KR100904694B1 - 마스터 롤의 제조 장치 및 방법, 및 그를 이용한표시장치의 전극 형성방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 소정의 광 투과부와 광 차단부를 구비한 포토 마스크; 상기 포토 마스크를 경유하여 패턴물질이 도포된 롤에 광을 조사하기 위한 광조사 수단; 및 상기 광조사 수단에서 조사된 광을 유도하기 위한 소정의 개구부를 구비한 광유도 수단을 포함하여 이루어진 마스터 롤의 제조장치 및 제조방법, 및 그를 이용한 표시장치의 전극 형성방법에 관한 것으로서,
본 발명은 마스터 롤을 이용하여 전극을 형성함으로써 종래 포토리소그래피 공정에 비하여 마스크 물질 형성공정이 간단하고 제조비용도 절감된다.
마스터 롤, 패턴 롤, 표시장치, 전극
Description
본 발명은 반도체 소자의 패턴 형성 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 인쇄방식을 이용하여 반도체 소자의 패턴을 형성하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 대표적인 기법으로는 빛을 이용하여 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 포토 리소그래피(photo lithography) 방법이 있다.
상기 포토 리소그래피 방법은 빛에 대한 반응성을 갖는 고분자 물질(예를 들면, 포토레지스트 등)을 패터닝하고자 하는 물질이 적층된 기판 상에 도포하고, 목표로 하는 임의의 패턴으로 설계된 포토 마스크를 통해 고분자 물질 상에 빛을 투과시켜 노광한 후, 유기 용매로 된 현상액(developer)과 박리액(stripper)을 이용하여 노광된 고분자 물질을 제거함으로써, 패터닝하고자 하는 물질 위에 목표로 하는 패턴을 갖는 패턴 마스크를 형성한다.
이후에, 패턴 마스크를 이용하는 식각 공정을 수행함으로써, 반도체 기판 상에 적층된 물질을 원하는 패턴으로 패터닝한다.
이하에서는 도면을 참조로 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널에 대해서 설명한 후, 포토 리소그래피 방법을 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전극을 형성하는 종래의 방법에 대해서 설명하기로 한다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 사시도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(101)상에 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면패널(100), 및 배면을 이루는 후면 글라스(111)상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면패널(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.
상기 전면패널(100)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 물질로 형성된 투명 전극(a)과 은(Ag)과 같은 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이루어 구성된다. 상기 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 상부 유전체층(104)에 의해 덮여지고, 상기 상부 유전체층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.
상기 후면패널(110)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면패널(110)의 상측면에는 어드레스 방전 시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. 상기 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.
도 2a 내지 도 2d는 종래 포토 리소그래피 방법을 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널에서 어드레스 전극, 스캔 전극, 서스테인 전극과 같은 전극을 형성하는 방법을 나타낸 공정 단면도이다.
우선, 도 2a에 도시한 바와 같이, 글라스(201)상에 도전성 물질(202)을 증착(deposition)하고, 상기 도전성 물질(202)상에 포토레지스트(203)를 도포한다.
다음, 도 2b에 도시한 바와 같이, 상기 글라스(201)에 광 투과부(204a)와 광 차단부(204b)로 구성되어 있는 포토 마스크(204)를 정렬한다.
이어서, 상기 포토 마스크(204)가 정렬된 글라스(201)의 전면에 UV광 등을 조사하면 광 투과부(204a)를 통과한 UV광이 포토레지스트(203)와 반응한다.
다음, 도 2c에 도시한 바와 같이, 상기 노광된 포토레지스트(203)를 현상하여 포토레지스트 패턴(203a)을 형성한다.
다음, 도 2d에 도시한 바와 같이, 상기 포토레지스트 패턴(203a)을 마스크로 이용하여 건식 식각(dry etch) 또는 습식 식각(wet etch)으로 상기 도전성 물질(202)을 선택적으로 제거하여 전극(202a) 형성을 완성한다.
이어서, 상기 포토레지스트 패턴(203a)을 제거하고, 상기 글라스(201)의 전 면에 세정 공정을 실시하여 공정 중에 발생한 이물질을 제거한다.
이상과 같은 포토 리소그래피 방법을 이용하여 전극을 형성하는 종래의 방법은 다음과 같은 문제점이 있다.
첫째, 포토 리소그래피 방법은 포토 마스크 정렬, 노광 및 현상 공정, 식각 공정, 세정공정 등 많은 단계의 과정을 거쳐야 하므로, 공정 과정이 복잡하고 비용이 상승하는 문제점이 있다.
둘째, 포토 리소그래피 방법은 유기 용매에 치명적인 약점을 갖는 유기전자 소자(유기 발광 소자, 유기박막 트랜지스터 등)에 적용하는데 한계를 가질 수밖에 없다. 즉, 유기 발광 소자 또는 유기박막 트랜지스터에 사용되는 유기 저분자 유기물들은 유기 용매에 쉽게 용해 또는 오염되거나 표면의 거칠기가 나빠지는 등의 문제가 발생하기 때문에 유기전자 소자를 제조하는데 있어서 유기 용매를 사용하는 것은 매우 제한적으로 적용되고 있는 실정이다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서,
본 발명은 공정이 단순하고 제조비용이 절감되며 유기 전자 소자에 다양하게 적용할 수 있는 전극 형성방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한 상기 전극 형성방법에 적용되는 마스터 롤의 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 소정의 광 투과부와 광 차단부를 구비한 포토 마스크; 상기 포토 마스크를 경유하여 패턴물질이 도포된 롤에 광을 조사하기 위한 광조사 수단; 및 상기 광조사 수단에서 조사된 광을 유도하기 위한 소정의 개구부를 구비한 광유도 수단을 포함하여 이루어진 마스터 롤의 제조장치를 제공한다.
본 발명은 또한, 소정의 롤을 준비하는 공정; 상기 롤에 패턴 물질을 코팅하는 공정; 상기 패턴 물질이 코팅된 롤의 상부 또는 하부에 포토 마스크 및 광조사 수단을 차례로 정렬하는 공정; 상기 광조사 수단에서 광을 방출하여 상기 패턴 물질에 선택적으로 광을 조사하는 공정; 및 상기 노광된 패턴 물질을 현상하여 상기 롤의 표면에 소정의 패턴층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 마스터 롤의 제조방법을 제공한다.
본 발명은 또한 소정의 롤 및 상기 롤 상에 형성된 패턴층을 구비한 마스터 롤을 준비하는 공정; 상기 마스터 롤의 패턴층 사이에 마스크 물질을 형성하는 공정; 상기 패턴층 사이에 마스크 물질이 형성된 마스터 롤과 소정의 패턴 롤을 정렬한 후, 상기 마스터 롤과 패턴 롤을 회전시켜 상기 마스터 롤에 형성된 마스크 물질을 상기 패턴 롤로 전사하는 공정; 상기 마스크 물질이 전사된 패턴 롤을 도전성 물질이 형성된 기판 위에서 회전하여 상기 도전성 물질 위에 마스크 물질을 형성하는 공정; 상기 마스크 물질을 마스크로 이용하여 상기 도전성 물질을 선택적으로 제거하는 공정; 및 상기 마스크 물질을 제거하여, 기판 상에 원하는 패턴으로 전극을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 표시장치의 전극 형성방법을 제공한다.
상기 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 본 발명은 마스크 물질이 도포된 패턴 롤을 도전성 물질이 도포된 기판 상에 회전하는 방법으로 도전성 물질 상에 마스크 물질을 형성할 수 있기 때문에, 종래 포토리소그래피 공정에 비하여 마스크 물질 형성공정이 간단하고 제조비용도 절감된다.
둘째, 본 발명은 마스터 롤을 이용하여 패턴 롤에 마스크 물질을 도포하기 때문에, 패턴 롤에 별도의 패턴을 형성할 필요가 없어 패턴 롤에 단차가 형성되지 않는다. 따라서, 장기간 사용한다 하더라도 패턴 롤이 마모되거나 손상되는 일이 없다.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.
<표시장치의 전극 형성방법>
도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 전극 형성방법을 나타낸 공정 단면도이다.
우선, 도 3a에서 알 수 있듯이, 마스터 롤(300)을 준비한다.
상기 마스터 롤(300)은 롤(310) 및 상기 롤(310) 상에 형성된 패턴층(320a)을 포함하여 이루어진다. 또한, 도시하지는 않았지만, 상기 마스터 롤(300)을 장기간 사용하여도 상기 패턴층(320a)의 마모를 최소화할 수 있도록, 상기 롤(310) 및 패턴층(320a)의 표면에 도금층이 형성될 수 있다.
이와 같은 마스터 롤(300)의 제조방법 및 제조장치에 대해서는 후술하기로 한다.
다음, 도 3b에서 알 수 있듯이, 상기 마스터 롤(300)의 패턴층(320a) 사이에 마스크 물질(360)을 형성한다.
여기서, 상기 패턴층(320a) 사이에 마스크 물질(360)을 형성하는 공정은, 소정의 노즐을 이용하여 상기 마스터 롤(300)의 전면에 마스크 물질(360)을 도포한 후, 상기 패턴층(320a) 상에 도포된 마스크 물질(360)만을 제거하는 공정으로 이루어질 수 있다. 다만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 원하는 패턴으로 마스크 물질(360)을 소정의 대상물에 미리 도포한 후, 상기 대상물 위에서 마스터 롤(300)을 회전시킴으로써 상기 마스터 롤(300)의 패턴층(320a) 사이로 마스크 물질(360)을 전사시키는 것도 가능하다.
다음, 도 3c에서 알 수 있듯이, 상기 패턴층(320a) 사이에 마스크 물질(360)이 형성된 마스터 롤(300)과 패턴 롤(380)을 정렬한 후, 상기 마스터 롤(300)과 패턴 롤(380)을 회전시켜 상기 마스터 롤(300)에 형성된 마스크 물질(360)을 상기 패턴 롤(380)로 전사한다.
즉, 상기 마스터 롤(300)을 일 방향으로 회전시키고 상기 패턴 롤(380)을 타 방향으로 회전시킴으로써 상기 마스터 롤(310)에 형성된 마스크 물질(360)이 상기 패턴 롤(380)에 전사되도록 한 것이다.
이때, 상기 패턴 롤(380)은 그 최외곽에 고무와 같은 탄성이 있는 블랭 킷(Blanket)이 구비되어 있어, 상기 마스크 물질(360)의 전사를 보다 용이하게 할 수 있다.
다음, 도 3d에서 알 수 있듯이, 상기 마스크 물질(360)이 전사된 패턴 롤(380)을 도전성 물질(400)이 형성된 기판(390)위에서 회전하여 상기 도전성 물질(400) 위에 마스크 물질(360)을 형성한다. 그리하면, 도 3e에서와 같이 상기 도전성 물질(400) 위에 마스크 물질(360)이 소정의 패턴으로 도포되게 된다.
이때, 상기 패턴 롤(380)을 회전과 동시에 이동할 수도 있고, 그와 더불어 상기 기판(390)을 상기 패턴 롤(380)의 이동방향과 반대방향으로 이동할 수도 있다. 또한, 상기 패턴 롤(380)은 이동하지 않고 회전만 하고 상기 기판(390)을 이동하는 것도 가능하다.
상기 도전성 물질(400)은 최종적으로 전극을 형성하는 물질로서, 그 재료는 다양하게 변경될 수 있으며 그 형성방법은 스퍼터링법 또는 인쇄법 등 다양하게 변경될 수 있다.
다음, 도 3f에서 알 수 있듯이, 상기 마스크 물질(360)을 마스크로 이용하여 상기 도전성 물질(400)을 선택적으로 제거한다. 그리하면, 상기 기판(390)위에 소정의 패턴으로 전극(400a)이 형성된다.
상기 도전성 물질(400)을 제거하는 공정은 건식 식각공정 또는 습식 식각공정 등을 이용하여 수행할 수 있다.
다음, 도 3g에서 알 수 있듯이, 상기 마스크 물질(360)을 제거하여, 기판(390) 상에 원하는 패턴으로 전극(400a)형성을 완성한다.
이와 같은 형성된 전극(400a)은 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 전극, 스캔 전극, 및 서스테인 전극 중 적어도 하나의 전극일 수 있다.
<마스터 롤의 제조방법>
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 롤의 제조 방법을 나타낸 공정도이다.
우선, 도 4a에서 알 수 있듯이, 롤(310)을 준비한다.
상기 롤(310)을 준비하는 공정을 소정의 롤(310)을 제작한 후 롤(310)의 표면에 부착되어 있는 이물 및 기포 등을 제거하는 세정공정을 포함하여 이루어진다.
상기 롤(310)은 마스터 롤의 베이스 층이므로, 상기 롤(310)의 표면이 균일하지 않을 경우 최종적으로 얻어지는 마스터 롤의 패턴 균일성이 떨어지므로 상기 롤(310)의 표면이 균일하도록 롤(310)을 제조함과 더불어 그 표면의 세정공정 또한 필요하다.
상기 롤(310)은 스텐레스(SUS), 알루미늄과 같은 강성을 지는 재질을 사용하는 것이 바람직하나, 이에 한정하지 않고 고무와 같은 재질도 사용이 가능하다.
다음, 도 4b에서 알 수 있듯이, 상기 롤(310)에 패턴 물질(320)을 코팅한다.
상기 롤(310)에 패턴 물질(320)을 코팅하는 공정은, 롤(310)을 회전시키면서 소정의 노즐을 통해 패턴 물질을 회전하는 롤(310)에 분사하는 공정으로 이루어질 수도 있고, 소정의 필름 형태의 패턴 물질을 롤(310)의 표면에 부착하는 공정으로 이루어질 수도 있다.
상기 패턴 물질(320)은 감광 물질을 이용하여 형성한다.
상기 롤(310)에 패턴 물질(320)을 코팅한 후에는 상기 패턴 물질(320)이 안정적으로 유지될 수 있도록 저온에서 소정의 시간 동안 소프트 베이크 공정을 수행한다.
다음, 도 4c에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(320)이 코팅된 롤(310)의 상부에 포토 마스크(330), 광유도 수단(350), 및 광조사 수단(340)을 정렬한 후, 상기 광조사 수단(340)을 통해 상기 패턴 물질(320)에 광을 선택적으로 조사한다.
상기 광을 조사하는 공정시, 상기 광조사 수단(340) 및 광유도 수단(350)은 고정되어 있고, 상기 롤(310)은 소정 방향으로 회전하며, 상기 포토 마스크(330)는 고정되어 있을 수도 있고 소정 방향으로 이동할 수도 있다.
즉, 상기 포토 마스크(330)는 상기 롤(310)에 코팅된 패턴 물질(320)에 광이 선택적으로 조사될 수 있도록 광 투과부와 광 차단부를 구비하여 이루어지는데, 상기 포토 마스크(330)의 광 투과부와 광 차단부가 일정하게 반복될 경우에는 상기 광조사 수단(340), 광유도 수단(350) 및 상기 포토 마스크(330)는 고정하고 상기 롤(310)은 회전하면서 상기 광조사 수단(340)에서 광을 조사하게 되고, 상기 포토 마스크(330)의 광 투과부와 광 차단부가 일정하게 반복되지 않을 경우에는 상기 광조사 수단(340) 및 광유도 수단(350)은 고정하고 상기 포토 마스크(330)는 소정 방향으로 이동하고 상기 롤(310)은 회전하면서 상기 광조사 수단(340)에서 광을 조사하게 되는 것이다.
상기 광유도 수단(350)은 소정의 개구부를 구비하여 이루어져 상기 광조사 수단(340)에서 조사된 광이 상기 개구부를 통해 투과되도록 함으로써, 상기 롤(310)에 코팅된 패턴 물질(320) 중 소정 영역만이 광에 노출되도록 하는 역할을 한다. 즉, 상기 광유도 수단(350)이 없는 경우에는 상기 광조사 수단(340)에서 조사된 광이 상기 롤(310)의 상반구 전체에 조사되는데 이때 광조사 수단(340)과 상기 롤(310)에 코팅된 패턴 물질(320) 사이의 거리차가 심하게 되어 패턴 물질(320) 사이에서 불균일한 광조사가 이루어지는 문제가 있다. 따라서, 상기 광유도 수단(350)은 광이 롤(310)에 코팅된 패턴 물질(320)에 균일하게 조사될 수 있도록 광을 유도하는 역할을 하는 것이다. 다만, 상기 광유도 수단(350)을 반드시 포함해야 하는 것은 아니다.
한편, 도면에는 상기 광유도 수단(350)이 상기 포토 마스크(330)와 상기 광조사 수단(340)의 사이에 정렬된 경우를 도시하였지만, 상기 광유도 수단(350)은 상기 포토 마스크(330)와 롤(310)의 사이에 정렬될 수도 있다.
또한, 도면에는 포토 마스크(330), 광유도 수단(350), 및 광조사 수단(340)이 상기 롤(310)의 상부에 정렬된 경우를 도시하였지만, 포토 마스크(330), 광유도 수단(350), 및 광조사 수단(340)이 상기 롤(310)의 하부에 정렬될 수도 있다.
한편, 상기 롤(310)이 소정 방향으로 회전함과 더불어 상기 포토 마스크(330)가 소정 방향으로 이동하는 경우에는 상기 롤(310)의 회전속도와 상기 포토 마스크(330)의 이동속도를 동일하게 유지해야 광이 롤(310)의 패턴 물질(320)에 정확하게 조사되게 된다.
다음, 도 4d에서 알 수 있듯이, 상기 광 조사 수단(340)을 통해 선택적으로 노광된 패턴 물질(320)을 현상하여 상기 롤(310)의 표면에 소정의 패턴층(320a)을 형성한다.
여기서, 상기 현상 공정은 상기 롤(310)의 하부에 현상액이 담겨진 현상 배스(도시되지 않음)를 구성하고, 상기 롤(310)을 상기 현상 배스(도시되지 않음)에 담구어 회전하는 공정으로 이루어질 수 있다.
다음, 도시하지는 않았지만, 상기 현상 공정을 완료한 후에, 상기 롤(310) 및 패턴층(320a)의 표면에 크롬이나 니켈 등의 도금 처리를 수행하여, 마스터 롤(300)의 제조를 완료한다.
상기 도금 처리는 상기 마스터 롤(300)의 반복 사용시 상기 패턴층(320a)의 마모나 일그러짐 등을 방지하는 역할을 하는 것이다.
<마스터 롤의 제조장치>
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 마스터 롤의 제조장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 5에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 롤의 제조장치는 포토 마스크(330), 광조사 수단(340) 및 광유도 수단(350)을 포함하여 이루어진다.
상기 포토 마스크(330)는 패턴 물질(320)이 코팅된 롤(310)에 광이 선택적으로 조사될 수 있도록 광 투과부와 광 차단부를 구비하여 이루어지며, 상기 포토 마스크(330)는 소정방향으로 이동할 수도 있고 고정되어 있을 수도 있다.
상기 광조사 수단(340)은 UV램프 및 반사경과 같은 광 방향변경수단을 포함하여 이루어지며, 상기 광조사 수단(340)은 이동하지 않고 고정되어 있다.
상기 광유도 수단(350)은 소정의 개구부를 구비하여 이루어져 상기 광조사 수단(340)에서 조사된 광이 상기 개구부를 통해 투과될 수 있도록 하는 것으로서, 상기 광유도 수단(350)은 이동하지 않고 고정되어 있다.
한편, 도면에는 상기 광유도 수단(350)이 상기 포토 마스크(330)와 상기 광조사 수단(340)의 사이에 정렬된 경우를 도시하였지만, 상기 광유도 수단(350)은 상기 포토 마스크(330)와 롤(310)의 사이에 정렬될 수도 있다.
또한, 도면에는 포토 마스크(330), 광유도 수단(350), 및 광조사 수단(340)이 상기 롤(310)의 상부에 정렬된 경우를 도시하였지만, 포토 마스크(330), 광유도 수단(350), 및 광조사 수단(340)이 상기 롤(310)의 하부에 정렬될 수도 있다.
또한, 도시하지는 않았지만, 상기 롤(310)을 회전시키기 위한 회전수단을 추가로 구비할 수 있으며, 상기 롤(310)의 회전속도와 상기 포토 마스크(330)의 이동속도를 동일하게 유지하도록 하기 위해서 소정의 제어부를 추가로 포함할 수 있다.
상기 제어부는 상기 롤(310)의 회전 속도를 제어하고 상기 포토 마스크(330)의 이동속도를 제어하여 양자의 속도를 동일하도록 함과 더불어, 상기 광조사 수단(340)에서 조사되는 광량도 상기 롤(310)의 회전 속도와 포토 마스크(330)의 이동 속도에 맞춰 제어할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 광조사 수단(340)을 통해 노광된 패턴물질(320)을 현상하는 현상 장치(미도시)를 추가로 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 패턴물질(320)이 도포된 롤(310)이 상기 현상 장치에 담겨져 회전하면서 상기 패턴물질(320)이 현상됨으로써, 노광공정과 현상공정을 함께 수행할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 사시도이다.
도 2a 내지 도 2d는 종래 포토 리소그래피 방법을 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널에서 전극을 형성하는 방법을 나타낸 공정 단면도이다.
도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 전극 형성방법을 나타낸 공정 단면도이다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 롤의 제조 방법을 나타낸 공정도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 마스터 롤의 제조장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
300 : 마스터 롤 310: 롤
320a : 패턴층 330 : 포토 마스크
340 : 광조사 수단 350 : 광유도 수단
360 : 마스크 물질 380 : 패턴 롤
390 : 기판 400a : 전극
Claims (13)
- 소정의 광 투과부와 광 차단부를 구비한 포토 마스크;상기 포토 마스크를 경유하여 패턴물질이 도포된 롤에 광을 조사하기 위한 광조사 수단; 및상기 광조사 수단에서 조사된 광을 유도하기 위한 소정의 개구부를 구비한 광유도 수단을 포함하여 이루어진 마스터 롤의 제조장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광유도 수단은 상기 포토 마스크와 광조사 수단의 사이, 또는 상기 포토 마스크와 패턴물질이 도포된 롤의 사이에 정렬된 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조장치.
- 제 1항에 있어서,상기 포토 마스크는 일 방향으로 이동할 수 있고, 상기 광조사 수단 및 광유도 수단은 이동하지 않고 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조장치.
- 제 3항에 있어서,상기 패턴물질이 도포된 롤을 회전시키기 위한 회전장치를 추가로 포함하고,상기 롤의 회전속도와 상기 포토 마스크의 이동속도를 동일하게 유지하도록 하기 위한 제어부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광조사 수단에 의해 노광된 패턴물질을 현상하기 위한 현상 장치를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조장치.
- 소정의 롤을 준비하는 공정;상기 롤에 패턴 물질을 코팅하는 공정;상기 패턴 물질이 코팅된 롤의 상부 또는 하부에 포토 마스크 및 광조사 수단을 차례로 정렬하는 공정;상기 광조사 수단에서 광을 방출하여 상기 패턴 물질에 선택적으로 광을 조사하는 공정; 및상기 노광된 패턴 물질을 현상하여 상기 롤의 표면에 소정의 패턴층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 마스터 롤의 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 포토 마스크 및 광조사 수단을 차례로 정렬하는 공정은, 상기 포토 마스크 및 광조사 수단의 사이 또는 상기 포토 마스크 및 롤의 사이에, 소정의 개구부를 구비한 광유도 수단을 정렬하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하 는 마스터 롤의 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 광을 조사하는 공정은, 상기 광조사 수단 및 광유도 수단은 고정한 상태에서, 상기 롤을 소정 방향으로 회전하고 상기 포토 마스크를 소정 방향으로 이동하면서 수행하는 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조방법.
- 제8항에 있어서,상기 롤의 회전속도와 상기 포토 마스크의 이동속도를 동일하게 유지하는 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 현상 공정 이후에 상기 롤 및 패턴층의 표면에 도금 처리를 추가로 수행하는 것을 특징으로 하는 마스터 롤의 제조방법.
- 소정의 롤 및 상기 롤 상에 형성된 패턴층을 구비한 마스터 롤을 준비하는 공정;상기 마스터 롤의 패턴층 사이에 마스크 물질을 형성하는 공정;상기 패턴층 사이에 마스크 물질이 형성된 마스터 롤과 소정의 패턴 롤을 정렬한 후, 상기 마스터 롤과 패턴 롤을 회전시켜 상기 마스터 롤에 형성된 마스크 물질을 상기 패턴 롤로 전사하는 공정;상기 마스크 물질이 전사된 패턴 롤을 도전성 물질이 형성된 기판 위에서 회전하여 상기 도전성 물질 위에 마스크 물질을 형성하는 공정;상기 마스크 물질을 마스크로 이용하여 상기 도전성 물질을 선택적으로 제거하는 공정; 및상기 마스크 물질을 제거하여, 기판 상에 원하는 패턴으로 전극을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 표시장치의 전극 형성방법.
- 제11항에 있어서,상기 마스터 롤을 준비하는 공정은 상기 롤 및 패턴층의 표면에 도금층을 추가로 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 전극 형성방법.
- 제11항 또는 제12항에 있어서,상기 전극은 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 전극, 스캔 전극, 및 서스테인 전극 중 적어도 하나의 전극인 것을 특징으로 하는 표시장치의 전극 형성방법.
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI415284B (zh) * | 2011-03-10 | 2013-11-11 | Gintech Energy Corp | 太陽能電池電極製作設備及其方法 |
WO2013172267A1 (ja) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | 旭化成株式会社 | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09104102A (ja) * | 1995-10-12 | 1997-04-22 | Toshiba Chem Corp | 印刷装置 |
KR20040080812A (ko) * | 2003-03-13 | 2004-09-20 | 엘지전자 주식회사 | 전자회로기판의 배선 형성방법 |
KR20050105045A (ko) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 인쇄롤의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09104102A (ja) * | 1995-10-12 | 1997-04-22 | Toshiba Chem Corp | 印刷装置 |
KR20040080812A (ko) * | 2003-03-13 | 2004-09-20 | 엘지전자 주식회사 | 전자회로기판의 배선 형성방법 |
KR20050105045A (ko) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 인쇄롤의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101729574B1 (ko) | 2016-05-20 | 2017-05-12 | 한국기계연구원 | 계층화 메타물질 제작용 선택적 전사 롤 스탬프 |
WO2017200164A1 (ko) * | 2016-05-20 | 2017-11-23 | 한국기계연구원 | 선택적 전사 롤 스탬프 |
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