KR101246683B1 - Composition for anisotropic conductive film having improved compatibility and film formed therefrom - Google Patents
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Abstract
열가소성 고분자 바인더 수지, 라디칼 중합성 물질, 라디칼 개시제, 스테아릭산계 화합물 및 도전성 입자를 포함하는 이방도전성 필름용 조성물로서, 스테아릭산계 화합물이 전체 조성물의 0.5~20 중량% 범위로 포함되는 것을 특징으로 하는 이방도전성 필름용 조성물이 개시되어 있다. A composition for anisotropic conductive films comprising a thermoplastic polymer binder resin, a radical polymerizable material, a radical initiator, a stearic acid compound, and conductive particles, wherein the stearic acid compound is included in a range of 0.5 to 20% by weight of the total composition. A composition for anisotropic conductive films is disclosed.
이방도전성 필름에 스테아릭산계 화합물을 도입함에 따라 조성 원료간의 상안정성 저하로 인하여 발생하는 코팅성 불균일 등의 공정 안정성 문제, 전기적 특성 및 외관 불균일 등의 물성 안정화 문제 등을 해결할 수 있다.By introducing a stearic acid-based compound into the anisotropic conductive film, process stability problems such as coating nonuniformity caused by lowering of phase stability between the raw materials of the composition, and stabilization of physical properties such as electrical characteristics and appearance nonuniformity can be solved.
상안정성, 이방도전성, 스테아릭산, 상용성 Phase stability, anisotropic conductivity, stearic acid, compatibility
Description
본 발명은 스테아릭산계 화합물을 포함하는 이방도전성 필름용 조성물 및 이로부터 형성되는 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a composition for an anisotropic conductive film containing a stearic acid compound and a film formed therefrom.
이방 도전성 필름이란 일반적으로 니켈(Ni)이나 금(Au) 등의 금속 입자, 또는 그와 같은 금속들로 코팅된 고분자 입자 등의 도전성 입자를 분산시킨 필름상의 접착제를 말하는 것으로, 이를 접속시키고자 하는 회로 사이에 위치시킨 후 일정 조건의 가열, 가압 공정을 거치면, 회로 단자들 사이는 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되고, 인접 회로와의 사이인 피치(pitch)에는 절연성 접착 수지가 충진되어 도전성 입자가 서로 독립하여 존재하게 됨으로써, 높은 절연성을 부여하게 되는 것이다. 이러한 이방 도전성 필름은 일반적으로 LCD 패널과 테이프 캐리어 패키지(Tape Carrier Package; 이하 TCP라 부른다) 또는 인쇄회로기판과 TCP 등의 전기 적 접속에 널리 이용되고 있다.The anisotropic conductive film generally refers to a film-like adhesive in which conductive particles such as metal particles such as nickel (Ni) and gold (Au) or polymer particles coated with such metals are dispersed. When placed between circuits and subjected to a heating and pressing process under a certain condition, the circuit terminals are electrically connected by conductive particles, and an insulating adhesive resin is filled in the pitch between adjacent circuits to form conductive particles. By being independent of each other, high insulation is provided. Such anisotropic conductive films are generally used for electrical connection of LCD panels and tape carrier packages (hereinafter referred to as TCP) or printed circuit boards and TCP.
최근 대형화 및 박형화 추세에 있는 디스플레이 산업의 경향에 따라 전극 및 회로들 간의 피치 또한 점차 미세화되고 있으며, 이러한 미세 회로 단자들을 접속하기 위한 배선 기구 중의 하나로서 이방 도전성 필름이 매우 중요한 역할을 수행하고 있다. 그 결과, 이방 도전성 필름은 COG 실장이나 COF 실장 등의 접속 재료로서도 많은 주목을 받고 있다.With the trend of the display industry, which has recently become larger and thinner, the pitch between electrodes and circuits is also becoming finer, and an anisotropic conductive film plays a very important role as one of wiring devices for connecting such fine circuit terminals. As a result, the anisotropic conductive film has attracted much attention as a connection material such as COG mounting or COF mounting.
이방도전성 필름은 경화방법에 따라 에폭시 경화형 및 아크릴 경화형으로 구분되어지며, 각각 필름형성의 매트릭스 역할을 하는 바인더 수지부 및 반응성을 부여하는 경화부로 구분된다. 이들 원료들을 균일하게 혼합하여 필름형성을 하게 되는데, 이때 각 원료간의 상용성이 저하되면 코팅성 등 공정안정성 저하, 상기 코팅성 저하에 따른 전기적 특성 및 외관 안정성 저하 등의 물성 저하가 발생한다. The anisotropic conductive film is classified into an epoxy curing type and an acrylic curing type according to a curing method, and is divided into a binder resin part serving as a matrix of film formation and a curing part giving reactivity. These raw materials are uniformly mixed to form a film. At this time, when the compatibility between the respective raw materials decreases, process stability such as coating property decreases, and physical properties such as electrical properties and appearance stability decrease due to the coating property decrease.
이를 해결하기 위하여 상안정성 저하 원인물질을 배제하거나 기타 유사물성 원료로 대체하여 사용하는 방법이 있다. 또한, 조액물의 점도를 높여 입자와 조액물의 상분리 발생 시간을 지연시키는 방법도 사용되어 왔다. 그러나 이들 방법은 원료 선택의 폭이 좁아질 수 있고, 근본적인 상안정성 개선이 아닌 상분리 현상 시간을 지연시키는 수준으로 상안정성 개선폭이 크지 않다는 문제가 있다. In order to solve this problem, there is a method of excluding substances causing phase stability or replacing them with other similar raw materials. In addition, a method of increasing the viscosity of the crude liquid to delay the time of occurrence of phase separation of the particles and the crude liquid has also been used. However, these methods may narrow the selection of raw materials and have a problem in that the phase stability improvement is not significant because the phase separation development time is delayed rather than the fundamental phase stability improvement.
본 발명의 목적은 이방도전성 필름 형성에 매트릭스 역할을 하는 바인더 수 지부 및 반응성을 부여하는 경화부 원료의 혼합시 발생하는 상용성 저하 및 유변물성의 불일치를 해결할 수 있는 방안을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a solution capable of resolving incompatibility and rheological mismatch caused when mixing a binder resin part serving as a matrix to form anisotropic conductive film and a cured part raw material imparting reactivity.
상기 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the above object,
본 발명의 일 측면에 따르면, 열가소성 고분자 바인더 수지, 라디칼 중합성 물질, 라디칼 개시제, 스테아릭산계 화합물 및 도전성 입자를 포함하는 이방도전성 필름용 조성물로서, According to an aspect of the present invention, as a composition for anisotropic conductive films comprising a thermoplastic polymer binder resin, a radical polymerizable material, a radical initiator, a stearic acid compound and conductive particles,
상기 조성물 중 스테아릭산계 화합물은 전체 조성물의 0.5~20 중량% 범위로 포함되는 것을 특징으로 하는 이방도전성 필름용 조성물을 제시할 수 있다. Stearic acid-based compound in the composition can present a composition for anisotropic conductive film, characterized in that it is included in the range of 0.5 to 20% by weight of the total composition.
또한, 본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 상기 조성물로부터 형성된 필름을 제시할 수 있다. In addition, according to another aspect of the present invention, it is possible to present a film formed from the composition.
본 발명에 의한 이방도전성 필름용 조성물은 스테아릭산계 화합물을 포함함으로써, 원료간 상안정성을 부여할 수 있고, 이에 따라 코팅안정성 등의 공정안정성을 도모하며, 외관 및 저항, 신뢰성 등의 물성을 향상시킬 수 있다. The composition for anisotropic conductive films according to the present invention can impart phase stability between raw materials by including stearic acid-based compounds, thereby achieving process stability such as coating stability, and improving physical properties such as appearance, resistance and reliability. You can.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명의 이방도전성 필름용 조성물은 열가소성 고분자 바인더 수지, 라디칼 중합성 물질, 라디칼 개시제, 스테아릭산계 화합물 및 도전성 입자를 포함하는 이방도전성 필름용 조성물로서, The composition for anisotropic conductive films of this invention is a composition for anisotropic conductive films containing a thermoplastic polymer binder resin, a radically polymerizable substance, a radical initiator, a stearic acid type compound, and electroconductive particle,
상기 조성물 중 스테아릭산계 화합물은 전체 조성물의 0.5~20 중량% 범위로 포함되는 것을 특징으로 한다. Stearic acid-based compound in the composition is characterized in that it is included in the range of 0.5 to 20% by weight of the total composition.
이하에서 본 발명의 이방도전성 필름용 조성물을 구성하는 성분에 대해서 상세히 서술한다.Hereinafter, the component which comprises the composition for anisotropic conductive films of this invention is explained in full detail.
(A) 열가소성 고분자 바인더 수지(A) thermoplastic polymer binder resin
열가소성 고분자 수지는 이방 도전성 필름에서 필름을 형성시키는데 필요한 매트릭스 역할을 하는 바인더부를 이루며, 그 종류는 특별히 제한은 없고 일반적인 열가소성 수지를 사용할 수 있다. The thermoplastic polymer resin forms a binder portion that serves as a matrix for forming a film in the anisotropic conductive film, and the type thereof is not particularly limited, and a general thermoplastic resin may be used.
예를 들어, 아크릴로니트릴계, 스티렌-아크릴로니트릴계 메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌계, 부타디엔계, 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 페녹시계, 폴리아미드계, 올레핀계, 실리콘계 수지 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 폴리비닐부티랄, 폴리비닐포르말, 폴리에스테르, 페놀수지, 에폭시수지, 페녹시 수지, 아크릴계 중합성 수지 등을 단독으로 혹은 혼합하여 사용할 수 있다.For example, acrylonitrile-based, styrene-acrylonitrile-based methyl methacrylate-butadiene-styrene-based, butadiene-based, acryl-based, urethane-based, epoxy-based, phenoxy, polyamide-based, olefin-based, and silicone-based resins It can be used alone or in mixture of two or more thereof. Preferably, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyester, phenol resin, epoxy resin, phenoxy resin, acrylic polymerizable resin or the like can be used alone or in combination. Can be.
또한, 평균분자량이 1,000 내지 1,000,000 범위의 것을 사용하는 것이 바람직한데, 분자량이 1,000 미만인 수지를 사용하는 경우에는 필름 성형에 불리한 택(Tack) 특성이 과도하여 필름 성형이 제대로 되지 않고, 분자량이 1,000,000 초과인 수지를 사용하는 경우에는 경화 반응에 참여하는 (메타)아크릴레이트 올리고머 및 모노머 등과의 상용성이 악화되어 조성 혼합액 제조시 상분리가 일어날 수 있다. 이러한 열가소성 수지는 높은 가압 접착성을 발휘하므로 이방 도전성 필름의 가열가압 회로 접속 공정에 의해 우수한 접착력 및 밀착성을 발현하여 회로 단자의 양호한 접속을 얻을 수 있다. In addition, it is preferable to use an average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000, but when using a resin having a molecular weight of less than 1,000, the film properties are not properly formed due to excessive tack characteristics, which are disadvantageous for film molding, and the molecular weight is more than 1,000,000. In the case of using a phosphorus resin, compatibility with (meth) acrylate oligomers and monomers participating in the curing reaction may be deteriorated, and phase separation may occur when preparing the composition mixture. Since such a thermoplastic resin exhibits high pressure adhesiveness, it is possible to obtain excellent connection of a circuit terminal by expressing excellent adhesive force and adhesiveness by the heating and pressing circuit connection process of an anisotropic conductive film.
상기 열가소성 수지는 본 발명의 이방 도전성 필름용 조성물의 30 내지 60중량%로 포함될 수 있다. 그 함량이 30중량% 미만일 경우에는 도전입자 분산 공정에서 충분한 분산력을 확보할 수 없으며, 60중량%를 초과할 경우에는 흐름성이 저해되어 안정한 접속 상태를 유지하기 어렵다. The thermoplastic resin may be included in 30 to 60% by weight of the composition for anisotropic conductive film of the present invention. If the content is less than 30% by weight, sufficient dispersing force may not be ensured in the conductive particle dispersion process. If the content is more than 60% by weight, the flowability is impaired and it is difficult to maintain a stable connection state.
(B) 라디칼 중합성 물질(B) radically polymerizable material
상기 라디칼 중합성 물질은 경화부의 성분으로써 라디칼 경화 반응이 일어나 접속층 간의 접착력 및 접속 신뢰성을 보장해주는 역할을 한다. The radically polymerizable material acts as a component of the cured part to perform a radical curing reaction, thereby assuring adhesion and connection reliability between the connection layers.
본 발명의 아크릴 타입 이방 도전성 필름 조성물의 라디칼 중합성 물질은 라디칼 중합성 물질로서, (메타)아크릴레이트 올리고머, (메타)아크릴레이트 모노머 또는 이들의 혼합물을 포함한다.The radically polymerizable material of the acrylic type anisotropic conductive film composition of the present invention is a radically polymerizable material and includes a (meth) acrylate oligomer, a (meth) acrylate monomer or a mixture thereof.
(b-1) (메타) 아크릴레이트 올리고머(b-1) (meth) acrylate oligomer
상기 (메타)아크릴레이트 올리고머로는 종래 알려진 (메타)아크릴레이트 올리고머군으로부터 선택된 1종 이상의 올리고머를 제한없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 평균 분자량이 약 1,000 내지 100,000 범위의 우레탄계 (메타)아크릴레이 트, 에폭시계 (메타)아크릴레이트, 폴리에스테르계 (메타)아크릴레이트, 불소계 (메타)아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트, 실리콘계 (메타)아크릴레이트, 인산계 (메타)아크릴레이트, 말레이미드 개질 (메타)아크릴레이트, 아크릴레이트(메타크릴레이트) 등의 올리고머를 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. As the (meth) acrylate oligomer, one or more oligomers selected from the group of known (meth) acrylate oligomers can be used without limitation, and preferably, urethane-based (meth) acrylates having an average molecular weight in the range of about 1,000 to 100,000. , Epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, fluorine (meth) acrylate, fluorene (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, Malay Oligomers, such as a mid modified (meth) acrylate and an acrylate (methacrylate), can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.
구체적으로, 상기 우레탄계 (메타)아크릴레이트들은 분자의 중간 구조들이 폴리에스테르 폴리올(polyester polyol), 폴리에테르 폴리올(polyether polyol), 폴리카보네이트 폴리올(polycarbonate polyol), 폴리카프로락톤 폴리올(polycarprolactone polyol), 링 개환 테트라하이드로퓨란 프로필렌옥사이드 공중합체(tetrahydrofurane-propyleneoxide ring opening copolymer), 폴리부타디엔 디올(polybutadiene diol), 폴리디메틸실록산디올(polydimethylsiloxane diol), 에틸렌 글리콜(ethylene glycol), 프로필렌 글리콜(propylene glycol), 1,4-부탄디올(1,4-butanediol), 1,5-펜탄디올(1,5-pentanediol), 1,6-헥산디올(1,6-hexanediol), 네오펜틸 글리콜(neopentyl glycol), 1,4-시클로헥산 디메탄올(1,4-cyclohexane dimethanol), 비스페놀-에이(bisphenol A), 수소화 비스페놀-에이 (hydrogenated bisphenol A), 2,4-톨루엔 디이소시아네이트(2,4-toluene diisocyanate), 1,3-자일렌 디이소시아네이트(1,3-xylene diisocyanate), 1,4-자일렌 디이소시아네이트(1,4-xylene diisocyanate), 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트 (1,5-napthalene diisocyanate), 1,6-헥산 디이소시아네이트(1,6-hexan diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate)로부터 합성 되어지는 것을 사용할 수 있고, Specifically, the urethane-based (meth) acrylates have a structure in which the intermediate structures of the molecules are formed of a polyester polyol, a polyether polyol, a polycarbonate polyol, a polycarprolactone polyol, Propylene oxide ring opening copolymer, polybutadiene diol, polydimethylsiloxane diol, ethylene glycol, propylene glycol, 1, 2-butanediol, 2-ethylhexyl acrylate, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, Cyclohexane dimethanol, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, 2,4-toluene diisocyanate, 1,4-cyclohexane dimethanol, 1,4-cyclohexane dimethanol, 3- 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 1,6-hexane Synthesized from diisocyanate (1,6-hexan diisocyanate), isophorone diisocyanate,
상기 에폭시 (메타)아크릴레이트계로는 중간의 분자구조가 2-브로모히드로퀴논, 레졸시놀, 카테콜, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 비스페놀 S 등의 비스페놀류, 4,4'-디히드록시비페닐, 비스(4-히드록시페닐)에테르 등의 골격으로 되어진 것과 알킬기, 아릴기, 메틸올기, 알릴기, 환상 지방족기, 할로겐(테트라브로모비스페놀 A 등), 니트로기 등으로 이루어진 (메타)아크릴레이트 올리고머군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있으며, As said epoxy (meth) acrylate type, the intermediate molecular structure is bisphenol, such as 2-bromohydroquinone, resorcinol, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, 4,4'- dihydride Consisting of an alkyl group, an aryl group, a methylol group, an allyl group, a cyclic aliphatic group, a halogen (such as tetrabromobisphenol A), a nitro group, or the like having a skeleton such as oxybiphenyl or bis (4-hydroxyphenyl) ether ( Meta) acrylate oligomer group may be used,
그 외에 본 발명의 (메타)아크릴레이트 올리고머로서 분자 중에 말레이미드기를 적어도 2개 이상 함유하는, 예를 들면, 1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N, N'-m-페닐렌비스말레이미드, N, N'-p-페닐렌비스말레이미드, N, N'-m-토일렌비스말레이미드, N, N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디에틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, N, N'-3,3'-디페닐스르혼비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4-8(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 데칸, 4,4'-시크로헤키시리덴비스(1-(4 말레이미드페노키시)-2-시클로 헥실 벤젠, 2,2-비스(4-(4 말레이미드페녹시) 페닐) 헥사 플루오르 프로판 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.In addition, for example, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N'-m-phenylene containing at least two maleimide groups in a molecule as the (meth) acrylate oligomer of the present invention. Bismaleimide, N, N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-m-toylene bismaleimide, N, N'-4,4- biphenylene bismaleimide, N, N ' -4,4- (3,3'- dimethyl biphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- dimethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4 , 4- (3,3'-diethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4- diphenyl propane bismaleimide , N, N'-4,4-diphenyl ether bismaleimide, N, N'-3,3'- diphenyl thrubis bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimide phenoxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4-8 (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleic) Dephenoxy) phenyl) decane, 4,4'-cyclohexyrylidebis (1- (4 maleimide phenoxyshi) -2-cyclohexyl benzene, 2,2-bis (4- (4 maleimide phenoxy) Phenyl) hexafluoro propane and the like may be used alone or in combination of two or more thereof.
(b-2) (메타) 아크릴레이트 모노머(b-2) (meth) acrylate monomer
본 발명의 구현예에 따른 라디칼 경화형 타입의 조성물은, 경화부의 다른 한 성분으로 역시 라디칼 중합성 물질인 (메타)아크릴레이트 모노머를 포함하며, 상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 반응성 희석제의 역할을 한다.The radical curable type composition according to the embodiment of the present invention includes (meth) acrylate monomer, which is also a radical polymerizable material as another component of the curing part, and the (meth) acrylate monomer serves as a reactive diluent. .
상기 (메타)아크릴레이트로는 종래 알려진 (메타)아크릴레이트 모노머군으로부터 선택된 1종 이상의 모노머를 제한없이 사용할 수 있는데, 특별히 제한되는 것은 아니나, 바람직하게는 1,6-헥산디올 모노(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐 옥시프로필 (메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시알킬 (메타)아크릴로일 포스페이트, 4-하이드록시 사이클로헥실 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린 디(메타)아크릴레이트, t-하이드로퍼퓨릴 (메타)아크릴레이트, iso-데실 (메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시) 에틸 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 라우릴( 메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 에톡시부가형 노닐페놀 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이 트, t-에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에톡시 부가형 비스페놀-A 디(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 페녹시-t-글리콜 (메타)아크릴레이트, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트, 디메틸올 트리사이클로 데케인 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판벤조에이트 아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.As the (meth) acrylate, there may be used at least one monomer selected from the group of (meth) acrylate monomers known in the prior art, without any particular limitation, but 1,6-hexanediol mono (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloylphosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tri Tall hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, t-hydroperfuryl (meth) acrylate, iso-decyl (meth) acrylate, 2- ( 2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tri Decyl (meth) acrylate, ethoxy addition type nonylphenol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, t- Ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, ethoxy addition type bisphenol-A di ( Meta) acrylic , Cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, phenoxy-t-glycol (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl phosphate, dimethylol tricyclo decane di (meth) acrylate, trimethylol One or more types selected from the group consisting of propanebenzoate acrylate, fluorene-based (meth) acrylate and mixtures thereof can be used.
상기 (b-1) 및 (b-2)의 라디칼 중합성 물질은 본 발명의 이방 도전성 필름용 조성물의 20~55중량%로 포함될 수 있다. 그 함량이 20중량% 미만일 경우에는 본 공정 압착 후 경화 밀도 저하로 인한 신뢰적 특성 저하 및 전체적으로 흐름성이 저하되어, 접착시의 도전성 입자와 회로 기재의 접촉이 나빠지고, 접속저항의 상승 또는 이로 인한 접속 신뢰성이 저하될 수 있으며, 50중량%를 초과할 경우에는 이방 도전성 필름 형성성에 어려움이 있고, 접착 특성이 저하될 수 있다.The radically polymerizable materials of (b-1) and (b-2) may be included in 20 to 55% by weight of the composition for anisotropic conductive films of the present invention. If the content is less than 20% by weight, the reliability characteristics are lowered and the overall flowability is lowered due to the lowering of the curing density after the crimping of the process, and the contact between the conductive particles and the circuit substrate at the time of adhesion is deteriorated, and the connection resistance is raised or lowered. Due to the connection reliability may be lowered, when it exceeds 50% by weight, there is a difficulty in the anisotropic conductive film formability, the adhesive properties may be lowered.
(C) 라디칼 개시제(C) radical initiator
라디칼 개시제는 경화부의 또 다른 성분을 구성하며, 광중합형 개시제 또는 열경화형 개시제를 1 종 이상 사용할 수 있다. The radical initiator constitutes another component of the curing portion, and one or more kinds of photopolymerization initiators or thermosetting initiators may be used.
상기 광중합형 개시제의 구체적인 예로는 벤조페논, o-벤조일 안식향산 메틸, 4-벤조일-4-메틸 디페닐 황화물, 이소프로필 티오크산톤, 디에틸 티오크산톤, 4-디에틸 안식향산 에틸, 벤조인 에테르, 벤조일 프로필 에테르, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐 프로판-1-온, 디에톡시 아세토페논 등이 있다. Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl sulfide, isopropyl thioxanthone, diethyl thioxanthone, ethyl 4-diethylbenzoate, benzoin ether , Benzoylpropyl ether, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone and the like.
상기 열경화형 개시제로는 퍼옥사이드계와 아조계를 사용할 수 있다. 상기 퍼옥사이드계 개시제의 구체적인 예로는 t-부틸 퍼옥시라우레이트, 1,1,3,3-t-메틸부틸퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥실 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5,-디메틸-2,5-디(t-부틸 퍼옥시) 헥산, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시-2-2-에틸헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)사이클로헥산, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, 큐밀 퍼옥시 네오데카노에이트, 디-이소프로필 벤젠 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 이소부틸 퍼옥사이드, 2,4-디클로로벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥시 톨루엔, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 노에데카노에이트, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-이소프로필 퍼옥시 카보네이트, 비스(4-t-부틸 사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에톡시 메톡시 퍼옥시 디카보네이트, 디(2-에틸 헥실 퍼옥시) 디카보네이트, 디메톡시 부틸 퍼옥시 디카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시 부틸 퍼옥시) 디카보네이트, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-(t-부틸 퍼옥시) 사이클로도데칸, 2,2-비스(t-부틸 퍼옥시)데칸, t-부틸 트리메틸 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디메틸 실릴 퍼옥사이드, t-부틸 트리알릴 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디알릴 실릴 퍼옥사이드, 트리스(t-부틸) 아릴 실릴 퍼옥사이드 등이 있다.As the thermosetting initiator, peroxide type and azo type can be used. Specific examples of the peroxide initiator include t-butyl peroxylaurate, 1,1,3,3-t-methylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl- (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl- butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl T-butyl peroxyneodecanoate, t-hexyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-butyl peroxy (t-butylperoxy) T-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropylmonocarbonate, t-butylperoxy- 3,5,5-trimethylhexanonate, t -Butyl peroxy pivalate, cumyl peroxy neodecanoate, di-isopropyl benzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethyl Hexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethyl hexanoyl peroxide, benzoyl peroxy toluene, 1,1 , 3,3-tetramethyl butyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methyl ethyl peroxy nodecanoate, di-n-propyl peroxy dicarbonate, di-isopropyl peroxy carbonate, Bis (4-t-butyl cyclohexyl) peroxy dicarbonate, di-2-ethoxy methoxy peroxy dicarbonate, di (2-ethyl hexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxy butyl peroxy dicarbonate, di ( 3-methyl-3-methoxy Butyl peroxy) dicarbonate, 1,1-bis (t-hexyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1-bis (t-hexyl peroxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1- (t-butyl peroxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butyl peroxy) decane, t-butyl Trimethyl silyl peroxide, bis (t-butyl) dimethyl silyl peroxide, t-butyl triallyl silyl peroxide, bis (t-butyl) diallyl silyl peroxide, tris (t-butyl) aryl silyl peroxide, and the like. .
상기 아조계 개시제의 구체적인 예로는 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸 발레로니트릴), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸 프로피오네이트), 2,2'-아조비스(N-사이클로헥실-2-메틸 프로피오네미드), 2,2-아조비스(2,4-디메틸 발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸 부틸로니트릴), 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸프로피오네미드], 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸 프로피오네미드), 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸 프로피오네미드], 1,1'-아조비스(사이클로헥산-1-카보니트릴), 1-[(시아노-1-메틸에틸)아조] 포름아미드 등이 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 개시제들은 1 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the azo initiator include 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethyl valeronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methyl propionate), 2, 2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methyl propionide), 2,2-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile), 2,2'-azobis (2-methyl butyronitrile ), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionide], 2,2'-azobis (N-butyl-2-methyl propionide), 2,2 '-Azobis [N- (2-propenyl) -2-methyl propionide], 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 1-[(cyano-1-methylethyl ) Azo] formamide, and the like, but is not limited thereto. The initiators may be used by mixing one or more kinds.
상기 라디칼 개시제의 함량은 접착제 중 경화하려는 성질과 접착제의 보존성을 균형있게 구현하는 범위로 결정되는데, 본 발명의 이방 도전성 필름용 조성물의 1 내지 10중량%로 포함될 수 있다. 그 함량이 1중량% 미만일 경우에는 경화반응 속도가 저하로 인해 본 압착 특성이 저하될 수 있으며, 10중량%를 초과할 경우에는 필름이 가열에 의해 경화한 후 이방 도전성 필름의 깨지려는(brittle) 특성 증가로 인하여 재작업시 이방 도전성 필름이 완전히 제거되지 않는 문제가 발생할 수 있 다.The content of the radical initiator is determined in a range that balances the properties to be cured in the adhesive and the preservation of the adhesive, it may be included in 1 to 10% by weight of the composition for anisotropic conductive film of the present invention. If the content is less than 1% by weight, the crimping property may be deteriorated due to a decrease in the curing reaction rate. If the content is more than 10% by weight, the anisotropic conductive film is hard to break after curing by heating. Due to the increased properties, there may be a problem that the anisotropic conductive film is not completely removed when reworking.
(D) 스테아릭산계 화합물(D) stearic acid compound
스테아릭산계 화합물은 본 발명의 이방도전성 필름 형성에 매트릭스 역할을 하는 바인더 수지부 및 반응성을 부여하는 경화부 원료의 혼합시 발생하는 상용성 저하 및 유변물성의 불일치를 해결하기 위해 첨가된다. The stearic acid-based compound is added to solve the incompatibility and the inconsistency of the rheology generated when mixing the binder resin portion that acts as a matrix and the cured portion raw material imparts reactivity to the anisotropic conductive film formation of the present invention.
상기 스테아릭산계 화합물은 유리산, 염 또는 에스테르를 포함할 수 있다. 구체적으로, 이에 한정되는 것은 아니나, 스테아릭산(stearic acid), 스테아레이트(stearate), 징크스테아레이트(zinc stearate), 칼슘스테아레이트(Ca Stearate), 마그네슘스테아레이트(Mg Stearate), 나트륨스테아레이트(Na stearate), 알루미늄스테아레이트(Al Stearate), 및 바륨스테아레이트(Barium stearate로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상이 선택될 수 있다. The stearic acid-based compound may include free acid, salt or ester. Specifically, but not limited to, stearic acid (stearic acid), stearate (stearate), zinc stearate (zinc stearate), calcium stearate (Ca Stearate), magnesium stearate (Mg Stearate), sodium stearate ( One or more may be selected from the group consisting of Na stearate, Al Stearate, and Barium stearate.
본 발명의 스테아릭산계 화합물은 전체 조성물의 0.5~20 중량%, 바람직하게는 3~15 중량% 범위로 포함될 수 있다. 그 함량이 0.5 중량% 미만일 경우에는 상안정성 및 저항 안정성의 개선효과가 미미하며, 20 중량% 초과할 경우에는 신뢰성 접속 특성 및 접착 물성이 저하될 수 있다. Stearic acid-based compound of the present invention may be included in the range of 0.5 to 20% by weight, preferably 3 to 15% by weight of the total composition. If the content is less than 0.5% by weight, the effect of improving the phase stability and resistance stability is insignificant, and when the content exceeds 20% by weight, the reliability connection properties and adhesive properties may be deteriorated.
(E) 도전성 입자(E) conductive particles
상기 도전성 입자로는 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납 등을 포함하는 금속 입자 ; 탄소; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 하여 Au, Ag, Ni 등을 포함하는 금속으로 코팅한 입자; 그 위에 절연입자를 추가하여 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자 등 을 1종 이상 사용할 수 있으며, 특히 본 발명에서는 3~6 ㎛의 니켈 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이는 본 발명에 사용되는 코어-쉘 구조의 유기 미립자의 크기가 0.1~1 ㎛이기 때문에 도전성 입자의 크기가 3 ㎛ 이하일 경우에는 유기 미립자에 의한 접속 방해할 수 있는 가능성이 있고, 6 ㎛를 초과할 경우에는 오히려 도전입자에 의한 단자간의 접속면적이 작아질 수 있어 신뢰성 이후 문제가 발생할 수 있다. As said electroconductive particle, Metal particle containing Au, Ag, Ni, Cu, solder, etc .; carbon; Particles coated with a metal containing Au, Ag, Ni, etc., using as a particle a resin containing polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol and the like, and a modified resin thereof; It is possible to use at least one kind of insulated conductive particles and the like coated by adding insulating particles thereon, and in the present invention, it is preferable to use nickel particles of 3 to 6 μm. Since the size of the organic fine particles of the core-shell structure used in the present invention is 0.1 to 1 μm, when the size of the conductive particles is 3 μm or less, there is a possibility that the connection by the organic fine particles may be hindered and exceed 6 μm. In this case, rather than the connection area between the terminals by the conductive particles may be small, a problem may occur after the reliability.
상기 도전성 입자는 본 발명의 이방 도전성 필름용 조성물의 1~10중량% 포함될 수 있다. 그 함량이 1 중량% 미만일 경우에는 접속 과정에서 단자간 Mis-Align이 발생할 경우 접속 면적 감소로 인한 접속 불량을 일으키기 쉽고, 10 중량%를 초과할 경우에는 절연 불량을 일으키기 쉽다.The conductive particles may be contained 1 to 10% by weight of the composition for anisotropic conductive film of the present invention. If the content is less than 1% by weight, it is easy to cause a poor connection due to the reduction of the connection area when Mis-Align occurs between terminals in the connection process, and if it exceeds 10% by weight, it is easy to cause poor insulation.
(F) 기타 첨가제(F) Other additives
본 발명의 이방 도전성 필름용 조성물은 기본 물성을 저해하지 않으면서 부가적인 물성을 추가시키기 위해 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 커플링제 등의 기타 저해제를 당업계에 공지되어 있는 함량 범위로 더 포함할 수 있다. The composition for anisotropic conductive films of the present invention further includes other inhibitors such as polymerization inhibitors, antioxidants, heat stabilizers, coupling agents, etc. in the content range known in the art in order to add additional physical properties without inhibiting the basic physical properties. can do.
이하, 이하에서는 구체적인 실시예를 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명할 것이나, 이들 실시예는 단지 설명을 위한 것으로 본 발명의 보호 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, these examples are merely illustrative and are not intended to limit the protection scope of the present invention.
실시예Example 1 One
필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 30 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 NBR계 수지(N-21, 니폰제온) 15 중량%, 25 부피%로 메틸 에틸 케톤에 용해된 아크릴계 공중합체 수지(KLS-1040, 후지쿠라화성) 20 중량%, 40 부피%로 메틸 에틸 케톤에 용해된 아크릴 수지(KMM-33, 후지쿠라화성) 10 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머(Miramer PU-330, 미원상사) 24 중량%, 반응성 모노머로서 라디칼 중합형 (메타)아크릴레이트 모노머인 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 20 중량%, 열경화형 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 5 중량%; 스테아릭 산 (Aldrich) 1 중량%, 및 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(23GNR5.0-MX, NCI사)를 절연화 처리한 후 5 중량%를 첨가하여 본 발명의 이방전도성 필름용 조성물을 제조하였다.As a binder resin part serving as a matrix for forming a film, 15% by weight of NBR-based resin (N-21, Nipon Xeon) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone azeotropic mixed solvent at 30% by volume, and 25% by volume in methyl ethyl ketone 20% by weight of acrylic copolymer resin (KLS-1040, Fujikura Kasei), 10% by weight of acrylic resin (KMM-33, Fujikura Kasei) dissolved in methyl ethyl ketone at 40% by volume; As a hardening part with hardening reaction, it is 24 weight% of urethane (meth) acrylate oligomers (Miramer PU-330, Miwon Corporation), and 2-methacryloyl oxyethyl phosphate which is a radical polymerization type (meth) acrylate monomer as a reactive monomer. 20 wt%, 5 wt% benzoyl peroxide as the thermoset radical initiator; 1% by weight of stearic acid (Aldrich), and 5% by weight after insulating the conductive particles (23GNR5.0-MX, NCI) having a size of 5 μm as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film It added and manufactured the composition for anisotropic conductive films of this invention.
실시예Example 2 2
각 원료의 조성을 표 1에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고 실시예 1과 같이 본 발명의 이방전도성 필름용 조성물을 제조하였다. The composition for anisotropic conductive films of this invention was produced like Example 1 except having changed the composition of each raw material as shown in Table 1.
실시예Example 3 3
각 원료의 조성을 표 1에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고 실시예 1과 같이 본 발명의 이방전도성 필름용 조성물을 제조하였다. The composition for anisotropic conductive films of this invention was produced like Example 1 except having changed the composition of each raw material as shown in Table 1.
비교예Comparative example 1 One
각 원료의 조성을 표 1에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고 실시예 1과 같이 본 발명의 이방전도성 필름용 조성물을 제조하였다. The composition for anisotropic conductive films of this invention was produced like Example 1 except having changed the composition of each raw material as shown in Table 1.
[표 1](표 1의 조성은 고형분 함량을 기준으로 한 것임)[Table 1] (The composition of Table 1 is based on the solid content)
실험예Experimental Example
상안정성Phase stability 및 And 코팅성Coating 평가 evaluation
상기의 실시예 및 비교예로부터 제조된 조액물을 125ml 조액용기에 20g 씩 투입한 후 초기대비 액안정성을 육안평가한다. 도전볼 침강 및 액상분리 등의 현상이 있을시 시간 및 현상을 기록하고, 조액방치 6시간 후 코팅을 실시하여 표면 색단차 및 줄무늬 여부를 확인하여 그 결과를 표 2에 나타내었다.20 g of each of the crude liquids prepared in Examples and Comparative Examples were added to a 125 ml crude liquid container, and then visually evaluated for liquid stability. When the phenomenon such as conductive ball sedimentation and liquid separation is recorded, the time and phenomenon are recorded, and coating is carried out 6 hours after the liquid solution is left to check the surface color difference and streaks. The results are shown in Table 2.
[표 2][Table 2]
초기 및 신뢰성 접속저항 평가Initial and reliable connection resistance evaluation
상기의 실시예 및 비교예로부터 제조된 이방 전도성 필름의 초기 및 신뢰성 접속저항을 평가하기 위해서 각각의 필름을 상온에서 1시간 방치시킨 후 ITO 유리(인듐틴옥사이드 유리)와 COF, TCP(Tape Carrier Package)를 이용하여 160℃, 1 초의 가압착 조건과 180℃, 5 초, 3 MPa의 본압착 조건으로 접속하였다. 각각의 시편은 7개씩 준비하였고, 이와 같이 제조된 시편을 이용하여 4 단자(probe) 측정 방법으로 접속저항(ASTM F43-64T)을 측정하였다. 또한 온도 85℃, 상대습도 85 %에서 500 시간 조건으로 고온/고습 신뢰성 평가(ASTM D117)를 하였으며, -40℃ 내지 80℃의 온도 조건을 500 회 반복하는 열충격 신뢰성 평가(ASTM D1183)를 실시하였고, 그 결과를 표 3에 나타내었다.In order to evaluate the initial and reliable connection resistance of the anisotropic conductive films prepared from the above examples and comparative examples, each film was left at room temperature for 1 hour, and then ITO glass (indium tin oxide glass), COF, and TCP (Tape Carrier Package) ) Was connected under the conditions of 160 ° C and 1 second compression and 180 ° C, 5 seconds and 3 MPa. Each specimen was prepared seven, and the connection resistance (ASTM F43-64T) was measured by a four-terminal (probe) measuring method using the specimen prepared as described above. In addition, high temperature / high humidity reliability evaluation (ASTM D117) was carried out at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 500 hours, and thermal shock reliability evaluation (ASTM D1183) was repeated 500 times at -40 ° C. to 80 ° C. The results are shown in Table 3.
[표 3][Table 3]
상기 표에서 나타난 바와 같이, 스테아릭산계 화합물을 포함하지 않는 비교예의 경우 상분리 현상이 관찰되었으며, 코팅 후 표면 색단차가 발생된 반면, 스테아릭산계 화합물을 바람직한 함량 범위로 포함하는 실시예의 경우, 상분리가 미세하거나 없었으며 코팅성도 양호하였다. 또한, 접속저항 평가결과에서도 실시예는 모두 초기 접속 저항과 고온고습/ 열충격 신뢰성 평가 후의 접속 저항에서 모두 낮은 저항값을 가지나, 비교예는 초기 접속저항에 비해 신뢰성 평가 후의 접속저항이 크게 증가하였음을 알 수 있다. 이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 이방전도성 필름용 조성물은 원료가 상안정성 저하 문제를 해소하여 공정안정성을 높이고, 도전볼의 불균일한 분포로 인한 외관 특성이나 접속저항 등의 전기적 특성 저하를 억제할 수 있는 발명으로 평가될 수 있다. As shown in the above table, a phase separation phenomenon was observed in the comparative example which does not include a stearic acid-based compound, whereas a surface color difference was generated after coating, whereas in the case of the embodiment including the stearic acid-based compound in a preferred content range, phase separation was observed. Was fine or absent and the coating was good. In addition, in the connection resistance evaluation results, all of the examples had low resistance values in both the initial connection resistance and the connection resistance after high temperature, high humidity, and thermal shock reliability evaluation, but the comparative example significantly increased the connection resistance after the reliability evaluation compared to the initial connection resistance. Able to know. As described above, in the composition for anisotropic conductive films of the present invention, the raw material can solve the problem of lowering the stability of phase, thereby increasing process stability, and suppressing the deterioration of electrical characteristics such as appearance characteristics and connection resistance due to uneven distribution of conductive balls. It can be evaluated as an invention.
본 발명은 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments, these are merely exemplary, and those skilled in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom.
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---|---|---|---|---|
JP2001297631A (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Asahi Kasei Corp | Anisotropic conductive film |
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