KR100876198B1 - 다중세척장치가 적용된 여과장치 - Google Patents
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Abstract
Description
여과장치의 일부분이 원수에 침수되게 설치된 여과장치로서, 상기 여과장치 침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 흡인유닛의 흡인력에 의해 세척되게 하고, 상기 여과장치 비침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 세척수를 고압으로 분사하는 고압분사유닛에 의해 세척되게 함을 포함하며, 상기 흡인유닛은 상기 여과막(여재)의 표면에 대해 탄력적으로 밀착 설치되는 흡인부와, 상기 흡인부와 연결된 채 흡인력을 발생시키는 흡인펌프로 구성된 것을 더 포함함을 특징으로 하는 여과장치이다.
원수가 일부 침수상태의 여과막(여재)를 통해 회전드럼 내부로 유입되도록 하는 여과장치로서, 상기 여과장치 침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 흡인유닛의 흡인력에 의해 세척되게 하고, 상기 여과장치 비침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 세척수를 고압으로 분사하는 고압분사유닛에 의해 세척되게 함을 포함하며, 상기 흡인유닛은 상기 여과막(여재)의 표면에 대해 탄력적으로 밀착 설치되는 흡인부와, 상기 흡인부와 연결된 채 흡인력을 발생시키는 흡인펌프로 구성된 것을 더 포함함을 특징으로 하는 여과장치이다.
Claims (10)
- 여과장치의 일부분이 원수에 침수되게 설치된 여과장치로서,상기 여과장치 침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 흡인유닛의 흡인력에 의해 세척되게 하고, 상기 여과장치 비침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 세척수를 고압으로 분사하는 고압분사유닛에 의해 세척되게 함을 포함하며,상기 흡인유닛은 상기 여과막(여재)의 표면에 대해 탄력적으로 밀착 설치되는 흡인부와, 상기 흡인부와 연결된 채 흡인력을 발생시키는 흡인펌프로 구성된 것을 더 포함함을 특징으로 하는 여과장치.
- 원수가 일부 침수상태의 여과막(여재)를 통해 회전드럼 내부로 유입되도록 하는 여과장치로서,상기 여과장치 침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 흡인유닛의 흡인력에 의해 세척되게 하고, 상기 여과장치 비침수부위의 여과막(여재)에 오염된 이물질은 세척수를 고압으로 분사하는 고압분사유닛에 의해 세척되게 함을 포함하며,상기 흡인유닛은 상기 여과막(여재)의 표면에 대해 탄력적으로 밀착 설치되는 흡인부와, 상기 흡인부와 연결된 채 흡인력을 발생시키는 흡인펌프로 구성된 것을 더 포함함을 특징으로 하는 여과장치.
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- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 고압분사유닛은, 상기 여과막(여재)을 향해 세척수를 고압으로 분사하는 다수의 분사노즐과, 상기 분사노즐에 세척수를 공급하는 세척수 공급펌프로 구성된 것을 특징으로 하는 다중세척장치가 적용된 여과장치.
- 제5항에 있어서,상기 분사노즐의 외부에 세척수가 비산되는 것을 방지하기 위해 설치되는 커버를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중세척장치가 적용된 여과장치.
- 제6항에 있어서,상기 커버의 하부에는, 상기 분사노즐의 세척작용에 의해 발생되는 세척수 및 이물질을 포집하여 여과장치의 외부로 배출되도록 유도하는 유도집수장치가 설치된 것을 특징으로 하는 다중세척장치가 적용된 여과장치.
- 제2항에 있어서,상기 회전드럼의 내부 상측에는, 상기 여과막(여재)의 내부를 통과한 오염수 및 이물질을 포집하여 여과장치의 외부로 배출하는 세정수 집수통이 설치된 것을 특징으로 하는 다중세척장치가 적용된 여과장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 여과막(여재)은 섬유상 여과막(여재)인 것을 특징으로 하는 다중세척장치가 적용된 여과장치.
- 제9항에 있어서,상기 섬유상 여과막(여재)은 구체적으로 융모(絨毛, villus)형 여과막인 것을 특징으로 하는 다중세척장치가 적용된 여과장치.
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