제와 같은 임의의 작동을 허용한다. 동적 작동은 연속적인 작동(continuous operation)과 비교하여 집적회로의 작동 속도를 향상시킨다. 상기 기술은 또한 기본 삭제, 기본 프로그램, 또는 기본 읽기과 같은 기본 작동으로 불릴 수 있다. 실시예에서, 게이트들은 전하 펌프(charge pump)를 사용하여 작동중인 또는 작동전압으로 충전된다. 작동중인 전압은 삭제 전압, 프로그램 전압 또는 읽기 전압이 될 수 있다. 상기 펌프는 그런 다음 비접속되며, 게이트들은 동적으로 전압으로서 지속된다. 게이트들에서의 작동전압은 주기적으로 검사되며, 필요에 따라 리프레시된다. 전하 펌프가 비접속되어 작동전압이 동적으로 게이트들에 지속되는 동안, 다른 작동들은, 아마도 다른 메모리 셀들에서, 수행될 수 있다.The present invention provides a technique for erasing, programming, or reading nonvolatile memory cells by dynamically applying an operating voltage rather than a continuous voltage to the gates of the memory cells. . This reduces the power consumed during operation. Dynamic operations such as dynamic erase, dynamic program, dynamic read also allow any operation such as read, program or delete that occurs while selected memory cells are activated. Dynamic operation improves the operating speed of integrated circuits as compared to continuous operation. The technique may also be called basic operations such as basic deletion, basic program, or basic read. In an embodiment, the gates are charged to a working or operating voltage using a charge pump. The working voltage can be the erase voltage, the program voltage or the read voltage. The pump is then disconnected, and the gates continue as voltage dynamically. The operating voltage at the gates is checked periodically and refreshed as needed. While the charge pump is disconnected so that the operating voltage dynamically persists to the gates, other operations may be performed, possibly in other memory cells.

일 실시예에서, 본 발명은 삭제 전압을 생성시키기 위해 전류 펌프에서의 변환을 포함하는 비휘발성 메모리가 내장된 집적회로를 작동하는 방법에 관한 것이다. 삭제을 위해 선택된 하나 이상의 비휘발성 메모리 셀들의 삭제 게이트는 삭제 전압으로 충전된다. 상기 전하 펌프는 비접속된다. 전하 펌프는 또한 그것이 비접속된 후에 턴 오프될 수 있다. 상기 삭제 게이트들은 전하 펌프가 비접속되는 동안 동적으로 삭제 전압을 유지하도록 허용된다. 선택된 비휘발성 메모리 셀들은 동적 삭제 전압을 사용하여 삭제된다.In one embodiment, the present invention is directed to a method of operating an integrated circuit with a nonvolatile memory that includes a conversion in a current pump to generate an erase voltage. The erase gate of one or more nonvolatile memory cells selected for erase is charged to the erase voltage. The charge pump is disconnected. The charge pump can also be turned off after it is disconnected. The erase gates are allowed to maintain the erase voltage dynamically while the charge pump is disconnected. The selected nonvolatile memory cells are erased using the dynamic erase voltage.

상기 전하 펌프는 삭제 게이트들상에 삭제 전압을 리프레시하기 위해 주기적 으로 접속된다. 삭제를 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 아닌 다른 비휘발성 메모리 셀들의 프로그래밍은 전하 펌프가 비접속되는 동안 허용된다. 삭제를 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 아닌 비휘발성 메모리 셀들의 읽기는 전하 펌프가 비접속되는 동안 허용된다.The charge pump is periodically connected to refresh the erase voltage on the erase gates. Programming of nonvolatile memory cells other than the nonvolatile memory cells selected for deletion is allowed while the charge pump is disconnected. Reading of nonvolatile memory cells other than the nonvolatile memory cells selected for deletion is allowed while the charge pump is disconnected.

선택된 비휘발성 메모리 셀들은 그들이 삭제되었는지를 알기 위해 검사될 수 있다. 만약 선택된 비휘발성 메모리들이 삭제되지 않았다면, 상기 전하 펌프는 삭제 게이트들상에서 삭제 전압을 리프레시하기 위해 접속된다. 상기 작동은 반복될 수 있다.Selected nonvolatile memory cells can be checked to see if they have been deleted. If the selected nonvolatile memories have not been erased, the charge pump is connected to refresh the erase voltage on the erase gates. The operation can be repeated.

또 다른 실시예에서, 본 발명은 게이트들에 주기적으로 작동중인 전압을 인가시킴으로써 선택된 메모리 셀들의 게이트들을 동적으로 충전하여 선택된 메모리 셀들의 삭제, 프로그래밍, 또는 읽기를 포함하는 집적회로 작동의 방법에 관한 것이다. 선택된 메모리 셀들이 아닌 다른 메모리 셀들에서의 작동들은 작동전압이 직접 게이트에 인가되지 않을 때 허용된다. 선택된 메모리 셀들이 삭제, 프로그램 또는 읽기로 고려될 때, 선택된 메모리 셀들의 게이트들은 그라운드로 방전된다. 선택된 메모리 셀들이 삭제될 때, 부동 게이트 트랜지스터의 VT는 일정하게 포지티브가 되거나 또는 네가티브가 된다.In yet another embodiment, the present invention relates to a method of operating an integrated circuit that includes erasing, programming, or reading selected memory cells by dynamically charging the gates of selected memory cells by applying a periodically operating voltage to the gates. will be. Operations in memory cells other than the selected memory cells are allowed when no operating voltage is applied directly to the gate. When the selected memory cells are considered erase, program or read, the gates of the selected memory cells are discharged to ground. When the selected memory cells are erased, the VT of the floating gate transistor is constantly positive or negative.

또 다른 실시예에서, 본 발명은 로우(row)와 컬럼(column)으로 정렬된 메모리 셀들의 배열을 포함하는 집적 회로이다. 많은 수의 전달 트랜지스터들이 존재하며, 각 메모리 셀 배열의 로우(row)에 접속된다. 많은 수의 펌프들이 존재하며 각 전달 트랜지스터들 중 하나에 접속된다. 펌프는 동적으로 각각의 전달 트랜지스터 를 통해 메모리 셀의 로우의 게이트들을 작동전압으로 충전시키며 상기 작동전압은 동적으로 각각의 전달 트랜지스터를 턴 오프시킴으로써 게이트들에 지속된다In yet another embodiment, the present invention is an integrated circuit that includes an array of memory cells arranged in rows and columns. A large number of transfer transistors exist and are connected to the rows of each memory cell array. There are a large number of pumps and are connected to one of each transfer transistor. The pump dynamically charges the gates of the row of memory cells through the respective transfer transistors to an operating voltage that is sustained at the gates by dynamically turning off each transfer transistor.

본 발명의 다른 목적, 특징 및 장점들은 하기의 자세한 설명 및 수반하는 도면의 고찰에 의해 명백해질 것이며, 여기에서 참조 명칭들 같은 것은 도면 곳곳의 특징들 같은 것을 나타낸다.Other objects, features and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description and the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like features throughout the drawings.

도 1은 메모리 셀들의 작동을 위한 메모리 셀들 및 회로의 배열을 나타낸다.1 shows an arrangement of memory cells and circuitry for the operation of memory cells.

도 2는 동적으로 메모리 셀들의 삭제를 위한 순서도를 나타낸다.2 shows a flow chart for dynamically deleting memory cells.

도 3은 동적으로 메모리 셀들의 작동을 위한 순서도를 나타낸다.3 shows a flowchart for the operation of memory cells dynamically.

도 4는 NOR 플래시 셀의 다이어그램을 나타낸다.4 shows a diagram of a NOR flash cell.

도 5는 일부 NAND 플래시 셀들의 다이어그램을 나타낸다.5 shows a diagram of some NAND flash cells.

비휘발성 저장소자를 제공하는 집적회로들은 비휘발성 삭제할 수 있는 프로그램 가능한 메모리 셀들을 포함한다. 비휘발성 메모리 셀들을 구비한 집적회로의 많은 유형들은 메모리, 마이크로컨트롤러, 마이크로프로세서, 및 프로그램가능한 논리부를 포함한다. 상기 비휘발성 메모리 집적회로들은 다른 비휘발성 메모리 집적회로들과 더 큰 메모리들을 형성하기 위해 결합될 수 있다. 비휘발성 메모리 집적회로들은 또한 컨트롤러, 마이크로프로세서, 임의 추출 기억장치(RAM), 또는 I/O 디바이스와 같은 나머지 집적회로들, 또는 구성요소들과 비휘발성 메모리 시스템 을 형성하기 위해 결합될 수 있다. 플래시 EEPROM 시스템의 예는 본 출원에서 언급 된 모든 참조들에 따른 참조로서 통합된 미국 특허 제 5,602,987호에서 개시된다. 앞으로 비휘발성 셀들 및 저장소자의 논의는 참조로서 통합된 미국특허 제 5,095,344호, 제 2,270,979호, 제 5,380,672호, 및 제 6,230,233호 내에 있다.Integrated circuits that provide nonvolatile storage include programmable memory cells that can be nonvolatile erased. Many types of integrated circuits with nonvolatile memory cells include memory, microcontrollers, microprocessors, and programmable logic. The nonvolatile memory integrated circuits may be combined with other nonvolatile memory integrated circuits to form larger memories. Non-volatile memory integrated circuits may also be combined with the remaining integrated circuits or components, such as a controller, microprocessor, random extraction memory (RAM), or I / O device, to form a non-volatile memory system. An example of a flash EEPROM system is disclosed in US Pat. No. 5,602,987, incorporated by reference in accordance with all references mentioned in this application. The discussion of nonvolatile cells and reservoirs in the future is in US Pat. Nos. 5,095,344, 2,270,979, 5,380,672, and 6,230,233, which are incorporated by reference.

비휘발성 저장 소자 또는 메모리 셀의 유형 중에는 플래시, EERPOM, 및 EPROM이 있다. 본 발명은 또한 변위 메모리, NRAM, FRAM, 자기적 강유전성 및 그밖의 많은 다른것들과 같은 메모리들의 다른 유형에 적용된다. 일반적으로 메모리 셀들은 로우와 컬럼으로 된 집적회로 내에서 정렬된다. 도 1은 플래시 메모리 셀들(105)의 배열을 나타낸다. 메모리 셀들의 상호연결부의 세부 사항들은 도표를 간략화하기 위해 도면에 나타내지 않는다. 메모리 셀들의 많은 다른 유형 및 구성들이 존재한다. 메모리 셀(105)은 다중비트 셀이며, 이는 참조로서 통합된 미국특허 제 5,712,180호에서 더 자세하게 설명된다. 상기 메모리 셀은 선택 또는 선택 게이트 라인(160), 우측 제어 게이트 또는 삭제 게이트(111), 및 좌측 제어 게이트 또는 삭제 게이트(113)를 가진다. 상기 우측 제어 게이트는 우측 부동 게이트 트랜지스터(TFRG)(115)의 제어 전극이며 좌측 제어 게이트 라인은 좌측 부동 게이트 트랜지스터(TFGL)(117)의 제어 전극이다. 상기 우측 및 좌측 제어 게이트들은 삭제 게이트 라인(159)에 접속된다. 선택 게이트 라인은 선택 트랜지스터(TSEL)(119)의 게이트에 접속된다. 디코더(166)는 선택 게이트 라인들에 접속된다. 상기 선택 게이트 라인들 및 로우에 상응하는 선택 게이트들은 디코더를 사용하는 로우에 의해 작동하게 되거나 또는 작동되지 않는다.Among the types of nonvolatile storage elements or memory cells are flash, EERPOM, and EPROM. The present invention also applies to other types of memories such as displacement memory, NRAM, FRAM, magnetic ferroelectrics and many others. In general, memory cells are arranged in an integrated circuit of rows and columns. 1 shows an arrangement of flash memory cells 105. Details of the interconnections of the memory cells are not shown in the figures to simplify the diagram. Many other types and configurations of memory cells exist. Memory cell 105 is a multi-bit cell, which is described in more detail in US Pat. No. 5,712,180, incorporated by reference. The memory cell has a select or select gate line 160, a right control gate or erase gate 111, and a left control gate or erase gate 113. The right control gate is the control electrode of the right floating gate transistor (TFRG) 115 and the left control gate line is the control electrode of the left floating gate transistor (TFGL) 117. The right and left control gates are connected to the erase gate line 159. The select gate line is connected to the gate of the select transistor (TSEL) 119. Decoder 166 is connected to the select gate lines. The select gate lines and the select gates corresponding to the row are enabled or disabled by the row using the decoder.

각 메모리 셀(105)을 위해, 2진 데이터를 저장하기 위한 두개의 부동 게이트 트랜지스터들 또는 셀들(115,117)이 존재한다. 이러한 각 부동 게이트 트랜지스터들은 데이터의 단일 비트 또는 다중 비트들을 저장할 수 있다. 데이터의 다중 비트들을 저장할 때, 상기 셀이 둘 이상의 VT(임계전압) 레벨을 가지도록 프로그램될 수 있기 때문에, 각 부동 게이트 셀은 또한 다중레벨 또는 다중비트 셀로 불릴 수 있다. 예를 들어, 각 부동 게이트 트랜지스터는 각 셀당 2비트, 각 셀당 4비트, 또는 각 셀당 훨씬 더 큰 수의 비트를 저장할 수도 있다.For each memory cell 105, there are two floating gate transistors or cells 115, 117 for storing binary data. Each of these floating gate transistors can store a single bit or multiple bits of data. When storing multiple bits of data, each floating gate cell may also be called a multilevel or multibit cell because the cell can be programmed to have more than one VT (threshold voltage) level. For example, each floating gate transistor may store two bits per cell, four bits per cell, or a much larger number of bits per cell.

부동 게이트 트랜지스터들은 선택적으로 드레인 또는 소스 라인(123,125), 제어 게이트 라인(113,111) 및 선택 라인들(160)상에 적절한 전압을 인가함으로써 구성된다. 예를 들면, 드레인 또는 소스 라인(123)은 트랜지스터(128)를 사용함으로써 선택적으로 접지될 수 있다.Floating gate transistors are optionally configured by applying an appropriate voltage on drain or source lines 123 and 125, control gate lines 113 and 111 and select lines 160. For example, drain or source line 123 may be selectively grounded by using transistor 128.

본 발명은 도 1에 나타낸 특정 메모리 셀 구조에 관해 기술될 것이며, 여기에 각 셀당 두개의 부동 게이트 트랜지스터들이 존재한다. 그러나, 본 발명은 또한 다른 메모리 셀 구조들에 적용될 수 있다. 예를 들면, 본 발명은 각 셀당 단일 부동 게이트 트랜지스터가 존재하는 메모리 셀들을 위해 사용될 수 있다. 또 다른 실시예에서, 각 셀에 단일 부동 게이트 트랜지스터 및 단일 선택 트랜지스터가 존재할 수 있다. 본 발명은 NOR 또는 NAND 배열들로 이루어진 메모리 셀들에 적용될 수 있다. 도 4는 NOR 셀의 예를 나타내며 반면에, 도 5는 NAND 셀의 예를 나타낸다.The present invention will be described with respect to the particular memory cell structure shown in FIG. 1, where there are two floating gate transistors for each cell. However, the present invention can also be applied to other memory cell structures. For example, the present invention can be used for memory cells in which there is a single floating gate transistor per cell. In yet another embodiment, there may be a single floating gate transistor and a single select transistor in each cell. The present invention can be applied to memory cells consisting of NOR or NAND arrays. 4 shows an example of a NOR cell, while FIG. 5 shows an example of a NAND cell.

실시예에서, 본 발명은 동적으로 메모리 셀들의 일부에 전압을 인가하는 단계 및 나머지 메모리 셀들에 또 다른 작동을 허용하는 단계의 기술을 제공한다. 일 부 메모리 셀들에 동적 전압을 인가함으로써, 이는 선택된 메모리 셀들상에 발생하는 동적 작동을 허용한다. 이러한 동적 작동은, 예를 들어, 동적 삭제, 동적 프로그램, 또는 동적 읽기가 될 수 있다.In an embodiment, the present invention provides a technique of dynamically applying a voltage to some of the memory cells and allowing another operation to the remaining memory cells. By applying a dynamic voltage to some memory cells, this allows dynamic operation to occur on selected memory cells. This dynamic operation can be, for example, dynamic deletion, dynamic program, or dynamic read.

특히, 메모리 셀들상의 작동중 하나는 선택된 부동 게이트 트랜지스터들을 삭제된 상태로 위치시키는 것이다. 이러한 논의는 동적 삭제에 집중되지만, 본 발명이 유사하게 동적 프로그램 및 동적 읽기를 포함하는 어떤 다른 동적 작동들에도 적용됨이 이해되었다. 삭제는 예를 들어, 0볼트 이하의 VT(임계전압)을 가지는 각 선택된 부동 게이트 디바이스들의 구성을 말한다. 삭제될 때, 상기 부동 게이트 트랜지스터는 심지어 게이트에 1볼트가 인가될 때에도 전류가 흐른다.In particular, one of the operations on memory cells is to place the selected floating gate transistors in an erased state. While this discussion focuses on dynamic deletion, it is understood that the present invention similarly applies to any other dynamic operations, including dynamic programs and dynamic reads. Deletion refers to the configuration of each selected floating gate device having, for example, a VT (threshold voltage) of zero volts or less. When erased, the floating gate transistor flows current even when one volt is applied to the gate.

선택된 메모리 셀들을 삭제하는 기술 중 하나는 삭제 게이트 라인(159)을 접속하는 것을 포함하며, 이때 삭제 전압을 위하여 메모리 셀들의 삭제 게이트에 접속된다. 상기 삭제 전압은 일반적으로 고전압이며, 이는 15 볼트 이상이 될 수 있다. 상기 삭제 전압은 약 15 볼트에서 약 22 볼트까지 될 수 있다. 상기 삭제 전압은 또한 전류펌프로써 알려진, 온-칩 고전압 펌프를 사용하여 발생될 수 있다. 나머지 실시예들에서, 삭제 접압은 오프-칩 소스에서 집적회로의 핀으로 제공될 수 있다.One technique for erasing selected memory cells includes connecting the erase gate line 159, where it is connected to the erase gate of the memory cells for the erase voltage. The erase voltage is generally a high voltage, which can be more than 15 volts. The erase voltage can be from about 15 volts to about 22 volts. The erase voltage can also be generated using an on-chip high voltage pump, also known as a current pump. In other embodiments, the erase voltage may be provided to the pins of the integrated circuit at the off-chip source.

메모리 셀들의 삭제 게이트들은 메모리 셀들이 삭제될 때까지 삭제 전압을 가지고 연속적으로 구동된다. 상기 메모리 셀들은 부동 게이트 디바이스들의 VT가 약 0 또는 그 미만으로 설정될 때 삭제된다. 일반적으로, 상대적으로 수많은 메모리 셀들이 동시에 삭제된다. 예를 들어, 플래시 카드와 같은 고형(solid) 상태 디 스크에서, 삭제는 섹터라고 불리는 셀들의 그룹에서 수행될 수 있다. 메모리 배열들 또는 셀들은 동시에 하나의 로우 또는 하나의 컬럼이 삭제될 수 있다. 또한, 집적 회로의 모든 메모리 셀들은 동시에 삭제된 벌크가 될 수 있다.The erase gates of the memory cells are continuously driven with the erase voltage until the memory cells are erased. The memory cells are erased when the VT of the floating gate devices is set to about zero or less. In general, a relatively large number of memory cells are deleted at the same time. For example, in a solid state disk such as a flash card, deletion may be performed in a group of cells called sectors. Memory rows or cells may be deleted one row or one column at a time. In addition, all memory cells of an integrated circuit may be bulk erased simultaneously.

일 실시예에서, 메모리 셀들은 그들이 프로그램된 상태로 위치될 수 있기 전에 삭제된 상태로 초기화된다. 연속적으로 선택 게이트를 구동함으로써 메모리 셀들을 삭제하는 기술은 결점들을 갖는다. 상기 삭제 작동은 일반적으로 10000의 1초 또는 심지여 1000의 1초로 발생한다. 메모리 셀들의 상태를 읽는 것(또는 감지하는 것)은 일반적으로 100만분의 1초가 소요된다. 메모리 셀들을 프로그래밍 하는 것은 일반적으로 10만분의 1초가 걸리며, 삭제 펌프 또는 전하 펌프를 변환하는 것은 1㎲ 내지 5㎲ 범위 내의 약간의 시간을 소요한다.In one embodiment, memory cells are initialized to a deleted state before they can be placed in a programmed state. The technique of erasing memory cells by driving the select gate continuously has drawbacks. The erase operation generally occurs at 1 second of 10000 or even 1 second of 1000. Reading (or sensing) the state of memory cells typically takes one millionth of a second. Programming memory cells typically takes one tenth of a second, and converting an erase pump or a charge pump takes some time in the range of 1 ms to 5 ms.

삭제 게이트를 연속적으로 구동함으로써 삭제할 때, 삭제 펌프는 턴온되어 일반적으로 전력을 소비한다: 삭제 펌프의 캐패시터들은 전력을 소비하는 고전압 클록 오실레이터를 사용하여 구동된다. 삭제 모드 동안 집적회로의 전력 소비는 일반적으로 0.01앰프이다. 상기 삭제 주기(cycle)는 삭제 게이트들에 삭제 전압을 인가하는 것을 시작으로 부동 게이트 디바이스들이 삭제될 때까지의 전체 시간 주기(이를테면, 10000분의 1초)이다. 삭제 작동 동안, 전체 삭제 주기 동안 발생하는 더이상의 다른 작동들은 없다. 삭제 모드 동안 다른 작동들이 수행되지 않는 이유들 중 하나는 삭제 모드 동안 전력 소비를 더 증가시키는 것이 바람직하지 않기 때문이다. 또 다른 이유는 프로그래밍 회로와 같은 어떤 특정 회로들은 수행될 수 없거나 또는 이중 업무를 달성할 수 없기 때문이다. When erased by continuously driving the erase gate, the erase pump is turned on and generally consumes power: The capacitors of the erase pump are driven using a high voltage clock oscillator that consumes power. The power consumption of the integrated circuit during erase mode is typically 0.01 amps. The erase cycle is the entire time period (eg, one hundredth of a second) from the application of the erase voltage to the erase gates until the floating gate devices are erased. During the delete operation, there are no more other operations occurring during the entire delete cycle. One of the reasons why other operations are not performed during the erase mode is because it is undesirable to further increase power consumption during the erase mode. Another reason is that certain specific circuits, such as programming circuits, cannot be performed or achieve dual tasks.                 

게다가, 신뢰성(reliability)은 연속적인 삭제 전압 구동에 의해 삭제할 때 발행될 수도 있다. 다중-섹터 삭제 모드에서, 모든 섹터(sector)들이 동일한(이를테면, 최고)전압으로 삭제될 때, 삭제 섹터에 가까스로 요구될 수도 있을 것이며, 따라서 불필요하게 빠른 삭제들을 스트레싱한다. 이는 일부 메모리 셀들이 과삭제되는 상황을 유도하며(이를테면, 필요보다 더 낮은 VT로 삭제됨), 이때 이러한 부동 게이트들에 잉여 스트레스를 낳는다. 이는 과스트레스된 부동 게이트 디바이스들의 수명을 감소시키도록 유도될 수 있다. 그러므로 과삭제(overerase)를 예방하기 위해, 단지 임의의 다중 섹터 삭제의 패턴들이 이용될 수 있다. 삭제 클록 및 삭제 펌프가 온되어 전체 삭제 작동하는 동안, 전류를 소모한다. 전원이 부족한 경우, 섹터 상태(예를들면, 섹터가 완전히 삭제되었는지 아닌지)는 불확실한 채 존재하며, 시간에 따라 크래쉬(crash)가 발생된다. 메모리 칩이 삭제 모드일 때, 일반적으로 다른 유형의 작동은 불가능하다.In addition, reliability may be issued when erasing by continuous erasing voltage driving. In a multi-sector erase mode, when all sectors are erased with the same (eg, highest) voltage, they may be required to barely erase sectors, thus stressing unnecessarily fast erases. This leads to a situation where some memory cells are over erased (eg, erased with a lower VT than necessary), which creates surplus stress in these floating gates. This can be induced to reduce the lifetime of overstressed floating gate devices. Therefore, in order to prevent overerase, only patterns of any multi-sector deletion can be used. The erase clock and erase pump are on to draw current during the entire erase operation. In the event of a power shortage, the sector state (e.g., whether or not the sector has been completely erased) remains uncertain and crashes over time. When the memory chip is in erase mode, other types of operation are generally not possible.

메모리 셀들을 삭제하는 것의 제안된 기술은 선택된 메모리 셀들의 제어 게이트(또는 삭제 게이트로 불려지기도 함)에 삭제 전압을 동적으로 인가하는 것이다. 상기 기술은 동적 삭제, 래치 삭제, 또는 기본 삭제로 불릴 수 있다. 도 2는 동적 삭제 기술의 흐름도를 나타낸다. 나머지 동적 작동들(예를들면, 동적 프로그램, 동적 읽기)을 위한 흐름도들도 유사하게 될 것이다. 특히, 동적 삭제는 전하 펌프(박스 204)을 턴온시킴으로써 메모리 셀들을 삭제하는 것을 포함한다. 예를 들어, 도 1에서, 선택된 삭제 펌프(151)(또는 삭제 및 디코드 회로로 불릴 수 있음)는 턴온되어 접속될 수 있으며 선택된 메모리 셀들에 적용될 수 있다. 상기 삭제 전압은 선택적으로 디코딩 회로를 사용하여 선택된 삭제 라인에 적용될 수 있다. 디코더 회로의 세부사항들은 나타내지 않지만, 임의의 일반적인 디코더 회로가 이용될 수 있다. 디코더 회로는 통과(pass) 트랜지스터들 및 논리 게이트들을 포함한다.A proposed technique for deleting memory cells is to dynamically apply an erase voltage to the control gate (or sometimes referred to as an erase gate) of the selected memory cells. The technique may be called dynamic deletion, latch deletion, or basic deletion. 2 shows a flow diagram of a dynamic deletion technique. The flow charts for the remaining dynamic operations (eg dynamic program, dynamic read) will be similar. In particular, dynamic deletion includes deleting memory cells by turning on the charge pump (box 204). For example, in FIG. 1, the selected erase pump 151 (or referred to as erase and decode circuit) may be turned on and connected and applied to selected memory cells. The erase voltage can optionally be applied to a selected erase line using a decoding circuit. Although details of the decoder circuit are not shown, any general decoder circuit may be used. The decoder circuit includes pass transistors and logic gates.

삭제 펌프 및 메모리 셀들 사이의 전달 트랜지스터(157)는 디코드 또는 프리디코드 회로의 일부일 수 있으며, 그것은 그 자체가 삭제 펌프에 접속될 수 있다. 트랜지스터(157)는 삭제 펌프의 삭제 전압을 삭제 게이트에 접속시키기 위해서 턴온된다. 삭제 게이트들로 구비된 삭제 라인에 전달 트랜지스터를 통한 삭제 펌프로부터 고 전압을 통과시키기 위해, 트랜지스터의 게이트는 고 전압 레벨(이를테면, 삭제전압)에서 전달 트랜시스터의 VT가 플러스될 필요가 있다.The transfer transistor 157 between the erase pump and the memory cells can be part of a decode or predecode circuit, which can itself be connected to the erase pump. Transistor 157 is turned on to connect the erase voltage of the erase pump to the erase gate. In order to pass a high voltage from the erase pump through the transfer transistor to the erase line equipped with erase gates, the gate of the transistor needs to be plus the VT of the transfer transistor at a high voltage level (eg, the erase voltage).

삭제 게이트들은 삭제 전압(박스 208)으로 충전된다. 상기 삭제 펌프는 게이트들이 충전된 후에 턴 오프되며(박스 212) 트랜지스터(157)가 턴 오프된다. 삭제(선택)트랜지스터들을 접속하는 삭제 라인(159)(또는 워드 라인으로 불리기도 함)상에 기생(parasitic) 캐패시턴스가 존재할 때, 삭제 전압은 삭제 게이트들에서 유지될 것이다(박스 216). 캐패시턴스의 양(amount)에 따라, 이는 일반적으로 상당히 크며(피코패러드 범위내), 주로 부동게이트로의 전하 전달로 인해 라인(159)상의 전하는 차츰 약해질 것이다. 라인(159)이 충전되는 시간 동안, 메모리 셀들은 동적 삭제 전압에 의해 동적으로 삭제될 것이다. 삭제 펌프가 비접속되거나 오프되는 동안, 나머지 작동들은 수행될 것이다(박스 220). 예를 들면, 다른 메모리 셀들은 프로그램되거나 또는 감지되며 읽게될 수 있다. The erase gates are charged to the erase voltage (box 208). The erase pump is turned off (box 212) after the gates are charged and transistor 157 is turned off. When there is a parasitic capacitance on the erase line 159 (or also called a word line) connecting the erase (selection) transistors, the erase voltage will be maintained at the erase gates (box 216). Depending on the amount of capacitance, this is generally quite large (within the picofarad range), and the charge on line 159 will gradually weaken mainly due to charge transfer to the floating gate. During the time that line 159 is charged, memory cells will be dynamically erased by the dynamic erase voltage. While the purge pump is disconnected or off, the remaining operations will be performed (box 220). For example, other memory cells may be programmed or sensed and read.                 

메모리 셀들의 동적 작동은 온-칩 논리, 오프-칩 논리, 온-칩 타이머, 오프-칩 타이머, 또는 그밖의 회로에 따라 기간(duration)을 가질 수 있다. 예를 들면, 몇 시간 후, 메모리 셀들은 그들이 삭제 되었는지 아닌지(박스 224)가 검사될 것이다. 이러한 검사는 감지(sense) 증폭기 회로 또는 그밖의 온-칩 지능(intelligence)을 사용하여 수행될 수 있다. 대안적으로, 메모리 셀들은 컨트롤러 집적회로와 같은 외부 회로에 의해 검사될 수 있다. 만약 삭제 되지 않았다면, 동적 삭제 작동은 다시 발생한다(박스 204,208,212,216,220 및 224). 상기 삭제 전압은 전체 삭제 전압 레벨을 위해 다시 리프레시될 수 있다(박스 216). 상기 삭제 전압은 점차적으로 삭제 게이트 당 작은 전류값의 등량에 의해 방전될 것이며, 부동 게이트들로부터 전자들 제거의 삭제 작동에 의해 소비될 것이다. 상기 동적 삭제 작동은 선택된 메모리 셀들이 삭제될 때까지 계속된다(박스 228). 상기 삭제된 메모리 셀들은 즉시 쓰게될 수 있다(또는 프로그램됨).Dynamic operation of memory cells may have a duration depending on on-chip logic, off-chip logic, on-chip timers, off-chip timers, or other circuitry. For example, after some time, the memory cells will be checked whether they have been deleted (box 224). This check can be performed using sense amplifier circuitry or other on-chip intelligence. Alternatively, the memory cells can be checked by an external circuit, such as a controller integrated circuit. If not deleted, the dynamic delete operation occurs again (boxes 204, 208, 212, 216, 220 and 224). The erase voltage can be refreshed again for the entire erase voltage level (box 216). The erase voltage will gradually be discharged by an equivalent amount of small current value per erase gate, and consumed by the erase operation of removing electrons from the floating gates. The dynamic erase operation continues until the selected memory cells are deleted (box 228). The deleted memory cells can be written to (or programmed) immediately.

작동의 동적 모드를 사용함으로써, 연속적인 삭제 전압 구동에 대해 기술된 상기 문제들이 해결된다. 본래부터 삭제 라인은 캐피시턴스를 갖고 있기 때문에(적어도 일부는 기생 캐패시턴스임), 삭제 게이트에 디지털-대-아날로그-컨버터(DAC)로 제어될 수 있는 바람직한 전압으로 인가될 수 있다. 그런 다음, 이를 구동하는 상기 전달 게이트(트랜지스터 157)는 턴오프된다. 전하는 나중에 전달 게이트가 다시 턴온될 때까지 삭제 라인상에 트랩된 채 존재하며, 그때 삭제 게이트는 리프레시되거나 또는 그라운드로 활발하게 방전된다.By using the dynamic mode of operation, the above described problems for continuous erase voltage driving are solved. Since the erase line inherently has capacitance (at least some of which is parasitic capacitance), it can be applied to the erase gate at a desired voltage that can be controlled digitally-to-analog-converter (DAC). Then, the transfer gate (transistor 157) that drives it is turned off. The charge remains trapped on the erase line until the transfer gate is later turned on again, at which time the erase gate is refreshed or actively discharged to ground.

삭제 라인이 그라운드로 활발하게 방전되는 많은 방법들이 있다. 상기 회로 는 펌프 및 디코드 회로(151)의 일부일 수 있다. 도 1은 일 실시예의 예제를 나타낸다. 방전 트랜지스터(163)은 삭제 라인과 그라운드 사이에 접속된다. 상기 방전 트랜지스터는 트랜지스터(157)의 측면, 펌프의 측면 또는 삭제 게이트들의 측면에 접속될 수 있다. 도 1에서, 트랜지스터(163)는 트랜지스터(157)의 펌프 측면에 접속된다. 이러한 방전 트랜지스터는 메모리 셀들이 삭제된 후에 삭제 라인을 방전시키기 위해 턴온된다.There are many ways in which the erase line is actively discharged to ground. The circuit may be part of the pump and decode circuit 151. 1 shows an example of one embodiment. The discharge transistor 163 is connected between the erase line and the ground. The discharge transistor may be connected to the side of the transistor 157, the side of the pump, or the side of the erase gates. In FIG. 1, transistor 163 is connected to the pump side of transistor 157. This discharge transistor is turned on to discharge the erase line after the memory cells are erased.

동적 삭제를 사용함으로써, 삭제 게이트들의 어떤 결합 또는 패턴은 사실상 동시 삭제로 래치될 수 있다. 삭제 게이트들은 다른 삭제 전압 레벨들로 방전될 수 있으며, 그들의 특정 요구에 의존하며, 이는 과스트레스(overstress)의 예방을 돕는다. 삭제 작동으로 삭제 게이트들의 하나 이상의 래칭 후, 칩 그 자체는 어떤 다른 작동을 수행할 수 있다(예를 들면, 읽기, 쓰기 또는 삭제). 예를 들면, 동적 삭제는 동시에 두개 이상의 삭제 라인들로부터 발생되는 것일 수 있다. 하지만, 삭제가 동적으로 발생되고 있는 특정한 세그먼트는 격리돼 떨어져 있어야 한다. 게다가, 동적 삭제는 임의의 바람직한 패턴으로 삭제 라인들상에 수행될 수 있다. 예를 들면, 메모리 셀들의 변화하는 로우들은 삭제될 수 있다. 상기 삭제 클록 및 삭제 펌프는 대부분의 삭제 작동 기간 동안 비활동적일 수 있으며, 전류를 저장한다. 전력 부족이 발생한다면, 그것은 트랩된 전하에 영향을 미치지 않으며, 그래서 단지 상대적으로 더 충분한 삭제가 발생될 것이다.By using dynamic erase, any combination or pattern of erase gates can actually be latched for simultaneous erase. The erase gates can be discharged to different erase voltage levels, depending on their specific needs, which helps to prevent overstress. After one or more latching of the erase gates in the erase operation, the chip itself may perform some other operation (eg, read, write or delete). For example, the dynamic erase may be from two or more erase lines at the same time. However, certain segments of which deletions are occurring dynamically must be isolated. In addition, dynamic deletion may be performed on deletion lines in any desired pattern. For example, changing rows of memory cells can be deleted. The erase clock and the erase pump may be inactive during most erase operations and store current. If a power shortage occurs, it does not affect the trapped charges, so only relatively sufficient deletion will occur.

게다가, 상기에 기술된 것처럼, 상기 삭제 작동은 읽기 또는 쓰기 작동과 같은 다른 작동들과 비교하여 상대적으로 긴 시간이 소요된다. 기본 특성을 사용하는 집적회로는 더 빠르게 작동할 것이다. 한편, 동일한 시간의 양에서 연속적인 삭제에 의한 집적회로와 비교하여 기본 삭제에 의한 집적회로 상에서 더 많은 작동들이 수행될 수 있다. 한 예로써, 읽기 작동은 약 2 ㎲가 소요될 수 있으며, 삭제 작동은 약 100㎲ 이상이 소요될 수 있으며, 그리고 프로그램 작동은 약 10㎲가 소요될 수 있다. 상기 읽기 작동은 삭제 작동보더 더 빠른 약 50배 또는 그 이상이다. 그러므로, 50배 이상의 읽기 작동들은 동적 삭제 작동으로써 동시에 발생할 수 있다. 프로그램 작동은 삭제 작동 보다 약 10배 이상 더 빠르다. 그러므로 10배 이상의 프로그램 작동들은 동적 삭제 작동에 따라 동시에 발생할 수 있다.In addition, as described above, the erase operation takes a relatively long time compared to other operations such as a read or write operation. Integrated circuits using basic features will work faster. On the other hand, more operations can be performed on integrated circuits with basic erases as compared to integrated circuits with consecutive erases in the same amount of time. As an example, the read operation may take about 2 ms, the delete operation may take about 100 ms or more, and the program operation may take about 10 ms. The read operation is about 50 times or more faster than the delete operation. Therefore, more than 50 times read operations can occur simultaneously as a dynamic erase operation. Program operation is about 10 times faster than delete operation. Therefore, more than 10 times program operations can occur simultaneously according to the dynamic erase operation.

삭제 게이트 상의 실제 전압은 파울러-노하임 터널링(Fowler-Nordheim tunneling)으로 인해 시간이 지나면서 부동 게이트들로 또는 접합 누설(junction leakage)로 감쇠하기 때문에, 리프레싱 작동들은 바람직한 레벨로 되돌릴 수 있거나 과구동(overdrive) 수치(value)가 대신 사용될 수 있다. 과구동 수치는 정규 수치보다 더 높은 약 0.5 볼트가 될 수 있다.Since the actual voltage on the gate attenuates to floating gates or junction leakage over time due to Fowler-Nordheim tunneling, the refreshing operations can be returned to the desired level or overdriven. (overdrive) A value can be used instead. The overdrive figure can be about 0.5 volts higher than the normal figure.

동적 삭제 작동을 충족시키기 위한 회로는 연속적인 또는 정적 삭제 작동을 위해 사용된 회로와 같이 매우 동일하다. 그러므로, 판(die) 크기의 제한은 없다. 게다가, 만약 약간의 이유가 있다면, 아마 프로세스 변동들로 인해, 작동의 이러한 모드는 불만족될 것이며, 연속적인 또는 정적의 삭제 전압을 사용하는 표준 삭제는여전히 이러한 집적 회로들을 위해 사용될 것이다. 프로세스 또는 다른 변동들 때문에 동적 작동이 기능적이지 않은 집적회로들이 여전히 포장 및 판매될 수 있다.The circuitry for satisfying the dynamic erase operation is very the same as the circuit used for the continuous or static erase operation. Therefore, there is no limitation of the die size. In addition, if for some reason, perhaps due to process variations, this mode of operation will be unsatisfactory, and standard erase using continuous or static erase voltages will still be used for these integrated circuits. Integrated circuits for which dynamic operation is not functional due to process or other variations can still be packaged and sold.

도 3은 본 발명의 대안적인 실시예를 나타내며, 이때 동적 또는 기본 작동은 엄밀히 말하면 삭제 작동이 아니다. 우선, 필요한 작동 전압을 발생시키기 위한 회로가 턴온된다(박스 303). 상기 회로는 온-칩 또는 오프-칩이 될 수 있다. 상기 회로는, 높은 논리 또는 낮은 논리의 출력을 위하여 예를 들면, 전하 펌프, 고전압 스위치, 또는 기본 논리 게이트가 될 수 있다.3 illustrates an alternative embodiment of the present invention wherein the dynamic or basic operation is not strictly a delete operation. First, the circuit for generating the required operating voltage is turned on (box 303). The circuit can be on-chip or off-chip. The circuit can be, for example, a charge pump, a high voltage switch, or a basic logic gate for output of high logic or low logic.

다음으로, 작동 전압은 하나 이상의 비휘발성 메모리 셀들의 하나 이상의 노드에 접속된다(박스 307). 상기 접속은, 예를 들면, 전달 또는 통과 트랜지스터 또는 논리 게이트의 방법에 의해 접속될 수 있다. 메모리 셀의 노드(node)는 드레인(drain), 소스(source), 게이트(gate), 삭제 게이트, 터널 노드(tunnel node), 또는 어떤 그밖의 다른 노드 또는 노드들이 될 수 있다. 상기 노드는 작동 전압으로 충전되며, 상기 전압은 기생 캐패시턴스를 포함하는 캐패시턴스에 의해 그곳에 동적으로 유지된다. 상기 작동 전압은 메모리 셀들로부터 비접속된다(박스 307).Next, the operating voltage is connected to one or more nodes of one or more nonvolatile memory cells (box 307). The connection can be connected, for example, by the method of a transfer or pass transistor or a logic gate. The node of the memory cell may be a drain, a source, a gate, an erase gate, a tunnel node, or some other node or nodes. The node is charged to an operating voltage, which voltage is held there dynamically by a capacitance comprising parasitic capacitance. The operating voltage is disconnected from the memory cells (box 307).

상기 동적 작동은 메모리 셀들에 발생한다(박스 311). 상기 동적 작동은 삭제, 프로그램 또는 읽기가 될 수 있다. 동적 작동이 발생하는 동안, 다른 메모리 셀들(동적으로 작동되지 않은)은 작동될 수 있다(박스 318). 예를 들면, 일부 메모리 셀들이 동적으로 프로그램되고 있는 동안, 나머지 메모리 셀들은 읽기가 될 수 있다, 또는, 약간 다른 시작 시간들로, 메모리 셀들의 두 부분에 동적 작동이 발생하는 곳에서 상호 배치된 프로그램, 삭제, 또는 읽기가 발생할 수 있다. 다른 작동들의 임의의 결합은 결합이 동적 작동들을 교란하거나 방해하지 않은 한 발생할 수 있다.The dynamic operation occurs in memory cells (box 311). The dynamic operation can be delete, program or read. While dynamic operation is occurring, other memory cells (not dynamically operated) can be activated (box 318). For example, while some memory cells are being dynamically programmed, the remaining memory cells may be read, or, with slightly different start times, interleaved where dynamic operation occurs in two parts of the memory cells. Program, delete, or read may occur. Any combination of other operations may occur as long as the coupling does not disturb or interfere with dynamic operations.

동적 작동은 그것이 완료되었는지 아닌지(박스 321)가 검사된다. 만약 그렇 다면, 상기 작동은 종료되며(박스 325) 다른 작동들은 메모리 셀들에서 작동이 단지 동적으로 발생할 수 있다. 한편 동적 작동은 그것이 완료될 때까지 다시 발생한다(박스 307,311,314,318 및 321). 동적 작동의 완료를 검사하기 위해 사용된 상기 회로는 온-칩, 오프-칩이 될 수 있으며, 감지 증폭기 또는 타이머(timer) 회로를 사용한다.Dynamic operation is checked whether it is complete (box 321). If so, the operation ends (box 325) and other operations can only occur dynamically in memory cells. Dynamic operation, on the other hand, occurs again until it is complete (boxes 307,311,314,318 and 321). The circuit used to check the completion of the dynamic operation can be on-chip, off-chip, and uses a sense amplifier or timer circuit.

도 4는 NOR 구성을 위한 비휘발성 메모리 셀을 나타낸다.4 shows a nonvolatile memory cell for a NOR configuration.

도 5는 NAND 구성에서의 비휘발성 메모리 셀들을 나타낸다.5 illustrates nonvolatile memory cells in a NAND configuration.

도 4와 도 5에서, 비휘발성 메모리 셀들은 플래시, EEPROM, 또는 EPROM과 같은 부동 게이트 디바이스들이다.4 and 5, the nonvolatile memory cells are floating gate devices such as flash, EEPROM, or EPROM.

본 발명의 상기 설명은 도시(illustration)와 설명(description)의 목적들로 진술되어 왔다. 이는 소모적이 되거나 정확한 구성을 위해 기술된 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않으며, 많은 변용 및 변동이 상기 기술의 관점으로 가능하다. 상기 실시예들은 본 발명의 원리 및 그것의 실제 응용들을 가장 잘 설명하기 위해 선택되며 기술된다. 상기 설명은 기술분야에서 다양한 실시예들 및 특정 사용을 위해 적합한 것으로써의 다양한 변용들로 본 발명을 가장 잘 이용하고 실행하기 위해 숙련된 그밖의 것들을 가능하게 할 것이다. 본 발명의 범위는 하기의 청구항들로 규정된다.The foregoing description of the invention has been stated for purposes of illustration and description. It is not intended to be exhaustive or to limit the invention described for the precise construction, and many variations and variations are possible in light of the above description. The above embodiments are chosen and described in order to best explain the principles of the invention and its practical applications. The foregoing description will enable others skilled in the art to best utilize and practice the invention in various embodiments and as various modifications as are appropriate for a particular use in the art. The scope of the invention is defined by the following claims.

Claims (23)

비휘발성 메모리 셀들을 구비한 집적회로를 동작시키는 방법으로서,A method of operating an integrated circuit having nonvolatile memory cells, the method comprising: 소거 전압을 발생시키기 위해 전하 펌프를 턴온하는 단계;Turning on the charge pump to generate an erase voltage; 소거를 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들의 하나 이상의 소거 게이트를 소거 전압으로 충전하는 단계;Charging one or more erase gates of nonvolatile memory cells selected for erase to an erase voltage; 상기 전하 펌프를 턴오프하는 단계;Turning off the charge pump; 상기 전하 펌프가 오프되는 동안 상기 소거 게이트가 소거 전압을 동적으로 유지하게 하는 단계; 및Causing the erase gate to dynamically maintain an erase voltage while the charge pump is off; And 상기 동적 소거 전압을 사용하여 상기 선택된 비휘발성 메모리 셀들을 소거하는 단계;Erasing the selected nonvolatile memory cells using the dynamic erase voltage; 를 포함하는 집적회로 동작 방법.Integrated circuit operating method comprising a. 제1항에 있어서, 상기 소거 게이트 상의 소거 전압을 리프레시하기 위해 상기 전하 펌프를 주기적으로 턴온하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.2. The method of claim 1 further comprising periodically turning on the charge pump to refresh the erase voltage on the erase gate. 제1항에 있어서, 상기 전하 펌프가 오프되는 동안, 상기 소거를 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 아닌 다른 비휘발성 메모리 셀들의 프로그래밍을 허용하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.The method of claim 1, further comprising allowing programming of nonvolatile memory cells other than the nonvolatile memory cells selected for erasing while the charge pump is off. 제2항에 있어서, 상기 전하 펌프가 오프되는 동안, 상기 소거를 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 아닌 다른 비휘발성 메모리 셀들의 독출을 허용하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.3. The method of claim 2 further comprising allowing reading of nonvolatile memory cells other than the nonvolatile memory cells selected for erasing while the charge pump is off. 제1항에 있어서, 각각의 비휘발성 메모리 셀이 두 개의 부동 게이트 트랜지스터와 하나의 선택 트랜지스터를 포함하고, 상기 선택 트랜지스터는 소거 게이트를 구비하는 집적회로 동작 방법.2. The method of claim 1 wherein each nonvolatile memory cell comprises two floating gate transistors and one select transistor, the select transistor having an erase gate. 제1항에 있어서, 상기 소거 전압이 15 볼트 내지 22 볼트 범위 내의 전압을 갖는 집적회로 동작 방법.The method of claim 1 wherein the erase voltage has a voltage in the range of 15 volts to 22 volts. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 소거되었는지 여부를 검사하는 단계; 및Checking whether the selected nonvolatile memory cells have been erased; And 상기 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 소거되지 않은 경우, 상기 소거 게이트 상의 소거 전압을 리프레시하기 위해 상기 전하 펌프를 턴온하는 단계;Turning on the charge pump to refresh the erase voltage on the erase gate when the selected nonvolatile memory cells are not erased; 를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.Integrated circuit operating method further comprising. 제1항에 있어서, 상기 전하 펌프가 오프되는 동안, 상기 소거를 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들에서의 동작이 아닌 상기 집적회로 내의 다른 동작을 허용하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.The method of claim 1, further comprising allowing other operations in the integrated circuit other than the operation in the nonvolatile memory cells selected for the erase while the charge pump is off. 제7항에 있어서, 상기 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 소거된 후, 상기 소거 게이트로부터 소거 전압을 방전시키는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.8. The method of claim 7, further comprising discharging an erase voltage from the erase gate after the selected nonvolatile memory cells are erased. 집적회로를 동작시키는 방법으로서,As a method of operating an integrated circuit, 선택된 메모리 셀들을 소거하는 단계로서, 소거 전압을 상기 선택된 메모리 셀들의 소거 게이트들에 주기적으로 직접 인가하여 상기 소거 게이트들을 동적으로 충전함으로써 수행되는 소거 단계;Erasing selected memory cells, the erase step being performed by dynamically applying an erase voltage to the erase gates of the selected memory cells periodically to dynamically charge the erase gates; 소거 전압이 상기 소거 게이트들에 직접 인가되지 않았을 때, 상기 선택된 메모리 셀들이 아닌 다른 메모리 셀들에서 동작을 허용하는 단계; 및Permitting operation in memory cells other than the selected memory cells when an erase voltage is not directly applied to the erase gates; And 상기 선택된 메모리 셀들이 소거되었을 때, 상기 선택된 메모리 셀들의 상기 소거 게이트들을 소거 전압 이하의 전압 레벨로 방전시키는 단계;When the selected memory cells are erased, discharging the erase gates of the selected memory cells to a voltage level equal to or less than an erase voltage; 를 포함하는 집적회로 동작 방법.Integrated circuit operating method comprising a. 제10항에 있어서, 상기 선택된 메모리 셀들은 부동 게이트 트랜지스터의 VT가 6 볼트 이상이 되면 소거되는 집적회로 동작 방법.The method of claim 10, wherein the selected memory cells are erased when the VT of the floating gate transistor is greater than 6 volts. 제10항에 있어서, 상기 집적회로의 모든 메모리 셀들이 상기 메모리 셀들의 모든 소거 게이트들을 동적으로 충전함으로써 소거를 위해 선택될 수 있는 직접회로 동작 방법.12. The method of claim 10 wherein all memory cells of the integrated circuit can be selected for erase by dynamically charging all erase gates of the memory cells. 제11항에 있어서, 각각의 메모리 셀이 부동 게이트 트랜지스터를 포함하는 직접회로 동작 방법.12. The method of claim 11 wherein each memory cell comprises a floating gate transistor. 제11항에 있어서, 각각의 메모리 셀이 다중비트 부동 게이트 트랜지스터를 포함하는 직접회로 동작 방법.12. The method of claim 11 wherein each memory cell comprises a multibit floating gate transistor. 로우(row)와 컬럼(column)으로 배열된 메모리 셀들의 어레이;An array of memory cells arranged in rows and columns; 상기 메모리 셀 어레이의 로우에 각각 연결된 복수의 전달 트랜지스터; 및A plurality of transfer transistors each connected to a row of the memory cell array; And 상기 전달 트랜지스터들 중 하나에 각각 연결된 복수의 소거 펌프로서, 소거 펌프는 각각의 전달 트랜지스터를 통해 메모리 셀들의 로우의 소거 게이트들을 소거 전압으로 동적으로 충전하고, 상기 각각의 전달 트랜지스터를 턴오프함으로써 소거 전압이 상기 소거 게이트들에서 동적으로 유지되는, 복수의 소거 펌프;A plurality of erase pumps, each coupled to one of the transfer transistors, wherein the erase pump dynamically charges erase gates of a row of memory cells through the respective transfer transistor to an erase voltage and turns off each transfer transistor by turning off each transfer transistor. A plurality of erase pumps, wherein a voltage is maintained dynamically at the erase gates; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적회로.Integrated circuit comprising a. 제15항에 있어서, 각각의 메모리 셀이,The method of claim 15, wherein each memory cell, 제1 제어 게이트를 구비한 제1 부동 게이트 트랜지스터;A first floating gate transistor having a first control gate; 제2 제어 게이트를 구비한 제2 부동 게이트 트랜지스터; 및A second floating gate transistor having a second control gate; And 소거 게이트를 구비하며, 제1 및 제2 부동 게이트 트랜지스터 사이에 연결된 선택 트랜지스터;A selection transistor having an erase gate and coupled between the first and second floating gate transistors; 를 포함하는 집적회로.Integrated circuit comprising a. 메모리 셀들에 대해 제어된 게이트 활동을 가지는 비휘발성 메모리를 구비한 집적회로를 동작시키는 방법으로서,A method of operating an integrated circuit having a nonvolatile memory having controlled gate activity for memory cells, the method comprising: 동작 전압을 발생시키기 위해 회로를 턴온하는 단계;Turning on the circuit to generate an operating voltage; 동작을 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들의 하나 이상의 게이트를 동작 전압으로 충전하는 단계;Charging one or more gates of the nonvolatile memory cells selected for operation to an operating voltage; 상기 게이트를 상기 회로로부터 단절시키는 단계;Disconnecting the gate from the circuit; 상기 회로가 오프되는 동안 상기 단절된 게이트가 동작 전압을 동적으로 유하게 하는 단계; 및Dynamically disconnecting the disconnected gate from the operating voltage while the circuit is off; And 상기 동적 동작 전압을 사용하여 상기 선택된 비휘발성 메모리 셀들을 동작시키는 단계;Operating the selected nonvolatile memory cells using the dynamic operating voltage; 를 포함하는 집적회로 동작 방법.Integrated circuit operating method comprising a. 제17항에 있어서, 상기 회로가 턴오프되면 상기 회로를 주기적으로 턴온하고, 능동적으로 방전되지 않은 상기 선택된 게이트에 재연결하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.18. The method of claim 17 further comprising periodically turning on the circuit when the circuit is turned off and reconnecting to the selected gate that is not actively discharged. 제17항에 있어서, 상기 전하 펌프가 이전에 선택된 소거 게이트들에 연결되지 않는 동안, 상기 동작을 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 아닌 다른 비휘발성 메모리 셀들의 프로그래밍을 허용하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.18. The integrated circuit of claim 17, further comprising allowing programming of nonvolatile memory cells other than the nonvolatile memory cells selected for operation while the charge pump is not connected to previously selected erase gates. How it works. 제17항에 있어서, 상기 전하 펌프가 이전에 선택된 소거 게이트에 연결되지 않는 동안, 상기 동작을 위해 선택된 비휘발성 메모리 셀들이 아닌 다른 비휘발성 메모리 셀들의 독출을 허용하는 단계를 더 포함하는 집적회로 동작 방법.18. The integrated circuit operation of claim 17, further comprising allowing readout of nonvolatile memory cells other than the nonvolatile memory cells selected for operation while the charge pump is not connected to a previously selected erase gate. Way. 제17항에 있어서,The method of claim 17, 열거된 동작이 달성되었는지 여부를 평가하는 단계; 및 Evaluating whether the listed operations have been achieved; And 상기 선택된 비휘발성 메모리 셀들에서 열거된 동작이 달성되지 않은 경우, 상기 게이트 상에서 동작 전압을 리프레시하기 위해 상기 전하 펌프를 연결하는 단계;Coupling the charge pump to refresh the operating voltage on the gate if the listed operation in the selected nonvolatile memory cells has not been achieved; 를 포함하는 집적회로 동작 방법.Integrated circuit operating method comprising a. 집적회로를 동작시키는 방법으로서,As a method of operating an integrated circuit, 비휘발성 메모리 셀들의 제1 부분에 동작 전압을 연결하는 단계;Coupling an operating voltage to the first portion of the nonvolatile memory cells; 상기 메모리 셀들의 제1 부분의 노드를 동작 전압으로 충전하는 단계;Charging a node of the first portion of the memory cells to an operating voltage; 상기 동작 전압을 상기 메모리 셀들의 상기 제1 부분의 노드로부터 단절시키는 단계;Disconnecting the operating voltage from a node of the first portion of the memory cells; 상기 메모리 셀들의 제1 부분의 상기 노드가 상기 동작 전압을 동적으로 유지하게 하는 단계; 및Causing the node of the first portion of the memory cells to dynamically maintain the operating voltage; And 상기 메모리 셀들의 상기 제1 부분에서 동적으로 동작하는 단계;Operating dynamically in the first portion of the memory cells; 를 포함하는 집적회로 동작 방법.Integrated circuit operating method comprising a. 제22항에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 셀들의 제1 부분이 동적으로 동작되고 있는 동안, 상기 비휘발성 메모리 셀들의 제2 부분에서 동작을 허용하는 단계를 더 포함하는 직접회로 동작 방법.23. The method of claim 22, further comprising allowing operation in the second portion of the nonvolatile memory cells while the first portion of the nonvolatile memory cells is being operated dynamically.
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