KR100902877B1 - An Apparatus For Sensing Chrome Plane of Mask For Semiconductor - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치에 관한 것으로서, 감지부 본체, 상기 감지부 본체의 일측에 설치되어 마스크의 양측면을 파지하는 한 쌍의 그립 블록, 상기 그립 블록에 파지된 마스크의 일면에 빛을 조사하는 발광센서와 상기 발광센서로부터 조사된 빛이 반사되는 위치에 설치되어 상기 반사된 빛을 수신하는 수광센서를 포함하는 센서부를 포함하되, 상기 수광센서에서 수신된 빛의 세기에 기초하여 반사율을 계산하고, 계산된 반사율 값에 따라 크롬면의 위치가 감지되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a device for detecting a chrome surface of a mask for semiconductor manufacturing, comprising: a sensing unit body, a pair of grip blocks installed on one side of the sensing unit body and holding both sides of the mask, and on one surface of the mask held by the grip block. And a sensor unit including a light emitting sensor for irradiating light and a light receiving sensor installed at a position where the light emitted from the light emitting sensor is reflected to receive the reflected light, based on the intensity of the light received by the light receiving sensor. The reflectance is calculated, and the position of the chrome surface is detected according to the calculated reflectance value.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 마스크의 크롬면과 유리면의 반사율 차이를 이용하여 마스크의 크롬면을 감지할 수 있도록 함으로써 마스크를 크롬면에 맞게 파드에 장착할 수 있고 그에 따라 패턴 가공 시 마스크 면의 반전으로 인한 마스크 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, it is possible to detect the chrome surface of the mask by using the difference in reflectance between the chrome surface and the glass surface of the mask, so that the mask can be mounted on the pod according to the chrome surface, and thus the pattern of the mask surface during pattern processing Mask defects due to reversal can be prevented in advance.

마스크, 레티클, 반도체, 자재, 크롬면, 패턴, 반사율, 센서. Masks, Reticles, Semiconductors, Materials, Chrome Surfaces, Patterns, Reflectance, Sensors.

Description

반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치{An Apparatus For Sensing Chrome Plane of Mask For Semiconductor}An Apparatus For Sensing Chrome Plane of Mask For Semiconductor}

본 발명은 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크의 크롬면과 유리면의 반사율 차이를 이용하여 마스크의 크롬면을 감지할 수 있도록 함으로써 마스크를 크롬면에 맞게 파드에 장착할 수 있고 그에 따라 패턴 가공 시 마스크 면의 반전으로 인한 마스크 불량을 미연에 방지할 수 있도록 하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for detecting the chrome surface of a mask for semiconductor manufacturing, and more particularly, by mounting the mask on the pod to match the chrome surface by detecting the chrome surface of the mask using the difference in reflectance between the chrome surface and the glass surface of the mask. The present invention relates to an apparatus capable of preventing mask defects due to reversal of the mask surface during pattern processing.

레티클(Reticle)은 웨이퍼 상에 포토 레지스트 패턴을 형성하기 위한 마스크로서, 석영 기판 및 패턴을 한정하는 불투명 패턴(혹은 위상 반전 패턴)을 구비할 수 있다. 이러한 레티클은 노광 장비에서 광원과 렌즈 사이에 위치하여, 웨이퍼에 회로 형상을 전사하기 위해 사용된다.The reticle is a mask for forming a photoresist pattern on the wafer, and may include a quartz substrate and an opaque pattern (or phase reversal pattern) defining the pattern. This reticle is located between the light source and the lens in the exposure equipment and used to transfer the circuit shape to the wafer.

레티클은 포토 레지스트 패턴이 형성된 것으로서 패턴이 형성되기 전의 자재를 마스크라고 한다. 이러한 마스크는 마스크 운반박스에 복수 개가 수납된 상태 로 취급되고, 작업자가 마스크 운반박스를 수작업으로 개방한 후 수납된 마스크를 꺼내 파드(POD)에 장착하게 된다.The reticle is formed with a photoresist pattern, and the material before the pattern is formed is called a mask. Such masks are handled in a state where a plurality of masks are stored in a mask carrying box, and a worker opens the mask carrying box by hand and then removes the received mask and mounts it on the pod.

마스크는 일면에 패턴 형성을 위한 크롬면이 형성되어 있다.The mask has a chrome surface for pattern formation on one surface.

반도체 제조라인에서 마스크를 마스크 운반박스에 수납하는 경우 마스크들이 수직방향으로 수납되는데, 이때 마스크의 크롬면을 보호하기 위해 모든 마스크의 크롬면이 내측을 향하도록 수납된다. 따라서, 1개를 제외한 모든 마스크는 크롬면이 동일한 방향을 향하도록 수납되고 나머지 1개의 마스크만이 크롬면이 운반박스의 내벽면에 대해 내측을 향하도록 반대방향으로 수납된다.When the mask is stored in the mask transport box in the semiconductor manufacturing line, the masks are stored in the vertical direction, in which the chrome surfaces of all the masks are stored inward to protect the chrome surfaces of the mask. Therefore, all but one mask is accommodated so that the chrome surface faces the same direction and only one mask is received in the opposite direction so that the chrome surface faces inward with respect to the inner wall surface of the transport box.

이러한 마스크 수납 공정은 일반적으로 수동적으로 처리되며, 그에 따라 작업자가 실수로 마스크의 방향이 반대가 되도록 마스크를 수납하는 경우가 발생할 수 있다.This mask receiving process is generally handled manually, so that a worker may accidentally receive the mask so that the direction of the mask is reversed.

추후 마스크를 파드에 장착하는 공정에서는 수납 시의 마스크 방향을 미리 인지하여 작업이 이루어지는 것이 일반적이므로 상기와 같이 마스크의 방향이 잘못된 경우 고가의 마스크가 폐기되는 문제점이 발생하고 있다.In the process of mounting the mask to the pod in the future, the operation is performed by recognizing the mask direction at the time of storing in advance. Thus, when the mask direction is wrong as described above, expensive masks are discarded.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 마스크의 크롬면과 유리면의 반사율 차이를 이용하여 마스크의 크롬면을 감지할 수 있도록 함으로써 마스크를 크롬면에 맞게 파드에 장착할 수 있고 그에 따라 패턴 가공 시 마스크 면의 반전으로 인한 마스크 불량을 미연에 방지할 수 있도록 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention to detect the chrome surface of the mask by using the difference between the reflectance of the chrome surface and the glass surface of the mask to the pod according to the chrome surface. It is possible to mount and thus prevent mask defects due to reversal of the mask surface during pattern processing.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따르면, 감지부 본체, 상기 감지부 본체의 일측에 설치되어 마스크의 양측면을 파지하는 한 쌍의 그립 블록, 상기 그립 블록에 파지된 마스크의 일면에 빛을 조사하는 발광센서와 상기 발광센서로부터 조사된 빛이 반사되는 위치에 설치되어 상기 반사된 빛을 수신하는 수광센서를 포함하는 센서부를 포함하되, 상기 수광센서에서 수신된 빛의 세기에 기초하여 반사율을 계산하고, 계산된 반사율 값에 따라 크롬면의 위치가 감지되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above object, a pair of grip blocks installed on one side of the sensing unit main body, the sensing unit main body to hold both sides of the mask, one surface of the mask held by the grip block It includes a sensor unit including a light emitting sensor for irradiating the light and a light receiving sensor installed at a position where the light emitted from the light emitting sensor is reflected to receive the reflected light, based on the intensity of light received from the light receiving sensor By calculating the reflectance, and the position of the chromium surface is sensed according to the calculated reflectance value, there is provided a chromium surface detection apparatus of a mask for manufacturing a semiconductor.

여기서, 상기 감지부 본체의 일측에는 상기 그립 블록을 전후진 이동시켜 상기 마스크를 고정파지하기 위한 그립 블록 이송수단이 설치되는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that a grip block transfer means for fixedly holding the mask by moving the grip block forward and backward on one side of the sensing unit main body is installed.

그리고, 상기 그립 블록 이송수단은 상기 본체의 상면에 형성된 이동공을 통해 상부로 돌출 형성되고 돌출된 상단 일측이 상기 그립 블록에 결합된 브라켓 및 상기 브라켓의 하단에 연결되고 상기 브라켓을 전후진 이동시키는 그립 실린더를 포함하여 구성되는 것이 보다 바람직하다.The grip block transfer means protrudes upward through a moving hole formed on the upper surface of the main body, and the upper end side of the grip block is connected to the bracket coupled to the grip block and the lower end of the bracket, and moves the bracket forward and backward. More preferably, it comprises a grip cylinder.

또한, 상기 그립 블록은 상기 마스크를 파지하는 면에 노치부가 형성된 것이 더욱 바람직하다.In addition, the grip block is more preferably formed with a notch portion on the surface holding the mask.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 마스크의 크롬면과 유리면의 반사율 차이를 이용하여 마스크의 크롬면을 감지할 수 있도록 함으로써 마스크를 크롬면에 맞게 파드에 장착할 수 있고 그에 따라 패턴 가공 시 마스크 면의 반전으로 인한 마스크 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다. According to the present invention as described above, it is possible to detect the chrome surface of the mask by using the difference in reflectance between the chrome surface and the glass surface of the mask, so that the mask can be mounted on the pod according to the chrome surface, and thus the pattern of the mask surface during pattern processing Mask defects due to reversal can be prevented in advance.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치의 구조를 도시한 전면 사시도, 도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치의 구조를 도시한 후면 사시도, 도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치의 평면도이다.1 is a front perspective view showing the structure of the chrome surface detection device of the semiconductor manufacturing mask according to the present invention, Figure 2 is a rear perspective view showing the structure of a chrome surface detection device of the semiconductor manufacturing mask according to the present invention, Figure 3 It is a top view of the chromium surface detection apparatus of the mask for semiconductor manufacturing which concerns on this invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크의 크롬면 감지장치(1)는 감지부 본체(10), 감지부 본체(10) 상에 형성되어 마스크(M)의 양측면을 파지하는 한 쌍의 그립 블록(21, 23) 및 감지부 본체(10)의 일측에 설치되어 그립 블록(21, 23)에 파지된 마스크(M)에 빛을 조사하는 발광센서(51)와 발광센서(51)로부터 조사된 빛이 반사되는 위치에 설치되어 상기 반사된 빛을 수신하는 수광센서(53)를 포함하는 센서부(50)를 포함하여 구성된다.As shown in the figure, the chrome surface detection apparatus 1 of the mask according to the present invention is formed on the sensing unit body 10, the sensing unit body 10, a pair of gripping both sides of the mask (M) From the light emitting sensor 51 and the light emitting sensor 51 which are installed at one side of the grip block 21, 23 and the sensing unit main body 10 to irradiate light to the mask M held by the grip blocks 21, 23. It is configured to include a sensor unit 50 is installed at a position where the irradiated light is reflected and includes a light receiving sensor 53 for receiving the reflected light.

도시되어 있지는 않으나, 상기 구성 외에 마스크 운반박스로부터 마스크(M)를 반출하여 상기 그립 블록(21, 23)에 장착하기 위한 마스크 이송장치가 요구되며, 마스크 이송장치는 크롬면 감지장치(1)와 별도로 제공되는 것이 바람직하다.Although not shown, in addition to the above configuration, a mask transfer device for carrying out the mask M from the mask carrying box and mounting the grip blocks 21 and 23 is required, and the mask transfer device includes a chrome surface sensing device 1. It is preferably provided separately.

또한, 크롬면 감지장치(1)는 독립적인 장치로 설치될 수도 있으나, 감지부 본체(61)가 마스크 운반박스를 이송하는 마스크 운반박스 이송장치와 결합되어 마스크 운반박스의 이동과 동반되어 전후진하도록 설치되는 것도 가능하다. 이러한 경우 마스크 운반박스 이송장치는 마스크 이송장치가 마스크 운반박스에서 마스크(M)를 반출할 수 있는 위치 및 파지된 마스크(M)를 그립 블록(21, 23)에 내려 놓을 수 있는 위치로 이동하게 된다.In addition, the chrome surface detection device 1 may be installed as an independent device, but the detection unit body 61 is combined with the mask transport box transport device for transporting the mask transport box, accompanied by the movement of the mask transport box. It is also possible to be installed to. In this case, the mask transport box transfer device moves the mask transport device to a position where the mask transport device can be taken out of the mask transport box and a position where the gripped mask M can be lowered on the grip blocks 21 and 23. do.

본체의 상면 일측에는 장공 형태의 이동공(11)이 형성되고 브라켓(30)이 이동공(11)의 상부로 돌출되어 일측의 그립 블록(23)에 결합되며, 브라켓(30)의 하단은 그립 실린더(60)에 연결되어 있다. 이 때, 안정적인 마스크(M)의 파지를 위해 타측의 그립 블록(21)은 고정적으로 설치되는 것이 바람직하다.The upper surface of the main body is formed with a long hole-shaped moving hole 11 and the bracket 30 is projected to the upper portion of the moving hole 11 is coupled to the grip block 23 of one side, the lower end of the bracket 30 is grip It is connected to the cylinder 60. At this time, it is preferable that the grip block 21 on the other side is fixedly installed in order to hold the stable mask M. FIG.

따라서, 그립 실린더(60)에 의해 그립 블록(23)은 이동공(11)을 따라 전후진 이동이 가능한 구조를 갖는다.Accordingly, the grip block 23 has a structure in which the grip block 60 can move back and forth along the moving hole 11.

마스크(M)를 그립 블록(21, 23) 사이에 위치하면 그립 실린더(66)가 전진 이 동하고, 그에 따라 그립 블록(63b)이 전진하면서 마스크(M)를 파지하게 된다.When the mask M is positioned between the grip blocks 21 and 23, the grip cylinder 66 moves forward, and accordingly, the grip block 63b moves forward to grip the mask M.

여기서, 각 그립 블록(21, 23)은 마스크(M)를 안정적으로 파지할 수 있도록 노치부(N)가 형성되는 것이 바람직하다.Here, each grip block 21, 23 preferably has a notch portion N formed so as to stably hold the mask M.

센서부(50)는 감지부 본체(10)의 내부 하면에 수직방향으로 설치된 센서 지지바(40) 상에 설치되어 감지부 본체(10)의 상부로 돌출된다. 센서부(50)는 마스크(M)의 전면 방향 또는 후면 방향 중 한쪽에만 설치될 수도 있으나, 보다 정확한 검사를 위해 감지부 본체(10)의 전면 방향과 후면 방향에 각각 설치되는 것이 바람직하다.The sensor unit 50 is installed on the sensor support bar 40 installed in the vertical direction on the inner lower surface of the sensing unit body 10 to protrude upward from the sensing unit body 10. The sensor unit 50 may be installed only in one of the front direction and the rear direction of the mask M, but it is preferable that the sensor unit 50 is installed in the front direction and the rear direction of the sensing unit body 10 for more accurate inspection.

발광센서(51)에서 조사된 빛은 마스크(M)의 표면에서 반사되어 수광센서(53)로 입사되며 수광센서(53)는 수신된 빛의 세기에 비례하는 전기적인 신호를 출력하게 된다. The light irradiated from the light emitting sensor 51 is reflected on the surface of the mask M to be incident on the light receiving sensor 53, and the light receiving sensor 53 outputs an electrical signal proportional to the intensity of the received light.

마스크(M)에서 크롬 패턴이 형성된 크롬면과 크롬 패턴이 형성되어 있지 않은 유리면은 반사율이 상이하므로 전면과 후면의 각 수광센서(53)에서 감지되는 빛의 세기가 달라지게 된다.Since the chromium surface on which the chrome pattern is formed and the glass surface on which the chromium pattern is not formed are different in the mask M, the intensity of light detected by each of the light receiving sensors 53 on the front and rear surfaces is different.

따라서, 수광센서(53)에서 수신된 빛의 세기에 기초하여 반사율을 계산하고, 계산된 반사율 값에 따라 해당면이 크롬면인지 유리면인지를 파악하는 것이 가능하게 된다.Therefore, it is possible to calculate the reflectance based on the intensity of light received by the light receiving sensor 53, and determine whether the surface is a chrome surface or a glass surface according to the calculated reflectance value.

비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되어졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능 하다. 따라서 첨부된 특허청구의 범위는 본 발명의 요지에서 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, it is possible to make various modifications or variations without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the appended claims will cover such modifications and variations as fall within the spirit of the invention.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치의 구조를 도시한 전면 사시도이다.1 is a front perspective view showing the structure of a chrome surface detection device of a mask for manufacturing a semiconductor according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치의 구조를 도시한 후면 사시도이다.2 is a rear perspective view showing the structure of a chrome surface detection device of a mask for manufacturing a semiconductor according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치의 평면도이다.3 is a plan view of a chrome surface detection device of a mask for manufacturing a semiconductor according to the present invention.

<주요도면부호에 관한 설명><Description of main drawing code>

10 : 감지부 본체 21, 23 : 그립 블록10: sensing unit body 21, 23: grip block

30 : 브라켓 40 : 센서 지지바30: bracket 40: sensor support bar

50 : 센서부 51 : 발광 센서50 sensor 51 51 light emitting sensor

53 : 수광 센서 60 : 그립 실린더53: light receiving sensor 60: grip cylinder

M : 마스크 N : 노치부M: Mask N: Notch

Claims (4)

감지부 본체;A sensing unit body; 상기 감지부 본체의 일측에 설치되어 마스크의 양측면을 파지하는 한 쌍의 그립 블록;A pair of grip blocks installed on one side of the main body of the sensing unit and holding both sides of the mask; 상기 그립 블록에 파지된 마스크의 일면에 빛을 조사하는 발광센서와 상기 발광센서로부터 조사된 빛이 반사되는 위치에 설치되어 상기 반사된 빛을 수신하는 수광센서를 포함하는 센서부를 포함하되,Including a sensor unit including a light emitting sensor for irradiating light to one surface of the mask held by the grip block and a light receiving sensor installed at a position where the light emitted from the light emitting sensor is reflected, to receive the reflected light, 상기 수광센서에서 수신된 빛의 세기에 기초하여 반사율을 계산하고, 계산된 반사율 값에 따라 크롬면의 위치가 감지되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치.And calculating a reflectance based on the intensity of light received from the light receiving sensor, and detecting the position of the chromium surface according to the calculated reflectance value. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 감지부 본체의 일측에는 상기 그립 블록을 전후진 이동시켜 상기 마스크를 고정파지하기 위한 그립 블록 이송수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치.One side of the sensing unit main body chrome surface detection device for a mask for semiconductor manufacturing, characterized in that the grip block transfer means for fixedly holding the mask by moving the grip block forward and backward. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 그립 블록 이송수단은The grip block transfer means 상기 본체의 상면에 형성된 이동공을 통해 상부로 돌출 형성되고 돌출된 상단 일측이 상기 그립 블록에 결합된 브라켓; 및A bracket formed by protruding upward through a moving hole formed on an upper surface of the main body and having one side of the upper end protruding from the grip block; And 상기 브라켓의 하단에 연결되고 상기 브라켓을 전후진 이동시키는 그립 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치.And a grip cylinder connected to a lower end of the bracket to move the bracket forward and backward. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 그립 블록은 상기 마스크를 파지하는 면에 노치부가 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 마스크의 크롬면 감지장치.The grip block is a chrome surface detection device of a mask for manufacturing a semiconductor, characterized in that the notch portion is formed on the surface holding the mask.
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