KR100901687B1 - 파스용 자석 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 파스용 자석 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 네오디움 자석의 표면에 형성되어져 있는 니켈 성분 제거를 위해 시안화나트륨이 첨가된 혼합물에 일정시간 보관시키는 니켈 박리단계;(ST 1) 상기 니켈 박리가 이루어진 네오디움 자석을 물로 수세하는 1차 수세단계;(ST 2) 상기 수세가 이루어진 네오디움 자석을 물과 시안화구리 그리고 청화소다가 혼합되어진 혼합물에 일정시간 담궈서 자석 표면에 동도금층을 형성시키는 동도금 단계;(ST 3) 상기 형성된 동도금층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 2차 수세단계;(ST 4) 상기 동도금층이 형성된 네오디움 자석을 물과 과산 그리고 시안화나트륨이 혼합된 혼합물에 담궈두는 광택층 형성 단계;(ST 5) 상기 네오디움 자석을 물과 석산소다, 시안화칼륨, 광택제의 혼합물에 담궈두는 니켈 검침단계;(ST 6) 상기 네오디움 자석을 물로 수세하는 3차 수세단계;(ST 7) 상기 네오디움 자석의 표면에 청화금, 청화은 또는 청화흑진주 중 어느 하나의 성분이 시안화나트륨 및 물과 혼합되어진 혼합물에 담궈서 표면 코팅층을 형성시키는 표면 코팅층 형성단계;(ST 8) 상기 표면 코팅층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 4차 수세단계;(ST 9)를 포함한다.
파스, 자석, 네오디움, 자기장, 도금, 니켈
Description
본 발명은 파스용 자석에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 보다 높은 자력 효과를 나타낼 수 있도록 함으로서 인체 치료효과를 향상시키도록 하기 위한 것이다.
일반적으로, 자석(磁石)을 이용한 자기치료의 경우 오래전부터 한방의학으로 알려져 있으며, 대표적으로는 파스의 접착면에 신체와 접촉되는 소형 자석을 부착한 형태의 자석 파스, 자석이 함몰 구성되어져 있는 팔찌, 목걸이 등을 들 수 있다.
상기한 자석파스의 경우 주로 섬유 등으로 구성되는 밴드의 이면에 인체에 무해한 접착층 또는 파스(PAS:Para-Amino-Saycylic Acid)층을 형성하고, 이의 중앙으로 약 500~1500 가우스 정도의 자기장을 발생시키는 소형 자석을 접착한 구성으로 되어져 있어 인체의 원하는 부위에 용이하게 접착시켜 자기치료를 수행할 수 있게 된다.
그러나, 통증을 다스리기 위해서는 보다 높은 2000가우스 이상의 자력을 필 요로 하나, 종래 페라이트 자석은 자력을 입착시키는데 한계가 있기 때문에 혈액순환 개선에 한계점을 갖는 문제점이 있었다.
한편, 기존의 페라이트 자석보다 높은 자력의 착자가 가능한 네오디움 자석의 경우는 강한 파장의 효과를 나타낼 수 있으나, 공기중에서의 산화 방지를 위한 니켈 성분으로 인해 인체에 유해한 작용을 하기 때문에 피부에 직접 접촉시키는 용도로는 사용할 수 없는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 종래 기술에서의 문제점을 개선하기 위해 제안된 것으로서, 자석에서 발생되는 자기장의 세기가 2000 이상 많게는 3000-~5000 까지도 이를 수 있는 네오디움 자석을 이용함에 있어서 인체 유해성을 제거하여 파스용으로 사용할 수 있도록 함으로서 인체 혈액순환 효과를 극대화 할 수 있도록 하는데 목적이 있다.
상기 목적을 이루기 위한 본 발명의 제조방법은, 네오디움 자석의 표면에 형성되어져 있는 니켈 성분 제거를 위해 시안화나트륨이 첨가된 혼합물에 일정시간 보관시키는 니켈 박리단계와, 상기 니켈 박리가 이루어진 네오디움 자석을 물로 수세하는 1차 수세단계와, 상기 수세가 이루어진 네오디움 자석을 물과 시안화구리 그리고 청화소다가 혼합되어진 혼합물에 일정시간 담궈서 자석 표면에 동도금층을 형성시키는 동도금 단계와, 상기 형성된 동도금층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 2차 수세단계와, 상기 동도금층이 형성된 네오디움 자석을 물과 과산 그리고 시안화나트륨이 혼합된 혼합물에 담궈두는 과산화수소 처리 단계와, 상기 네오디움 자석을 물과 석산소다, 시안화칼륨, 광택제의 혼합물에 담궈두는 광택층 형성단계와, 상기 네오디움 자석을 물로 수세하는 3차 수세단계와, 상기 네오디움 자석의 표면에 청화금, 청화은 또는 청화흑진주 중 어느 하나의 성분이 시안화나트륨 및 물과 혼합되어진 혼합물에 담궈서 표면 코팅층을 형성시키는 표면 코팅층 형성 단계와, 상기 표면 코팅층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 4차 수세단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이러한 본 발명은, 3000~5000가우스의 높은 자력을 표출할 수 있는 네오디움 자석의 인체 유해성 제거를 위해 니켈 성분을 박리 제거시킨 후 인체에 무해한 도금층을 형성시킴으로서, 인체 안전성을 확보함과 함께 인체 혈액순환 효과를 극대화 할 수 있게 된다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 살펴보기로 한다.
먼저, 본 발명 파스용 자석의 제조과정을 도 1의 순서도를 통해 살펴보면 다음과 같다.
<니켈 박리단계>(ST 1)
본 발명에서 사용하게 될 네오디움 자석은 주성분이 네오디움(Nd), 철(Fe), 보론(D), 알루미늄(Al) 의 합금으로 이루어진 것으로서, 표면에는 인체에 유해한 니켈 성분이 도금처리되어져 있기 때문에, 이를 완전히 박리시키는 과정을 필요로 한다.
즉, 이때에는 물 70중량%에 시안화나트륨 20중량%, 그리고 박리제 10중량%로 혼합된 혼합물을 50℃로 유지시키는 상태에서, 네오디움 자석을 약 10~30분 동안 담궈 놓음으로서 니켈 도금층이 박리되어질 수 있게 된다.
상기 박리제는 실리콘 폴리머 30~80중량%에, 폴리메틸하이드로겐 실록산 20~70중량%로 혼합된 것을 사용함이 바람직하다.
<1차 수세단계>(ST 2)
상기 니켈 도금층 박리 후, 깨끗한 물을 사용하여 네오디움 자석 표면에 남아 있는 이물질을 제거하는 작업을 실시한다.
<동도금 단계>(ST 3)
이후, 네오디움 자석을 물 70중량%, 시안화구리(청화동) 20중량%, 청화소다 10중량%로 혼합되어진 혼합물에 약 1시간~3시간 동안 담궈 놓게 되면 네오디움 자석 외표면에 동도금층이 박막으로 형성되어지게 된다.
이와 같이 동도금층을 형성시킴으로서, 네오디움 자석의 산화를 방지함과 함께 외표면에 코팅되어지는 코팅층의 접착력을 강화시킬 수 있게 되는 이점을 나타낸다.
<2차 수세단계>(ST 4)
그리고, 동도금층이 형성되어진 네오디움 자석을 다시 깨끗한 물에 담궈 놓아서 수세과정을 실시하게 된다.
<과산화 수소 처리단계>(ST 5)
이후, 상기 동도금층이 형성되어진 네오디움 자석을 물 70중량%, 과산화 수소 20중량%, 청화소다 10중량% 혼합물에 30~60분 동안 담궈서 처리한다.
이와 같은 과산화 수소 처리를 통해 표면 이물질을 제거하고, 동 도금층의 광택성을 향상시킬 수 있게 된다.
<광택층 형성단계>(ST 6)
상기, 과산화 수소 처리가 이루어진 네오디움 자석을 물과 석산소다, 시안화칼륨, 광택제의 혼합물에 20~30분 동안 담궈둠으로서, 무해성의 광택층(30)을 형성시킨다.
즉, 이때에는 상기 혼합물에 동도금된 자석을 넣고 회전(골고르게 도포시키기 위함)시켜 도금을 하는 것으로서, 이 혼합물은 니켈성분이 소량 포함되어져 있기는 하나 최소의 유해성분이어서 인체에 해롭지 않다.
따라서, 상기 동도금층은 매우 약해서 벗겨지거나 손상이 쉽게 되나 본 단계를 거침으로서, 동도금층의 보호 및 내구성을 강화시키는 효과를 나타낼 수 있게 된다.
<3차 수세단계>(ST 7)
깨끗한 물에 담궈놓는 수세과정을 실시한다.
<표면 코팅층 형성단계>(ST 8)
이후, 동도금층 위에 또 다른 표면 코팅층을 형성하는 작업을 실시하게 된다.
이때에는 3가지 종류의 코팅제(도금제)를 선택적으로 사용할 수 있는데, 일 예로 물 70중량%에 청화금 20중량% 그리고 시안화나트륨 10중량%로 혼합된 코팅제에 네오디움 자석을 1~3시간 동안 침지시킨 후 꺼내게 되면 표면 코팅층이 형성되어지게 된다.
상기 혼합물 재료중 청화금 대신 청화은이나 또는 청화흑진주가 선택적으로 사용되어질 수도 있게 된다.
여기서, 일반 금이나 은도금이 아닌 청화금, 청화은 또는 청화흑진주를 사용하여 도금작업을 실시하는 이유는, 금, 은, 진주의 도금은 인체에 무해한 99.9%의 원료로 이루어져있으며, 피부에 접촉했을 때 전혀 해롭지 않기 때문에 표면에 이 재료들로 도금처리를 해서 마무리할 수 있게 된다.
또한, 표면코팅층 형성을 위한 다른 실시 예로서 실리콘, 우레탄 등을 사출에 의하여 커버체 형식으로 형성시킬 수도 있게 된다.
즉, 이는 상기 금, 은, 흑진주 도금일 경우보다 내구성이 우수하나, 도금이어서 얇고 벗겨질 우려가 있으나, 실리콘, 우레탄 사출은 인체에 무해하면서 내구성이 증강되어질 수 있는 장점을 나타내기 때문이다.
<4차 수세단계>(ST 9)
이후, 다시 한번 물로 수세작업을 실시하게 된다.
<변색 방지단계>(ST 10)
한편, 수세가 이루어진 자석은 물 80중량%에 중크롬산 20중량%로 혼합되어진 변색 방지제에 20~30분 동안 침지시킨 후 꺼냄으로서 산화에 따른 변색이 방지되어질 수 있도록 한다.
<5차 수세단계>(ST 11)
그리고, 다시 한번 물로 수세작업을 실시하게 된다.
<건조 단계>(ST 12)
그리고, 최종적으로 5~10℃의 온도에서 자연건조를 1~2시간 동안 실시함으로 서 파스용 자석이 완성되어지게 된다.
도 2는 이와 같은 과정을 통해 완성된 본 발명 자석의 단면 구조를 나타낸 것이다.
도시된 바와 같이 네오디움 자석(10)의 외표면에 각각 동도금층(20)과 광택층(30) 그리고 표면 코팅층(40)이 박막으로 형성된 것을 확인할 수 있다.
따라서, 이러한 도금층 구조를 이루는 본 발명의 자석은 강력한 자기장 효과를 나타내는 네오디움 자석을 사용함으로서 인체 치료효과를 극대화 할 수 있는 가운데, 인체 유해성을 갖고 있지 않은 동도금층(20), 무해성 광택층(30) 및 표면 코팅층(40)에 의해 보다 견고한 내구성을 갖게 됨을 알 수 있다.
도 1은 본 발명 자석의 제조방법 순서도.
도 2는 본 발명 자석의 단면 구조도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 네오디움 자석 20 : 동도금층
30 : 광택층 40 : 표면 코팅층
Claims (6)
- 자석파스에 사용되는 자석에 있어서,상기 자석은 네오디움 자석(10)으로 구비하되, 네오디움 자석(10) 외표면에는 동도금층(20), 광택층(30) 그리고 표면코팅층(30)이 각각 층을 이루어 순차적으로 형성된 것을 특징으로 하는 파스용 자석.
- 청구항 1에 있어서,상기 표면코팅층(30)은 금, 은, 청화흑진주, 실리콘, 우레탄 중 어느 한 성분이 선택적으로 포함된 것을 특징으로 하는 파스용 자석.
- 네오디움 자석의 표면에 형성되어져 있는 니켈 성분 제거를 위해 시안화나트륨이 첨가된 혼합물에 일정시간 보관시키는 니켈 박리단계;(ST 1)상기 니켈 박리가 이루어진 네오디움 자석을 물로 수세하는 1차 수세단계;(ST 2)상기 수세가 이루어진 네오디움 자석을 물과 시안화구리 그리고 청화소다가 혼합되어진 혼합물에 일정시간 담궈서 자석 표면에 동도금층을 형성시키는 동도금 단계;(ST 3)상기 형성된 동도금층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 2차 수세단계;(ST 4)상기 동도금층이 형성된 네오디움 자석을 물과 과산 그리고 시안화나트륨이 혼합된 혼합물에 담궈두는 과산화수소 처리 단계;(ST 5)상기 네오디움 자석을 물과 석산소다, 시안화칼륨, 광택제의 혼합물에 담궈두어 광택층을 형성시키는 광택층 형성단계;(ST 6)상기 네오디움 자석을 물로 수세하는 3차 수세단계;(ST 7)상기 네오디움 자석의 표면에 청화금, 청화은 또는 청화흑진주 중 어느 하나의 성분이 시안화나트륨 및 물과 혼합되어진 혼합물에 담궈두는 도금방식으로 표면 코팅층을 형성시키는 표면 코팅층 형성단계;(ST 8)상기 표면 코팅층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 4차 수세단계;(ST 9)를 포함하는 것을 특징으로 하는 파스용 자석 제조방법.
- 네오디움 자석의 표면에 형성되어져 있는 니켈 성분 제거를 위해 시안화나트륨이 첨가된 혼합물에 일정시간 보관시키는 니켈 박리단계;(ST 1)상기 니켈 박리가 이루어진 네오디움 자석을 물로 수세하는 1차 수세단계;(ST 2)상기 수세가 이루어진 네오디움 자석을 물과 시안화구리 그리고 청화소다가 혼합되어진 혼합물에 일정시간 담궈서 자석 표면에 동도금층을 형성시키는 동도금 단계;(ST 3)상기 형성된 동도금층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 2차 수세단계;(ST 4)상기 동도금층이 형성된 네오디움 자석을 물과 과산 그리고 시안화나트륨이 혼합된 혼합물에 담궈두는 과산화수소 처리 단계;(ST 5)상기 네오디움 자석을 물과 석산소다, 시안화칼륨, 광택제의 혼합물에 담궈두어 광택층을 형성시키는 광택층 형성단계;(ST 6)상기 네오디움 자석을 물로 수세하는 3차 수세단계;(ST 7)상기 네오디움 자석의 표면에 실리콘, 우레탄을 사출에 의하여 커버체 형식으로 표면 코팅층을 형성시키는 표면 코팅층 형성단계;(ST 8)상기 표면 코팅층 표면의 이물질 제거를 위해 물로 수세하는 4차 수세단계;(ST 9)를 포함하는 것을 특징으로 하는 파스용 자석 제조방법.
- 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,상기 4차 수세단계(ST 9) 이후에는 변색방지를 위해 물 70중량%에 중크롬산 30중량%이 혼합되어진 혼합물에 담궈주는 변색 방지단계(ST 10)가 수행되어짐을 특징으로 하는 파스용 자석 제조방법.
- 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,상기 니켈 박리단계(ST 1)에서 사용되는 혼합물은 물 60~70중량%에 시안화나트륨 20~25중량% 그리고 박리제가 10~15중량%로 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 파스용 자석 제조방법.
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| KR1020080081156A KR100901687B1 (ko) | 2008-08-20 | 2008-08-20 | 파스용 자석 및 그 제조방법 |
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| KR200328944Y1 (ko) * | 2003-06-05 | 2003-10-04 | 이영희 | 자석파스 |
| KR200335325Y1 (ko) * | 2003-08-22 | 2003-12-06 | 이형호 | 자석 파스 |
-
2008
- 2008-08-20 KR KR1020080081156A patent/KR100901687B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
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