KR100902849B1 - Method of manufacturing conductive ball arranging mask - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 웨이퍼, 패키지 기판 등의 베이스의 소정 위치에 도전성 볼을 배치하기 위한 마스크 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask manufacturing method for arranging conductive balls at a predetermined position of a base such as a semiconductor wafer or a package substrate.
반도체 웨이퍼, 패키지 기판 등의 베이스에 설치된 복수(다수)의 전극에 대하여 각종 전자 부품(그 접속 단자)이 접속되기 위해서, 예를 들면 다음과 같은 것이 행해져 있다.In order to connect various electronic components (connection terminals thereof) to a plurality of electrodes provided on a base such as a semiconductor wafer or a package substrate, the following is performed, for example.
베이스에 설치된 복수의 전극에 대하여 땜납 볼(땜납에 의해 형성된 미소한 볼)이 각각 배치되고, 그 땜납 볼(도전성 볼)이 배치된 베이스 전체가 가열됨으로써 그 각 땜납 볼이 용해되고, 그것이 냉각되어 고화됨으로써 그 각 땜납 볼이 베이스의 각 전극에 대하여 접착된다.Solder balls (fine balls formed by solder) are respectively disposed with respect to the plurality of electrodes provided on the base, and the entirety of the base on which the solder balls (conductive balls) are placed is heated to melt each of the solder balls, thereby cooling them. By solidification, each solder ball is adhere | attached with respect to each electrode of a base.
이와 같이, 그 땜납(땜납 볼)이 각 전극에 있어서의 접속 단자가 된다.Thus, the solder (solder ball) becomes a connection terminal in each electrode.
그리고, 그 각 접속 단자에 대하여 각종 전자 부품(그 접속 단자)이 접속된다.And various electronic components (connection terminals) are connected with each connection terminal.
상술한 바와 같이, 베이스의 각 전극에 대하여 접속 단자를 형성할 때의 일 부의 공정으로서, 베이스의 각 전극에 대하여 땜납 볼을 배치하기 위해서, 예를 들면, 특허문헌 1과 같은 마스크(땜납 볼 배치용 마스크)가 사용되고 있다.As mentioned above, in order to arrange | position a solder ball with respect to each electrode of a base as part of the process at the time of forming a connection terminal with respect to each electrode of a base, it is a mask (solder ball arrangement | positioning) like patent document 1, for example. Mask) is used.
그 마스크는 평판상을 이루고 복수의 관통 구멍(땜납 볼 수용 관통 구멍)을 갖고 있다. 각 관통 구멍은 베이스(기판)에 설치된 각 전극에 대응해서 형성되어 있다.The mask has a flat plate shape and has a plurality of through holes (solder ball accommodating through holes). Each through hole is formed corresponding to each electrode provided in the base (substrate).
그리고, 그 마스크가 베이스에 대하여 세팅되어(포개져서) 그 마스크의 위에 다수의 땜납 볼이 공급되고, 그 각 땜납 볼이 각 관통 구멍에 수용된다.Then, the mask is set (superimposed) with respect to the base, and a plurality of solder balls are supplied on the mask, and the solder balls are accommodated in each through hole.
이와 같이, 각 전극에 대하여 땜납 볼이 배치된다.In this way, a solder ball is disposed for each electrode.
각 전극에는 미리 플럭스(flux)(접착성을 가짐)이 부착되어 있다. 그리고, 그 각 전극에 대하여, 상술한 바와 같이, 땜납 볼이 배치됨으로써 그 플럭스에 의해 각 전극에 대하여 땜납 볼이 임시로 접착된다.Flux (having adhesiveness) is attached to each electrode previously. Then, as described above, the solder balls are disposed on the electrodes, and the flux balls are temporarily bonded to the electrodes by the flux.
이어서, 마스크가 제거되고, 온풍에 의해 베이스와 함께 땜납 볼이 가열된다. 이에 따라, 땜납 볼이 용해된다.Subsequently, the mask is removed and the solder balls are heated together with the base by warm air. As a result, the solder balls are dissolved.
그 후에, 베이스와 함께 땜납(땜납 볼)이 냉각됨으로써 땜납(땜납 볼)이 고화된다.Thereafter, the solder (solder ball) is cooled together with the base to solidify the solder (solder ball).
이와 같이, 전술한 바와 같이, 그 땜납(땜납 볼)이 전극에 있어서의 접속 단자가 된다.As described above, the solder (solder ball) becomes a connection terminal in the electrode.
그런데, 상술한 바와 같이, 베이스에 대하여 마스크가 세팅될 때 베이스와 마스크(정확하게는 그 중 땜납 볼 수용 관통 구멍이 형성된 주요 부분)의 사이에는 간극이 있는 편이 바람직하다. 즉, 마스크는 베이스로부터 약간 부상해 있는 편이 바람직하다. 그 이유는 다음과 같다.By the way, as mentioned above, when a mask is set with respect to a base, it is preferable that there exists a clearance gap between a base and a mask (preferably the main part in which the solder ball receiving through-hole was formed). In other words, it is preferable that the mask slightly float from the base. The reason for this is as follows.
반도체 등을 사용한 전자 장치에 대해서는 최근 점점 소형화 및 고밀도화가 도모되어 베이스에 설치된 전극간의 거리가 더욱 단축되도록 하고 있다.BACKGROUND ART Electronic devices using semiconductors and the like have been increasingly miniaturized and densified in recent years to further shorten the distance between electrodes provided on the base.
이에 따라, 베이스에 대하여 마스크를 세팅하려고 할 때에 있어서 그 마스크가 본래의 위치로부터 다소라도 어긋났을 경우에는 미리 전극에 부착되어 있는 플럭스(접착성을 가짐)가 마스크에 부착될 우려가 있기 때문이다. 그 경우는 마스크가 소정 위치에 세팅될 수 없거나 관통 구멍이 막히는 등의 여러가지 폐해가 발생한다.This is because when the mask is set to the base and the mask is slightly shifted from the original position, the flux (having adhesiveness) previously attached to the electrode may adhere to the mask. In that case, various damages, such as a mask which cannot be set in a predetermined position or a through-hole become clogged, generate | occur | produce.
이에 따라, 마스크에는 다리부가 설치되는 경우가 있다. 즉, 마스크(그 중 땜납 볼 수용 관통 구멍이 형성되어 있는 주요 부분 이외의 부위)에 다리부가 설치되고, 다리부(그 하단부)가 베이스에 대하여 접촉하도록되어 있다.Accordingly, the leg may be provided in the mask. That is, the leg part is provided in a mask (parts other than the main part in which the solder ball receiving hole is formed), and the leg part (lower end part) is made to contact a base.
종래에 있어서는 다리부는, 예를 들면 다음과 같이 형성되어 있다.Conventionally, the leg part is formed as follows, for example.
제 1 방법으로서, 금속의 마스크에 있어서, 다리부를 형성하지 않는 부분에 에칭을 행함으로써 에칭을 행한 부분이 본체부로 되고, 에칭을 행하지 않은 부분에 있어서 다리부가 형성되는 방법이 있다.As a 1st method, there exists a method in which the part which etched turns into a main body part by etching to the part which does not form a leg part in a metal mask, and a leg part is formed in the part which is not etched.
그러나, 이 방법에서는 본체부의 두께가 균일하지 않고, 나아가서는 레이저에 의해 구멍을 형성할 때에 있어서 구멍의 크기의 정밀도가 좋지 않게 된다.However, in this method, the thickness of the main body is not uniform, and furthermore, the precision of the size of the hole becomes poor when forming the hole by the laser.
제 2 방법으로서, 금속으로 이루어지는 마스크(본체부)에 대하여 합성 수지 또는 금속의 다리부를 접착하는 방법이 있다.As a 2nd method, there exists a method of adhering the leg part of synthetic resin or a metal with respect to the mask (main body part) which consists of metals.
그러나, 이 방법에서는 다음 결점이 있다.However, this method has the following drawbacks.
전술한 바와 마찬가지로 해서, 다리부에 플럭스가 부착되었을 경우에는 그것을 유기 용제로 제거할 필요가 있다. 그러나, 다리부가 합성 수지인 경우는 일반적으로 그 유기 용제에 의해 다리부가 손상된다. 이와 같이, 다리부의 수명이 짧아져서 도전성 볼 배치용 마스크로서도 장기간에 걸쳐 사용할 수 없다.As mentioned above, when flux adheres to the leg portion, it is necessary to remove it with an organic solvent. However, in the case where the leg portion is a synthetic resin, the leg portion is generally damaged by the organic solvent. In this way, the life of the leg portion is shortened and it cannot be used for a long time even as a mask for conductive ball placement.
한편, 다리부가 금속인 경우에 있어서는 유기 용제로 그 다리부 자체가 손상되는 것은 회피되지만 이 그 금속의 다리부가 본체부에 대하여 접착제에 의해 접착되어 있는(접착제층을 통해 고정됨) 경우에는 그 접착제층이 손상되고, 나아가서는 다리부에 문제가 발생한다. 다리부가 본체부에 대하여 용접에 의해 설치되어 있을 경우는 용접시의 고온에 의해 본체부 등의 정밀도가 열화될 우려가 있다.On the other hand, in the case where the leg part is a metal, it is avoided that the leg part itself is damaged by an organic solvent, but when the leg part of the metal is adhered to the main body part by an adhesive (fixed through the adhesive layer), the adhesive layer This damages and further causes problems in the leg. When the leg portion is provided by welding with respect to the body portion, there is a fear that the precision of the body portion or the like deteriorates due to the high temperature at the time of welding.
그리고, 본체부에 형성된 다리부에 대해서는 그 두께(높이)는 모두 동일할 필요가 있다.And the thickness (height) of all the leg parts formed in the main body part needs to be the same.
왜냐하면, 다리부의 두께(높이)가 동일하지 않으면, 우선은 일반적으로, 본체부(도전성 볼 배치용 마스크)가 안정적으로 베이스에 대하여 세팅되지 않기 때문이다.This is because, if the thickness (height) of the leg portions is not the same, firstly, the main body portion (mask for conductive ball placement) is generally not set to the base stably.
[특허문헌 1] 일본 특허 공개 2004-327536호 공보[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-327536
본 발명은 다리부를 적절하게 그리고 동일한 두께(높이)로 용이하게 형성할 수 있음과 아울러 장기간 사용하는 것이 가능한 도전성 볼 배치용 마스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mask for conductive ball placement and a method of manufacturing the same, which can be easily formed with appropriate and equal thickness (height) and can be used for a long time.
상기 과제를 해결하기 위해서 제 1 발명은 도전성 볼 수용 관통 구멍을 갖고, 베이스에 대하여 포개진 상태에서 해당 도전성 볼 수용 관통 구멍에 도전성 볼이 수용됨으로써 해당 도전성 볼이 상기 베이스의 소정 위치에 배치되는 마스크로서, 평판상을 이루고 상기 복수의 도전성 볼 수용 관통 구멍을 갖는 본체부와, 평판상을 이룸과 아울러 상기 본체부의 상기 도전성 볼 수용 관통 구멍에 대응하는 관통 구멍 대응 개구부를 갖고, 상기 본체부 중 상기 베이스의 측에 배치된 다리부 형성층을 갖고, 상기 다리부 형성층이 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 합성 수지에 의해 형성되는 도전성 볼 배치용 마스크이다.In order to solve the said subject, 1st invention is a mask which has an electroconductive ball accommodating through-hole, and a conductive ball is accommodated in the said electroconductive ball accommodating through-hole in the state superimposed with respect to a base, and the said electroconductive ball is arrange | positioned in the predetermined position of the said base. And a main body portion having a flat plate shape and having the plurality of conductive ball receiving through holes, and a through hole corresponding opening having a flat plate shape and corresponding to the conductive ball receiving through hole of the main body portion, wherein It has a leg part layer arrange | positioned at the side of a base, and this leg part layer is a mask for electroconductive ball arrangement | positioning formed with the synthetic resin which has a polymer of vinyl acetate as a main component.
본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크에서는 다리부 형성층(다리부)이 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 합성 수지에 의해 형성되어 있기 때문에 다음 작용 효과가 얻어진다.In the mask for electroconductive ball arrangement of this invention, since the leg part forming layer (leg part) is formed by the synthetic resin which has the polymer of vinyl acetate as a main component, the following effect is acquired.
즉, 다리부에 플럭스가 부착되었을 경우에는 그것을 유기 용제로 제거할 필요가 있지만 다리부가 상술한 수지이기 때문에 유기 용제에 대한 내성이 높다. 이에 따라, 다리부가 유기 용제에 의해 손상되지 않거나 손상되기 어렵다.That is, when flux adheres to a leg part, it is necessary to remove it with the organic solvent, but since the leg part is the resin mentioned above, it is high in tolerance to an organic solvent. Accordingly, the leg portion is not damaged or hardly damaged by the organic solvent.
이에 따라, 본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크는 장기간에 걸쳐 사용하는 것이 가능하다.Thereby, the mask for conductive ball placement of the present invention can be used for a long time.
제 2 발명은 도전성 볼 수용 관통 구멍을 갖고, 베이스에 대하여 포개진 상태에서 해당 도전성 볼 수용 관통 구멍에 도전성 볼이 수용됨으로써 해당 도전성 볼이 상기 베이스의 소정 위치에 배치되는 마스크로서, 평판상을 이루고 상기 복수의 도전성 볼 수용 관통 구멍을 갖는 본체부와, 평판상을 이룸과 아울러 상기 본체부의 상기 도전성 볼 수용 관통 구멍에 대응하는 관통 구멍 대응 개구부를 갖고, 상기 본체부 중 상기 베이스의 측에 배치된 다리부 형성층을 갖고, 상기 다리부 형성층이 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 합성 수지에 의해 형성되어 있는 도전성 볼 배치용 마스크이다.The second invention has a conductive ball accommodating through hole, and the conductive ball is accommodated in the conductive ball accommodating through hole in a state of being superimposed with respect to the base. A main body portion having the plurality of conductive ball receiving through holes, and a through hole corresponding opening corresponding to the conductive ball receiving through hole of the main body portion, having a flat plate shape, and disposed on the side of the base among the main body portions. It has a leg forming layer and the said leg forming layer is a mask for electroconductive ball arrangement | positioning formed from the synthetic resin which has a copolymer of vinyl acetate and a vinyl alcohol as a main component.
「초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 합성 수지」중 특히 바람직한 예로서 초산 비닐 수지 성분과 비닐 알콜 수지 성분의 질량비가 20:15∼25:10인 것이 있다.As a particularly preferable example of the "synthetic resin mainly containing a copolymer of vinyl acetate and vinyl alcohol", there are those in which the mass ratio of the vinyl acetate resin component and the vinyl alcohol resin component is 20:15 to 25:10.
이것은 제 4 발명에 있어서도 마찬가지이다.This also applies to the fourth invention.
본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크에서는 다리부 형성층(다리부)이 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 합성 수지에 의해 형성되어 있기 때문에, 다음 작용 효과가 얻어진다.In the mask for conductive ball placement according to the present invention, since the leg forming layer (leg) is made of a synthetic resin mainly composed of a copolymer of vinyl acetate and vinyl alcohol, the following effect is obtained.
즉, 다리부에 플럭스가 부착되었을 경우에는 그것을 유기 용제로 제거할 필요가 있지만 다리부가 상술한 수지이기 때문에 유기 용제에 대한 내성이 높다. 이에 따라, 다리부가 유기 용제에 의해 손상되지 않거나 손상되기 어렵다.That is, when flux adheres to a leg part, it is necessary to remove it with the organic solvent, but since the leg part is the resin mentioned above, it is high in tolerance to an organic solvent. Accordingly, the leg portion is not damaged or hardly damaged by the organic solvent.
이에 따라, 본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크는 장기간에 걸쳐 사용하는 것이 가능하다.Thereby, the mask for conductive ball placement of the present invention can be used for a long time.
제 3 발명은 평판상의 본체부에 형성된 다리부에 있어서 베이스에 대하여 포개지고, 해당 본체부에 형성된 복수의 도전성 볼 수용 관통 구멍에 도전성 볼이 수용됨으로써 해당 도전성 볼이 상기 베이스의 소정 위치에 배치되는 도전성 볼 배치용 마스크를 제조하는 방법으로서, 광을 받음으로써 경화되는 광경화성 수지재를 상기 본체부에 대하여 도포해서 해당 본체부에 광경화성 수지재층을 형성하는 광경화성 수지재 도포 단계와, 상기 다리부에 대응하는 부분이 광의 투과를 허용하는 광투과부이며, 그 이외의 부분이 광의 투과를 저지하는 광투과 저지부인 포토마스크를 상기 광경화성 수지재층에 대하여 배치하여 포토마스크 배치체를 형성하는 포토마스크 배치 단계와, 상기 포토마스크의 측으로부터 상기 포토마스크 배치체에 대하여 광을 조사하여 상기 광경화성 수지재층 중 상기 광투과부에 대응하는 부분을 경화시키는 광조사 단계와, 상기 포토마스크 배치체로부터 상기 포토마스크를 제거해서 포토마스크 제거체를 형성하는 포토마스크 제거 단계와, 상기 포토마스크 제거체에 있어서의 상기 광경화성 수지재층 중 미경화 부분을 제거하는 광경화성 수지재층 미경화 부분 제거 단계를 갖고, 상기 광경화성 수지재가 (폴리)초산 비닐을 주성분으로서 포함하고, 광을 받음으로써 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 경화 수지체로 되는 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법이다.According to a third aspect of the present invention, in the leg portion formed in the flat body portion, the conductive ball is superposed on the base, and the conductive balls are accommodated in the plurality of conductive ball receiving through-holes formed in the main body portion so that the conductive balls are disposed at a predetermined position of the base. A method of manufacturing a mask for conductive ball placement, comprising: a photocurable resin material coating step of applying a photocurable resin material cured by receiving light to the body portion to form a photocurable resin layer on the body portion, and the legs A portion corresponding to the portion is a light transmitting portion that allows light to be transmitted, and a photomask in which a portion other than that is a light transmission blocking portion that blocks light is disposed with respect to the photocurable resin material layer to form a photomask arrangement. An arranging step and irradiating light to the photomask arrangement from the side of the photomask; A photoirradiation step of curing a portion corresponding to the light transmitting portion of the photocurable resin material layer, a photomask removal step of removing the photomask from the photomask arrangement to form a photomask remover, and the photomask It has a photocurable resin material layer uncured part removal step which removes an uncured part of the said photocurable resin material layer in a remover, The said photocurable resin material contains (poly) vinyl acetate as a main component, and receives acetic acid by receiving light. It is a mask manufacturing method for electroconductive ball placement which becomes the cured resin body which has a polymer of vinyl as a main component.
여기서, 「광」은 가시광에 한정되지 않고, 자외선 등도 포함되는 개념이다. 이것은 제 4 발명에 있어서도 마찬가지이다.Here, "light" is not limited to visible light, but is a concept that includes ultraviolet rays and the like. This also applies to the fourth invention.
「(폴리)초산 비닐을 주성분으로서 포함하는 광경화성 수지재」 중 특히 바람직한 예로서 물과 (폴리)초산 비닐 수지 성분의 질량비가 60:40∼65:35인 것이 있다.As a particularly preferable example of the "photocurable resin material containing (poly) vinyl acetate as a main component", the mass ratio of water and the (poly) vinyl acetate resin component is 60: 40-65: 35.
본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법에서는 다음과 같이 해서 도전성 볼 배치용 마스크가 제조된다.In the mask manufacturing method for conductive ball placement of this invention, the mask for conductive ball placement is manufactured as follows.
광경화성 수지재 도포 단계에 있어서는 광을 받음으로써 경화되는 광경화성 수지재가 본체부에 대하여 도포 되어서 본체부에 대하여 광경화성 수지재층이 형성된다.In the photocurable resin material applying step, the photocurable resin material which is cured by receiving light is applied to the main body portion, so that the photocurable resin material layer is formed on the main body portion.
여기서, 그 광경화 수지재는 (폴리)초산 비닐을 주성분으로서 포함하고, 광을 받음으로써 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 경화 수지체로 되는 것이다.Here, the photocurable resin material contains (poly) vinyl acetate as a main component and becomes a cured resin body containing a polymer of vinyl acetate as a main component by receiving light.
포토마스크 배치 단계에 있어서는 다리부에 대응하는 부분이 광의 투과를 허용하는 광투과부이며, 그 이외의 부분이 광의 투과를 저지하는 광투과 저지부인 포토마스크가 광경화성 수지재층에 대하여 배치 되어서 포토마스크 배치체가 형성된다.In the photomask arrangement step, a portion corresponding to the leg portion is a light transmitting portion that allows light transmission, and a photomask, which is a light transmission blocking portion for blocking other light transmission, is disposed with respect to the photocurable resin material layer. Sieve is formed.
광조사 단계에 있어서는 포토마스크의 측으로부터 포토마스크 배치체에 대하여 광이 조사되고, 광경화성 수지재층 중 광투과부에 대응하는 부분이 경화된다. 즉, 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 경화 수지체가 된다.In the light irradiation step, light is irradiated to the photomask arrangement from the photomask side, and a portion of the photocurable resin material layer corresponding to the light transmitting portion is cured. That is, it becomes the cured resin body which has a polymer of vinyl acetate as a main component.
포토마스크 제거 단계에 있어서는 포토마스크 배치체로부터 포토마스크가 제거되어 포토마스크 제거체가 형성된다.In the photomask removing step, the photomask is removed from the photomask arrangement to form a photomask remover.
광경화성 수지재층 미경화 부분 제거 단계에 있어서는 포토마스크 제거체에 있어서의 광경화성 수지재층 중 미경화 부분이 제거된다.In the photocurable resin material layer uncured part removal step, the uncured part of the photocurable resin material layer in the photomask removal body is removed.
이에 따라, 제 1 발명의 도전성 볼 배치용 마스크가 용이하게 제조된다.Thereby, the mask for electroconductive ball arrangement of 1st invention is manufactured easily.
제 4 발명은 평판상의 본체부에 형성된 다리부에 있어서 베이스에 대하여 포개지고, 해당 본체부에 형성된 복수의 도전성 볼 수용 관통 구멍에 도전성 볼이 수용됨으로써 해당 도전성 볼이 상기 베이스의 소정 위치에 배치되는 도전성 볼 배치용 마스크를 제조하는 방법으로서, 광을 받음으로써 경화되는 광경화성 수지재를 상기 본체부에 대하여 도포해서 해당 본체부에 광경화성 수지재층을 형성하는 광경화성 수지재 도포 단계와, 상기 다리부에 대응하는 부분이 광의 투과를 허용하는 광투과부이며, 그 이외의 부분이 광의 투과를 저지하는 광투과 저지부인 포토마스크를 상기 광경화성 수지재층에 대하여 배치해서 포토마스크 배치체를 형성하는 포토마스크 배치 단계와, 상기 포토마스크의 측으로부터 상기 포토마스크 배치체에 대하여 광을 조사하여 상기 광경화성 수지재층 중 상기 광투과부에 대응하는 부분을 경화시키는 광조사 단계와, 상기 포토마스크 배치체로부터 상기 포토마스크를 제거해서 포토마스크 제거체를 형성하는 포토마스크 제거 단계와, 상기 포토마스크 제거체에 있어서의 상기 광경화성 수지재층 중 미경화 부분을 제거하는 광경화성 수지재층 미경화 부분 제거 단계를 갖고, 상기 광경화성 수지재가 (폴리)초산 비닐 및 (폴리)비닐 알콜을 주성분으로서 포함하고, 광을 받음으로써 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 경화 수지체로 되는 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법이다.According to a fourth aspect of the present invention, a conductive ball is stacked in a leg portion formed in a flat body portion, and the conductive ball is accommodated in a plurality of conductive ball receiving through-holes formed in the body portion, so that the conductive ball is disposed at a predetermined position of the base. A method of manufacturing a mask for conductive ball placement, comprising: a photocurable resin material coating step of applying a photocurable resin material cured by receiving light to the body portion to form a photocurable resin layer on the body portion, and the legs The part corresponding to the part is a light transmitting part which allows light transmission, and the other part is a photomask which arrange | positions the photomask which is the light transmission blocking part which blocks light transmission with respect to the said photocurable resin material layer, and forms a photomask arrangement | guide_body. An arranging step and irradiating light to the photomask arrangement from the side of the photomask; A photoirradiation step of curing a portion corresponding to the light transmitting portion of the photocurable resin material layer, a photomask removal step of removing the photomask from the photomask arrangement to form a photomask remover, and the photomask The photocurable resin material layer uncured part removal step which removes an uncured part of the said photocurable resin material layer in a remover, The said photocurable resin material contains (poly) vinyl acetate and (poly) vinyl alcohol as a main component It is a mask manufacturing method for electroconductive ball arrangement | positioning which becomes a cured resin body which has a copolymer of vinyl acetate and a vinyl alcohol as a main component by receiving light.
「(폴리)초산 비닐 및 (폴리)비닐 알콜을 주성분으로서 포함하는 광경화성 수지 재료」 중 특히 바람직한 예로서 물과 (폴리)초산 비닐 수지 성분 및 (포리) 비닐 알콜의 질량비가 60:40∼65:35인 것이 있다.As a particularly preferred example of "a photocurable resin material containing (poly) vinyl acetate and (poly) vinyl alcohol as a main component", the mass ratio of water and the (poly) vinyl acetate resin component and (poly) vinyl alcohol is 60:40 to 65 There is something like: 35.
본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법에서는 다음과 같이 해서 도전성 볼 배치용 마스크가 제조된다.In the mask manufacturing method for conductive ball placement of this invention, the mask for conductive ball placement is manufactured as follows.
광경화성 수지재 도포 단계에 있어서는 광을 받음으로써 경화되는 광경화성 수지재가 본체부에 대하여 도포 되어서 본체부에 대하여 광경화성 수지재층이 형성된다.In the photocurable resin material applying step, the photocurable resin material which is cured by receiving light is applied to the main body portion, so that the photocurable resin material layer is formed on the main body portion.
여기서, 그 광경화 수지재는 (폴리)초산 비닐 및 (폴리)비닐 알콜을 주성분으로서 포함하고, 광을 받음으로써 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 경화 수지체로 되는 것이고,Here, the photocurable resin material contains (poly) vinyl acetate and (poly) vinyl alcohol as a main component, and becomes a cured resin body mainly containing a copolymer of vinyl acetate and vinyl alcohol by receiving light,
포토마스크 배치 단계에 있어서는 다리부에 대응하는 부분이 광의 투과를 허용하는 광투과부이며, 그 이외의 부분이 광의 투과를 저지하는 광투과 저지부인 포토마스크가 광경화성 수지재층에 대하여 배치 되어서 포토마스크 배치체가 형성된다.In the photomask arrangement step, a portion corresponding to the leg portion is a light transmitting portion that allows light transmission, and a photomask, which is a light transmission blocking portion for blocking other light transmission, is disposed with respect to the photocurable resin material layer. Sieve is formed.
광조사 단계에 있어서는 포토마스크의 측에서 포토마스크 배치체에 대하여 광이 조사되어 광경화성 수지재층 중 광투과부에 대응하는 부분이 경화된다. 즉, 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 경화 수지체가 된다.In the light irradiation step, light is irradiated to the photomask arrangement on the side of the photomask to harden a portion corresponding to the light transmitting portion in the photocurable resin material layer. That is, it becomes a cured resin body which has a copolymer of vinyl acetate and a vinyl alcohol as a main component.
포토마스크 제거 단계에 있어서는 포토마스크 배치체로부터 포토마스크가 제거되어 포토마스크 제거체가 형성된다.In the photomask removing step, the photomask is removed from the photomask arrangement to form a photomask remover.
광경화성 수지재층 미경화 부분 제거 단계에 있어서는 포토마스크 제거체에 있어서의 광경화성 수지재층 중 미경화 부분이 제거된다.In the photocurable resin material layer uncured part removal step, the uncured part of the photocurable resin material layer in the photomask removal body is removed.
이에 따라, 제 2 발명의 도전성 볼 배치용 마스크가 용이하게 제조된다.Thereby, the mask for electroconductive ball arrangement of 2nd invention is manufactured easily.
제 5 발명은 제 3 또는 제 4 발명의 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법으로서, 상기 광경화성 수지재 도포 단계는 상기 본체부 중 해당 광경화성 수지재층이 배치되는 면인 상면에 배치되어 서로 이격되어 평행하게 연장되며 그 길이 방향을 따라 동일한 높이를 갖는 한쌍의 도포 안내구 사이에 유동성을 갖는 상기 광경화성 수지재가 공급되고, 해당 양 도포 안내구의 상면 사이에 걸쳐 배치된 균일화 도구가 해당 양 도포 안내구의 길이 방향을 따라 이동됨으로써 해당 광경화성 수지재가 균일한 두께로 상기 본체부에 대하여 도포되는 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법이다.The fifth invention is a method for manufacturing the conductive ball placement mask of the third or fourth invention, wherein the photocurable resin material applying step is disposed on an upper surface which is a surface on which the photocurable resin material layer is disposed in the main body portion and spaced apart from each other in parallel. The photocurable resin material having fluidity is supplied between a pair of application guides extending in length and having the same height along the longitudinal direction, and a uniforming tool disposed between the upper surfaces of the both application guides is provided in the longitudinal direction of the both application guides. The photocurable resin material is a mask manufacturing method for conductive balls arrangement | positioning which is apply | coated to the said main-body part by uniform thickness by moving along.
본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법에서는 제 3 또는 제 4 발명의 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법의 작용 효과에 더해서 다음 작용 효과가 얻어진다.In the method for manufacturing a mask for conductive ball placement according to the present invention, in addition to the effects for the method for manufacturing a mask for conductive ball placement according to the third or fourth invention, the following effects are obtained.
즉, 광경화성 수지재 도포 단계에 있어서는 본체부 중 상면(광경화성 수지재층이 배치되는 면)에 배치되어 서로 이격되어 평행하게 연장되며 그 길이 방향을 따라 동일한 높이를 갖는 한쌍의 도포 안내구 사이에 유동성을 갖는 광경화성 수지재가 공급되고, 양 도포 안내구의 상면 사이에 걸쳐 배치된 균일화 도구가 양 도포 안내구의 길이 방향을 따라 이동된다. 이에 따라, 광경화성 수지재가 균일한 두께로 본체부에 대하여 도포되어 광경화성 수지재층이 균일한 두께로 형성된다.That is, in the photocurable resin material applying step, it is arranged on the upper surface (the surface where the photocurable resin material layer is arranged) among the main body portions, and is spaced apart from each other and extends in parallel to each other between a pair of coating guides having the same height along the longitudinal direction. The photocurable resin material which has fluidity is supplied, and the equalization tool arrange | positioned between the upper surface of both application guides is moved along the longitudinal direction of both application guides. As a result, the photocurable resin material is applied to the body portion with a uniform thickness, so that the photocurable resin material layer is formed with a uniform thickness.
이에 따라, 본 발명의 도전성 볼 배치용 마스크 제조 방법에서는 다리부의 높이가 균일한 것으로 된다.Thereby, in the manufacturing method of the mask for electroconductive ball arrangement of this invention, the height of a leg part becomes uniform.
이어서, 본 발명의 제 1 실시형태에 대해서 도면에 의거해서 설명한다.Next, 1st Embodiment of this invention is described based on drawing.
도 1에 도시된 바와 같이, 이 도전성 볼 배치용 마스크는 반도체 웨이퍼, 패키지 기판 등의 베이스 집합체(100)에 대하여 사용된다. 베이스 집합체(100)는 최종적으로는 복수의 베이스(102)로 분할된다. 베이스 집합체(100)[그 중 분할되어서 각 베이스(102)로 되는 부분]에는 복수(다수)의 전극(103)이 설치되어 있다.As shown in Fig. 1, this conductive ball placement mask is used for a
도 1∼도 3에 도시된 바와 같이, 이 도전성 볼 배치용 마스크는 스크린(10)에 대하여 본체부(20) 및 다리부 형성층(30)이 고정되어서 형성되어 있다. 이 도전성 볼 배치용 마스크는 전체적으로 평판상을 하고 있다.As shown in Figs. 1 to 3, the mask for placing the conductive balls is formed by fixing the
스크린(10)은 합성 수지 또는 금속으로 이루어지는 일평면상의 그물코상을 하고 있다. 스크린(10)은 4각형의 프레임(12)에 대하여 부착되어 있다.The
스크린(10)은 그 2차원의 양방향으로 인장된 상태에서 프레임(12)에 부착되어 있다. 이에 따라, 스크린(10)에는 그 2차원의 양방향으로 소정의 장력이 존재하고 있다.The
스크린(10)에는 개구부[본체부 대응 개구부(15)]가 형성되어 있다.An opening (main unit corresponding opening 15) is formed in the
본체부(20)는 금속으로 이루어지는 평판상을 하고 있다.The
본체부(20)는 스크린(10)에 대하여 고정되어 있다. 본체부(20)는 그 주변부에 있어서 접착제에 의해 스크린(10)에 대하여 접착되어 있다. 즉, 본체부(20)는 그 주변부에 있어서 접착제층(28)을 통해 스크린(10)에 대하여 접착되어 있다.The
스크린(10)의 본체부 대응 개구부(15)(전술)는 본체부(20)의 내측[접착제층(28)의 내측]에 형성되어 있다.The opening part 15 (described above) corresponding to the main body part of the
본체부(20)에는 복수의 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)가 형성되어 있다. 이 실시형태에서는 4개의 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)가 형성되어 있다.A plurality of conductive ball receiving through-
각 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)는 베이스 집합체(100)(도 1) 중 각 베이스(102)[전술한 바와 같이 분할되어서 각 베이스(102)가 되는 부분]에 대응하고 있다.Each conductive ball accommodating through-
각 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)에는 복수(다수)의 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)이 형성되어 있다. 각 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)은 베이스 집합체(100)(도 1)에 있어서의 각 베이스(102)에 해당 하는 부분의 각 전극(103)에 대응하고 있다.Each conductive ball accommodating through-
다리부 형성층(30)은 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 합성 수지로 이루어지는 평판상을 하고 있다. 또한, 다른 실시형태로서 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 합성 수지로 이루어지는 경우도 있다.The
그리고, 어떻든간에 이 다리부 형성층(30)은 그 재질에 의해 유기 용제에 대한 내성을 갖고 있다. 즉, 유기 용제가 부착되어도 손상되지 않는(또는 손상되기 어려운) 재질의 것이다. 이것들은 뒤에 상세히 설명한다.In any case, the
다리부 형성층(30)은 본체부(20)에 대하여 접착되어 있다.The
다리부 형성층(30)은 본체부(20)보다도 약간 작은 평판상, 또는 본체부(20) 와 거의 동일한 크기를 갖는 평판상을 하고 있다(각 도에 있어서는 거의 동일한 크기의 경우가 도시되어 있다).The
다리부 형성층(30)에는 복수의 개구부[관통 구멍 대응 개구부(32)]가 형성되어 있다. 각 관통 구멍 대응 개구부(32)는 본체부(20)의 각 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)에 대응해서 형성되어 있다. 각 관통 구멍 대응 개구부(32)는 각 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)보다도 크게 형성되어 있다.A plurality of openings (opening holes corresponding openings 32) are formed in the
이에 따라, 다리부 형성층(30) 중 관통 구멍 대응 개구부(32) 이외의 부분이 본체부(20)(이 도전성 볼 배치용 마스크)에 있어서의 다리부(31)가 되는 것이다.As a result, portions of the
이어서, 이 도전성 볼 배치용 마스크의 제조 방법에 대해서 도 4 및 도 5에 의거해서 설명한다.Next, the manufacturing method of this mask for electroconductive ball placement is demonstrated based on FIG. 4 and FIG.
도 4(a)에 도시된 바와 같이, 우선, 스크린(10) 및 본체부(20)가 준비되고, 본체부(20)가 스크린(10)에 대하여 접착제[접착제층(28)]에 의해 접착(고정)된다.As shown in Fig. 4A, first, the
당초는 스크린(10)에는 본체부 대응 개구부(15)(도 3 등 참조)는 형성되어 있지 않다. 스크린(10)은 그 2차원의 양방향으로 인장된 상태에서 프레임(12)에 대하여 부착되어 있다. 이에 따라, 스크린(10)에는 그 2차원의 양방향으로 소정의 장력이 존재하고 있다.Initially, the main body part corresponding opening part 15 (refer FIG. 3 etc.) is not formed in the
이어서, 동 도 4(a)에 도시된 바와 같이, 스크린(10)에 본체부 대응 개구부(15)가 형성된다. 즉, 스크린(10) 중 본체부(20)의 내측[정확하게는 그 접착제층(28)의 내측]에 대응하는 부분이 제거되고, 그 부분에 본체부 대응 개구부(15)가 형성된다(도 1도 참조).Subsequently, as shown in FIG. 4A, a main body
이에 따라, 본체부(20)에 그 2차원의 양방향으로 장력이 발생하고, 본체부(20)가 일평면상으로 된다.As a result, tension is generated in the
또한, 본체부(20)에는 미리 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)]이 형성되어 있어도 좋고, 본체부(20)가 스크린(10)에 대하여 부착되고, 스크린(10)에 본체부 대응 개구부(15)가 형성된 후에 본체부(20)에 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)]이 형성되어도 좋다.In addition, the
또한, 「본체부(20)가 스크린(10)에 대하여 부착되고, 스크린(10)에 본체부 대응 개구부(15)가 형성된 후에 본체부(20)에 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)]이 형성되는」 경우로서 본체부(20)가 스크린(10)에 대하여 부착되고, 스크린(10)에 본체부 대응 개구부(15)가 형성된 후로서, 본체부(20)에 대하여 다리부 형성층(30)이 형성되기 전에 본체부(20)에 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)]이 형성되어도 좋고, 동 본체부(20)가 스크린(10)에 대하여 부착되고, 스크린(10)에 본체부 대응 개구부(15)가 형성된 후로서 본체부(20)에 대하여 다리부 형성층(30)이 형성된 후에 본체부(20)에 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)]이 형성되어도 좋다.In addition, after the
이후, 도 4(a)∼도 4(e)의 단계에 있어서, 본체부(20)[스크린(10)을 수반함] 및 거기에 각종 층이 배치된 상태의 것은 완성후(사용시)의 도전성 볼 배치용 마스크[도 1∼도 3, 도 4(f)]와는 상하 반전된 상태로 된다.Subsequently, in the steps of Figs. 4A to 4E, the main body portion 20 (with the screen 10) and the various layers disposed thereon have a conductivity after completion (in use). It is in a state inverted up and down with the ball arrangement mask (FIGS. 1-3, 4F).
이어서, 도 4(b)에 도시된 바와 같이, 본체부(20)의 상면(사용시에 있어서의 하면)에는 다음과 같이 유동성을 갖는 상태(페이스트상)의 광경화성 수지재(45)가 도포되고, 그것이 건조됨으로써 광경화성 수지재층(40)이 형성된다. 이 단계가 광경화성 수지재 도포 단계이다.Subsequently, as shown in FIG. 4 (b), the
광경화성 수지재(45)는 물, (폴리)초산 비닐, (폴리)비닐 알콜을 주성분으로서 포함함과 아울러 감광제를 포함하고 있다. 이에 따라, 광(이 경우, 자외선)의 조사를 받음으로써 공중합되고, 경화되는(즉, 수지경화체가 됨) 성질을 갖고 있다.The
광경화성 수지재(45) 중 물과 (폴리)초산 비닐과 (폴리)비닐 알콜의 성분 배합(질량)의 바람직한 예로서는 60∼65:20∼25:10∼15가 있다.In a
또한, 다른 실시형태로서 광경화성 수지재(45)가 물, (폴리)초산 비닐을 주성분으로서 포함함과 아울러 감광제를 포함하고 있는 실시형태도 있다. 이 실시형태에 있어서도, 광(이 경우, 자외선)의 조사를 받음으로써 중합되고, 경화되는(즉, 수지경화체가 됨) 성질을 갖고 있다.Moreover, as another embodiment, there exist also embodiment in which the
이 실시형태에 있어서, 광경화성 수지재(45) 중 물과 (폴리)초산 비닐의 성분 배합(질량)의 바람직한 예로서는 60∼65:35∼40이 있다.In this embodiment, as a preferable example of the component mix (mass) of water and a (poly) vinyl acetate in the
도 5에 도시된 바와 같이, 광경화성 수지재(45)의 도포를 위해 한쌍의 도포 안내구(48) 및 균일화 도구(49)가 사용된다.As shown in FIG. 5, a pair of application guides 48 and a
각 도포 안내구(48)는 대판상(帶板狀)을 하고 있다. 각 도포 안내구(48)는 직사각형 또는 정사각형의 본체부(20)의 서로 대향하는 한쌍의 변부 근방에 배치된다. 각 도포 안내구(48)는 해당 변부를 따르도록 해서 평행하게 배치된다.Each
양 도포 안내구(48)는 그 길이 방향을 따라 동일한 높이를 갖고 있다. 즉, 각 도포 안내구(48)는 어느쪽의 길이 위치에 있어서도 동일 높이를 가짐과 아울러 그것이 양 도포 안내구(48)에 있어서 동일한 높이이다.Both application guides 48 have the same height along the longitudinal direction. That is, each
균일화 도구(49)는 양 도포 안내구(48) 사이의 거리 이상의 길이를 갖는 봉상을 하고 있다. 단면 형상은 원형상이어도 사각 형상이어도 좋다.The homogenizing
본체부(20)의 상면에 있어서의 양 도포 안내구(48) 사이의 부분에 유동성을 갖는 상태의 광경화성 수지재(45)가 공급된다.The
그리고, 균일화 도구(49)가 양 도포 안내구(48)의 상면 사이에 걸쳐 배치되고, 균일화 도구(49)가 양 도포 안내구(48)의 일단부로부터 타단부를 향해서 길이 방향을 따라 이동[양 도포 안내구(48)에 대하여 슬라이딩]됨으로써 광경화성 수지재(45)가 균일하게 된다. 즉, 광경화성 수지재(45)가 균등한 두께로 도포되게 된다.Then, the uniforming
이에 따라, 도 4(b)에 도시된 바와 같이, 본체부(20)의 상면에 균등한 두께의 광경화성 수지재층(40)이 형성된다.As a result, as shown in FIG. 4B, the photocurable
또한, 상술한 바와 같이, 본체부(20)의 상면에 광경화성 수지제(45)가 도포 되기 전의 어느 타이밍에 있어서, 본체부(20)의 하면에 임시로 시트재(도시 생략)가 부착된다[그리고, 광경화성 수지재층(40)이 형성된 후이며, 후술하는 바와 같이, 포토마스크 제거체가 물속에 침지되기 전의 어느 타이밍에 있어서, 그 시트재는 본체부(20)로부터 제거된다].In addition, as described above, a sheet material (not shown) is temporarily attached to the lower surface of the
이에 따라, 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)으로부터의 공기의 빠져나갈 장소 가 없어지고, 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)내에 광경화성 수지재(45)가 들어가는 것이 방지된다. 또한, 임시로 광경화성 수지재(45)가 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)내에 들어갔을 경우에도, 후술하는 바와 같이, 포토마스크 제거체가 물속에 침지되는 단계에 있어서 그 광경화성 수지재(45)가 제거된다.As a result, there is no place for the air from the conductive ball receiving through
이어서, 도 4(c)에 도시된 바와 같이, 광경화성 수지재층(40)상에 포토마스크(50)가 배치되어 포토마스크(50) 배치체(부호 생략)가 형성된다. 이 단계가 포토마스크(50) 배치 단계이다.Subsequently, as shown in FIG.4 (c), the
포토마스크(50)는 양 도포 안내구(48)(도 5)의 상면 사이에 걸쳐 배치되도록 놓임으로써 광경화성 수지재층(40) 상에 배치된다.The
도 4(c)∼도 4(f)에 도시된 바와 같이, 포토마스크(50)[도 4(c)] 중 다리부 형성층(30)의 다리부(31)[도 4(f)]에 대응하는 부분이 광투과부(51)이며, 그 이외의 부분이 광투과 저지부(52)이다. 광투과부(51)는 광(자외선)의 투과를 허용한다. 광투과 저지부(52)는 광(자외선)의 투과를 저지한다.As shown in Figs. 4 (c) to 4 (f), the leg portions 31 (Fig. 4 (f)) of the
또한, 본체부(20) 및 포토마스크(50) 중 각각 서로 대응하는 위치에 복수의 위치 결정용 표식(도시 생략)이 설치되어 있고, 이들 각 위치 결정용 표식끼리가 합치되도록 포토마스크(50)가 광경화성 수지재층(40) 상에 배치된다.In addition, a plurality of positioning marks (not shown) are provided at positions corresponding to each other among the
이어서, 동 도 4(c)에 도시된 바와 같이, 그 포토마스크 배치체에 대하여 포토마스크(50)의 측으로부터 광이 조사된다. 이 단계가 광조사 단계이다.Subsequently, as shown in FIG. 4C, light is irradiated from the side of the
이에 따라, 포토마스크(50) 중 광투과부(51)를 광이 투과하고, 광경화성 수지재층(40) 중 광투과부(51)에 대응하는 부분에 광이 도달하고, 도 4(d)에 도시된 바와 같이, 그 부분이 경화됨과 아울러 본체부(20)에 대하여 강고하게 고착된다. 이에 따라, 다리부(31)가 형성된다.As a result, light passes through the
한편, 광경화성 수지재층(40) 중 광투과 저지부(52)에 대응하는 부분에는 광이 도달되지 않고, 그 부분은 경화되지 않는다. 이것을 미경화 부분(42)이라고 한다.On the other hand, light does not reach the part of the photocurable
이어서, 도 4(e)에 도시된 바와 같이, 상술한 포토마스크 배치체[도 4(d)]로부터 포토마스크(50)가 분리되어(제거되어), 본체부(20) 및 광경화성 수지재층(40)[다리부(31) 및 미경화 부분(42)]의 포토마스크 제거체(부호 생략)가 형성된다[도 4(e)]. 이 단계가 포토마스크 제거 단계이다.Subsequently, as shown in FIG. 4E, the
이어서, 그 포토마스크 제거체[도 4(e)]는 물속에 침지된다.Subsequently, the photomask remover (FIG. 4E) is immersed in water.
이에 따라, 도 4(f)에 도시된 바와 같이, 광경화성 수지재층(40) 중 미경화 부분(42)이 용해되어 관통 구멍 대응 개구부(32)가 형성된다. 이 단계가 광경화성 수지재층 미경화 부분 제거 단계이다.Thereby, as shown in FIG.4 (f), the
이에 따라, 다리부 형성층(30)이 형성된다.As a result, the
이상과 같이 해서 전술한 도전성 볼 배치용 마스크가 제조되는 것이다.The mask for electroconductive ball arrangement mentioned above is manufactured as mentioned above.
또한, 본체부(20)에 대하여 다리부 형성층(30)이 형성된 후에 본체부(20)가 스크린(10)에 대하여 부착되고, 스크린(10)에 본체부 대응 개구부(15)가 형성되어도 좋다.In addition, after the
그 때에 있어서도, 본체부(20)에 대하여 다리부 형성층(30)이 형성되기 전에 본체부(20)에 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합 체(22)]이 형성되어도 좋고, 본체부(20)에 대하여 다리부 형성층(30)이 형성된 후에 본체부(20)에 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)[도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)]이 형성되어도 좋다.Also at this time, even if the conductive ball receiving through hole 23 (conductive ball receiving through-hole assembly 22) is formed in the
이어서, 이 도전성 볼 배치용 마스크의 사용 방법에 대해서 설명한다.Next, the method of using this mask for electroconductive ball placement is demonstrated.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 이 도전성 볼 배치용 마스크는 베이스 집합체(100)[베이스(102)]에 대하여 다리부(31)(도 2)에 있어서 배치되어 세팅된다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, this conductive ball arrangement mask is arranged and set in the leg portion 31 (FIG. 2) with respect to the base assembly 100 (base 102).
이에 따라, 이 도전성 볼 배치용 마스크가 베이스 집합체(100)[베이스(102)]에 대해서 포개져서 세팅된 상태에서 이 도전성 볼 배치용 마스크 중 주요 부분[즉, 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)가 형성되어 있는 부분]은 베이스 집합체(100)[베이스(102)]에 대하여 접촉하지 않고, 양자간에는 간극이 발생한다.Accordingly, in the state where the mask for conductive ball placement is superimposed with respect to the base assembly 100 (base 102), the main part of the mask for conductive ball placement (that is, conductive ball accommodation through-hole assembly 22) is set. Where the portion is formed is not in contact with the base assembly 100 (base 102), and a gap is generated between them.
그 상태에서 이 도전성 볼 배치용 마스크의 상면에 다수의 땜납 볼(B)(도전성 볼)이 공급된다. 그리고, 이들 땜납 볼(B)이 브러시 또는 스퀴지(squeegee) 등에 의해 이동됨으로써 각 도전성 볼 수용 관통 구멍(23)에 땜납 볼(B)이 수용되어 베이스(102)에 설치된 각 전극(103)에 대하여 땜납 볼(B)이 배치된다. 각 전극(103)에는 미리 플럭스(접착성을 가짐)가 부착되어 있고, 그 플럭스에 의해 땜납 볼(B)은 전극(103)에 대하여 임시로 접착된다.In this state, a plurality of solder balls B (conductive balls) are supplied to the upper surface of the mask for placing conductive balls. Then, the solder balls B are moved by a brush, a squeegee, or the like, so that the solder balls B are accommodated in the conductive ball receiving through-
그 후, 베이스 집합체(100)[베이스(102)]로부터 이 도전성 볼 배치용 마스크가 제거되어 온풍에 의해 베이스 집합체(100)[베이스(102)]와 함께 땜납 볼(B)이 가열된다. 이에 따라, 땜납 볼(B)이 용해된다.Thereafter, the mask for placing the conductive balls is removed from the base assembly 100 (base 102), and the solder ball B is heated together with the base assembly 100 (base 102) by warm air. As a result, the solder balls B are dissolved.
그 후에, 베이스 집합체(100)[베이스(102)]와 함께 그 땜납[땜납 볼(B)]이 냉각됨으로써 그 땜납[땜납 볼(B)]이 고화된다.Thereafter, the solder (solder ball B) is cooled together with the base assembly 100 (base 102) to solidify the solder (solder ball B).
이에 따라, 그 땜납[땜납 볼(B)]이 전극(103)에 있어서의 접속 단자가 된다.As a result, the solder (solder ball B) becomes a connection terminal in the
이어서, 이 도전성 볼 배치용 마스크의 작용 효과에 대해서 설명한다.Next, the effect of this mask for electroconductive ball arrangement is demonstrated.
이 도전성 볼 배치용 마스크에서는, 도 2 및 도 3 등에 의거해서 전술한 바와 같이, 다리부 형성층(30)에 의해 다리부(31)가 형성되어 있는 것이지만 그 다리부 형성층(30)[다리부(31)]은 초산 비닐 및 비닐 알콜의 공중합체를 주성분으로 하는 합성 수지(또는 초산 비닐의 중합체를 주성분으로 하는 합성 수지)에 의해 형성되어 있고, 유기 용제에 대한 내성을 갖고 있다.In the mask for conductive ball placement, the
여기서, 전술한 바와 같이, 전극(103)에 미리 부착된 플럭스가 도전성 볼 배치용 마스크에 부착되었을 경우는 그것을 유기 용제로 제거할 필요가 있다.Here, as mentioned above, when the flux previously attached to the
그러나, 상술한 바와 같이, 다리부 형성층(30)[다리부(31)]의 재질은 유기 용제에 대한 내성을 갖고 있기 때문에 이 도전성 볼 배치용 마스크는 장기간에 걸쳐 사용되어 얻어진 것이다.However, as mentioned above, since the material of the leg part forming layer 30 (leg part 31) has the tolerance with respect to the organic solvent, this mask for electroconductive ball arrangement is obtained by using for a long time.
또한, 이 도전성 볼 배치용 마스크의 다리부(31)[다리부 형성층(30)]는 전술한 바와 같이 하여 제조된다.In addition, the leg part 31 (leg part forming layer 30) of this mask for electroconductive ball placement is manufactured as mentioned above.
즉, 유동성을 갖는 상태의 감광성 수지재(45)가 균일화 도구(49)에 의해 균일하게 된 후에 그 감광성 수지층(40)의 일부가 광(자외선)의 조사를 받아서 경화됨으로써 형성된다.That is, after the
이에 따라, 이 도전성 볼 배치용 마스크의 다리부 형성층(30)의 두께는 균일해서 모든 다리부(31)는 동일한 높이를 갖고 있다.Thereby, the thickness of the leg
이에 따라, 이 도전성 볼 배치용 마스크는 베이스 집합체(100)[베이스(102)]에 안정적으로 배치(세팅)된다.Thereby, this conductive ball arrangement | positioning mask is stably arrange | positioned (setting) in the base assembly 100 (base 102).
이와 아울러, 본체부(20)의 두께가 균일한 것을 전제로 이 도전성 볼 배치용 마스크의 높이가 균일하게 된다.In addition, on the premise that the thickness of the
이에 따라, 이 도전성 볼 배치용 마스크에서는 원활하게 땜납 볼(B)을 소정 위치에 배치할 수 있는 것이다.Thereby, the solder ball B can be arrange | positioned smoothly in a predetermined position in this mask for a conductive ball arrangement | positioning.
또한, 상기의 것은 어디까지나 본 발명의 제 1 실시형태에 지나지 않고, 당업자의 지식에 의거해서 다양한 변경을 가한 실시형태로 본 발명을 실시할 수 있는 것은 물론이다.It goes without saying that the above is only the first embodiment of the present invention, and the present invention can be implemented in the embodiment to which various changes are made based on the knowledge of those skilled in the art.
예를 들면, 본체부(20)에는 1개의 도전성 볼 수용 관통 구멍 집합체(22)가 형성되어 있는 실시형태도 있다. 그 경우는 그 도전성 볼 배치용 마스크가 나중에 분할되지 않는 베이스에 대하여 사용된다.For example, there is also an embodiment in which one conductive ball receiving through-
도 1은 본 발명의 제 1 실시형태의 도전성 볼 배치용 마스크 및 그 사용 방법을 나타낸 사시도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The perspective view which showed the mask for electroconductive ball arrangement | positioning of the 1st Embodiment of this invention, and its use method.
도 2는 본 발명의 제 1 실시형태의 도전성 볼 배치용 마스크를 나타낸 종단면도이다.It is a longitudinal cross-sectional view which shows the mask for electroconductive ball arrangement of 1st Embodiment of this invention.
도 3은 본 발명의 제 1 실시형태의 도전성 볼 배치용 마스크를 나타낸 분해 사시도이다.It is an exploded perspective view which shows the mask for electroconductive ball arrangement of 1st Embodiment of this invention.
도 4는 본 발명의 제 1 실시형태의 도전성 볼 배치용 마스크의 제조 방법을 나타낸 종단면도이다.It is a longitudinal cross-sectional view which shows the manufacturing method of the mask for electroconductive ball placement of 1st Embodiment of this invention.
도 5는 본 발명의 제 1 실시형태의 도전성 볼 배치용 마스크의 제조 방법의 일단계를 나타낸 사시도이다.5 is a perspective view showing one step of the method of manufacturing a mask for conductive ball placement according to the first embodiment of the present invention.
[부호의 설명][Description of the code]
20 : 본체부 23 : 도전성 볼 수용 관통 구멍20: main body 23: conductive ball receiving through hole
30 : 다리부 형성층 31 : 다리부30: leg forming layer 31: leg
32 : 관통 구멍 대응 개구부 40 : 광경화 수지재층32 through
42 : 미경화 부분 45 : 광경화 수지재42: uncured portion 45: photo-curing resin material
48 : 도포 안내구 49 : 균일화 도구48: application guide 49: homogenizing tool
50 : 포토마스크 51 : 광투과부50: photomask 51: light transmission unit
52 : 광투과 저지부 102 : 베이스52: light transmission block 102: base
B : 땜납 볼(도전성 볼)B: solder ball (conductive ball)
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