KR100907983B1 - Composition for anisotropic conductive film with excellent adhesive strength and anisotropic conductive film using same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치(LCD)를 비롯한 각종 디스플레이 장치 및 반도체 장치의 실장에 사용 가능한 이방 전도성 필름용 조성물 및 이방 전도성 필름을 제공한다. 보다 상세하게는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 바인더로 하여 가열ㆍ압착시 높은 흐름성을 보이고, 저온속경화성을 유지하며 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 적절히 가교시킬 수 있는 복합 라디칼 개시제 시스템을 사용하여 고온고습의 가혹조건 하에서도 접착력 유지가 우수한 이방 전도성 필름을 제공한다.The present invention provides a composition for an anisotropic conductive film and an anisotropic conductive film which can be used for mounting various display devices and semiconductor devices, including liquid crystal displays (LCDs). More specifically, high temperature is achieved by using a complex radical initiator system capable of crosslinking the ethylene-vinylacetate copolymer with high flowability during heating and pressing with the ethylene-vinylacetate copolymer as a binder and maintaining low temperature fast curing. It provides an anisotropic conductive film excellent in maintaining adhesion even under the harsh conditions of high humidity.

회로 접속 재료, 이방 전도성 필름, 에틸렌 비닐아세테이트 공중합체, 라디칼 중합성 물질, 라디칼 개시제, 반감기 Circuit connection material, anisotropic conductive film, ethylene vinyl acetate copolymer, radically polymerizable material, radical initiator, half life

Description

접착력 유지가 우수한 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방전도성 필름{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM COMPOSITION HAVING A GOOD MAINTENANCE OF ADHESIVE STRENGTH AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM USING THEREOF}Composition for anisotropic conductive films with excellent adhesive strength and anisotropic conductive film using same TECHNICAL FIELD

본 발명은 흐름성이 높으면서도 접착력 유지가 우수한 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방전도성 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 흐름성이 우수한 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(以下, EVA) 및 저온속경화성, EVA 가교성을 갖는 복합 라디칼 개시제 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름에 관한 것이다. The present invention relates to an anisotropic conductive film composition having a high flowability and excellent adhesion, and an anisotropic conductive film using the same, and more particularly, an ethylene-vinylacetate copolymer (below EVA) having excellent flowability and low temperature fast curing property. It relates to an anisotropic conductive film composition and an anisotropic conductive film using the same, comprising a composite radical initiator system having EVA crosslinkability.

이방 전도성 필름이란 일반적으로 니켈(Ni)이나 금(Au) 등의 금속 입자, 또는 그와 같은 금속들로 코팅된 고분자 입자 등의 전도성 입자를 분산시킨 필름상의 접착제를 말하는 것으로, 이를 접속시키고자 하는 회로 사이에 위치시킨 후 일정 조건의 가열, 가압 공정을 거치면, 상하의 회로 단자들 사이는 전도성 입자에 의해 전기적으로 접속되고, 좌우의 인접 회로간 공간에는 절연성 접착 수지가 충진되어 전도성 입자가 서로 독립하여 존재하게 되기 때문에 높은 절연성을 부여하게 되는 것이다. 이러한 이방 전도성 필름은 LCD 패널과 COF 필름, 테이프 캐리어 패키지(Tape Carrier Package; 이하 TCP라 부른다), 또는 인쇄회로기판과 COF 필름, TCP 등의 전기적 접속에 널리 이용되고 있다.The anisotropic conductive film generally refers to a film adhesive in which conductive particles such as metal particles such as nickel (Ni) and gold (Au) or polymer particles coated with such metals are dispersed. When placed between circuits and subjected to heating and pressurization process under certain conditions, the upper and lower circuit terminals are electrically connected by conductive particles, and insulating adhesive resin is filled in the spaces between adjacent circuits on the left and right sides so that the conductive particles are independent of each other. Since it exists, it gives high insulation. Such anisotropic conductive films are widely used for electrical connection of LCD panels, COF films, tape carrier packages (hereinafter referred to as TCP), or printed circuit boards, COF films, TCP, and the like.

한편 최근 대형화 및 박형화 추세에 있는 디스플레이 산업의 경향에 따라 전극 및 회로들 간의 피치 또한 점차 미세화되고 있으며, 이러한 미세 회로 단자들을 접속하기 위한 배선 기구 중의 하나로서 이방 전도성 필름은 매우 중요한 역할을 수행하고 있다. 그 결과 이방 전도성 필름은 칩 온 글래스(Chip On Glass) 실장이나 칩 온 필름(Chip On Film) 실장 등의 접속 재료로서도 많은 주목을 받고 있다.On the other hand, with the trend of the display industry, which has recently become larger and thinner, the pitch between electrodes and circuits is gradually miniaturized, and anisotropic conductive film plays a very important role as one of wiring devices for connecting these fine circuit terminals. . As a result, the anisotropic conductive film has attracted much attention as a connection material such as chip on glass mounting or chip on film mounting.

종래의 이방 전도성 필름으로는 (ⅰ) 필름 형성에 매트릭스 역할을 하는 바인더 수지부에 에폭시계 또는 페놀계 수지와 경화제로 이루어진 경화부를 혼합시킨 에폭시 타입, 및 (ⅱ) 바인더 수지부에 (메타)아크릴계 올리고머와 모노머 및 라디칼 개시제로 이루어진 경화부를 혼합시킨 (메타)아크릴레이트 타입이 있다. As a conventional anisotropic conductive film, (i) an epoxy type in which a cured portion composed of an epoxy or phenolic resin and a curing agent is mixed in a binder resin portion which acts as a matrix for film formation, and (ii) a (meth) acrylic type in a binder resin portion. There is a (meth) acrylate type in which a cured portion composed of an oligomer, a monomer and a radical initiator is mixed.

그러나, 종래의 이방 전도성 필름의 바인더부는 필름 형성제로서의 역할 만을 수행하며, 초기 접착력 내지는 접속 신뢰성에 크게 기여하지 못하고, 주로 사용되던 낮은 유리전이온도의 고분자 수지로 인하여 접속 구조 내에 수축과 팽창이 반복되어 장기 접속 및 접착 신뢰성을 보장할 수 없는 문제점이 있다. 한편, 기존의 에폭시 타입 이방 전도성 필름은 점착성이 없어서 접속층에 가고정 하기가 어려워 작업성이 나쁘고, 반응 온도가 매우 높아서 공정 컨트롤 및 접속 장치의 유지 보수가 어려운 단점이 있으며, 장기 신뢰성이 미흡한 문제가 있다. 또한 (메타)아크릴레이트 타입 이방 전도성 필름은, 전도성 입자와 회로 간 접촉을 보장해 주기 위해 반응 속도를 느리게 조절할 경우 바인더 수지부와 경화부의 레올로지 특성차로 인해 흐름성 차이가 발생하여 접속 층 내에 다량의 기포가 발생함으로써 장기 신뢰성을 보장할 수 없는 문제점을 지니고 있으며, 반대로 반응 속도를 빠르게 조절할 경우에는 전도성 입자가 회로와 충분한 접촉이 일어나지 않아 양호한 접속 신뢰성을 보장할 수 없는 문제점이 있다.However, the binder portion of the conventional anisotropic conductive film only plays a role as a film forming agent, does not contribute significantly to the initial adhesive strength or connection reliability, the shrinkage and expansion is repeated in the connection structure due to the polymer resin of the low glass transition temperature used mainly There is a problem that can not guarantee long-term connection and adhesion reliability. On the other hand, the conventional epoxy type anisotropic conductive film is difficult to temporarily fix to the connection layer because it is not sticky, bad workability, very high reaction temperature, difficult to control the process and maintenance of the connection device, insufficient long-term reliability There is. In addition, (meth) acrylate type anisotropic conductive film, when the reaction rate is controlled slowly to ensure contact between the conductive particles and the circuit flow difference due to the rheological properties of the binder resin portion and the hardened portion occurs a large amount of the connection layer There is a problem that can not guarantee long-term reliability by the generation of bubbles, on the contrary, when the reaction rate is quickly controlled, there is a problem that the conductive particles do not have sufficient contact with the circuit and thus cannot guarantee good connection reliability.

또한, 이러한 문제점을 보완하기 위해 바인더 부에 NBR(Nitrile Butadiene Rubber)등의 열가소성 수지를 혼합하여 제조된 이방 전도성 필름은 낮은 접속저항과 높은 접착력을 가지지만 흐름성이 좋지 않아 영구압축률(compression set) 및 탄성이 커서 본 공정 압착 이후 형태 안정성이 떨어지고, 내수성(water resistance)이 약해 고온고습에서 신뢰성이 현저히 떨어지고, 또한 저온에서 물성 발휘가 어려워 경화반응 저해 요소로 작용할 수 있는 문제점이 있다.In addition, the anisotropic conductive film prepared by mixing a thermoplastic resin such as NBR (Nitrile Butadiene Rubber) in the binder portion has a low connection resistance and high adhesive strength, but the flowability is not good, so the compression set And since the elasticity is large, the shape stability is reduced after the compression process, the water resistance (water resistance) is weak, the reliability is significantly reduced at high temperature and high humidity, and there is a problem that can hardly exhibit the physical properties at low temperature, acting as a inhibiting factor of the curing reaction.

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은, 흐름성이 우수한 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 바인더 부의 일 성분으로 사용하고 저온속경화성 및 EVA 가교성을 갖는 복합 라디칼 개시제 시스템을 적용함으로써, 상온안정성이 우수하며, 단시간의 본 압착 조건에서도 안정적인 전기전도성을 갖고, 흐름성 및 접착력 유지가 우수한 이방 전도성 필름용 조성물을 제공하는 것이다.The present invention is to overcome the above-mentioned problems of the prior art, one object of the present invention is to use an ethylene-vinylacetate copolymer having excellent flowability as one component of the binder portion and has a low temperature hardening and EVA crosslinkability By applying the complex radical initiator system, it is excellent in room temperature stability, and has a stable electrical conductivity even in the present crimping conditions of a short time, and provides the composition for anisotropic conductive films excellent in the flowability and adhesive force maintenance.

본 발명의 다른 목적은 상기한 조성물을 이용하여 제조되는 이방 전도성 필 름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film prepared using the composition described above.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은, One aspect of the present invention for achieving the above object ,

(ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체;(Iii) ethylene-vinylacetate copolymers;

(ⅱ) 라디칼 중합성 물질;(Ii) radically polymerizable materials;

(ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제;(Iii) at least one radical initiator selected from diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters;

(ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제; 및(Iii) at least one radical initiator selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And

(ⅴ) 전도성 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물에 관계한다.(Iii) Containing conductive particles, the composition for anisotropic conductive films.

본 발명의 또 다른 양상은,Another aspect of the invention,

(ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체;(Iii) ethylene-vinylacetate copolymers;

(ⅱ) 필름형성 고분자 수지;(Ii) film-forming polymer resins;

(ⅲ) 라디칼 중합성 물질;(Iii) a radically polymerizable material;

(ⅳ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제;(Iii) at least one radical initiator selected from diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters;

(ⅴ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제; 및(Iii) at least one radical initiator selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And

(ⅵ) 전도성 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물에 관 계한다.(Iii) It relates to the composition for anisotropic conductive films containing electroconductive particle.

본 발명의 일 구현예에 따른 상기 이방 전도성 필름용 조성물은, (ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도보다, (ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도가 높은 것이 바람직하다.The composition for an anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention, (iii) peroxy ketal, than the half-life 10 hours of the radical initiator selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxy ester, It is preferred that the half-life of the radical initiator selected from the dialkylperoxides be high for 10 hours.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은, 상기한 조성물을 이용하여 제조되는 이방 전도성 필름에 관계한다.Another aspect of the present invention for achieving the above object relates to an anisotropic conductive film produced using the composition described above.

이하에서 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 이방 전도성 필름용 조성물은, (ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체; (ⅱ) 라디칼 중합성 물질; (ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제; (ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제; 및 (ⅴ) 전도성 입자포함하며, 필름형성 고분자 수지를 포함할 수 있다.The composition for anisotropic conductive films which concerns on this invention is a (i) ethylene-vinylacetate copolymer; (Ii) radically polymerizable materials; (Iii) at least one radical initiator selected from diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters; (Iii) at least one radical initiator selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And (iii) conductive particles , and may include a film-forming polymer resin.

즉, 본 발명의 일 구현예에 따른 상기 이방 전도성 필름용 조성물은, 흐름성이 우수한 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 바인더 수지부의 일 성분으로 사용하고 저온속경화성 및 EVA 가교성을 갖는 복합 라디칼 개시제 시스템을 적용하는 것을 특징으로 한다. That is, the composition for the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention, a composite radical initiator having an ethylene-vinylacetate copolymer having excellent flowability as one component of the binder resin portion and having a low temperature hardening and EVA crosslinking properties It is characterized by applying the system.

본 발명에 따른 이방 전도성 필름용 조성물에서, 상기 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체는 폴리머 주쇄(backbone)가 포화된(fully saturated) 메틸렌 단위(Unit)으로 이루어지며 측쇄에 아세테이트(acetate groups)가 부착된 형태로, 비닐아세테이트가 40 ~ 80중량%인 것이 바람직하다. 비닐아세테이트 함량이 40중량% 미만인 경우에는 결정성이 증가하여 흐름성이 저하되고 접착 성능도 떨어지며, 80중량%를 넘는 것은 수지의 연화 온도가 낮아져서 내열 성능이 만족스럽지 못하다.In the composition for anisotropic conductive film according to the present invention, the ethylene-vinylacetate copolymer is composed of methylene units in which the polymer backbone is fully saturated, and acetate (acetate groups) is attached to the side chain. As for vinyl acetate, it is preferable that it is 40 to 80 weight%. When the vinyl acetate content is less than 40% by weight, the crystallinity is increased, the flowability is lowered, and the adhesive performance is also lowered. When the vinyl acetate content is more than 80% by weight, the softening temperature of the resin is low, and thus the heat resistance performance is not satisfactory.

상기 조성물에서 라디칼 중합성 물질은 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 관능기를 갖는 모노머, 올리고머, 폴리머 및 우레탄 아크릴레이트 레진, 에폭시 아크릴레이트 레진, 폴리에스터 아크릴레이트 레진, 포스페이트 아크릴레이트가 포함될 수 있다.Radical polymerizable materials in the composition may include monomers, oligomers, polymers and urethane acrylate resins, epoxy acrylate resins, polyester acrylate resins, phosphate acrylates having acrylate or methacrylate functional groups.

또한, 본 발명의 조성물은 실란 커플링제 또는 라디칼 중합 저해제를 추가로 포함할 수 있다. In addition, the composition of the present invention may further comprise a silane coupling agent or a radical polymerization inhibitor.

이때, 본 발명의 일 구현예에 따른 상기 이방 전도성 필름 조성물은,At this time, the anisotropic conductive film composition according to an embodiment of the present invention,

(ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체 18 ~ 45 중량%;(Iii) 18-45 wt% ethylene-vinylacetate copolymer;

(ⅱ) 라디칼 중합성 물질 40 ~ 70 중량%;(Ii) 40 to 70 weight percent of a radically polymerizable material;

(ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 3 중량%;(Iii) 0.5 to 3% by weight of one or more radical initiators selected from diacylperoxides, peroxydicarbonates, peroxyesters;

(ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 2 중량%; 및(Iii) 0.5 to 2% by weight of one or more radical initiators selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And

(ⅴ) 전도성 입자 1 ~ 10 중량% 포함하는 것이 바람직하다.(Iii) It is preferable to contain 1-10 weight% of conductive particles.

본 발명의 또다른 구현예에 따른 이방 전도성 필름 조성물은,Anisotropic conductive film composition according to another embodiment of the present invention,

(ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체 18 ~ 45 중량%;(Iii) 18-45 wt% ethylene-vinylacetate copolymer;

(ⅱ) 필름형성 고분자 수지 10 ~ 30 중량%;(Ii) 10 to 30% by weight of the film-forming polymer resin;

(ⅲ)라디칼 중합성 물질 40 ~ 70 중량%;(Iii) 40 to 70 weight percent of a radical polymerizable material;

(ⅳ)디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 3 중량%;(Iii) 0.5 to 3% by weight of one or more radical initiators selected from diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters;

(ⅴ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 2 중량%; 및(Iii) 0.5 to 2% by weight of one or more radical initiators selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And

(ⅵ) 전도성 입자 1 ~ 10 중량% 포함하는 것이 바람직하다.(Iii) It is preferable to contain 1-10 weight% of conductive particles.

이하에서는 본 발명의 조성물을 구성하는 각 구성성분에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, each component which comprises the composition of this invention is demonstrated in detail.

(ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(Iii) Ethylene-vinylacetate copolymer

본 발명의 일 구현예에 따른 조성물에서 사용되는 상기 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체는, 흐름성이 우수한 물질로서 중량평균분자량이 약 100,000 ~ 600,000 범위인 것이 이방 전도성 필름이 사용되는 가열압착조건에 부합되어 바람직하다. 중량평균분자량이 100,000 미만인 경우는 필름 형성시 강도가 부족하여 적 용이 곤란하며, 600,000 초과인 경우는 다른 수지들과의 혼화성이 떨어져 균일한 조액이 불가능하다.The ethylene-vinylacetate copolymer used in the composition according to the embodiment of the present invention is excellent in flowability, and has a weight average molecular weight in the range of about 100,000 to 600,000 in accordance with the heat compression conditions under which the anisotropic conductive film is used. desirable. If the weight average molecular weight is less than 100,000, it is difficult to apply due to the lack of strength when forming a film, and if it is more than 600,000, it is impossible to uniformly prepare a solution because of miscibility with other resins.

본 발명에서 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체는 전체 필름 조성물(고형분)에 대해 18 ~ 45 중량%인 것이 바람직하다. 여기서, 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체 함량이 18 중량% 미만이면 흐름성 향상이 미흡하며, 45 중량%를 초과하면 경화구조의 치밀성이 감소하여 바람직하지 못하다.In the present invention, the ethylene-vinylacetate copolymer is preferably 18 to 45% by weight based on the total film composition (solid content). If the content of the ethylene-vinylacetate copolymer is less than 18% by weight, the flowability is insufficient. If the content of the ethylene-vinylacetate copolymer is more than 45%, the compactness of the hardened structure is reduced, which is not preferable.

(ⅱ) 필름형성 고분자 수지(Ii) film-forming polymer resin

본 발명의 일 구현예에 따른 조성물에서 사용되는 상기 필름형성 고분자 수지는, 필름 형성 및 내열성에 도움을 제공하는 바인더 수지로서 중량평균분자량이 10,000 ~ 500,000 범위인 것이 바람직하다. 이러한 필름형성 고분자 수지의 구체적인 예로는 폴리비닐부티랄, 폴리비닐포르말, 폴리에스테르, 페놀수지, 에폭시수지, 페녹시 수지, 아크릴계 중합성 수지 등을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.The film-forming polymer resin used in the composition according to the embodiment of the present invention is preferably a binder resin for providing film formation and heat resistance, with a weight average molecular weight ranging from 10,000 to 500,000. Specific examples of the film-forming polymer resin may include polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyester, phenol resin, epoxy resin, phenoxy resin, acrylic polymerizable resin, and the like, but are not limited thereto.

상기 필름형성 고분자 수지로서 아크릴계 중합성 수지를 사용하는 경우, 30 내지 120℃의 높은 유리 전이 온도(Tg)를 가지며, 10 내지 150 mgKOH/g의 산가를 갖는 수지를 사용를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 아크릴계 중합형 수지는 30 내지 120℃ 범위의 유리 전이 온도를 갖는 1종 이상의 아크릴 모노머를 분자량 10,000 이상의 고분자량으로 중합하여 얻을 수 있다. 구체적으로 상기 아크릴계 중합형 수지는 에틸, 메틸, 프로필, 부틸, 헥실, 옥실, 도데실, 라우릴 아크릴레이트 및 메타 아크릴레이트와 이의 변성으로 이루어진 아크릴레이트, 아크릴릭 에시드, 메타 아크릴릭 에시드, 메틸 메타아크릴레이트, 비닐 아세테이트 및 이로부터 변성된 아크릴 모노머 등으로부터 선택된 1종 이상의 아크릴 모노머를 중합하여 만든 러버상 고분자 아크릴 수지이다. 또한 상기 아크릴계 중합형 수지는 수산기 또는 카르복시기를 필수적으로 함유하여 10 내지 150 mgKOH/g 범위의 산가를 가지며, 선택적으로 에폭시기 또는 알킬기를 추가로 함유할 수 있다. 이 때, 10 mgKOH/g 이하의 산가를 갖는 아크릴계 수지를 사용하는 경우에는, 충분한 접착력이 발현되지 않는 문제점이 있다.When using acrylic polymerizable resin as said film forming polymer resin, it is preferable to use resin which has a high glass transition temperature (Tg) of 30-120 degreeC, and has an acid value of 10-150 mgKOH / g. The acrylic polymerizable resin may be obtained by polymerizing one or more acrylic monomers having a glass transition temperature in the range of 30 to 120 ° C. at a high molecular weight of 10,000 or more. Specifically, the acrylic polymer-based resin is ethyl, methyl, propyl, butyl, hexyl, oxyl, dodecyl, lauryl acrylate and methacrylate and its acrylate, acrylic acid, meta acrylate, methyl methacrylate It is a rubber-like polymer acrylic resin made by polymerizing one or more acrylic monomers selected from vinyl acetate and acrylic monomers modified therefrom. In addition, the acrylic polymer-type resin has an acid value in the range of 10 to 150 mgKOH / g by essentially containing a hydroxyl group or a carboxyl group, may optionally further contain an epoxy group or an alkyl group. At this time, when using acrylic resin which has an acid value of 10 mgKOH / g or less, there exists a problem that sufficient adhesive force is not expressed.

상기 필름형성 고분자 수지로는 중량평균분자량이 10,000 내지 500,000의 범위의 것을 사용하는 것이 바람직하며, 아크릴계 중합성 수지를 사용하는 경우에는 50,000 내지 2,000,000 범위의 것을 사용할 수 있다. 이는 분자량이 너무 낮은 것을 사용할 경우에는 필름 성형에 불리한 택(Tack) 특성이 과도하여 필름 성형이 제대로 되지 않고, 분자량이 너무 높은 것을 사용할 경우에는 다른 경화반응에 참여하는 아크릴레이트 올리고머와의 혼화성이 악화되어 조성 혼합액 제조 시 상분리가 일어날 수 있기 때문이다.As the film-forming polymer resin, it is preferable to use a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 500,000, and when using an acrylic polymerizable resin, those in the range of 50,000 to 2,000,000 may be used. If the molecular weight is too low, the film properties are not good due to excessive tack characteristics for film forming. If the molecular weight is too high, miscibility with the acrylate oligomer participating in other curing reactions is obtained. This is because deterioration may cause phase separation in the preparation of the composition mixture.

상기 필름형성 고분자 수지는 전체 고형분 조성에 대하여 10 ~ 30 중량% 포함될 수 있다. 여기서 필름형성 고분자 수지의 함량이 10 중량% 미만이면 이방 전도성 필름의 필름 형성 및 내열성에 영향을 미치지 못하며, 30 중량%를 초과하면 흐름성을 저해하여 바람직하지 않다.The film-forming polymer resin may be contained 10 to 30% by weight based on the total solids composition. If the content of the film-forming polymer resin is less than 10% by weight does not affect the film formation and heat resistance of the anisotropic conductive film, when the content of more than 30% by weight inhibits the flowability is not preferred.

(ⅲ) 라디칼 중합성 물질(Iii) radically polymerizable materials

본 발명의 일 구현예에 따른 조성물에서 사용되는 상기 라디칼 중합성 물질은, 경화 반응으로 접속층 간의 접착력 및 접속 신뢰성을 보장한다. 상기 라디칼 중합성 물질은 특별히 제한되는 것은 아니며, 라디칼 중합성 물질이라면 어떤 것이라도 가능하다. 상기 라디칼 중합성 물질로는 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이미드 화합물 등이 있으며, 모노머, 올리고머 또는 폴리머 상태로 이용하거나 모노머, 올리고머, 폴리머를 병용하는 것도 가능하다. 아크릴레이트(메타크릴레이트)의 구체적인 예로서는, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 포스페이트 아크릴레이트 또는 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 이소 부틸 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디 아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디 아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리 아크릴레이트, 테트라 메틸올 메탄 테트라 아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디아크릴록시프로판, 2,2-비스〔4-(아크릴록시폴리메톡시) 페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(아크릴록시폴리에톡시) 페닐〕프로판, 디시크로펜테닐아크릴레이트, 트리시크로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸) 이소시아노레이트 등을 들 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니며, 이들을 단독 또한 조합하여 사용할 수 있다.The radically polymerizable material used in the composition according to the embodiment of the present invention ensures adhesion and connection reliability between the connection layers by a curing reaction. The radically polymerizable material is not particularly limited, and any radical polymerizable material may be used. The radically polymerizable materials include acrylates, methacrylates, maleimide compounds, and the like, and may be used in a monomer, oligomer or polymer state, or may use a monomer, oligomer, or polymer in combination. Specific examples of acrylates (methacrylates) include urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, phosphate acrylate or methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate Rate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetra methylol methane tetra acrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxy Polymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloyloxyethyl) iso Cyanorate and the like, but are not necessarily limited thereto, and these may be used alone or in combination. have.

말레이미드 화합물의 구체적인 예로서는, 분자중에 말레이미드기를 적어도 2개 이상 함유하는, 예를 들면, 1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N, N'-m-페닐렌비스말레이미드, N, N'-p-페닐렌비스말레이미드, N, N'-m-토일렌비스말레이미드, N, N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디에틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, N, N'-3,3'-디페닐술폰비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4-8(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 데칸, 4,4'-시크로헤키시리덴비스(1-(4 말레이미드페노키시)-2-시클로 헥실 벤젠, 2,2-비스(4-(4 말레이미드페녹시) 페닐) 헥사 플루오르 프로판 등을 들 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니며, 이들을 단독 또한 조합하여 사용할 수 있다. As a specific example of a maleimide compound, For example, 1-methyl- 2, 4-bismaleimide benzene containing N or more maleimide groups in a molecule | numerator, N, N'-m- phenylene bismaleimide, N , N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-m-toylene bismaleimide, N, N'-4,4- biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- dimethyl biphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- dimethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3 , 3'-diethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4- diphenyl propane bismaleimide, N, N ' -4,4-diphenyl ether bis maleimide, N, N'-3,3'- diphenyl sulfone bis maleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimide phenoxy) phenyl) propane, 2 , 2-bis (3-s-butyl-4-8 (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phene Nil) decane, 4,4'-cyclohexyrylidebis (1- (4 maleimide phenoxy) 2-cyclohexyl benzene, 2,2-bis (4- (4 maleimide phenoxy) phenyl) hexa Fluorine propane and the like, but are not necessarily limited thereto, and these may be used alone or in combination.

포스페이트 아크릴레이트 구조를 가지는 라디칼 중합성 물질로는 2-메타크릴로일옥시에틸 에시드 포스페이트, 2-아크릴로일옥시에틸 포스페이트 등을 들 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.Radical polymerizable materials having a phosphate acrylate structure include, but are not limited to, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyethyl phosphate, and the like.

본 발명의 일 구현예에 따른 조성물에서 상기 라디칼 중합성 물질은, 전체 조성에 대하여 40 ~ 70 중량%인 것이 바람직하다. 여기서 라디칼 중합성 물질의 함량이 40 중량% 미만이면 본 공정 압착 후 경화 밀도 저하로 인해 신뢰성 및 전체적으로 흐름성이 저하되어, 접착시의 도전성 입자와 회로 기재의 접촉이 나빠지고, 접속저항의 상승 또는 이로 인한 접속 신뢰성이 저하되는 문제가 있고, 70 중량%를 초과하는 경우에는 조성물의 점도가 낮아 이방 전도성 필름 형성성에 어려움이 있고 접착 특성이 저하되는 문제가 발생하여 바람직하지 않다.In the composition according to the embodiment of the present invention, the radically polymerizable material is preferably 40 to 70% by weight based on the total composition. If the content of the radically polymerizable substance is less than 40% by weight, reliability and overall flowability decrease due to the lowering of the curing density after the crimping of this process, resulting in poor contact between the conductive particles and the circuit substrate during adhesion, and an increase in connection resistance or Due to this, there is a problem in that connection reliability is lowered, and when it exceeds 70% by weight, the viscosity of the composition is low, so that anisotropic conductive film formability is difficult and a problem in that adhesive property is lowered is not preferable.

(ⅳ) 라디칼 개시제(Iii) a radical initiator

본 발명의 일 구현예에 따른 상기 조성물에서는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체의 높은 흐름성을 유지하면서, 저온속경화성 및 우수한 접착력 유지를 위해 복합 라디칼 개시제 시스템을 사용한다. 라디칼 개시제는 가열에 의해 유리 라디칼을 발생하는 유기 과산화물을 사용할 수 있다. In the composition according to the embodiment of the present invention, a complex radical initiator system is used to maintain low flow rate curing property and excellent adhesion while maintaining high flowability of the ethylene-vinylacetate copolymer. The radical initiator may use an organic peroxide that generates free radicals by heating.

상기 복합 라디칼 시스템으로는 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 1종 이상, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 1종 이상을 각각 선택한다.As the complex radical system, at least one selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate and peroxy ester, and at least one selected from peroxy ketal and dialkyl peroxide are selected.

본 발명의 일 구현예에 따른 상기 조성물은, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도보다, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도가 높은 것이 바람직하다.The composition according to an embodiment of the present invention, the half-life of the radical initiator selected from dioxyperoxide, dialkyl peroxide than the half-life of 10 hours of the radical initiator selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxy ester It is preferable that the temperature is high for 10 hours.

라디칼 개시제의 반감기란 라디칼 개시제의 분해 속도를 나타내는 지표로, 라디칼 개시제가 발생시킬 수 있는 자유 라디칼 양이 특정 온도에서 분해에 의해 초기의 절반으로 되는데 걸리는 시간을 말한다. 이를 상업적인 편이를 위해 반감기가 10시간이 되는 온도를 지표화하여 라디칼 개시제를 비교한다.The half-life of a radical initiator is an indicator of the rate of decomposition of a radical initiator and refers to the time it takes for the amount of free radicals that a radical initiator can generate to be half of its initial value by decomposition at a certain temperature. This is compared to the radical initiator by indexing the temperature at which the half-life is 10 hours for commercial convenience.

상기 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르계 라디칼 개시제의 구체적인 예로는 이소부티릴 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸핵사노일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, m-톨루오일/벤조일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 디-n-프로필 퍼옥시 디카르보네이트, 디이 소프로필 퍼옥시 디카르보네이트, 비스(4-t-부틸사이클로헥실)퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에톡시에틸 퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에틸헥실 퍼옥시 디카르보네이트, 디메톡시부틸 퍼옥시 디카르보네이트, 비스(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시 디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸 퍼옥시이소부티레이트, t-부틸 퍼옥시라우레이트, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카르보네이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥실 모노카르보네이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, t-부틸 퍼옥시 벤조에이트, α,α'-비스(네오데카노일 퍼옥시)디이소프로필 벤젠, 큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 노에데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노에이트, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카르보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일 퍼옥시) 헥산 등을 들 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드계 라디칼 개시제의 구체적인 예로는 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로 헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 사이클로 헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로 헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시) 사이클로 헥산, n-부틸-4,4-비스(t-부틸 퍼옥시) 발러레이트, α,α'-비스(t-부틸 퍼옥시) 디이소프로필 벤젠, 디큐밀 퍼옥사이 드, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, 디-t-부틸 퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸 퍼옥시) 헥신-3 등을 들 수 있으나 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다.Specific examples of the diacyl peroxide, peroxydicarbonate, and peroxy ester radical initiator include isobutyryl peroxide, 3,5,5-trimethylnucleonoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide , Succinic peroxide, m-toluoyl / benzoyl peroxide, benzoyl peroxide, di-n-propyl peroxy dicarbonate, diisopropyl peroxy dicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxy Dicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxy dicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxy dicarbonate, dimethoxybutyl peroxy dicarbonate, bis (3-methyl-3-methoxybutyl) Peroxy dicarbonate, t-butyl peroxypivalate, t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-butyl peroxyisobutyrate, t-butyl peroxylaurate, t-butyl peroxy isopropyl Monocarbonate, t-butyl Oxy 2-ethylhexyl monocarbonate, t-butyl peroxy acetate, t-butyl peroxy benzoate, α, α'-bis (neodecanoyl peroxy) diisopropyl benzene, cumyl peroxy neodecanoate , 1,1,3,3-tetramethyl butyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methyl ethyl peroxy nodecanoate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-hexyl per Oxy pivalate, 1,1,3,3-tetramethyl butyl peroxy 2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoyl peroxy) hexane, 1-cyclohexyl -1-methylethyl peroxy-2-ethyl hexanonate, t-hexyl peroxy-2-ethyl hexanoate, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-3,5, 5-trimethyl hexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (m-toluoyl peroxy) hexane, t-hexyl peroxy benzoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoyl per Oxy) hexane, etc. But it is not necessarily limited. Specific examples of the peroxyketal and dialkyl peroxide radical initiators include 1,1-bis (t-hexyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1-bis (t-hexyl peroxy ) Cyclohexane, 1,1-bis (t-butyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1-bis (t-butyl peroxy) cyclohexane, n-butyl-4,4- Bis (t-butyl peroxy) valerate, α, α'-bis (t-butyl peroxy) diisopropyl benzene, dicumyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butyl peroxy) hexin-3 and the like, but are not necessarily limited thereto.

상기 라디칼 개시제의 함량은 조성물 경화특성 및 보존성을 균형있게 구현하는 범위로 결정되며, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 3 중량%, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 2 중량%인 것이 바람직하다. 여기서 라디칼 개시제의 총함량이 1 중량% 미만이면 경화반응 속도가 늦어 저온속경화 특성이 저하되며, 총함량이 5 중량% 초과하면 상온안정성 및 보존성이 떨어지고 경화 후 brittle한 특성 증가로 재작업(rework)시 이방 전도성 필름이 완전히 제거되지 않는 문제가 발생한다.The content of the radical initiator is determined in a range that balances the composition curing properties and preservation properties, 0.5 to 3% by weight of at least one radical initiator selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxy ester, peroxy ketal It is preferably 0.5 to 2% by weight of at least one radical initiator selected from dialkylperoxides. Here, if the total content of the radical initiator is less than 1% by weight, the curing reaction rate is slow and low-temperature curing property is lowered. If the total content is more than 5% by weight, the room temperature stability and preservation properties are deteriorated, and the rework is increased by brittle properties after curing. A problem occurs that the anisotropic conductive film is not completely removed.

(ⅴ) 전도성 입자(Iii) conductive particles

본 발명의 일 구현예에 따른 조성물에서 사용되는 상기 전도성 입자는, 본 발명에 따른 조성물의 도전 성능을 향상시켜주기 위해 적용된다. The conductive particles used in the composition according to the embodiment of the present invention are applied to improve the conductive performance of the composition according to the present invention.

상기 전도성 입자의 구체적인 예로는 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납 등을 포함하는 금속 입자 ; 탄소; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 하여 Au, Ag, Ni 등을 포함하는 금속으로 코팅한 것; 그 위에 절연입자를 추가하여 코팅한 절연화 처리된 전도성 입자 등을 1종 이상 사용할 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. Specific examples of the conductive particles include metal particles including Au, Ag, Ni, Cu, solder, and the like; carbon; A resin containing polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol and the like and a modified resin thereof coated with a metal containing Au, Ag, Ni, etc .; One or more kinds of insulated conductive particles coated with insulating particles added thereon may be used, but are not necessarily limited thereto.

상기 전도성 입자의 크기는, 적용되는 회로의 피치(pitch)에 의해 1 내지 30 ㎛ 범위에서 용도에 따라 선택하여 사용할 수 있고, 서로 다른 크기의 입자를 혼합하여 사용할 수도 있다. 본 발명에서 상기 전도성 입자는 전체 조성에 대하여 1 ~ 10 중량%인 것이 바람직하다. 여기서 도전입자 함량이 1 중량% 미만이면 도전 성능의 향상이 부족하며, 10 중량%를 초과하면 절연 불량을 일으키기 쉽기 때문에 바람직하지 않다.The size of the conductive particles may be selected and used in the range of 1 to 30 μm by the pitch of the circuit to be applied, and may be used by mixing particles of different sizes. In the present invention, the conductive particles are preferably 1 to 10% by weight based on the total composition. If the content of the conductive particles is less than 1% by weight, the improvement of the conductive performance is insufficient, and if the content is more than 10% by weight, it is not preferable because it is easy to cause insulation failure.

본 발명의 이방 전도성 필름 조성물의 필수 구성 요소는 아니지만, 조성물 배합 시 구리, 유리와 같은 무기물질의 표면과 이방성 도전 필름의 수지들간의 접착력을 증진하고 내열성 및 내습성을 향상시켜 접속신뢰성을 향상시키는 역할을 하는 커플링제로써 실란 커플링제가 추가로 사용될 수 있다. 상기 커플링제는 전체 조성물에 대하여 0.2 ~ 5 중량부 첨가될 수 있다. 그 함량이 0.2 중량부 미만이면 커플링제로서의 역할을 하기에 미미하며, 5 중량부를 초과하는 경우에는 수지의 응집력이 저하되고, 그 결과로서 접착력이나, 신뢰성이 떨어지는 문제가 발생한다.Although not an essential component of the anisotropic conductive film composition of the present invention, when the composition is blended to improve the adhesion between the surface of the inorganic material such as copper, glass and the resin of the anisotropic conductive film and improve the heat resistance and moisture resistance to improve the connection reliability As the coupling agent that serves, a silane coupling agent may further be used. The coupling agent may be added in an amount of 0.2 to 5 parts by weight based on the total composition. If the content is less than 0.2 part by weight, it is insignificant to play a role as a coupling agent. If the content is more than 5 parts by weight, the cohesive force of the resin is lowered, and as a result, a problem of poor adhesion or reliability occurs.

한편 본 발명의 이방 전도성 필름용 조성물은 기본 물성을 저해하지 않으면서 부가적인 물성을 추가시켜주기 위해 중합방지제, 산화방지제 또는 열안정제 등의 기타 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. Meanwhile, the composition for the anisotropic conductive film of the present invention may further include other additives such as an polymerization inhibitor, an antioxidant, or a heat stabilizer to add additional physical properties without inhibiting basic physical properties.

상기 중합방지제로는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논 모노메틸에테르, p-벤조퀴 논, 페노티아진 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택할 수 있다. 또한, 열에 의해 유도되는 조성물의 산화반응 방지 및 열안정성을 부여해 주기 위한 목적으로 가지친 페놀릭계 혹은 하이드록시 신나메이트계의 물질 등의 산화방지제를 첨가할 수 있으며, 그 예로 테트라키스-(메틸렌-(3,5-디-t-부틸-4-하이드로 신나메이트)메탄, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시 벤젠 프로파노익 에시드 티올 디-2,1-에탄다일 에스터, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시 하이드로 신나메이트 (이상 Ciba사 제조), 2,6-디-터셔리-p-메틸페놀 등을 들 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 기타 첨가제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The polymerization inhibitor may be selected from the group consisting of hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-benzoquinone, phenothiazine and mixtures thereof. In addition, antioxidants such as phenolic or hydroxy cinnamate-based substances, which have been prepared for the purpose of preventing oxidation reaction and imparting thermal stability to the composition induced by heat, may be added. For example, tetrakis- (methylene- (3,5-di-t-butyl-4-hydro cinnamate) methane, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy benzene propanoic acid thiol di-2,1-ethane Diyl ester, octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy hydrocinnamate (manufactured by Ciba), 2,6-di-tertiary-p-methylphenol, and the like, but are not limited thereto. The other additives may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 첨가제는 전체 조성물에 대하여 0.01 ~ 0.2 중량부 범위에서 추가로 포함할 수 있다. 여기서 참가제 함량이 0.01 중량부 미만이면 부가적인 물성 발현이 어려우며, 0.2 중량부 초과하면 기본 물성을 저해하기 때문에 바람직하지 않다.The additive may be further included in the range of 0.01 to 0.2 parts by weight based on the total composition. If the content of the participant is less than 0.01 parts by weight, it is difficult to express additional physical properties, and if it exceeds 0.2 parts by weight, it is not preferable because it inhibits the basic physical properties.

본 발명의 다른 양상은, 상기한 조성물을 이용하여 제조되는 이방 전도성 필름에 관한 것이다.Another aspect of the invention relates to an anisotropic conductive film produced using the composition described above.

본 발명의 일 구현예에 따른 상기 이방 전도성 필름의 제조방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 알려져 있는 어느 방법이나 제한없이 사용할 수 있다.Method for producing the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention is not particularly limited, any conventionally known method can be used without limitation.

본 발명의 일 구현예에 따른 조성물에서 사용되는 상기 유기용매는 이방 전도성 필름용 조성물의 점도를 적절하게 필름 제조를 용이하게 하는 것이다. 구체적으로 상기 유기 용매로는 톨루엔, 자일렌, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 벤젠, 아세톤, 메틸에틸케톤, 테트라히드로 퓨란, 디메틸포름알데히드, 시클로헥사논 등을 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 본 발명의 조성물을 톨루엔과 같은 유기용제에 용해시켜 액상화한 후 전도성 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 일정시간 교반하고, 이를 이형 필름 위에 10 내지 50 ㎛의 두께로 도포한 다음 일정시간 건조하여 톨루엔 등을 휘발시킴으로써 단층 구조를 가지는 이방성 도전 필름을 제조할 수 있다.The organic solvent used in the composition according to the embodiment of the present invention is to facilitate the film production appropriately to the viscosity of the composition for the anisotropic conductive film. Specifically, at least one of toluene, xylene, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, benzene, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, dimethylformaldehyde, cyclohexanone, etc. It can be used in combination, but is not necessarily limited thereto. For example, after dissolving the composition of the present invention in an organic solvent such as toluene and liquefying, the conductive particles are stirred for a predetermined time within a range in which the conductive particles are not pulverized, and then coated on a release film in a thickness of 10 to 50 μm, and then The anisotropic conductive film which has a single layer structure can be manufactured by drying for time and volatilizing toluene etc.

이하에서 실시예를 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명할 것이나. 이들 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. These examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

실시예Example 1  One

에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(Levamelt 700, LANXESS社) 80g을 중량비로 톨루엔/메틸에틸케톤 2:1의 혼합 용제에 용해하여 고형분 35%의 용액으로 하였다.80 g of an ethylene-vinylacetate copolymer (Levamelt 700, LANXESS Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of toluene / methylethyl ketone 2: 1 in a weight ratio to obtain a solution having a solid content of 35%.

라디칼 중합성 물질로 에폭시 아크릴레이트 폴리머(SP1509, 쇼화 폴리머) 80g, (메타)아크릴레이트 모노머인 TMPTMA 10g, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 4g, 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 3g, 디큐밀 퍼옥사이드 1g, Ni 입자를 4g 첨가하여 필름 형성용 조성물을 수득하였다.80 g of epoxy acrylate polymer (SP1509, Shohwa polymer) as radically polymerizable material, 10 g of TMPTMA (meth) acrylate monomer, 4 g of 2-methacryloyloxyethyl phosphate, 3 g of benzoyl peroxide as radical initiator, dicumyl peroxide 1g and 4g of Ni particles were added to obtain a film-forming composition.

실시예Example 2  2

상기 조성물에서 페녹시 수지(YP50, 동도화성) 20g을 메틸에틸케톤에 용해하여(고형분 40%) 첨가한 것 이외에는 실시예1과 동일하게 구성하였다.The composition was the same as in Example 1 except that 20 g of phenoxy resin (YP50, kinematic) was dissolved in methyl ethyl ketone (40% solids) and added.

비교예Comparative example 1  One

라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 3g, 라우릴 퍼옥사이드 1g 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 구성하였다.It was configured similarly to Example 1 except having used 3 g of benzoyl peroxides and 1 g of lauryl peroxides as a radical initiator.

비교예Comparative example 2  2

NBR계 수지(1072, Zeon Chemicals社) 80g을 중량비로 톨루엔/메틸에틸케톤 2:1의 혼합 용제에 용해하여 고형분 25%의 용액으로 하였다.80 g of NBR resin (1072, Zeon Chemicals, Inc.) was dissolved in a mixed solvent of toluene / methylethylketone 2: 1 in a weight ratio to obtain a solution having a solid content of 25%.

라디칼 중합성 물질로 에폭시 아크릴레이트 폴리머(SP1509, 쇼화 폴리머) 80g, (메타)아크릴레이트 모노머인 TMPTMA 10g, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 4g, 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 3g, 디큐밀 퍼옥사이드 1g, Ni 입자를 4g 첨가하여 필름 형성용 조성물을 수득하였다.80 g of epoxy acrylate polymer (SP1509, Shohwa polymer) as radically polymerizable material, 10 g of TMPTMA (meth) acrylate monomer, 4 g of 2-methacryloyloxyethyl phosphate, 3 g of benzoyl peroxide as radical initiator, dicumyl peroxide 1g and 4g of Ni particles were added to obtain a film-forming composition.

상기의 조합액을 전도성 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 상온(25℃)에서 60 분간 교반하였다. 상기의 조합액을 실리콘 이형 표면 처리된 폴리에틸렌 베이스 필름에 45 ㎛의 두께의 필름으로 형성시켰으며, 필름 형성을 위해서 캐스팅 나이프(Casting knife)를 사용하였고, 필름의 건조 시간은 80 ℃에서 5 분으로 하였다. 이를 1.5mm 폭으로 슬리팅하여 회로 접속 성능을 평가하였다.The combination solution was stirred for 60 minutes at room temperature (25 ° C) within a speed range in which the conductive particles were not crushed. The combination solution was formed into a film having a thickness of 45 μm on a silicone release surface-treated polyethylene base film, and a casting knife was used to form the film, and the drying time of the film was 5 minutes at 80 ° C. It was. The circuit connection performance was evaluated by slitting this to a width of 1.5 mm.

실험예Experimental Example :(이방 전도성 필름의 물성, 신뢰성 및 흐름성 평가)(Evaluation of Physical Properties, Reliability and Flowability of Anisotropic Conductive Films)

상기의 실시예 1 내지 2, 비교예 1 내지 2로부터 제조된 이방 전도성 필름의 초기 물성, 신뢰성 및 흐름성을 평가하기 위해서 각각의 필름을 상온에서 1시간 방치시킨 후 PCB와 COF를 이용하여 80 ℃, 1초의 가압착 조건과 160℃ 7sec 3.0 MPa 및 200℃ 4sec 5.0MPa 본 압착 조건으로 접속하였다. ⅰ) 각각의 시편은 5개씩 준비하였고, 이와 같이 제조된 시편을 이용하여 접속저항 및 90° 접착력을 측정하였다. ⅱ) 온도 85 ℃, 상대습도 85%에서 250 시간 및 500 시간 조건으로 고온고습 신뢰성 평가를 하였으며, ⅲ) 상온에서 4주간 방치 후 접착력, 접속저항 및 경화 진행율을 측정(상온 안정성 실험) 하였으며, 특히 경화진행율은 아래의 식으로 나타내고(Q0 : 미경화(초기) 시편의 발열량, QT : 경화 시편의 발열량)In order to evaluate the initial physical properties, reliability, and flowability of the anisotropic conductive films prepared from Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 2, each film was left at room temperature for 1 hour, followed by 80 ° C using PCB and COF. 1 second pressing conditions and 160 degreeC 7 sec 3.0 MPa, and 200 degreeC 4 sec 5.0 MPa were connected on this crimping condition. I) Five specimens of each specimen were prepared, and connection resistance and 90 ° adhesion were measured using the specimens prepared as described above. Ii) High temperature and high humidity reliability evaluation was performed at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 250 hours and 500 hours. Iii) After 4 weeks at room temperature, adhesion, connection resistance, and curing progress were measured (at room temperature stability test). The hardening progress rate is expressed by the following equation (Q0: calorific value of uncured (initial) specimen, QT: calorific value of cured specimen)

경화진행율Hardening progress rate (%)=((%) = ( Q0Q0 -- QTQT )/) / Q0Q0 ×100  × 100

ⅳ) 흐름성 정도는 상기 가압착 및 본 압착 조건으로 시편 제작 후 초기 필름 폭(A0) 대비 조성물의 퍼진 길이를 측정(AT)하여 아래의 식으로 나타내고, 각각 그 결과를 하기 표 1 내지 표 4에 나타내었다.Iii) The degree of flowability is represented by the following formula by measuring the spread length of the composition relative to the initial film width (A0) after preparing the specimen under the pressure bonding and the main compression conditions (AT), and the results are shown in Tables 1 to 4 below, respectively. Shown in

흐름성(%)=(AT-A0)/A0 × 100% Flow = (AT-A0) / A0 × 100

[표 1]TABLE 1

Figure 112006096975185-pat00001
Figure 112006096975185-pat00001

[표 2]TABLE 2

Figure 112006096975185-pat00002
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[표 3]TABLE 3

Figure 112006096975185-pat00003
Figure 112006096975185-pat00003

[표 4]TABLE 4

Figure 112006096975185-pat00004
Figure 112006096975185-pat00004

상기 표 1 내지 4의 실험 결과에서 나타난 본 발명에 따른 이방 전도성 필름의 물성에 대해 다음과 같이 해석할 수 있다. The physical properties of the anisotropic conductive film according to the present invention shown in the experimental results of Tables 1 to 4 can be interpreted as follows.

ⅰ) 접착력접착) adhesion

일반적으로 폭 1.5mm 규격의 이방 전도성 필름은 600gf/㎝이상의 접착력이 요구되며, 고온고습 등의 가혹조건 방치 후에도 400gf/cm이상의 접착력을 유지하여야 한다. 본 발명의 실시예 1, 2는 이를 만족시킴을 알 수 있다.(표 1, 3)In general, 1.5mm width anisotropic conductive film is required to adhesive strength of 600gf / ㎝ or more, and even after leaving the harsh conditions such as high temperature and high humidity must maintain the adhesive strength of 400gf / cm or more. It can be seen that Examples 1 and 2 of the present invention satisfy this. (Tables 1 and 3)

반면, 비교예 1은 초기 600gf/cm이상의 접착력을 나타내나, 고온고습 방치 후 접착력이 급격히 떨어짐을 알 수 있다.(표 1, 3) 또한, 비교예 2는 NBR 바인더 적용으로 상온안정성이 떨어져 상온4주 경과 후 접착력이 저하되며, 저온 본압착 조건에서는 600gf/cm미만을 나타내기도 한다.(표 1)On the other hand, Comparative Example 1 shows the adhesive strength of the initial 600gf / cm or more, it can be seen that the adhesive strength drops sharply after high temperature and high humidity (Table 1, 3) In addition, Comparative Example 2 is room temperature stability is lowered by the application of NBR binder at room temperature After 4 weeks, the adhesive strength decreases, and under low temperature main compression conditions, it may show less than 600 gf / cm (Table 1).

ⅱ) 접속 저항Ii) connection resistance

이방 전도성 필름이 충분한 전도성을 확보하기 위해서는 상기 실험과 같은 조건하에서 2Ω 이하의 전기저항을 나타내야 한다. 표 2의 접속저항 측정 결과를 보면, 실시예 1, 2는 접속저항의 큰 증가가 없고 2Ω이하를 유지하나, 비교예 1, 2는 고온고습 방치시 접속저항이 증가하여 2Ω을 훨씬 상회함을 알 수 있다. 공정관리 및 생산성 향상을 위해 본압착 온도 및 시간이 점점 줄어들고 있음을 고려할 때, 비교예로는 이를 만족시킬 수 없다. 이와는 달리, 본 발명의 이방 전도성 필름은 고온고습 등의 가혹 조건하에서도 낮은 접속저항을 유지함으로, 각종 기기 및 소자에 사용될 때 장시간 사용 후 현실적으로 발생할 수 있는 통전의 안정성 문제를 해결할 수 있음을 보여준다.In order to ensure sufficient conductivity of the anisotropic conductive film, the anisotropic conductive film should exhibit an electrical resistance of 2 Ω or less under the same conditions as the above experiment. According to the measurement results of the connection resistance of Table 2, Examples 1 and 2 have no large increase in the connection resistance and keep it below 2Ω. However, Comparative Examples 1 and 2 show that the connection resistance increases much more than 2Ω when left at high temperature and high humidity. Able to know. Considering that the main compression temperature and time is gradually decreasing for process control and productivity improvement, the comparative example cannot satisfy this. On the contrary, the anisotropic conductive film of the present invention maintains a low connection resistance even under severe conditions such as high temperature and high humidity, thereby showing that it is possible to solve the stability problem of energization that may occur after long time use when used in various devices and devices.

ⅲ) 흐름성Iii) flowability

이방 전도성 필름의 본압착시 흐름성은 본 발명의 평가방법에 의해 50 ~ 90%, 바람직하게는 60 ~ 90%가 공정조건에 부합한다. EVA를 바인더로 사용한 실시예 1, 2는 각 본딩 조건에서 60%이상의 높은 흐름성을 보인다.(표 4) 반면, NBR을 바인더로 사용한 비교예 2는 극히 저조한 흐름성을 나타내며, 결과적으로 고온고습 방치시 접속저항이 불량한 결과를 가져온다.The flowability during the main compression of the anisotropic conductive film is 50 to 90%, preferably 60 to 90% by the evaluation method of the present invention meets the process conditions. Examples 1 and 2 using EVA as a binder show high flowability of 60% or more at each bonding condition. (Table 4) On the other hand, Comparative Example 2 using NBR as a binder shows extremely low flowability and consequently high temperature and high humidity. It results in poor connection resistance when left unattended.

흐름성이 좋을수록 이방 전도성 필름을 가열압착할 때 도전입자 주변의 바인더가 이동하기 쉬워지므로 전기적 접속을 얻기 수월하고, 경화된 필름에 잔존하는 기계적 응력이 줄어들게 되어, 장기간 가혹조건에서의 이방 전도성 필름으로 접속 한 부분의 전기적, 기계적 안정성이 높아지게 된다. 또한, 바인더의 흐름성이 우수하므로 이방 전도성 필름이 경화될 때 영구압축률(compression set) 및 탄성율을 낮추어 결과적으로 본딩 갭(bonding gap)이 감소되므로 접속 상태의 안정성을 유지할 수 있다.The better the flowability, the easier the binder is to move around the conductive particles when the anisotropic conductive film is heat-compressed, so that the electrical connection can be easily obtained, and the mechanical stress remaining in the cured film is reduced. As a result, the electrical and mechanical stability of the connected parts will be increased. In addition, since the flowability of the binder is excellent, when the anisotropic conductive film is cured, the compression set and the elastic modulus are lowered, and as a result, the bonding gap is reduced, thereby maintaining stability of the connected state.

경화진행율에 있어서, 실시예는 상온4주 후에도 10%이하로 매우 양호하며, NBR을 바인더로 사용한 비교예 2의 경우는 25%가량의 경화진행율을 나타냄을 알 수 있다. 이방 전도성 필름의 경화진행율이 높으면, 본압착 공정에 의해 경화밀도가 치밀해지지 못하므로 본딩 상태가 불안정하게 된다. 이에 따라, 접착력이 낮게 나타나며,(표1, 3) 고온고습의 가혹조건 방치시 접속저항의 상승을 일으키기 쉽다.In the curing progress rate, the Example was very good at 10% or less even after 4 weeks at room temperature, and in Comparative Example 2 using NBR as a binder, the curing progress rate was about 25%. When the hardening progress rate of the anisotropic conductive film is high, the hardening density is not dense by the main compression process, and thus the bonding state becomes unstable. As a result, the adhesive strength is low (Tables 1 and 3), and it is easy to cause an increase in the connection resistance when left in the harsh conditions of high temperature and high humidity.

비록 본 발명이 상기에 언급된 바람직한 실시예로서 설명되었으나, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허청구 범위는 본 발명의 요지에 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함한다.Although the present invention has been described as the preferred embodiment mentioned above, it is possible to make various modifications or variations without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the appended claims include such modifications and variations as fall within the spirit of the invention.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 바인더로 하여 가열ㆍ압착시 높은 흐름성을 보이고, 저온속경화성을 유지하며 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 적절히 가교시킬 수 있는 복합 라디칼 개시제 시스템을 사용하여 고온고습의 가혹조건 하에서도 접착력 유지가 우수한 이 방 전도성 필름을 얻을 수 있다.As described in detail above, according to the present invention, a composite having an ethylene-vinylacetate copolymer as a binder, which exhibits high flowability when heated and pressed, maintains low temperature fast curing, and can crosslink the ethylene-vinylacetate copolymer appropriately The radical initiator system can be used to obtain an anisotropic conductive film which is excellent in maintaining adhesion even under severe conditions of high temperature and high humidity.

Claims (11)

(ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체; (ⅱ) 라디칼 중합성 물질; (ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제; (ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 및; (ⅴ) 전도성 입자를 포함하며, 상기 (ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도보다 상기 (ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도가 높은 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.(Iii) ethylene-vinylacetate copolymers; (Ii) radically polymerizable materials; (Iii) at least one radical initiator selected from diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters; (Iii) one or more radical initiators selected from peroxyketals, dialkylperoxides; (Iii) a conductive particle, wherein the half-life of the radical initiator selected from (iii) diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester is selected from (oxy) peroxyketal, dialkyl peroxide The half life of a radical initiator is high for 10 hours, The anisotropic conductive film characterized by the above-mentioned. (ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체; (ⅱ) 필름형성 고분자 수지; (ⅲ) 라디칼 중합성 물질; (ⅳ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제; (ⅴ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 및 (ⅵ) 전도성 입자를 포함하며, 상기 (ⅳ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도보다 상기 (ⅴ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도가 높은 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름. (Iii) ethylene-vinylacetate copolymers; (Ii) film-forming polymer resins; (Iii) a radically polymerizable material; (Iii) at least one radical initiator selected from diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters; (Iii) at least one radical initiator selected from peroxyketal, dialkylperoxide and (iii) conductive particles, and (iii) diacylperoxide, peroxydicarbonate, peroxyester radical initiator selected from An anisotropic conductive film, characterized in that the half-life of the radical initiator selected from the above (i) peroxyketal and dialkyl peroxide is higher than the half-life of 10 hours. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 이방 전도성 필름은The method of claim 1, wherein the anisotropic conductive film (ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체 18 ~ 45 중량%;(Iii) 18-45 wt% ethylene-vinylacetate copolymer; (ⅱ) 라디칼 중합성 물질 40 ~ 70 중량%;(Ii) 40 to 70 weight percent of a radically polymerizable material; (ⅲ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 3 중량%;(Iii) 0.5 to 3% by weight of one or more radical initiators selected from diacylperoxides, peroxydicarbonates, peroxyesters; (ⅳ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 2 중량%; 및(Iii) 0.5 to 2% by weight of one or more radical initiators selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And (ⅴ) 전도성 입자 1 ~ 10 중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.(Iii) 1 to 10% by weight of conductive particles. 제 2항에 있어서, 상기 이방 전도성 필름은The method of claim 2, wherein the anisotropic conductive film (ⅰ) 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체 18 ~ 45 중량%;(Iii) 18-45 wt% ethylene-vinylacetate copolymer; (ⅱ) 필름형성 고분자 수지 10 ~ 30 중량%;(Ii) 10 to 30% by weight of the film-forming polymer resin; (ⅲ) 라디칼 중합성 물질 40 ~ 70 중량%;(Iii) 40 to 70 weight percent of a radical polymerizable material; (ⅳ) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 3 중량%;(Iii) 0.5 to 3% by weight of one or more radical initiators selected from diacylperoxides, peroxydicarbonates, peroxyesters; (ⅴ) 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드로부터 선택된 1종 이상의 라디칼 개시제 0.5 ~ 2 중량%; 및(Iii) 0.5 to 2% by weight of one or more radical initiators selected from peroxyketals, dialkylperoxides; And (ⅵ) 전도성 입자 1 ~ 10 중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.(Iii) 1 to 10% by weight of conductive particles. 제 1항 또는 제2항에 있어서, 상기 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체는 비닐아세테이트 함량이 40 ~ 80중량%인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1 or 2, wherein the ethylene-vinylacetate copolymer has a vinyl acetate content of 40 to 80% by weight. 제 1항 또는 제2항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이미드 화합물 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1 or 2, wherein the radically polymerizable material is selected from the group consisting of acrylates, methacrylates, maleimide compounds, and mixtures thereof. 제 2항에 있어서, 상기 필름형성 고분자 수지는 폴리비닐부티랄, 폴리비닐포르말, 폴리에스테르, 페놀수지, 에폭시수지, 페녹시수지, 아크릴계 중합성 수지 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.The method of claim 2, wherein the film-forming polymer resin is selected from the group consisting of polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyester, phenol resin, epoxy resin, phenoxy resin, acrylic polymerizable resin and mixtures thereof Anisotropic conductive film, characterized in that. 제 1항 또는 제2항에 있어서, 상기 조성물 100 중량부에 대하여 0.2 ~ 5 중량부의 실란 커플링제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1 or 2, further comprising 0.2 to 5 parts by weight of a silane coupling agent based on 100 parts by weight of the composition. 제 1항 또는 제2항에 있어서, 상기 조성물 100중량부에 대하여 0.01 ~ 0.2 중량부의 라디칼 중합 저해제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1 or 2, further comprising 0.01 to 0.2 parts by weight of a radical polymerization inhibitor based on 100 parts by weight of the composition. 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101160041B1 (en) * 2011-11-01 2012-06-25 서지원 Petg compositions prepared from radical initiated cross linking modification and the manufacturing method of film and sheet using this petg compositions
KR101647708B1 (en) * 2014-12-30 2016-08-11 에스케이씨 주식회사 Sealing sheet composition for solar cells
WO2024111236A1 (en) * 2022-11-24 2024-05-30 ナミックス株式会社 Curable resin composition, adhesive, sealing material, cured product, semiconductor device, and electronic component

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59159866A (en) 1983-03-02 1984-09-10 Yokohama Rubber Co Ltd:The Adhesive composition
US4695508A (en) * 1985-09-06 1987-09-22 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Adhesive composition
US5686703A (en) * 1994-12-16 1997-11-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Anisotropic, electrically conductive adhesive film
JPH10273633A (en) 1997-03-27 1998-10-13 Bridgestone Corp Anisotropic electroconductive film
JP2001031915A (en) * 1999-07-22 2001-02-06 Bridgestone Corp Anisotropically electroconductive film
KR20020071561A (en) * 2001-03-07 2002-09-13 킴부로스 주식회사 Electrically conductive resin composition used in compression coating and method for manufacturing electrically conductive sheet using the same
KR20030054491A (en) * 2001-12-26 2003-07-02 재단법인 포항산업과학연구원 A method of preparing for a modified polyethylene having imporved mechanical strength for thermal spray and a modified polyethylene thereby

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59159866A (en) 1983-03-02 1984-09-10 Yokohama Rubber Co Ltd:The Adhesive composition
US4695508A (en) * 1985-09-06 1987-09-22 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Adhesive composition
US5686703A (en) * 1994-12-16 1997-11-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Anisotropic, electrically conductive adhesive film
JPH10273633A (en) 1997-03-27 1998-10-13 Bridgestone Corp Anisotropic electroconductive film
JP2001031915A (en) * 1999-07-22 2001-02-06 Bridgestone Corp Anisotropically electroconductive film
KR20020071561A (en) * 2001-03-07 2002-09-13 킴부로스 주식회사 Electrically conductive resin composition used in compression coating and method for manufacturing electrically conductive sheet using the same
KR20030054491A (en) * 2001-12-26 2003-07-02 재단법인 포항산업과학연구원 A method of preparing for a modified polyethylene having imporved mechanical strength for thermal spray and a modified polyethylene thereby

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