KR100835818B1 - Anisotropic conductive film composition and anisotropic conductive film prepared therefrom - Google Patents

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박경수
신경훈
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Abstract

An anisotropic conductive film composition is provided to have excellent long-term reliance because the composition shows high adhesiveness by heating and pressing and retains good adhesion even under a severe condition of high temperature and high humidity. An anisotropic conductive film composition includes 20-60wt% of a cross-linkable rubber resin, 36-76wt% of a radically polymerizable material, 0.8-4.0wt% of a radical initiator combination comprising at least one first radical initiator selected from the group containing diacylperoxide, peroxydicarbonate, and peroxyester, and at least one second radical initiator selected from peroxyketal and dialkylperoxide, and 0.2-20wt% of conductive particles.

Description

이방 도전성 필름 조성물 및 그로부터 제조되는 이방 도전성 필름{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM COMPOSITION AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM PREPARED THEREFROM}Anisotropic conductive film composition and anisotropic conductive film manufactured therefrom {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM COMPOSITION AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM PREPARED THEREFROM}

본 발명은 이방 도전성 필름 조성물 및 그로부터 제조되는 이방 도전성 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가교성 고무 수지와 복합 경화 반응을 발현하는 라디칼 개시제 조합을 포함하여, 장기 신뢰성이 향상된 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물 및 그로부터 제조되는 이방 도전성 필름에 관한 것이다. The present invention relates to an anisotropic conductive film composition and an anisotropic conductive film produced therefrom, and more particularly an anisotropic conductive, characterized in that the long-term reliability is improved, including a combination of a crosslinkable rubber resin and a radical initiator expressing a complex curing reaction It relates to a film composition and an anisotropic conductive film produced therefrom.

이방성 도전성 필름(ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, 이하 "ACF"라 한다)은 도전성에 대하여 이방성을 나타내는 필름으로서, 필름의 x-y 평면상으로는 절연성이 유지되는 반면에, z축으로는 도전성을 나타내는 것이다. 이방 도전성 필름은 일반적으로 절연성 접착제에 금속 입자 또는 금속으로 코팅된 고분자 입자 등의 도전성 입자를 분산시켜 제조된다. 이러한 이방 도전성 필름을 접속시키고자 하는 회로 사이에 위치시킨 후 열압착시키면, 상하의 회로 단자들 사이는 도전성 입자가 접촉하여 전기적으로 접속되고, 좌우의 인접 회로간 공간에는 절연성 접착 수지가 충진되어 높은 절연성을 부여하게 된다. Anisotropic conductive film (hereinafter referred to as "ANF") is a film that exhibits anisotropy with respect to conductivity, while maintaining insulation on the x-y plane of the film, while exhibiting conductivity on the z-axis. Anisotropic conductive films are generally prepared by dispersing conductive particles such as metal particles or polymer particles coated with a metal in an insulating adhesive. When the anisotropic conductive film is placed between the circuits to be connected and thermally compressed, conductive particles are contacted and electrically connected between the upper and lower circuit terminals, and an insulating adhesive resin is filled in the spaces between the left and right adjacent circuits, thereby providing high insulating properties. Will be given.

최근 디스플레이 장치의 대형화 및 박형화 추세에 따라서 전극 및 회로들 간의 피치 또한 점차 미세화되고 있다. 이러한 미세 회로 단자들을 접속하기 위한 배선 기구 중의 하나로서 이방 도전성 필름은 매우 중요한 역할을 수행하고 있다. 그 결과 이방 도전성 필름은 칩 온 글래스(Chip On Glass) 실장이나 칩 온 필름(Chip On Film) 실장 등의 접속 재료로서 각광 받고 있다.With the recent trend toward larger and thinner display devices, the pitch between electrodes and circuits is also becoming smaller. As one of wiring mechanisms for connecting such fine circuit terminals, an anisotropic conductive film plays a very important role. As a result, anisotropic conductive films are in the limelight as connection materials, such as chip on glass mounting and chip on film mounting.

기존의 이방 도전성 필름으로는 필름 형성에 매트릭스 역할을 하는 바인더 수지부에 에폭시계 또는 페놀계 수지와 경화제로 이루어진 경화부를 혼합시킨 에폭시 타입, 및 바인더 수지부에 (메타)아크릴계 올리고머와 모노머 및 라디칼 개시제로 이루어진 경화부를 혼합시킨 (메타)아크릴레이트 타입이 있다.Existing anisotropic conductive films include an epoxy type in which an epoxy or phenolic resin and a hardened portion made of a curing agent are mixed in a binder resin portion which acts as a matrix for forming a film, and a (meth) acrylic oligomer, monomer and radical initiation in the binder resin portion. There is the (meth) acrylate type which mixed the hardening part which consists of agents.

그러나, 이러한 기존의 이방 도전성 필름의 바인더부로는 주로 낮은 유리전이온도의 고분자 수지가 사용되므로, 바인더부는 필름 형성제로서의 역할만을 수행하고 초기 접착력 내지는 접속 신뢰성에 크게 기여하지 못할 뿐만 아니라, 접속 구조 내에 수축과 팽창이 반복되어 장기 접속 및 접착 신뢰성을 보장할 수 없는 한계를 가진다. However, since the polymer resin of low glass transition temperature is mainly used as the binder portion of the conventional anisotropic conductive film, the binder portion not only plays a role as a film former and does not significantly contribute to initial adhesive force or connection reliability, but also within the connection structure. Shrinkage and expansion are repeated and there is a limit that cannot guarantee long term connection and adhesion reliability.

기존의 에폭시 타입 이방 도전성 필름은 점착성이 없어서 접속층에 가고정 하기가 어려워 작업성이 불량하고, 반응 온도가 매우 높아서 공정 컨트롤 및 접속 장치의 유지 보수가 어려운 단점이 있으며, 장기 신뢰성이 미흡한 문제가 있다. Existing epoxy type anisotropic conductive film is difficult to temporarily fix to the connection layer because it is not sticky, poor workability, very high reaction temperature, difficult process control and maintenance of the connection device, and lack of long-term reliability have.

또한 (메타)아크릴레이트 타입 이방 도전성 필름은, 도전성 입자와 회로 간 접촉을 보장해 주기 위해 반응 속도를 느리게 조절할 경우 바인더 수지부와 경화부 의 레올로지 특성차로 인해 흐름성 차이가 발생하여 접속 층 내에 다량의 기포가 발생함으로써 장기 신뢰성을 보장할 수 없는 문제점을 지니고 있으며, 반대로 반응 속도를 빠르게 조절할 경우에는 도전성 입자가 회로와 충분한 접촉이 일어나지 않아 양호한 접속 신뢰성을 보장할 수 없는 문제점이 있다.In addition, the (meth) acrylate type anisotropic conductive film has a large flow rate in the connection layer due to the difference in rheological properties of the binder resin portion and the hardened portion when the reaction rate is slowly adjusted to ensure contact between the conductive particles and the circuit. There is a problem that can not guarantee the long-term reliability by the bubbles generated, on the contrary, when the reaction rate is quickly controlled, there is a problem that the conductive particles do not make sufficient contact with the circuit and thus can not ensure good connection reliability.

이러한 문제점을 보완하기 위해 바인더 부에 열가소성 수지를 혼합하여 제조된 이방 도전성 필름은 낮은 접속저항과 높은 접착력을 가지지만 내수성(water resistance)이 약해 고온고습 등의 가혹 조건 하에서 시간이 경과함에 따라서 디라미네이션 등이 발생하여 신뢰성이 현저히 떨어지고, 또한 저온에서 물성 발휘가 어려워 경화반응 저해 요소로 작용할 수 있는 문제점이 있다.The anisotropic conductive film prepared by mixing the thermoplastic resin in the binder portion to compensate for this problem has a low connection resistance and high adhesion, but the water resistance (weak water resistance) weak delamination over time under severe conditions such as high temperature and high humidity There is a problem that can occur as a significantly lower reliability due to the occurrence of such properties, and also hard to exhibit physical properties at low temperatures can act as a inhibiting factor of the curing reaction.

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 점착성이 우수하고 가열가압에 의해 높은 접착력을 발휘하는 가교성 고무 수지와 복합 경화 반응을 발현하는 라디칼 개시제의 조합을 포함하여 장기 신뢰성이 뛰어난 이방 도전성 필름 조성물 및 그로부터 제조되는 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.  The present invention is to overcome the above-mentioned problems of the prior art, one object of the present invention is a combination of a crosslinkable rubber resin excellent in adhesion and high adhesive strength by heating pressure and a radical initiator expressing a complex curing reaction It is to provide an anisotropic conductive film composition excellent in long-term reliability, including an anisotropic conductive film produced therefrom.

본 발명의 다른 목적은 짧은 가열가압 공정 시간에 의해 회로 접속을 완성할 수 있어 생산성을 향상시킬 수 있는 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film capable of completing a circuit connection by a short heating and pressing process time and improving productivity.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 One aspect of the present invention for achieving the above object is

(a) 가교성 고무 수지; (a) crosslinkable rubber resins;

(b) 라디칼 중합성 물질;(b) radically polymerizable materials;

(c) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트 및 퍼옥시에스테르로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상의 제 1 라디칼 개시제; (c) at least one first radical initiator selected from the group consisting of diacylperoxides, peroxydicarbonates and peroxyesters;

(d) 퍼옥시케탈 및 디알킬퍼옥사이드 중 하나 이상의 제 2 라디칼 개시제 및 (d) at least one second radical initiator of peroxyketal and dialkylperoxide, and

(e) 도전성 입자를 포함하는 것을 특징으로 이방 도전성 필름 조성물에 관한 것이다. (e) Electroconductive particle is included, It is related with the anisotropic conductive film composition.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물은 The anisotropic conductive film composition of the present invention

가교성 고무 수지 20 내지 60 중량%; 20 to 60% by weight of crosslinkable rubber resin;

라디칼 중합성 물질 36 내지 76 중량%; 36 to 76% by weight radically polymerizable material;

제 1 라디칼 개시제 및 제 2 라디칼 개시제 0.8 내지 4.0 중량% ; 0.8 to 4.0 wt% of the first radical initiator and the second radical initiator;

도전성 입자 0.2 내지 20 중량%를 포함할 수 있다.It may contain 0.2 to 20% by weight of the conductive particles.

본 발명에 의한 이방 도전성 필름 조성물에서 가교성 고무 수지는 올레핀 수지, 부타디엔 수지, 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체, 카르복실말단 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체, 폴리비닐부티랄 수지, 페녹시 수지 및 이들의 임의의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있다. In the anisotropic conductive film composition according to the present invention, the crosslinkable rubber resin is an olefin resin, butadiene resin, acrylonitrile butadiene copolymer, carboxyl terminal acrylonitrile butadiene copolymer, polyvinyl butyral resin, phenoxy resin, and any of these. It may be used selected from the group consisting of a mixture of.

본 발명에서 상기 라디칼 중합성 물질은 아크릴레이트계를 사용할 수 있으며, 라디칼 중합이 가능한 모노머, 올리고머, 인산 에스테르를 추가로 포함할 수 있다.In the present invention, the radically polymerizable material may use an acrylate type, and may further include monomers, oligomers, and phosphate esters capable of radical polymerization.

본 발명에서 퍼옥시케탈 및 디알킬퍼옥사이드 중에서 하나 이상을 포함하는 제 2 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도는 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 제 1 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도 보다 10℃ 상 높은 것이 바람직하다.The half-life 10 hour temperature of the second radical initiator comprising at least one of peroxyketal and dialkylperoxide in the present invention is the first radical selected from diacylperoxide, peroxydicarbonate, peroxyester and mixtures thereof It is preferable that it is 10 degreeC phase higher than the half-life temperature of the initiator for 10 hours.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은 본 발명의 이방 도전성 수지 조성물을 박리용 시트에 도포 건조하여 형성된 이방 도전성 필름에 관한 것이다. Another aspect of the present invention for achieving the above object relates to an anisotropic conductive film formed by coating and drying the anisotropic conductive resin composition of the present invention on a sheet for peeling.

이하에서 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물은 점착성이 우수하여 높은 가압 접착성을 발휘하는 가교성 고무 수지와 저온속경화성 및 에이징 효과를 발현하는 복합 라디칼 개시제 시스템을 포함하는 것을 특징으로 한다.The anisotropic conductive film composition of this invention is characterized by including the crosslinkable rubber resin which is excellent in adhesiveness, and exhibits high pressure adhesiveness, and the complex radical initiator system which expresses low temperature hardening property and an aging effect.

하나의 양상에서, 본 발명의 구현예의 이방 도전성 필름 조성물은 In one aspect, the anisotropic conductive film composition of an embodiment of the invention

(a) 가교성 고무 수지; (a) crosslinkable rubber resins;

(b) 라디칼 중합성 물질;(b) radically polymerizable materials;

(c) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트 및 퍼옥시에스테르로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상의 제 1 라디칼 개시제; (c) at least one first radical initiator selected from the group consisting of diacylperoxides, peroxydicarbonates and peroxyesters;

(d) 퍼옥시케탈 및 디알킬퍼옥사이드 중 하나 이상의 제 2 라디칼 개시제 및 (d) at least one second radical initiator of peroxyketal and dialkylperoxide, and

(e) 도전성 입자를 포함하는 것을 특징으로 한다.(e) It is characterized by including electroconductive particle.

본 발명에서 사용되는 가교성 고무 수지는 올레핀 수지, 부타디엔 수지, 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체, 카르복실말단 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체, 폴리비닐부티랄 수지, 페녹시 수지 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 사용할 수 있다. 이러한 가교성 고무 수지는 높은 가압 접착성을 발휘하므로 이방 도전성 필름의 가열가압 회로 접속 공정에 의해 우수한 접착력 및 밀착성을 발현하여 회로 단자의 양호한 접속을 제공할 수 있다. The crosslinkable rubber resin used in the present invention is selected from olefin resin, butadiene resin, acrylonitrile butadiene copolymer, carboxyl terminal acrylonitrile butadiene copolymer, polyvinyl butyral resin, phenoxy resin and mixtures thereof Can be used. Since such a crosslinkable rubber resin exhibits high pressure adhesiveness, it is possible to provide good connection of circuit terminals by exhibiting excellent adhesive force and adhesiveness by the heating and pressing circuit connection process of the anisotropic conductive film.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물에 있어서 가교성 고무 수지의 함량은 20 내지 60중량%이고, 바람직하게는 30 내지 50중량%이다. 가교성 고무 수지의 함량이 20중량% 미만인 경우에는 접착력 발현이 부족하게 될 우려가 있고, 60중량%를 초과하는 경우에는 라디칼 경화반응의 부족으로 경화성능이 떨어질 수 있다.In the anisotropic conductive film composition of the present invention, the content of the crosslinkable rubber resin is 20 to 60% by weight, preferably 30 to 50% by weight. When the content of the crosslinkable rubber resin is less than 20% by weight, there is a fear that the expression of adhesion is insufficient, and when it exceeds 60% by weight, the curing performance may be deteriorated due to the lack of radical curing reaction.

또한, 본 발명에서 가교성 고무 수지는 중량평균분자량이 10,000 ~ 1,000,000 범위 내인 것이 좋다. 이는 가교성 고무 수지의 중량평균분자량이 10,000 미만인 경우에는 필름 강도가 발현되지 않고, 점착성이 과도하여 필름 성형이 제대로 되지 않을 수 있고, 분자량이 1,000,000을 초과하는 경우에는 혼화성이 악화되어 이방 도전성 필름 조성물 제조 시 상분리가 일어날 수 있다.In addition, in the present invention, the crosslinkable rubber resin may have a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 1,000,000. When the weight average molecular weight of the crosslinkable rubber resin is less than 10,000, the film strength is not expressed, the adhesiveness may be excessive, and the film may not be properly formed. When the molecular weight exceeds 1,000,000, the miscibility deteriorates and the anisotropic conductive film Phase separation may occur during the preparation of the composition.

본 발명에서는 경화 반응이 일어나 접속층 간의 접착력 및 접속 신뢰성을 보장해주는 경화부로 라디칼 중합성 물질을 사용한다. 본 발명에서 사용가능한 라디칼 중합성 물질은 특별히 제한되지 않고, 라디칼 중합성 물질이라면 어느 것이나 사용할 수 있다. 라디칼 중합성 물질의 예들은 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이미드 화합물 및 이들의 혼합물을 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아 니다. 라디칼 중합성 물질로는 폴리머는 물론이고, 모노머 또는 올리고머를 단독으로 사용하거나 모노머와 올리고머를 병용하는 것도 가능하다. In the present invention, a radical polymerizable material is used as a hardening part to cause a curing reaction to ensure adhesion and connection reliability between the connection layers. The radically polymerizable material usable in the present invention is not particularly limited, and any radical polymerizable material can be used. Examples of radically polymerizable materials include, but are not necessarily limited to, acrylates, methacrylates, maleimide compounds, and mixtures thereof. As a radically polymerizable substance, not only a polymer but also a monomer or an oligomer can be used alone or a monomer and an oligomer can be used together.

또한 본 발명의 이방 도전성 필름 조성물은 접착 강도 및 상온 안정성을 향상시키기 위해 라디칼 중합성 물질로서 인산 에스테르를 0.5 ~ 8중량% 포함할 수 있다. 인산 에스테르 구조를 가지는 라디칼 중합성 물질의 예들은 2-메타크릴로일옥시에틸 에시드 포스페이트, 2-아크릴로일옥시에틸 포스페이트 등을 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. In addition, the anisotropic conductive film composition of the present invention may contain 0.5 to 8% by weight of phosphate ester as a radical polymerizable material in order to improve the adhesive strength and room temperature stability. Examples of radically polymerizable materials having a phosphate ester structure include, but are not necessarily limited to, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyethyl phosphate, and the like.

아크릴레이트(메타크릴레이트)의 구체적인 예로는, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 이소 부틸 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리아크릴레이트, 테트라 메틸올 메탄 테트라아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디아크릴록시프로판, 2,2-비스〔4-(아크릴록시폴리메톡시) 페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(아크릴록시폴리에톡시) 페닐〕프로판, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리시클로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸) 이소시아노레이트로 구성되는 군에서 선택되는 1종을 단독으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of acrylates (methacrylates) include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate and trimetholpropane triacrylate. , Tetramethylol methane tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxypolymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (Acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanorate is used alone Or a combination of two or more thereof.

말레이미드 화합물로서는, 분자 중에 말레이미드기를 적어도 2개 이상 함유하는 것을 사용할 수 있다. 이러한 말레이미드 화합물로는 1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N, N'-m-페닐렌비스말레이미드, N, N'-p-페닐렌비스말레이미드, N, N'-m-토일렌비스말레이미드, N, N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디에틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, N, N'-3,3'-디페닐술폰비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4-8(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 데칸, 4,4'-시클로헥실리덴비스(1-(4 말레이미드페녹시)-2-시클로 헥실 벤젠, 2,2-비스(4-(4 말레이미드페녹시) 페닐) 헥사 플루오르 프로판으로 구성되는 군에서 선택되는 1종을 단독으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a maleimide compound, what contains at least 2 maleimide group in a molecule | numerator can be used. As such a maleimide compound, 1-methyl-2, 4-bismaleimide benzene, N, N'-m-phenylene bismaleimide, N, N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'- m-toylene bismaleimide, N, N'-4,4- biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- dimethyl biphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- dimethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- diethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N '-4,4-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenylpropanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenyletherbismaleimide, N, N'- 3,3'- diphenyl sulfone bis maleimide, 2, 2-bis (4- (4-maleimide phenoxy) phenyl) propane, 2, 2-bis (3-s-butyl- 4-8 (4-) Maleimide phenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimide phenoxy) phenyl) decane, 4,4'- cyclohexylidene bis (1- (4 maleimide phenoxy)- 2-cyclohex One kind selected from the group consisting of real benzene, 2,2-bis (4- (4 maleimidephenoxy) phenyl) hexafluoropropane may be used alone or in combination of two or more kinds thereof.

본 발명에서 라디칼 중합성 물질은 36 ~ 76중량% 범위의 양으로 사용할 수 있다. 여기서 라디칼 중합성 물질의 함량이 36중량% 미만이면 가열가압 공정 후 경화 밀도 저하로 인해 신뢰성 및 전체적으로 흐름성이 저하되어, 접착시의 도전성 입자와 회로 기재의 접촉이 나빠지고, 접속저항의 상승 또는 이로 인한 접속 신뢰성이 저하되는 문제가 있을 수 있다. 이에 비해서, 라디칼 중합성 물질의 양이 80중량%를 초과하는 경우에는 이방 도전성 필름 형성에 어려움이 있고 접착 특성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.In the present invention, the radically polymerizable material may be used in an amount ranging from 36 to 76% by weight. If the content of the radically polymerizable substance is less than 36% by weight, reliability and overall flowability are lowered due to the lowering of the curing density after the heating and pressing process, and the contact between the conductive particles and the circuit substrate during adhesion becomes worse, and the connection resistance is increased or This may cause a problem that the connection reliability is lowered. On the other hand, when the amount of the radically polymerizable material exceeds 80% by weight, it may be difficult to form an anisotropic conductive film and a problem may occur in that the adhesive property is lowered.

본 발명에서는 고온고습의 가혹 조건 하에서도 에이징 효과에 의한 접착력 유지를 위해 복합 경화 반응을 발현하는 라디칼 개시제 시스템을 사용한다. 라디칼 개시제는 가열에 의해 유리 라디칼을 발생하는 유기 과산화물로서, 본 발명의 이방 도전성 필름 조성물에서는 두 종류의 라디칼 개시제를 사용하는데, 제 1 라디칼 개시제는 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르 및 이들의 혼합물로부터 선택되고, 제 2 라디칼 개시제는 퍼옥시케탈 및 디알킬퍼옥사이드 가운데 어느 하나 또는 양자를 포함한다.In the present invention, a radical initiator system expressing a complex curing reaction is used to maintain adhesion due to an aging effect even under severe conditions of high temperature and high humidity. The radical initiator is an organic peroxide that generates free radicals by heating, and in the anisotropic conductive film composition of the present invention, two kinds of radical initiators are used, and the first radical initiator is diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxy ester And mixtures thereof, and the second radical initiator includes either or both of peroxyketal and dialkylperoxide.

본 발명에서 제 2 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도는 제 1 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도보다 10℃ 이상 높은 것이 바람직하다. 라디칼 개시제의 반감기란 라디칼 개시제의 분해 속도를 나타내는 지표로, 라디칼 개시제가 발생시킬 수 있는 자유 라디칼 양이 특정 온도에서 분해에 의해 초기의 절반으로 되는데 걸리는 시간을 말한다. 이를 상업적인 편이를 위해 반감기가 10시간이 되는 온도를 지표화하여 라디칼 개시제를 비교한다. 본 발명에서는 제 1 라디칼 개시제와 반감기 10시간 온도가 상기 1 라디칼 개시제 보다 10℃ 이상 높은 제 2 라디칼 개시제를 함께 사용하여 복합 경화 반응을 구현함으로써, 본 발명의 조성물로부터 제조되는 이방 도전성 필름은 고온고습의 가혹 조건 하에서도 우수한 접착력을 유지할 수 있어 장기신뢰성이 우수하다.In the present invention, the half-life 10 hours temperature of the second radical initiator is preferably 10 ° C. or more higher than the half-life 10 hours temperature of the first radical initiator. The half-life of a radical initiator is an indicator of the rate of decomposition of a radical initiator and refers to the time it takes for the amount of free radicals that a radical initiator can generate to be half of its initial value by decomposition at a certain temperature. This is compared to the radical initiator by indexing the temperature at which the half-life is 10 hours for commercial convenience. In the present invention, by using a first radical initiator and a second radical initiator having a half-life temperature of 10 hours higher than the first radical initiator by 10 ° C. together to implement a complex curing reaction, the anisotropic conductive film prepared from the composition of the present invention is a high temperature and high humidity Excellent long-term reliability can be maintained even under severe conditions.

본 발명에서 제 1 개시제의 구체적인 예들은 이소부티릴 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸헥사노일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, m-톨루오일/벤조일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 디-n-프로필 퍼옥시 디카르보네이트, 디이소프로필 퍼옥시 디카르보네이트, 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에톡시에틸 퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에틸헥실 퍼옥시 디카르보네이트, 디메톡시부틸 퍼옥시 디카르보네이트, 비스(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시 디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸 퍼옥시이소부티레이트, t-부틸 퍼옥시라우레이트, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카르보네이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥실 모노카르보네이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, t-부틸 퍼옥시 벤조에이트, α,α'-비스(네오데카노일 퍼옥시)디이소프로필 벤젠, 큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-시클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-시클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노에이트, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카르보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일 퍼옥시) 헥산 등을 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. Specific examples of the first initiator in the present invention are isobutyryl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, m-toluoyl / benzoyl Peroxide, benzoyl peroxide, di-n-propyl peroxy dicarbonate, diisopropyl peroxy dicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxy dicarbonate, di-2-ethoxyethyl Peroxy dicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxy dicarbonate, dimethoxybutyl peroxy dicarbonate, bis (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxy dicarbonate, t-butyl peroxy Pivalate, t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-butyl peroxyisobutyrate, t-butyl peroxylaurate, t-butyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy 2 Ethylhexyl monocarbonate, t-butyl peroxy acetate , T-butyl peroxy benzoate, α, α'-bis (neodecanoyl peroxy) diisopropyl benzene, cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethyl butyl peroxy neo Decanoate, 1-cyclohexyl-1-methyl ethyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy pivalate, 1,1,3,3-tetramethyl butyl per Oxy 2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoyl peroxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy-2-ethyl hexanonate, t -Hexyl peroxy-2-ethyl hexanoate, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-3,5,5-trimethyl hexanoate, 2,5-dimethyl-2,5 Bis (m-toluoyl peroxy) hexane, t-hexyl peroxy benzoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoyl peroxy) hexane and the like, but are not necessarily limited thereto.

제 2 라디칼 개시제의 예들은 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 시클로 헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 시클로 헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 시클로 헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시) 시클로 헥산, n-부틸-4,4-비스(t-부틸 퍼옥시) 발러레이트, α,α'-비스(t-부틸 퍼옥시) 디이소프로필 벤젠, 디큐밀 퍼옥사이드, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, 디-t-부틸 퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸 퍼옥시) 헥신-3 등을 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. Examples of second radical initiators include 1,1-bis (t-hexyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclo hexane, 1,1-bis (t-hexyl peroxy) cyclo hexane, 1,1-bis (t-butyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1-bis (t-butyl peroxy) cyclohexane, n-butyl-4,4-bis (t-butyl peroxy) baler Late, α, α'-bis (t-butyl peroxy) diisopropyl benzene, dicumyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5- Bis (t-butyl peroxy) hexin-3 and the like, but are not necessarily limited thereto.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물에서 두 종류의 라디칼 개시제를 합한 전체 라디칼 개시제의 함량은 이방 도전성 필름의 저온속경화 성능과 보관 안정성을 균형있게 구현하는 범위로 조절되는데, 본 발명에서는 0.8 ~ 4.0중량% 범위가 바람 직하다. 또한, 저온속경화 성능의 안정적인 발현을 위해서는 제 1 라디칼 개시제 함량을 제 2 라디칼 개시제 함량이상으로 하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 전체 라디칼 개시제의 함량이 0.8중량% 미만이면 경화반응 속도가 늦어 저온속경화 특성이 저하되며, 4.0중량%를 초과하면 상온 및 냉장 보관시 안정성이 현저히 떨어지고 경화물이 견고하여 불량에 대한 재작업(rework)시 이방 도전성 필름이 완전히 제거되지 않는 문제가 발생할 수 있다. In the anisotropic conductive film composition of the present invention, the content of the total radical initiator in which the two kinds of radical initiators are combined is controlled in a range that balances the low-temperature hardening performance and storage stability of the anisotropic conductive film, and in the present invention, 0.8 to 4.0 wt% The range is desirable. In addition, it is preferable to make the content of the first radical initiator more than the content of the second radical initiator for the stable expression of the low temperature hardening performance. In the present invention, if the content of the total radical initiator is less than 0.8% by weight, the curing reaction rate is low, and thus the low-temperature curing property is lowered. The problem may arise that the anisotropic conductive film is not completely removed upon rework.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물은 도전 성능을 향상시키기 위해 도전성 입자를 포함한다. 상기 도전성 입자로는 Au, Ag, Ni, Cu, 납 및 이들의 합금을 포함하는 금속 입자; 탄소; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 전도성 고분자; Au, Ag, Ni, Cu, 납 등의 금속에 의해 표면 코팅된 전도성 고분자, 그 위에 절연입자를 추가하여 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자 등을 1종 이상 사용할 수 있다. 상기 도전성 입자의 크기는, 적용되는 회로의 피치(pitch)에 의해 1 내지 30 ㎛ 범위에서 용도에 따라 선택하여 사용할 수 있고, 서로 다른 크기의 입자를 2종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다. The anisotropic conductive film composition of this invention contains electroconductive particle in order to improve electroconductive performance. Examples of the conductive particles include metal particles including Au, Ag, Ni, Cu, lead, and alloys thereof; carbon; Conductive polymers including polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol, and the like; One or more kinds of conductive polymers surface-coated with metals such as Au, Ag, Ni, Cu, and lead, and insulated conductive particles coated by adding insulating particles thereon may be used. The size of the said electroconductive particle can be selected and used according to a use in the range of 1-30 micrometers by the pitch of the circuit applied, and can also mix and use 2 or more types of particle of a different size.

본 발명에서 도전성 입자의 양은 0.2 ~ 20 중량% 범위인 것이 바람직하다. 여기서, 도전입자 함량이 0.2중량% 미만이면 도전 성능 향상이 미흡하게 되고, 20중량%를 초과하면 이방 도전성을 수득하기 어렵게 될 수 있다. In the present invention, the amount of the conductive particles is preferably in the range of 0.2 to 20% by weight. Here, when the conductive particle content is less than 0.2% by weight, the conductive performance improvement is insufficient, and when the conductive particle content is more than 20% by weight, it is difficult to obtain anisotropic conductivity.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물은 이방 도전성 필름 조성물의 기본 물성을 저해하지 않으면서 부가적으로 물성을 개선하기 위해서 커플링제, 중합방지제, 산화방지제, 열안정제 등의 기타 첨가제를 포함할 수 있다.The anisotropic conductive film composition of the present invention may include other additives such as coupling agents, polymerization inhibitors, antioxidants, heat stabilizers and the like to further improve the physical properties without inhibiting the basic physical properties of the anisotropic conductive film composition.

본 발명의 이방 도전성 필름 조성물에는 조성물 배합 시 구리, 유리와 같은 무기물질의 표면과 이방성 도전 필름의 수지들간의 접착력을 증진하고 내열성 및 내습성을 향상시켜 접속신뢰성을 향상시키는 역할을 하는 커플링제로서 실란 커플링제를 추가로 포함될 수 있다. 중합방지제로는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논 모노메틸에테르, p-벤조퀴논, 페노티아진 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있다. 또한, 열에 의해 유도되는 조성물의 산화반응 방지 및 열안정성을 부여해 주기 위한 목적으로 가지친 페놀릭계 혹은 하이드록시 신나메이트계의 물질 등의 산화방지제를 첨가할 수 있으며, 그 예로 테트라키스-(메틸렌-(3,5-디-t-부틸-4-하이드로 신나메이트)메탄, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시 벤젠 프로파노익 에시드 티올 디-2,1-에탄다일 에스터, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시 하이드로 신나메이트, 2,6-디-터셔리-p-메틸페놀 등이 있다. 이러한 기타 첨가제는 각각 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이러한 기타 첨가제의 첨가량은 기본 이방 도전성 필름 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자에 의해 조절될 수 있다.In the anisotropic conductive film composition of the present invention as a coupling agent to improve the connection reliability by improving the adhesion between the surface of the inorganic material such as copper, glass and the resin of the anisotropic conductive film when the composition is blended and improve the heat resistance and moisture resistance Silane coupling agents may further be included. As the polymerization inhibitor, those selected from the group consisting of hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-benzoquinone, phenothiazine and mixtures thereof can be used. In addition, antioxidants such as phenolic or hydroxy cinnamate-based substances, which have been prepared for the purpose of preventing oxidation reaction and imparting thermal stability to the composition induced by heat, may be added. For example, tetrakis- (methylene- (3,5-di-t-butyl-4-hydro cinnamate) methane, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy benzene propanoic acid thiol di-2,1-ethane Diyl esters, octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy hydrocinnamate, 2,6-di-tertiary-p-methylphenol, etc. These other additives are each used alone or It can be used by mixing 2 or more types The addition amount of such other additives can be adjusted by those skilled in the art to which this invention belongs in the range which does not impair the physical property of a basic anisotropic conductive film composition.

본 발명의 다른 양상은 상술한 본 발명의 이방 도전성 수지 조성물을 박리용 시트에 도포 건조하여 형성된 이방 도전성 필름에 관계한다. 본 발명의 이방 도전성 필름은 특별한 장치나 설비 없이 용이하게 본 발명의 이방 도전성 필름 조성물을 이용하여 제조할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 조성물을 톨루엔과 같은 유기용제에 용해시켜 액상화한 후 도전성 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 일정 시간 교반하고, 이를 박리 시트 위에 10 내지 50 ㎛의 두께로 도포한 다음 일정 시간 건조하여 톨루엔 등의 용매를 휘발시킴으로써 단층 구조를 가지는 이방 도전성 필름을 수득할 수 있다. 본 발명에서는 라미네이션 공정을 통해 2층 이상의 복층 구조의 이방 도전성 필름을 얻을 수도 있다.Another aspect of this invention relates to the anisotropic conductive film formed by apply | coating and drying the anisotropically conductive resin composition of this invention mentioned above to the sheet | seat for peeling. The anisotropic conductive film of this invention can be manufactured easily using the anisotropic conductive film composition of this invention, without a special apparatus or installation. For example, after dissolving the composition of the present invention in an organic solvent such as toluene and liquefying, the conductive particles are stirred for a predetermined time within a range in which the conductive particles are not pulverized, and then applied to a release sheet at a thickness of 10 to 50 μm, followed by constant By drying for a time and evaporating a solvent such as toluene, an anisotropic conductive film having a single layer structure can be obtained. In the present invention, an anisotropic conductive film having a multilayer structure of two or more layers may be obtained through a lamination process.

본 발명에서 상기 박리 시트로는 이형처리된 폴리에스터 필름을 사용할 수 있으나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. In the present invention, the release sheet may be a release treated polyester film, but is not necessarily limited thereto.

이러한 이방 도전성 필름은 LCD 패널과 COF 필름, TCP 필름(Tape Carrier Package), 또는 인쇄회로기판과 COF 필름, TCP 필름 등의 전기적 접속에 광범위하게 이용될 수 있다. The anisotropic conductive film can be widely used for the electrical connection of the LCD panel, COF film, TCP film (Tape Carrier Package), or printed circuit board and COF film, TCP film.

이하에서 실시예를 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명할 것이나, 이들 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but these examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the present invention.

실시예 1Example 1

카르복실말단 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체(1072CGX, Zeon Chemicals) 100g을 톨루엔/메틸에틸케톤이 50/50의 중량비로 혼합되는 용제에 용해시켜 고형분이 25%인 용액을 제조하였다. 라디칼 중합성 수지로 에폭시 아크릴레이트 폴리머(SP1509, 쇼화 폴리머) 90g, (메타)아크릴레이트 모노머(TMPTMA, 미원상사 제조사 기재 요망) 20g, 2-메타크릴로일옥시에틸 에시드 포스페이트를 6g, 벤조일 퍼옥사이드 5g, 디큐밀 퍼옥사이드 2g, Ni 입자를 10g 첨가하여 이방 도전성 필름 조성 물을 수득하였다. 100 g of carboxyl terminal acrylonitrile butadiene copolymer (1072CGX, Zeon Chemicals) was dissolved in a solvent in which toluene / methylethylketone was mixed at a weight ratio of 50/50 to prepare a solution having a solid content of 25%. 90 g of epoxy acrylate polymer (SP1509, Shohwa polymer) as radically polymerizable resin, 20 g of (meth) acrylate monomer (TMPTMA, listed by Miwon Corporation), 6 g of 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, benzoyl peroxide 5 g, 2 g of dicumyl peroxide, and 10 g of Ni particles were added to obtain an anisotropic conductive film composition.

실시예 2 Example 2

페녹시 수지(YP50, 동도화성) 45g을 메틸에틸케톤에 용해시켜 고형분이 40%인 용액을 제조하여 추가로 첨가한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 실시하여 이방 도전성 필름 조성물을 수득하였다.The anisotropic conductive film composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 45 g of a phenoxy resin (YP50, dopability) was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a solution having a solid content of 40%.

비교예 1 Comparative Example 1

라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 5g만을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하여 이방 도전성 필름 조성물을 수득하였다. The anisotropic conductive film composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that only 5 g of benzoyl peroxide was used as the radical initiator.

비교예 2 Comparative Example 2

에틸렌 비닐아세테이트 공중합체(EVA 700, 바이엘사) 100g을 톨루엔/메틸에틸케톤 2:1의 혼합 용제에 용해하여 고형분 35%의 용액을 제조하였다. 라디칼 중합성 수지로 에폭시 아크릴레이트 폴리머(SP1509, 쇼화 폴리머) 90g, (메타)아크릴레이트 모노머(TMPTMA) 20g, 2-메타크릴로일옥시에틸 에시드 포스페이트를 6g, 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 5g, Ni 입자를 10g 첨가하여 이방 도전성 필름 조성물을 수득하였다.100 g of an ethylene vinyl acetate copolymer (EVA 700, Bayer) was dissolved in a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone 2: 1 to prepare a solution having a solid content of 35%. 90 g of epoxy acrylate polymer (SP1509, Shohwa polymer), 20 g of (meth) acrylate monomer (TMPTMA), 6 g of 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate as radical polymerizable resin, 5 g of benzoyl peroxide as a radical initiator, Ni 10 g of particles were added to obtain an anisotropic conductive film composition.

이방 도전성 필름의 제조Preparation of Anisotropic Conductive Film

실시예 1-2 및 비교예 1-2에서 수득된 이방 도전성 필름 조성물을 도전성 입 자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 상온(25℃)에서 60 분간 교반하였다. 상기의 조성물을 실리콘 이형 표면 처리된 폴리에틸렌 베이스 필름에 45 ㎛의 두께의 필름으로 형성시켰다. 이때 필름 형성을 위해서 캐스팅 나이프(Casting knife)를 사용하였고, 필름의 건조 시간은 80 ℃에서 5 분으로 하였다. 이를 1.5mm 폭으로 슬리팅하여 회로 접속 성능을 평가하였다.The anisotropic conductive film compositions obtained in Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 were stirred at room temperature (25 ° C.) for 60 minutes within a speed range in which the conductive particles were not crushed. The composition was formed into a 45 μm thick film on a silicone release surface treated polyethylene base film. At this time, a casting knife was used for film formation, and the drying time of the film was 5 minutes at 80 ° C. The circuit connection performance was evaluated by slitting this to a width of 1.5 mm.

이방 도전성 필름의 접착력 및 접속저항 평가Evaluation of Adhesion and Connection Resistance of Anisotropic Conductive Film

상기의 예로부터 제조된 이방 도전성 필름의 회로 접속 성능을 평가하기 위해 PCB와 COF 필름을 사용하였다. 이를 위해, 각각의 필름을 상온에서 1시간 방치시킨 후 80℃, 1초, 1.0MPa의 조건으로 가압착하여 이형필름을 제거하였으며, 160℃ 10초 3.0MPa의 본압착 조건으로 접속하였다. 이와 같이 제조된 시편을 이용하여 초기 접속저항 및 90° 접착력을 측정하였으며, 온도 85 ℃, 상대습도 85%에서 250 시간 및 500 시간 조건으로 고온고습 방치후 접속저항 및 접착력을 측정하여 결과를 하기 표 1에 나타내었다. PCB and COF film were used to evaluate the circuit connection performance of the anisotropic conductive film manufactured from the above example. To this end, each film was left at room temperature for 1 hour and then press-bonded under conditions of 80 ° C., 1 second, and 1.0 MPa to remove the release film, and connected under normal compression conditions of 3.0 ° C. at 160 ° C. for 10 seconds. The initial connection resistance and 90 ° adhesion were measured using the specimens prepared as described above, and the connection resistance and adhesion were measured after standing at 250 ° C. and 500 hours at 85 ° C. and 85% RH, respectively. 1 is shown.

접착력(gf/cm)Adhesive force (gf / cm) 접속저항(Ω)Connection resistance (Ω) 초기Early 250시간250 hours 500시간500 hours 초기Early 250시간250 hours 500시간500 hours 실시예1Example 1 987987 10111011 11481148 1.081.08 1.141.14 1.451.45 실시예2Example 2 845845 941941 923923 1.131.13 1.231.23 1.371.37 비교예1Comparative Example 1 862862 605605 543543 1.211.21 1.971.97 4.574.57 비교예2Comparative Example 2 654654 347347 284284 1.261.26 1.581.58 3.133.13

일반적으로 폭 1.5mm규격의 이방 도전성 필름은 600gf/cm이상의 접착력이 요구되며, 고온고습 등의 가혹조건 방치 후에도 접착력에 큰 감소가 없어야 한다. 본 발명의 실시예 1및 실시예 2는 가교성 고무 수지, 라디칼 중합성 수지, 복합 경화 반응을 발현하는 라디칼 개시제를 적용함에 따라, 초기 접착력이 높을 뿐만 아니라 고온고습의 가혹 조건 하에서도 에이징 효과에 의해 접착력 유지가 우수함을 알 수 있다. 이에 따라, 접속저항의 신뢰성도 충분한 도전성이 확보되는 2Ω 이하를 나타내었다.In general, an anisotropic conductive film having a width of 1.5 mm is required to have an adhesive strength of 600 gf / cm or more, and there should be no significant decrease in adhesive strength even after being left in harsh conditions such as high temperature and high humidity. Example 1 and Example 2 of the present invention, by applying a cross-linking rubber resin, a radical polymerizable resin, a radical initiator expressing a complex curing reaction, not only high initial adhesive force but also to the aging effect under the harsh conditions of high temperature and high humidity. It can be seen that the adhesive strength is excellent by this. Accordingly, the reliability of the connection resistance was also 2 Ω or less to ensure sufficient conductivity.

반면, 비교예 1은 가교성 고무 수지를 적용하여 초기 접착력과 전기저항은 양호하였으나, 고온고습의 가혹 조건 하에서 접착력이 크게 감소하였고 500시간에서 접속저항이 불량하게 나타났다. 비교예 2는 고온고습 조건에서 접착력이 불량하며 500시간에서는 디라미네이션 현상이 나타났다.On the other hand, in Comparative Example 1, the initial adhesive strength and electrical resistance were good by applying a crosslinkable rubber resin, but the adhesive strength was greatly reduced under severe conditions of high temperature and high humidity, and the connection resistance was poor at 500 hours. In Comparative Example 2, the adhesion was poor under high temperature and high humidity conditions, and the delamination phenomenon appeared at 500 hours.

이상에서 본 발명의 바람직한 구현예에 대하여 상세하게 설명하였으나, 당업자들은 본 발명의 정신 및 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 가하여 실시할 수 있을 것이다. 따라서 이러한 모든 가능한 수정이나 변형은 본 발명의 보호 범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다. Although a preferred embodiment of the present invention has been described in detail above, those skilled in the art will be able to carry out various modifications or changes without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, all such possible modifications or variations should be understood to fall within the protection scope of the present invention.

본 발명에 의하면 점착성이 우수하여 높은 가압 접착성을 발휘하는 가교성 고무 수지와 복합 경화 반응을 발현하는 라디칼 개시제 시스템을 사용함으로써 가열가압에 의해 높은 접착력을 발휘하고 고온고습의 가혹 조건 하에서도 에이징 효과에 의해 접착력 유지가 우수하므로, 장기 신뢰성이 뛰어난 이방 도전성 필름 조 성물 및 이방 도전성 필름을 얻을 수 있다.According to the present invention, by using a crosslinkable rubber resin having excellent adhesion and a radical initiator system expressing a complex curing reaction, it exhibits high adhesion by heating and exerts an aging effect even under severe conditions of high temperature and high humidity. Since the adhesive force is excellent in retention, the anisotropic conductive film composition and the anisotropic conductive film excellent in long-term reliability can be obtained.

더욱이, 본 발명의 이방 도전성 필름은 짧은 가열가압 공정 시간에 의해 회로 접속을 완성할 수 있으므로 높은 생산성을 얻을 수 있다.Further, the anisotropic conductive film of the present invention can complete the circuit connection by a short heating and pressing process time, and thus high productivity can be obtained.

Claims (12)

(a) 가교성 고무 수지 20 내지 60 중량%; (a) 20 to 60 wt% of the crosslinkable rubber resin; (b) 라디칼 중합성 물질 36 내지 76 중량%;(b) 36 to 76 weight percent of radically polymerizable material; (c) 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트 및 퍼옥시에스테르로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상의 제 1 라디칼 개시제와 (d) 퍼옥시케탈 및 디알킬퍼옥사이드 중 하나 이상의 제 2 라디칼 개시제 0.8 내지 4.0 중량%; 및 (c) at least one first radical initiator selected from the group consisting of diacyl peroxides, peroxydicarbonates and peroxyesters, and (d) at least one second radical initiator of peroxyketals and dialkylperoxides 0.8 To 4.0 weight percent; And (e) 도전성 입자 0.2 내지 20 중량%를 포함하는 것을 특징으로 이방 도전성 필름 조성물.(e) 0.2-20 weight% of electroconductive particle, The anisotropic conductive film composition characterized by the above-mentioned. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 가교성 고무 수지는 올레핀 수지, 부타디엔 수지, 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체, 카르복실말단 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체 폴리비닐부티랄 수지, 페녹시 수지 및 이들의 혼합 수지로 구성되는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.According to claim 1, wherein the crosslinkable rubber resin is composed of an olefin resin, butadiene resin, acrylonitrile butadiene copolymer, carboxyl terminal acrylonitrile butadiene copolymer polyvinyl butyral resin, phenoxy resin and mixed resin thereof Anisotropic conductive film composition, characterized in that selected from the group to be. 제 1항에 있어서, 상기 가교성 고무 수지는 중량평균분자량이 10,000 내지 1,000,000인 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The anisotropic conductive film composition according to claim 1, wherein the crosslinkable rubber resin has a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000. 제 1항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 모노머, 올리고머, 폴리머 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The anisotropic conductive film composition of claim 1, wherein the radical polymerizable material is selected from the group consisting of monomers, oligomers, polymers, and mixtures thereof. 제 1항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이미드 화합물 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The anisotropic conductive film composition according to claim 1, wherein the radically polymerizable material is selected from the group consisting of acrylates, methacrylates, maleimide compounds, and mixtures thereof. 제 1항에 있어서, 상기 조성물이 라디칼 중합성 물질로서 인산 에스테르를 0.5 ~ 8중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The anisotropic conductive film composition according to claim 1, wherein the composition comprises 0.5 to 8% by weight of phosphate ester as a radical polymerizable material. 제 1항에 있어서, 제 2 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도는 제 1 라디칼 개시제의 반감기 10시간 온도보다 10℃ 이상 높은 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.2. The anisotropic conductive film composition according to claim 1, wherein the half-life 10 hour temperature of the second radical initiator is at least 10 ° C higher than the half-life temperature of the first radical initiator. 제 1항에 있어서, 상기 도전성 입자는 금, 은, 니켈, 구리, 납 및 이들의 합 금으로 구성되는 군에서 선택되는 금속입자; 탄소; 전도성 고분자; 금속에 의해 표면 코팅된 전도성 고분자; 및 절연화 처리된 도전성 입자 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The method of claim 1, wherein the conductive particles are gold, silver, nickel, copper, lead and metal particles selected from the group consisting of alloys thereof; carbon; Conductive polymers; Conductive polymers surface-coated with a metal; And insulated conductive particles and mixtures thereof. 제 1항에 있어서, 상기 도전성 입자의 평균 입경은 1 내지 30 ㎛인 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The anisotropic conductive film composition according to claim 1, wherein the average particle diameter of the conductive particles is 1 to 30 µm. 제 1항에 있어서, 상기 조성물이 실란 커플링제 또는 라디칼 중합 저해제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름 조성물.The anisotropic conductive film composition according to claim 1, wherein the composition further comprises a silane coupling agent or a radical polymerization inhibitor. 제 1항 및 제 3항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 기재된 이방 도전성 필름 조성물을 박리용 시트에 도포 건조하여 형성된 이방 도전성 필름.The anisotropic conductive film formed by apply | coating and drying the anisotropic conductive film composition of any one of Claims 1 and 3 to the sheet | seat for peeling.
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