KR100645646B1 - Method for manufacturing printed circuit board using imprinting process - Google Patents
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Abstract
본 발명은 경화촉진이형제를 금형에 도포한 후, 금형을 반경화 수지에 전사함으로써, 금형과 반경화 수지간의 이형을 용이하게 하고, 반경화 수지의 경화를 촉진시키기 위한 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention is a printed circuit using an imprint method for applying a curing accelerator release agent to a mold, and then transfer the mold to the semi-cured resin to facilitate the release between the mold and the semi-cured resin, and to promote the curing of the semi-cured resin It relates to a method for manufacturing a substrate.
인쇄회로기판, 임프린트, 이형, 경화촉진, 금형 Printed circuit board, imprint, mold release, hardening promotion, mold
Description
도 1a 내지 도 1e는 종래의 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.1A to 1E are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using a conventional imprint method.
도 2a 내지 도 2e는 종래의 다른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.2A to 2E are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using another conventional imprint method.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름도이다.3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method according to an embodiment of the present invention.
도 5는 도 4c에 원형의 점선으로 표시된 부분(B)의 부분 확대도이다.FIG. 5 is a partially enlarged view of the portion B indicated by the dotted dotted line in FIG. 4C.
본 발명은 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 경화촉진이형제를 금형에 도포한 후, 금형을 반경화 수지에 전사함으로써, 금형과 반경화 수지간의 이형을 용이하게 하고 반경화 수지의 경화를 촉진시키기 위한 임프린트법 을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board, and more particularly, by applying a curing accelerator release agent to a mold, and then transferring the mold to a semi-cured resin, thereby facilitating release between the mold and the semi-cured resin and semi-curing. It relates to a method for manufacturing a printed circuit board using an imprint method for promoting the curing of the resin.
최근 반도체 칩의 고밀도화 및 신호전달속도의 고속화에 대응하기 위한 기술로서, CSP(Chip-Sized Package) 실장 또는 와이어 본딩(wire bonding) 실장을 대신하여 반도체 칩을 인쇄회로기판에 직접 실장하는 기술에 대한 요구가 커지고 있다. 인쇄회로기판에 반도체 칩을 직접 실장하기 위하여, 반도체의 고밀도화에 대응할 수 있는 고밀도 및 고신뢰성의 인쇄회로기판 개발이 필요하다.As a technology to cope with high density of semiconductor chips and high signal transmission speed, a technology for directly mounting a semiconductor chip on a printed circuit board instead of CSP (Chip-Sized Package) or wire bonding is described. The demand is growing. In order to directly mount a semiconductor chip on a printed circuit board, it is necessary to develop a high density and high reliability printed circuit board capable of coping with a higher density of semiconductors.
고밀도 및 고신뢰성의 인쇄회로기판에 대한 요구사양은 반도체 칩의 사양과 밀접하게 연관되어 있으며, 회로의 미세화, 고도의 전기특성, 고속신호전달구조, 고신뢰성, 고기능성 등 많은 과제가 있다. 이러한 요구사양에 대응한 미세 회로패턴 및 마이크로 비아홀을 형성할 수 있는 인쇄회로기판 기술이 요구되고 있다.The requirements for high density and high reliability printed circuit boards are closely related to the specifications of semiconductor chips, and there are many problems such as miniaturization of circuits, high electrical characteristics, high speed signal transmission structure, high reliability, and high functionality. There is a need for a printed circuit board technology capable of forming a fine circuit pattern and a micro via hole corresponding to the requirements.
통상적으로, 인쇄회로기판의 제조방법은 높은 생산성과 저렴한 제조비용의 장점이 있는 포토 리소그래피법(photo-lithography process)을 이용하고 있다. 포토 리소그래피법은 포토 레지스트(photo-resist)를 기판상에 일정한 두께로 도포하는 과정, 특정부분을 노광 및 현상을 수행하는 과정, 도금 공정을 통해 전도성 물질을 충진하는 과정, 잔여 포토 레지스트를 박리하는 과정, 및 에칭공정을 이용하여 무전해 도금된 전도성 물질을 제거하는 과정 등을 통하여 인쇄회로기판상에 미세 회로패턴을 형성하였다.In general, a method of manufacturing a printed circuit board uses a photo-lithography process having advantages of high productivity and low manufacturing cost. Photolithography is a process of applying photoresist on a substrate to a certain thickness, exposing and developing a specific portion, filling a conductive material through a plating process, and exfoliating residual photoresist. A microcircuit pattern was formed on the printed circuit board through a process and a process of removing the electroless plated conductive material by using an etching process.
그러나, 종래의 포토 리소그래피법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 회로패턴의 폭 및 회로패턴간의 간격인 L/S(Line/Space)를 10㎛/10㎛ 이하로 제조하는 경우 두 가지 심각한 문제점이 발생하였다.However, the conventional method of manufacturing a printed circuit board using the photolithography method has two serious problems when manufacturing L / S (Line / Space), which is a width of a circuit pattern and an interval between circuit patterns, to 10 μm / 10 μm or less. Occurred.
첫 번째로, 종래의 포토 리소그래피법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 L/S가 10㎛/10㎛ 이하로 제조하는 과정에서 포토 레지스트와 기판간의 경계면에서 접착력의 한계가 발생하는 문제점이 있었다.First, the conventional method of manufacturing a printed circuit board using the photolithography method has a problem in that the adhesion force is generated at the interface between the photoresist and the substrate in the process of manufacturing L / S to 10 μm / 10 μm or less.
두 번째로, 종래의 포토 리소그래피법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 무전해 도금된 전도성 물질을 제거하는 과정에서 회로패턴 부분의 언더컷(undercut)이 발생하기 때문에, 형성된 미세 회로패턴이 단선 또는 디라미네이션(delimination)되는 문제점이 있었다.Second, in the conventional method of manufacturing a printed circuit board using photolithography, an undercut of the circuit pattern portion occurs in the process of removing the electroless plated conductive material, so that the formed fine circuit pattern is disconnected or depressed. There was a problem of lamination.
이러한 문제점을 극복하기 위하여, 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법이 제안되었으며, 임프린프법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 열경화재료를 이용하는 핫 엠보싱(hot embosssing) 방식 및 광경화재료를 이용하는 UV(Ultra Violet) 방식 등이 있다.In order to overcome this problem, a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method has been proposed, and a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method includes a hot embossing method using a thermosetting material and a photocurable material. UV (Ultra Violet) to be used.
도 1a 내지 도 1e는 종래의 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도로서, 핫 엠보싱 방식의 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법이다.1A to 1E are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using a conventional imprint method, and a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method using a hot embossing method.
도 1a에서와 같이, 미세한 회로패턴이 네거티브(nagative) 형태로 형성된 금형(11)과 열경화재료(12)가 도포된 기판(13)을 정렬시킨다.As shown in FIG. 1A, the
도 1b에서와 같이, 기판(13)의 열경화재료(12)에 금형(11)을 전사시킴과 동시에, 열을 가함으로써 열경화재료(12)를 경화시킨다.As shown in FIG. 1B, the
도 1c에서와 같이, 열경화재료(12)로부터 금형(11)을 분리시킴으로써, 열경화재료(12)에 회로패턴의 홈(a)을 형성한다.As shown in FIG. 1C, the
도 1d에서와 같이, 동도금 공정을 수행하여 열경화재료(12) 및 회로패턴의 홈(a)에 동도금층(14)을 형성한다.As shown in FIG. 1D, a copper plating process is performed to form the
도 1e에서와 같이, 열경화재료(12)가 노출될 때까지, 동도금층(14)이 형성된 표면을 연마함으로써, 회로패턴(15)이 형성된 인쇄회로기판(10)을 제조한다.As shown in FIG. 1E, the printed
한편, 도 2a 내지 도 2e는 종래의 다른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도로서, UV 방식의 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법이다.2A to 2E are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using another conventional imprint method, and a method of manufacturing a printed circuit board using an UV imprint method.
도 2a에서와 같이, 미세한 회로패턴이 네거티브 형태로 형성된 투명한 금형(21)과 광경화재료(22)가 도포된 기판(23)을 정렬시킨다.As shown in FIG. 2A, the
도 2b에서와 같이, 기판(23)의 광경화재료(22)에 투명한 금형(21)을 전사시킴과 동시에, 자외선(24)을 조사함으로써 광경화재료(22)를 경화시킨다.As shown in FIG. 2B, the
도 2c에서와 같이, 광경화재료(22)로부터 투명한 금형(21)을 분리시킴으로써, 광경화재료(22)에 회로패턴의 홈(b)을 형성한다.As shown in FIG. 2C, the
도 2d에서와 같이, 동도금 공정을 수행하여 광경화재료(22) 및 회로패턴의 홈(b)에 동도금층(25)을 형성한다.As shown in FIG. 2D, a copper plating process is performed to form the
도 2e에서와 같이, 광경화재료(22)가 노출될 때까지, 동도금층(25)이 형성된 표면을 연마함으로써, 회로패턴(26)이 형성된 인쇄회로기판(20)을 제조한다.As shown in FIG. 2E, the printed
상술한 종래의 핫 엠보싱 방식 또는 UV 방식의 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법들 모두 네거티브 형태로 회로패턴이 형성된 금형을 이용하여 L/S가 10㎛/10㎛인 인쇄회로기판을 제조할 수 있었다.All of the manufacturing methods of the printed circuit board using the conventional hot embossing method or the UV method imprint method described above can produce a printed circuit board having a L / S of 10 μm / 10 μm using a mold having a circuit pattern formed in a negative shape. Could.
그러나, 종래의 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 도 1c 또는 도 2c에 도시된 금형(11, 21)을 분리시키는 이형 과정에서 금형(11, 21)과 열경화재료(22) 또는 광경화재료(23)간에 접착현상이 발생하기 때문에, 열경화재료(22) 또는 광경화재료(23)에 전사된 회로패턴의 홈(a, b)이 손상되기 쉽고, 설계된 미세 회로패턴(15, 26)을 형성하기 어려운 문제점이 있었다.However, in the conventional method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method, the
상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 기술적 과제는 이형 과정에서 금형과 열경화재료 또는 광경화재료간의 접착현상을 방지하기 위한 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method for preventing adhesion between a mold and a thermosetting material or a photocuring material in a releasing process.
본 발명의 다른 기술적 과제는 열경화재료 또는 광경화재료 등의 반경화 수지의 경화를 촉진시켜 경화시간을 단축시키기 위한 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는 것이다.Another technical problem of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board using an imprint method for promoting curing of semi-cured resin such as thermosetting material or photocuring material to shorten the curing time.
상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 (A) 회로패턴에 대응하는 패턴이 형성되어 있고 이형제와 경화촉진제를 포함하는 경화촉진이형제가 도포된 금형과, 반경화 수지가 도포된 베이스 기판을 정렬시키는 단계; (B) 상기 반경화 수지에 상기 금형을 전사시키고, 상기 반경화 수지를 경화시키는 단계; (C) 상기 (B) 단계에서 경화된 수지로부터 상기 금형을 분리시킴으로써, 상기 수지에 회로패턴의 홈을 형성하는 단계; (D) 상기 수지 및 상기 회로패턴의 홈 내부에 무전해 도금층을 형성하는 단계; (E) 상기 무전해 도금층에 전해 도금층을 형성하는 단계; 및 (F) 상기 수지가 노출될 때까지, 상기 무전해 도금층 및 상기 전해 도금층을 연마하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above technical problem, the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention (A) a pattern corresponding to the circuit pattern is formed and a curing accelerator releasing agent comprising a release agent and a curing accelerator is applied Aligning the mold with the base substrate to which the semi-cured resin is applied; (B) transferring the mold to the semi-cured resin and curing the semi-cured resin; (C) forming a groove of a circuit pattern in the resin by separating the mold from the resin cured in the step (B); (D) forming an electroless plating layer in the groove of the resin and the circuit pattern; (E) forming an electrolytic plating layer on the electroless plating layer; And (F) polishing the electroless plating layer and the electrolytic plating layer until the resin is exposed.
바람직하게는, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 상기 (B) 단계의 상기 반경화 수지를 상기 금형에 전사시키는 과정과 상기 반경화 수지를 경화시키는 과정은 동시에 이루어지는 것이 바람직하다.Preferably, the step of transferring the semi-cured resin of step (B) of the step (B) of the method of manufacturing a printed circuit board using the imprint method according to the present invention and the curing of the semi-cured resin is carried out at the same time. Do.
바람직하게는, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 상기 (B) 단계의 상기 반경화 수지를 경화시키는 과정은 상기 금형에 도포된 경화촉진이형제의 경화촉진제가 상기 반경화 수지로 확산됨으로써, 상기 반경화 수지의 경화를 촉진시키는 과정을 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the step of curing the semi-cured resin of the step (B) of the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention is the curing accelerator of the curing accelerator releasing agent applied to the mold It is preferable to include the process of promoting hardening of the said semi-hardened resin by diffusing into resin.
바람직하게는, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 상기 이형제는 테프론(teflon) 계열 물질 및 실리콘 계열 물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질인 것이 바람직하다.Preferably, the release agent of the method of manufacturing a printed circuit board using the imprint method according to the present invention is preferably a material selected from the group consisting of a teflon-based material and a silicon-based material.
바람직하게는, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 상기 경화촉진제는 페놀(phenol) 계열 물질, 시안에스터(cyanate ester) 계열 물질, 아민(amine) 계열 물질 및 이미다졸(imidazole) 계열 물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질인 것이 바람직하다.Preferably, the curing accelerator of the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention, a phenol-based material, cyanate ester-based material, amine-based material and imidazole It is preferable that the material is selected from the group consisting of) -based materials.
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a manufacturing method of a printed circuit board using the imprint method according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제 조방법의 흐름도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이며, 도 5는 도 4c에 원형의 점선으로 표시된 부분(B)의 부분 확대도이다. 여기서 각각의 도면에 관하여, 인쇄회로기판의 일면이 도시되어 있으나, 실질적으로 인쇄회로기판의 양면에 대하여 수행될 수 있다.3 is a flowchart of a method of manufacturing a printed circuit board using the imprint method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a flow chart illustrating a method of manufacturing a printed circuit board using the imprint method according to an embodiment of the present invention. 5 is a partially enlarged view of a portion B indicated by a circular dotted line in FIG. 4C. Here, with respect to each drawing, one side of the printed circuit board is shown, but may be substantially performed on both sides of the printed circuit board.
도 3에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 금형(tool foil)에 경화촉진이형제 도포 단계(S110), 금형 및 베이스 기판 정렬 단계(S120), 베이스 기판의 반경화 수지에 금형 전사 및 반경화 수지 경화 단계(S130), 금형 분리 단계(S140), 무전해 동도금층 형성 단계(S150), 전해 동도금층 형성 단계(S160) 및 표면 연마 단계(S170)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 3, the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention includes applying a curing accelerator release agent to a tool foil (S110), arranging a mold and a base substrate (S120), and a base substrate. Mold transfer and semi-cured resin curing step (S130), mold separation step (S140), electroless copper plating layer forming step (S150), electrolytic copper plating layer forming step (S160) and surface polishing step (S170) It is made to include.
보다 상세하게 살펴보면, 도 4a에서와 같이, 네거티브(negative) 형태의 회로패턴이 형성된 금형(110)에 이형제(121)와 경화촉진제(122)가 소정의 비율로 혼합된 경화촉진이형제(120)를 스핀 코팅(spin coating), 딥 코팅(dip coating), 스프레이(spray) 등을 이용하여 도포한다(S110).In more detail, as shown in FIG. 4A, the curing
여기서 금형(110)은 SiO2, 석영(quartz), 유리, 폴리머(polymer) 등의 투명한 재질의 금형(110)을 사용할 수 있고, 반도체 물질, 세라믹, 금속, 폴리머 등의 불투명한 재질의 금형(110)도 사용할 수 있다.The
이러한 금형(110)의 제작방법은 판재(plate) 형태의 소재 한쪽 표면을 가공하여 네거티브 형태의 회로패턴을 제작할 수 있다. 여기서 판재 형태의 소재 한쪽 표면을 가공하는 방법은 전자빔 리소그래피(electron beam lithography), 포토 리소그래피(photo-lithography), 다이싱(dicing), 레이저, RIE(Reactive Ion Etching) 등이 이용될 수 있다.In the method of manufacturing the
다른 방법으로, 금형(110)의 제작방법은 별개의 회로패턴들을 각각 제작하여 판재 형태의 소재에 부착하여 네거티브 형태의 회로패턴을 제작할 수도 있다.Alternatively, the manufacturing method of the
한편, 경화촉진이형제(120)의 이형제(121)는 테프론(teflon) 계열 물질 또는 실리콘 계열 물질 등을 사용할 수 있고, 경화촉진이형제(120)의 경화촉진제(122)는 페놀(phenol) 계열 물질, 시안에스터(cyanate ester) 계열 물질, 아민(amine) 계열 물질 또는 이미다졸(imidazole) 계열 물질 등을 사용할 수 있다.Meanwhile, the
도 4b에서와 같이, 경화촉진이형제(120)가 도포된 금형(110)과 반경화 수지(140)가 도포된 베이스 기판(130)을 정렬시킨다(S120).As shown in FIG. 4B, the
여기서 베이스 기판(130)은 도포되는 반경화 수지(140)를 지지하는 지지부재일 수 있고, 반경화 수지(140)가 도포되는 표면에 소정의 회로패턴이 형성되어 있는 기판일 수도 있다.The
또한, 반경화 수지(140)는 열 또는 빛(예를 들면, 자외선)에 경화되는 열가소성 수지, 모노머(monomer), 폴리머 등을 사용할 수 있다.In addition, the
도 4c 및 도 5에서와 같이, 베이스 기판(130)의 반경화 수지(140)에 네거티브 형태의 회로패턴이 형성된 금형(110)을 전사시키고, 금형(110) 및 반경화 수지(140)의 재질에 따라 열 또는 빛(150)(예를 들면, 자외선)을 가하여 반경화 수지(140)를 경화시킨다(S130).As shown in FIGS. 4C and 5, the
여기서 금형(110)에 도포된 경화촉진이형제(120)의 경화촉진제(122)가 반경화 수지(140)로 확산되어 반경화 수지(140)의 경화를 촉진시키므로, 반경화 수지(140)의 경화 시간을 단축시키게 된다.Here, since the curing
실시예에서, 열을 가하여 반경화 수지(140)를 경화시키는 경우, 금형(110)을 가열하여 반경화 수지(140)를 열경화시킬 수 있고, 금형(110)과 반경화 수지(140)가 도포된 베이스 기판(130) 모두를 가열하여 반경화 수지(140)를 열경화시킬 수도 있다.In an embodiment, when heat is applied to cure the
한편, 빛을 조사하여 반경화 수지(140)를 경화시키는 경우, SiO2, 석영, 유리, 폴리머 등의 투명한 재질의 금형(110) 또는 투명한 재질의 베이스 기판(130)을 통하여 자외선 등을 조사함으로써, 반경화 수지(140)를 광경화시킬 수 있다.On the other hand, when curing the
도 4d에서와 같이, 베이스 기판(130)의 경화된 수지(140)로부터 금형(110)을 분리시킴으로써, 경화된 수지(140)에 회로패턴의 홈(A)을 형성한다(S140).As shown in FIG. 4D, by separating the
여기서 금형(110)에 도포된 경화촉진이형제(120)의 이형제(121)가 경화된 수지(140)와 금형(110)간의 접착현상을 방지하므로, 경화된 수지(140)와 금형(110)간의 분리를 용이하다. 따라서, 베이스 기판(130)의 경화된 수지(140)에 형성된 회로패턴의 홈(A)이 손상되지 않는다.Here, since the
도 4e에서와 같이, 회로패턴을 형성하기 위하여, 경화된 수지(140) 및 회로패턴의 홈(A) 내부에 무전해 동도금층(160)을 형성한다(S150).As shown in FIG. 4E, in order to form a circuit pattern, an electroless
여기서 무전해 동도금층(160) 형성 공정은 탈지(cleanet) 과정, 소프트 부식 (soft etching) 과정, 예비 촉매처리(pre-catalyst) 과정, 촉매처리 과정, 활성화(accelerator) 과정, 무전해 동도금 과정 및 산화방지 처리 과정을 포함하는 촉매 석출 방식을 이용할 수 있다.The process of forming the electroless
다른 방법으로, 무전해 동도금층(160) 형성 공정은 플라즈마 등에 의하여 발생되는 기체의 이온 입자(예를 들면, Ar+)를 구리 타겟(copper target)에 충돌시킴으로써, 회로패턴의 홈(A)에 무전해 동도금층(160)을 형성하는 스퍼터링(sputtering) 방식를 이용할 수도 있다.Alternatively, the process of forming the electroless
도 4f에서와 같이, 회로패턴의 홈(A)에 전도성 물질을 충진하기 위하여, 무전해 동도금층(160)의 전면에 전해 동도금층(170)을 형성한다(S160).As shown in FIG. 4F, in order to fill the conductive material in the groove A of the circuit pattern, an electrolytic
여기서 전해 동도금층(170)을 형성하는 방법은 기판을 동도금 작업통에 침식시킨 후 직류 정류기를 이용하여 전해 동도금을 수행한다. 이러한 전해 동도금은 도금될 면적을 계산하여 직류 정류기에 적당한 전류를 동을 석출하는 방식을 사용하는 것이 바람직하다.Here, in the method of forming the electrolytic
전해 동도금 공정은 동도금층의 물리적 특성이 무전해 동도금층(160)보다 우수하고, 두꺼운 동도금층을 형성하기 용이한 장점이 있다.In the electrolytic copper plating process, the physical properties of the copper plating layer are superior to the electroless
이러한 전해 동도금층(170)을 형성하기 위한 동도금 인입선은 별도로 형성된 동도금 인입선을 사용할 수 있으나, 본 발명에 따른 바람직한 실시예에서, 전해 동도금층(170)을 형성하기 위한 동도금 인입선은 무전해 동도금층(160)을 사용하는 것이 바람직하다.The copper plating lead wire for forming the electrolytic
도 4g에서와 같이, 불필요한 동도금층을 제거하기 위하여, 경화된 수지(140)가 노출될 때까지 무전해 동도금층(160)과 전해 동도금층(170)으로 이루어진 동도금층 표면을 연마함으로써, 동도금으로 충진된 회로패턴(161, 171)을 형성한다(S170).As shown in Figure 4g, to remove the unnecessary copper plating layer, by polishing the surface of the copper plating layer consisting of the electroless
여기서 표면 연마 공정은 화학적인 반응작용 및 기계적인 연마를 통하여 표면을 연마하는 화학-기계적 연마(Chemical-Mechanical Polishing) 공정 등을 사용할 수 있다. 이 화학-기계적 연마 공정은 기판을 연마패드 표면과 접촉을 유지한 상태에서 연마액(slurry)을 공급함으로써, 기판 표면을 화학적으로 반응시키는 것과 동시에, 연마패드가 부착된 연마테이블과 기판을 고정시키는 연마헤드의 상대적인 운동을 통하여 물리적으로 기판 표면을 평탄화시킨다.Here, the surface polishing process may use a chemical-mechanical polishing process for polishing the surface through chemical reaction and mechanical polishing. This chemical-mechanical polishing process supplies a polishing slurry while keeping the substrate in contact with the surface of the polishing pad, thereby chemically reacting the surface of the substrate and simultaneously fixing the substrate with the polishing pad to which the polishing pad is attached. The relative movement of the polishing head physically flattens the substrate surface.
이후, 반경화 수지 도포 공정, 반경화 수지에 금형 전사 및 반경화 수지 경화 공정, 금형 분리 공정, 무전해 동도금층 형성 공정, 전해 동도금층 형성 공정 및 표면 연마 공정을 필요로 하는 층수만큼 반복 수행한다. 그 다음으로, 솔더 레지스트(solder resist) 형성 공정, 니켈/금도금 공정 및 외곽 형성 공정을 수행하면, 본 발명에 따른 인쇄회로기판(100)이 제조된다.Thereafter, a semi-cured resin coating process, a mold transfer and a semi-cured resin curing process, a mold separation process, an electroless copper plating layer forming process, an electrolytic copper plating layer forming process, and a surface polishing process are repeatedly performed on the semi-cured resin as many times as necessary. . Next, when the solder resist forming process, the nickel / gold plating process and the outer forming process are performed, the printed
한편, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판(100)의 제조방법에서, 동도금층은 순수한 동도금층에 한정되는 것이 아니고, 동을 주성분으로 하는 도금층을 의미한다. 이는 EDAX(Energy Dispersive Analysis of X-rays)와 같은 분석장비를 통하여 그 화학적 조성을 분석함으로써 확인할 수 있다.On the other hand, in the manufacturing method of the printed
또한, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판(100)의 제조방법에 서, 도금층은 동(Cu)에 한정되는 것이 아니고, 사용 목적 또는 용도에 따라 금(Au), 니켈(Ni), 주석(Sn) 등의 전도성 물질을 주성분으로 하는 도금층이 형성될 수도 있다.In addition, in the manufacturing method of the printed
이상에서 본 발명에 대하여 설명하였으나, 이는 일실시예에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 얼마든지 다양한 변화 및 변형이 가능함은 본 기술분야에서 통상적으로 숙련된 당업자에게 분명할 것이다. 하지만, 이러한 변화 및 변형이 본 발명의 범위 내에 속한다는 것은 이하 특허청구범위를 통하여 확인될 것이다.Although the present invention has been described above, this is only one embodiment, and it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. . However, it will be confirmed through the claims that such changes and modifications fall within the scope of the present invention.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 이형제가 금형에 도포되어 있어 이형 과정에서 수지와 금형간의 접착현상을 방지하므로, 수지와 금형간의 분리가 용이한 효과가 있다.As described above, in the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention, since a release agent is applied to a mold to prevent adhesion between the resin and the mold during the release process, separation between the resin and the mold is easy. have.
또한, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 이형 과정에서 수지와 금형간의 접착현상이 발생하지 않으므로, 수지의 패턴이 손상되지 않아 우수한 품질의 회로패턴을 제공할 수 있는 효과도 있다.In addition, the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention does not cause adhesion between the resin and the mold during the releasing process, so that the pattern of the resin is not damaged, thereby providing a circuit pattern of excellent quality. have.
또한, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 경화촉진제가 금형에 도포되어 있어 경화 과정에서 반경화 수지의 경화를 촉진시키므로, 반경화 수지의 경화 시간을 단축시킬 수 있는 효과도 있다.In addition, in the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention, since a curing accelerator is applied to a mold to promote curing of the semi-cured resin during the curing process, the curing time of the semi-cured resin can also be shortened. have.
또한, 본 발명에 따른 임프린트법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 금형을 반경화 수지에 전사함과 동시에 반경화 수지를 경화시키므로, 전체 공정 수가 감소하여 공정 시간 및 제조비용이 감소하는 효과도 있다.In addition, the method of manufacturing a printed circuit board using the imprinting method according to the present invention transfers the mold to the semi-cured resin and simultaneously cures the semi-cured resin, thereby reducing the total number of processes and reducing the process time and manufacturing cost. .
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