KR100873329B1

KR100873329B1 - Apparatus of cleaning a substrate

Info

Publication number: KR100873329B1
Application number: KR1020070097394A
Authority: KR
Inventors: 김대훈; 박선용
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2007-09-27
Filing date: 2007-09-27
Publication date: 2008-12-10

Abstract

The substrate cleaning apparatus is provided to prevent corrosion of the equipment caused by doped cleaning solution by blocking the cleaning solution from being doped when transferring the wafer between the first cleaning part and the second. The substrate cleaning apparatus(100) comprises the base frame, the first cleaning part(500), the second cleaning unit(600), the substrate transfer part(700), the washing solution collecting unit(800). The first cleaning part is arranged in one side of the upside of base frame. The first cleaning part washes the substrate(110) by utilizing the washing solution. The second cleaning unit is arranged in the other side of the upside of base frame to be in a line with the first cleaning part. The second cleaning unit washes successively the washed substrate. The substrate transfer part is arranged between the first cleaning part and the second cleaning unit. The substrate transfer part transfers the second cleaning unit of the substrate washed in the first cleaning part. The washing solution collecting unit is arranged on the base frame between the substrate transfer part and the base frame.

Description

Substrate cleaning device {APPARATUS OF CLEANING A SUBSTRATE}

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 세정액을 이용하여 다수의 기판들을 세정하는 기판 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus for cleaning a plurality of substrates using a cleaning liquid.

일반적으로 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조 공정은 공정 중 발생하는 파티클 뿐 아니라, 장비로부터의 오염, 공정진행 중의 반응물 또는 생성물에 의한 오염 등 다양한 오염원에 의해 생성된 불순물들을 제거하는 세정 공정을 포함한다. 특히, 집적회로가 미세화되고 소자가 초고집적화하면서 과거에는 중요하게 생각하지 않았던 0.1㎛ 정도의 매우 작은 오염원들도 제품의 성능에 커다란 영향을 미치게 되고 따라서 오염원의 제거를 위한 세정 공정의 중요성은 계속 증가하고 있다. In general, the manufacturing process of an integrated circuit device such as a semiconductor device includes a cleaning process for removing impurities generated by various pollutants such as contamination from equipment, contamination by reactants or products during the process, as well as particles generated during the process. do. In particular, as the integrated circuits become smaller and the devices are highly integrated, even very small pollutants, such as 0.1 µm, which were not considered important in the past, have a great effect on the performance of the product. Doing.

따라서, 다수의 공정이 진행되는 기판의 표면을 깨끗한 상태로 유지하기 위하여 각 공정의 전 단계 및/또는 후 단계에 세정 공정이 수행된다. 이에 상기 세정 공정이 반복해서 진행되고, 이에 전체 제조 공정의 30 내지 40 퍼센트 정도를 세정 공정이 차지한다. Therefore, the cleaning process is performed in the pre- and / or post-step of each process in order to keep the surface of the substrate undergoing a plurality of processes clean. As a result, the cleaning process is repeatedly performed, and the cleaning process occupies about 30 to 40 percent of the entire manufacturing process.

한편, 기판 세정 장치는 황산 등의 산을 포함하는 세정액을 이용하여 기판을 세정할 수 있다. 또한, 상기 기판 세정 장치는 베이스 프레임과 상기 베이스 프레임의 상부면 양측에 각각 일렬로 배치된 제1 세정부 및 제2 세정부를 포함한다. 그리고, 기판 세정 장치는 상기 제1 세정부에서 일차적으로 세정이 완료된 기판을 상기 제2 세정부로 이송하기 위한 기판 이송부를 더 포함한다. On the other hand, the substrate cleaning apparatus can clean the substrate using a cleaning liquid containing an acid such as sulfuric acid. In addition, the substrate cleaning apparatus may include a first cleaning part and a second cleaning part disposed in a line on both sides of a base frame and an upper surface of the base frame. The substrate cleaning apparatus further includes a substrate transfer unit configured to transfer the substrate, which has been primarily cleaned in the first cleaning unit, to the second cleaning unit.

이 때, 상기 기판 이송부가 기판을 이송하는 중에 상기 기판에 잔재하는 세정액 또는 세정액 방울이 하부로 낙하한다. 이에 상기 세정액이 베이스 프레임 등으로 낙하하는 경우, 상기 세정액에 의해 베이스 프레임 등이 부식되거나 손상되는 등의 문제점이 발생한다. At this time, the cleaning liquid or the cleaning liquid droplets remaining on the substrate drop downward while the substrate transfer unit transfers the substrate. Accordingly, when the cleaning solution falls into the base frame or the like, problems such as corrosion or damage of the base frame or the like occur due to the cleaning solution.

본 발명의 목적은 세정된 기판을 이송하는 도중에 기판에 잔재하는 세정액이 낙하하는 것을 방지하기 위한 기판 세정 장치를 제공하는데 있다. An object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus for preventing the cleaning liquid remaining on the substrate from dropping while transferring the cleaned substrate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따른 기판 세정 장치는 베이스 프레임, 제1 세정부, 제2 세정부, 기판 이송부 및 세정액 회수부를 포함한다. 상기 제1 세정부는 상기 베이스 프레임 상부의 일 측에 배치되고, 세정액을 이용하여 기판을 세정하기 위한 적어도 하나가 배치된다. 상기 제2 세정부는 상기 제1 세정부와 나란하게 형성되도록 상기 베이스 프레임 상부의 타 측에 배치되고, 상기 세정된 기판을 연속하여 세정하기 위한 적어도 하나가 배치된다. 상기 기판 이송부는 상기 제1 세정부와 상기 제2 세정부의 사이에 배치되고, 상기 제1 세정부에서 세정된 기판을 상기 제2 세정부로 이송한다. 상기 세정액 회수부는 상기 베이스 프레임과 상기 기판 이송부 사이의 상기 베이스 프레임 상에 배치되고, 상기 기판이 이송되는 도중에 상기 기판으로부터 낙하하는 세정액을 회수한다. The substrate cleaning apparatus according to the embodiments of the present invention for achieving the above object includes a base frame, a first cleaning unit, a second cleaning unit, a substrate transfer unit and a cleaning liquid recovery unit. The first cleaning unit is disposed on one side of the upper portion of the base frame, and at least one for cleaning the substrate using the cleaning liquid is disposed. The second cleaning unit is disposed on the other side of the upper portion of the base frame so as to be parallel to the first cleaning unit, and at least one of the second cleaning units is disposed to continuously clean the cleaned substrate. The substrate transfer part is disposed between the first cleaning part and the second cleaning part, and transfers the substrate cleaned by the first cleaning part to the second cleaning part. The cleaning liquid recovery part is disposed on the base frame between the base frame and the substrate transfer part and recovers the cleaning liquid that falls from the substrate while the substrate is being transferred.

본 발명의 실시예들에 있어서, 상기 제1 세정부 및 상기 제2 세정부는 복수개의 기판들을 연속적으로 세정하도록 각각 일렬로 배치된 복수개의 세정조들을 포함하고, 외부로부터 공급된 세정액을 이용하여 상기 세정조들 내부에서 상기 기판들을 세정한다. 예를 들어, 상기 제1 세정부와 상기 제2 세정부는 상기 기판들을 서로 다른 방향을 향하여 연속적으로 세정할 수 있다. In the embodiments of the present invention, the first cleaning unit and the second cleaning unit include a plurality of cleaning tanks arranged in a row so as to continuously clean the plurality of substrates, and using a cleaning solution supplied from the outside. The substrates are cleaned in the cleaning tanks. For example, the first cleaning unit and the second cleaning unit may continuously clean the substrates in different directions.

본 발명의 실시예들에 있어서, 상기 세정액 회수부는 상기 베이스 프레임과 상기 이동하는 기판 이송부의 사이에 배치되어 상기 베이스 프레임에 상기 세정액이 낙하하는 것을 차단하기 위한 바닥부 및 상기 바닥부의 가장 자리로부터 상부로 연장되어 형성되고, 상기 낙하된 세정액이 상기 바닥부로부터 튕겨져서 외부로 나가는 것을 차단하기 위한 측벽을 포함한다. In some embodiments of the present invention, the cleaning solution recovery part is disposed between the base frame and the moving substrate transfer part so as to prevent the cleaning solution from falling on the base frame, and an upper part from an edge of the bottom part. And a sidewall for blocking the dropped cleaning liquid from being bounced off the bottom and outward.

본 발명의 실시예들에 있어서, 상기 세정액 회수부는 상기 제1 세정부와 상기 제2 세정부 사이에서 이동하는 상기 기판 이송부의 경로에 대응하는 상기 베이스 프레임 상에 고정되어 배치될 수 있다. 이와 달리, 상기 세정액 회수부는 상기 기판 이송부의 이동에 대응하여 상기 베이스 프레임의 상부면에서 일정한 속도로 이동하면서 상기 낙하하는 세정액을 회수할 수 있다. In example embodiments, the cleaning solution recovery part may be fixedly disposed on the base frame corresponding to a path of the substrate transfer part moving between the first cleaning part and the second cleaning part. In contrast, the cleaning solution recovery unit may recover the falling cleaning solution while moving at a constant speed on the upper surface of the base frame in response to the movement of the substrate transfer unit.

본 발명의 실시예들에 있어서, 상기 세정액 회수부는 다양한 종류의 세정액들에 대응하여 상기 각각의 세정액에 내식성을 가진 재질로 이루어진다. 예를 들어, 상기 세정액 회수부는 스테인리스 재질 및 상기 세정액에 대하여 내식성을 가진 물질로 표면 처리된 PVC 재질 중 적어도 하나의 재질로 이루어질 수 있다. In embodiments of the present invention, the cleaning liquid recovery part is made of a material having corrosion resistance to each cleaning liquid corresponding to various types of cleaning liquids. For example, the cleaning solution recovery unit may be made of at least one of a stainless steel material and a PVC material surface-treated with a material having corrosion resistance to the cleaning solution.

상술한 본 발명에 따르면, 기판을 연속적으로 세정하기 위하여 나란하게 일렬로 배치된 제1 세정부와 제2 세정부 사이에서 기판을 이송하는 경우에 기판으로부터 세정액이 낙하하는 것을 차단할 수 있다. 따라서, 낙하된 세정액에 의하여 장비가 부식되거나 손상되는 것이 방지된다. According to the present invention described above, the cleaning liquid can be prevented from falling from the substrate when the substrate is transferred between the first cleaning portion and the second cleaning portion arranged side by side in order to continuously clean the substrate. Therefore, the equipment is prevented from being corroded or damaged by the dropped cleaning liquid.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar components. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and that one or more other features It should be understood that it does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of numbers, steps, actions, components, parts or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 기판 세정 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram illustrating a substrate cleaning apparatus according to embodiments of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예들에 따른 기판 세정 장치(100)는 적재부(200), 기판 전달부(250), 반전 이송부(300), 제1 세정부(400), 제2 세정부(500), 기판 이송부(600) 및 세정액 회수부(700)를 포함한다. Referring to FIG. 1, the substrate cleaning apparatus 100 according to the embodiments of the present invention may include a loading unit 200, a substrate transfer unit 250, an inversion transfer unit 300, a first cleaning unit 400, and a second unit. The cleaning unit 500, the substrate transfer unit 600, and the cleaning liquid recovery unit 700 are included.

적재부(200)는 외부로부터 복수개의 기판(110)을 한 묶음으로 하여 수용하는 카세트(120)를 적재한다. 예를 들어, 카세트(120)는 약 25매 또는 50매의 기판(110)들을 수용할 수 있다. 또한, 도시되지는 않았지만, 적재부(200)는 카세트(120)를 복층으로 적재하여 설비의 풋-프린트를 감소시킬 수 있다. The stacking unit 200 stacks the cassette 120 for accommodating the plurality of substrates 110 in a bundle from the outside. For example, the cassette 120 may accommodate about 25 sheets or 50 sheets of substrates 110. In addition, although not shown, the stacker 200 may load the cassette 120 in multiple layers to reduce the footprint of the facility.

적재부(200)는 기판(110)을 묶음으로 하는 카세트(120)들이 로딩/언로딩되는 카세트 로딩 영역(LA)과 카세트 언로딩 영역(ULA)으로 구분된다. 또한, 적재부(200)는 상기 카세트 로딩 영역(LA)과 상기 카세트 언로딩 영역(ULA)의 공간 부족으로 적재되지 못한 카세트(120)들을 보관하기 위한 보관 영역(KA)을 더 포함할 수 있다. 상기 보관 영역(KA)은 작업의 편의를 위하여 상기 카세트 로딩 영역(LA)과 상기 카세트 언로딩 영역(ULA)의 사이에 배치될 수 있다. The stacking unit 200 is divided into a cassette loading region LA and a cassette unloading region ULA on which cassettes 120 that bind the substrate 110 are loaded / unloaded. In addition, the loading unit 200 may further include a storage area KA for storing the cassettes 120 that are not loaded due to lack of space between the cassette loading area LA and the cassette unloading area ULA. . The storage area KA may be disposed between the cassette loading area LA and the cassette unloading area ULA for convenience of work.

기판 전달부(250)는 적재부(200)에 적재된 카세트(120)들을 이송한다. 기판 전달부(250)는 상기 카세트 로딩 영역(LA), 상기 카세트 언로딩 영역(ULA) 및 상기 보관 영역(KA)으로부터 카세트(120)를 각각 반출하기 위하여 상기 영역들을 따라 길게 형성될 수 있다. The substrate transfer part 250 transfers the cassettes 120 loaded on the loading part 200. The substrate transfer part 250 may be elongated along the regions in order to carry the cassette 120 from the cassette loading area LA, the cassette unloading area ULA, and the storage area KA, respectively.

예를 들어, 기판 전달부(250)는 적재부(200)의 일 영역에 적재된 카세트(120)를 적재부(200)의 다른 위치로 이송시킬 수 있다. 또한, 기판 전달부(250)는 카세트(120)를 복층으로 이루어진 적재부(200) 내에서 상하로 이송시킬 수 있다. 나아가, 기판 전달부(250)는 적재부(200)에 적재된 카세트(120)를 후술할 반전 이송부(300) 등으로 전달할 수도 있다. For example, the substrate transfer part 250 may transfer the cassette 120 loaded in one region of the loading part 200 to another position of the loading part 200. In addition, the substrate transfer unit 250 may transfer the cassette 120 up and down in the stacking unit 200 formed of a multilayer. In addition, the substrate transfer unit 250 may transfer the cassette 120 loaded on the loading unit 200 to the reverse transfer unit 300 to be described later.

반전 이송부(300)는 기판 전달부(250)로부터 다수 매의 기판(110)을 수용한 카세트(120)를 전달받는다. 반전 이송부(300)는 전달받은 카세트(120)를 기판(110)을 세정하기 위한 제1 세정부(500)로 이송한다. 또한, 반전 이송부(300)는 세정이 완료된 기판(110)을 제2 세정부(600)로부터 전달받는다. 반전 이송부(300)는 전달받은 기판(110)을 기판 전달부(250)로 이송한다. The reverse transfer unit 300 receives a cassette 120 containing a plurality of substrates 110 from the substrate transfer unit 250. The reverse transfer unit 300 transfers the transferred cassette 120 to the first cleaning unit 500 for cleaning the substrate 110. In addition, the reverse transfer unit 300 receives the substrate 110 from which the cleaning is completed, from the second cleaning unit 600. The reverse transfer unit 300 transfers the received substrate 110 to the substrate transfer unit 250.

한편, 반전 이송부(300)는 기판(110)이 제1 세정부(500)에서 효율적으로 세정될 수 있도록 하거나, 세정된 기판(110)을 카세트(120)에 효율적으로 적재할 수 있도록 기판(110)을 상하 또는 좌우로 반전시킬 수 있다.Meanwhile, the reverse transfer unit 300 may allow the substrate 110 to be efficiently cleaned by the first cleaning unit 500 or to load the cleaned substrate 110 into the cassette 120 efficiently. ) Can be reversed up and down or left and right.

제1 세정부(500)는 기판(110)을 세정한다. 예를 들어, 제1 세정부(500)는 기 판(110)의 표면을 세정액을 이용하여 세정 또는 처리한다. 상기 세정액은 황산(H₂SO₄), 염산(HCl), 불산(HF), 과산화 수소 용액(H₂O₂), 탈이온수(H₂O) 등을 포함할 수 있다. The first cleaning unit 500 cleans the substrate 110. For example, the first cleaning unit 500 cleans or processes the surface of the substrate 110 using a cleaning liquid. The cleaning solution may include sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ), hydrochloric acid (HCl), hydrofluoric acid (HF), hydrogen peroxide solution (H ₂ O ₂ ), deionized water (H ₂ O), and the like.

제1 세정부(500)는 기판(110)을 세정하기 위한 제1 세정조(510)를 포함한다. 본 발명의 실시예들에 있어서, 제1 세정조(510)는 다수 매의 기판(120)들을 연속적으로 세정하도록 복수개가 일렬로 배치된다. 따라서, 제1 세정부(500)는 다수 매의 기판(110)들을 일렬로 배치된 제1 세정조(510)들에 연속적으로 담그고 빼는 방식에 의하여 기판(110)들을 세정할 수 있다. The first cleaning unit 500 includes a first cleaning tank 510 for cleaning the substrate 110. In embodiments of the present invention, a plurality of first cleaning tanks 510 are arranged in a row to continuously clean the plurality of substrates 120. Therefore, the first cleaning unit 500 may clean the substrates 110 by dipping and removing the plurality of substrates 110 in the first cleaning tanks 510 arranged in a row.

한편, 제1 세정부(500)는 복수개의 제1 세정조(510)들과 인접하게 배치되어 기판(110)들을 이송시키기 위한 제1 이송 유닛(520)을 포함한다. 제1 이송 유닛(520)은 일렬로 배치된 복수개의 제1 세정조(510)들을 따라 길게 형성된다. 이에 제1 이송 유닛(520)은 복수개의 제1 세정조(510)들 사이를 이동하면서 기판(110)들을 이송한다. Meanwhile, the first cleaning unit 500 is disposed adjacent to the plurality of first cleaning tanks 510 and includes a first transfer unit 520 for transferring the substrates 110. The first transfer unit 520 is elongated along the plurality of first cleaning tanks 510 arranged in a line. Accordingly, the first transfer unit 520 transfers the substrates 110 while moving between the plurality of first cleaning tanks 510.

제2 세정부(600)는 제1 세정부(500)에서 세정된 기판(110)들을 다시 세정한다. 제2 세정부(600)는 제1 세정부와 마찬가지로 세정액을 이용하여 세정 또는 처리한다. 상기 세정액은 황산(H₂SO₄), 염산(HCl), 불산(HF), 과산화 수소 용액(H₂O₂), 탈이온수(H₂O) 등을 포함할 수 있다. The second cleaner 600 again cleans the substrates 110 cleaned by the first cleaner 500. Like the first cleaning unit, the second cleaning unit 600 may be cleaned or processed using a cleaning liquid. The cleaning solution may include sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ), hydrochloric acid (HCl), hydrofluoric acid (HF), hydrogen peroxide solution (H ₂ O ₂ ), deionized water (H ₂ O), and the like.

제2 세정부(600)는 제1 세정부(500)와 마주보면서 나란하게 배치되고, 기판(110)을 세정하기 위한 제2 세정조(620)를 포함한다. 본 발명의 실시예들에 있어 서, 제2 세정조(620)는 다수 매의 기판(120)들을 연속적으로 세정할 수 있도록 일렬로 복수개가 배치된다. 특히, 제2 세정조(620)는 제1 세정조(610)와 대응되도록 나란하게 배치될 수 있다. 따라서, 제2 세정부(600)도 제1 세정부(500)와 마찬가지로 제2 세정조(610)들에 기판(110)들을 연속적으로 담그고 빼는 방식에 의하여 기판(110)들을 세정할 수 있다. The second cleaning unit 600 is disposed side by side facing the first cleaning unit 500, and includes a second cleaning tank 620 for cleaning the substrate 110. In embodiments of the present invention, a plurality of second cleaning tanks 620 are arranged in a row so as to continuously clean the plurality of substrates 120. In particular, the second cleaning tank 620 may be arranged side by side to correspond to the first cleaning tank 610. Thus, like the first cleaning unit 500, the second cleaning unit 600 may clean the substrates 110 by dipping and removing the substrates 110 in the second cleaning tanks 610.

한편, 제2 세정부(600)는 제2 세정조(610)들과 인접하게 배치되어 기판(110)들을 제2 세정조(610)들로 이송시키기 위한 제2 이송 유닛(620)을 포함한다. 제2 이송 유닛(620)의 동작은 제1 이송 유닛(520)과 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. Meanwhile, the second cleaning unit 600 includes a second transfer unit 620 disposed adjacent to the second cleaning tanks 610 to transfer the substrates 110 to the second cleaning tanks 610. . Since the operation of the second transfer unit 620 is the same as the first transfer unit 520, a detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 실시예들에 있어서, 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600)는 서로 다른 방향을 향하여 연속적으로 세정 공정을 수행한다. 예를 들어, 제1 세정부(500)가 일렬로 배치된 제1 세정조(510)를 통해 제1 방향으로 기판(110)을 세정하는 경우, 제2 세정부(600)는 일렬로 배치된 제2 세정조(610)를 통해 상기 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 기판(110)을 세정한다. In embodiments of the present invention, the first cleaning unit 500 and the second cleaning unit 600 performs the cleaning process continuously in different directions. For example, when the first cleaning unit 500 cleans the substrate 110 in the first direction through the first cleaning tank 510 arranged in a line, the second cleaning unit 600 is arranged in a line. The substrate 110 is cleaned in a second direction opposite to the first direction through the second cleaning tank 610.

제1 세정부(500)에서 제2 세정부(600)로 기판(110)들을 이송시키기 위한 기판 이송부(700)가 배치된다. 예를 들어, 기판 이송부(700)는 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600)의 일 단부와 인접하게 배치된다. 이에 기판 이송부(700)는 제1 세정부(500)에서 세정이 일차적으로 완료된 기판(110)들을 제2 세정부(600)로 이송시킬 수 있다. The substrate transfer unit 700 for transferring the substrates 110 from the first cleaning unit 500 to the second cleaning unit 600 is disposed. For example, the substrate transfer part 700 is disposed adjacent to one end of the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600. Accordingly, the substrate transfer part 700 may transfer the substrates 110 on which the cleaning is first performed in the first cleaning part 500 to the second cleaning part 600.

기판 이송부(700)가 제1 세정부(500)로부터 제2 세정부(600)로 기판(110)들 을 이송할 때, 기판(110)에 잔재하는 세정액이 다른 장비 또는 설비로 낙하되어 상기 장비 및 설비가 부식될 가능성이 있다. When the substrate transfer part 700 transfers the substrates 110 from the first cleaning part 500 to the second cleaning part 600, the cleaning liquid remaining on the substrate 110 is dropped to other equipment or equipment so that the equipment is dropped. And the equipment may be corroded.

따라서, 기판 이송부(700)가 이동하는 경로의 하부에 세정액 회수부(800)가 배치된다. 세정액 회수부(800)는 기판 이송부(700)의 하부에 배치되어, 기판 이송부(700)에 파지된 기판(110)들로부터 낙하하는 세정액을 회수할 수 있다. 따라서, 세정액 회수부(800)가 이송되는 기판(110)으로부터 낙하하는 세정액을 회수함으로써 장비의 부식을 방지할 수 있다. Therefore, the cleaning liquid recovery part 800 is disposed below the path through which the substrate transfer part 700 moves. The cleaning solution recovery unit 800 may be disposed below the substrate transporting unit 700 to recover the cleaning solution falling from the substrates 110 held by the substrate transporting unit 700. Therefore, the corrosion of the equipment can be prevented by recovering the cleaning liquid falling from the substrate 110 to which the cleaning liquid recovery unit 800 is transferred.

기판 이송부(700) 및 세정액 회수부(800)에 대해서는 도 2 내지 도 4를 통하여 상세하게 설명하기로 한다. The substrate transfer part 700 and the cleaning liquid recovery part 800 will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4.

도 2는 도 1에 도시된 기판 세정 장치의 기판 이송부 및 세정액 회수부를 측면에서 바라본 측면도이고, 도 3은 도 2의 세정액 회수부의 일 예를 설명하기 위한 구성도이다. FIG. 2 is a side view of the substrate transfer part and the cleaning liquid recovery part of the substrate cleaning device illustrated in FIG. 1, and FIG. 3 is a configuration diagram illustrating an example of the cleaning liquid recovery part of FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 기판 이송부(700)는 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600) 사이에 배치된다. 예를 들어, 기판 이송부(700)는 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600) 사이를 이동할 수 있도록 배치된다. 예를 들어, 기판 이송부(700)는 베이스 프레임(400)에 배치된 지지부(710)와 지지부(710)의 상단에 형성된 파지부(720)를 포함한다. 파지부(720)는 다수 매의 기판(110)들을 안정적으로 파지할 수 있는 형상을 갖는다. 예를 들어, 파지부(720)는 양 측에서 기판(110)들을 파지하는 방식으로 기판(110)들을 지지할 수 있다. 2 and 3, the substrate transfer part 700 is disposed between the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600. For example, the substrate transfer part 700 may be disposed to move between the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600. For example, the substrate transfer part 700 includes a support part 710 disposed on the base frame 400 and a grip part 720 formed on an upper end of the support part 710. The gripper 720 has a shape capable of stably holding a plurality of substrates 110. For example, the gripper 720 may support the substrates 110 by holding the substrates 110 at both sides.

이에 기판 이송부(700)는 제1 세정부(500)에서 일차적으로 세정이 완료된 기 판(110)들을 제2 세정부(600)로 이송시킨다. 이 때, 기판 이송부(700)가 기판(110)들을 이송할 때, 기판(110)에 잔재하는 세정액 또는 세정액 방울들이 낙하할 수 있다. Accordingly, the substrate transfer part 700 transfers the substrates 110 that are first cleaned in the first cleaning part 500 to the second cleaning part 600. At this time, when the substrate transfer part 700 transfers the substrates 110, the cleaning liquid or the cleaning liquid drops remaining on the substrate 110 may fall.

세정액 회수부(800)가 낙하하는 세정액 또는 세정액 방울을 회수하기 위하여 기판 이송부(700)가 이동하는 경로의 하부에 배치된다. 세정액 회수부(800)는 베이스 프레임(400) 상에 배치된다. 본 발명의 실시예들에 있어서, 세정액 회수부(800)는 베이스 프레임(400)에 면접하도록 배치된다. 또한, 세정액 회수부(800)는 베이스 프레임(400) 상에 고정되도록 배치된다. 세정액 회수부(800)를 베이스 프레임(400) 상에 고정시키기 위하여 다양한 고정 부재들을 사용할 수 있다. 이와 달리, 세정액 회수부(800)는 기판 이송부(700)와 베이스 프레임(400) 사이의 공간에 배치될 수 있다. 이 때, 세정액 회수부(800)는 베이스 프레임(400)의 상부면으로부터 일정 높이 상에 배치될 수 있다. The cleaning liquid recovery part 800 is disposed below the path through which the substrate transfer part 700 moves to recover the falling cleaning liquid or the cleaning liquid drop. The cleaning liquid recovery part 800 is disposed on the base frame 400. In embodiments of the present invention, the cleaning liquid recovery part 800 is disposed to interview the base frame 400. In addition, the cleaning liquid recovery part 800 is disposed to be fixed on the base frame 400. Various fixing members may be used to fix the cleaning liquid recovery part 800 on the base frame 400. Alternatively, the cleaning liquid recovery part 800 may be disposed in a space between the substrate transfer part 700 and the base frame 400. At this time, the cleaning liquid recovery unit 800 may be disposed on a predetermined height from the upper surface of the base frame 400.

세정액 회수부(800)는 바닥부(810) 및 측벽(820)을 포함한다. The cleaning liquid recovery part 800 includes a bottom part 810 and a side wall 820.

바닥부(810)는 베이스 프레임(400)과 면접하면서 베이스 프레임(400) 상에 배치된다. 또한, 바닥부(810)는 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600)의 이격 공간에 대응되도록 형성된다. 즉, 바닥부(810)는 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600)에 의해 노출된 베이스 프레임(400)의 상부면 전체를 커버할 있을 정도의 크기로 형성된다. 따라서, 바닥부(810)가 기판(110)들로부터 낙하하는 세정액 방울 등이 베이스 프레임(400) 상에 떨어지는 것을 방지한다.The bottom part 810 is disposed on the base frame 400 while interviewing the base frame 400. In addition, the bottom part 810 is formed to correspond to the spaced space between the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600. That is, the bottom part 810 is formed to have a size enough to cover the entire upper surface of the base frame 400 exposed by the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600. Therefore, the bottom part 810 prevents the drop of the cleaning liquid falling from the substrates 110 and the like on the base frame 400.

측벽(820)은 바닥부(810)의 가장 자리로부터 상부로 연장되어 형성된다. 측 벽(820)은 바닥부(810)로 낙하되는 세정액, 세정액 방울 등이 바닥부(810)로부터 튕겨져 외부로 나가는 것을 방지한다. 따라서, 측벽(820)은 일정한 높이를 가지도록 배치된다.The side wall 820 is formed extending from the edge of the bottom portion 810 to the top. The side wall 820 prevents the cleaning liquid, the cleaning liquid droplets, etc. falling into the bottom 810 from being bounced off the bottom 810 and outward. Thus, the side wall 820 is disposed to have a constant height.

한편, 세정액 회수부(800)는 다양한 종류의 세정액들에 대응하여 상기 각각의 세정액에 부식되지 않는 재질로 이루어진다. 예를 들어, 세정액 회수부(800)는 스테인리스 재질을 포함한다. 또한, 세정액 회수부(800)는 상기세정액에 대하여 내식성을 가진 물질로 표면 처리된 PVC 재질로 이루어질 수 있다. 따라서, 세정액 회수부(800)가 세정액에 대하여 내식성을 가진 재질로 이루어지므로, 상기 세정액을 회수하는 세정액 회수부(800)는 상기 세정액에 의해 부식되지 않는다. Meanwhile, the cleaning solution recovery unit 800 is formed of a material that does not corrode each of the cleaning solutions in response to various types of cleaning solutions. For example, the cleaning liquid recovery part 800 includes a stainless material. In addition, the cleaning liquid recovery unit 800 may be made of a PVC material surface-treated with a material having corrosion resistance to the cleaning liquid. Therefore, since the cleaning liquid recovery part 800 is made of a material having corrosion resistance with respect to the cleaning liquid, the cleaning liquid recovery part 800 for recovering the cleaning liquid is not corroded by the cleaning liquid.

이와 같이, 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600) 사이를 이동하는 기판 이송부(700)에 의해 지지된 기판(110)들로부터 세정액 또는 세정액 방울 등이 낙하하는 경우, 베이스 프레임(400) 상부에 배치된 세정액 회수부(800)가 낙하하는 세정액 및 세정액 방울 등을 그 내부로 회수할 수 있다. 따라서, 세정액 회수부(800)는 세정액이 베이스 프레임(400) 등의 기타 장비로 낙하하여 베이스 프레임(400) 등이 부식되는 것을 방지할 수 있다. As such, when the cleaning liquid or the cleaning liquid drops from the substrates 110 supported by the substrate transfer part 700 moving between the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600, the base frame ( 400, the cleaning liquid, the cleaning liquid drop, and the like, which the cleaning liquid recovery part 800 disposed above is dropped, may be collected therein. Therefore, the cleaning solution recovery unit 800 may prevent the cleaning solution from falling to other equipment such as the base frame 400 and the base frame 400 and the like.

도 4는 도 2의 세정액 회수부의 다른 예를 설명하기 위한 구성도이다. 여기서, 세정액 회수부를 제외한 구성 요소는 상술한 바와 동일하므로, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호 및 명칭을 사용하기로 한다. 4 is a configuration diagram illustrating another example of the cleaning liquid recovery part of FIG. 2. Here, since the components except for the cleaning liquid recovery part are the same as described above, the same reference numerals and names are used for the same components.

도 4를 참조하면, 세정액 회수부(900)는 낙하하는 세정액을 회수하기 위하여 기판 이송부(700)가 이동하는 경로의 하부에 배치된다. 세정액 회수부(900)는 베이 스 프레임(400) 상에 배치된다. 본 발명의 실시예들에 있어서, 세정액 회수부(900)는 베이스 프레임(400)에 고정되도록 배치된다. 예를 들어, 세정액 회수부(900)는 베이스 프레임(400)의 상부면에 면접하도록 배치될 수도 있고, 베이스 프레임(400)의 상부면으로부터 일정 높이를 갖도록 베이스 프레임(400) 상부에 배치될 수 있다. Referring to FIG. 4, the cleaning solution recovery unit 900 is disposed below the path through which the substrate transfer unit 700 moves to recover the falling cleaning solution. The cleaning liquid recovery part 900 is disposed on the base frame 400. In embodiments of the present invention, the cleaning solution recovery unit 900 is disposed to be fixed to the base frame 400. For example, the cleaning solution recovery part 900 may be disposed to interview the upper surface of the base frame 400, or may be disposed above the base frame 400 to have a predetermined height from the upper surface of the base frame 400. have.

세정액 회수부(900)는 바닥부(910) 및 측벽(920)을 포함한다. The cleaning liquid recovery part 900 includes a bottom part 910 and a side wall 920.

바닥부(910)는 베이스 프레임(400)과 면접하면서 베이스 프레임(400) 상에 배치된다. 예를 들어, 바닥부(910)는 제1 세정부(500)와 제2 세정부(600)에 의해 노출된 베이스 프레임(400)의 상부면 일부를 커버할 있을 정도의 크기로 형성된다. 또한, 바닥부(910)의 면적은 기판 이송부(700)의 크기보다 상대적으로 더 큰 크기를 가질 수 있다. 이는 기판(110)으로부터 낙하하는 세정액을 충분히 회수하기 위해서이다. 따라서, 바닥부(910)가 기판(110)들로부터 낙하하는 세정액 방울 등이 베이스 프레임(400) 상에 떨어지는 것을 방지한다.The bottom part 910 is disposed on the base frame 400 while interviewing the base frame 400. For example, the bottom part 910 is formed to have a size enough to cover a portion of the upper surface of the base frame 400 exposed by the first cleaning part 500 and the second cleaning part 600. In addition, the area of the bottom portion 910 may have a size larger than that of the substrate transfer part 700. This is to sufficiently recover the cleaning liquid falling from the substrate 110. Therefore, the bottom part 910 prevents the drop of the cleaning liquid falling from the substrates 110 and the like on the base frame 400.

측벽(920)은 바닥부(910)의 가장 자리로부터 상부로 연장되고, 일정한 높이를 가지도록 형성된다. 측벽(920)은 바닥부(910)로 낙하되는 세정액, 세정액 방울 등이 바닥부(910)로부터 튕겨져 외부로 나가는 것을 방지한다. The side wall 920 extends upward from an edge of the bottom portion 910 and is formed to have a constant height. The side wall 920 prevents the cleaning liquid, the cleaning liquid droplets, etc. falling into the bottom 910 from being bounced off the bottom 910 and outward.

본 발명의 다른 예에 따른 세정액 회수부(900)는 기판 이송부(700)의 이동에 대응하여 베이스 프레임(400)의 상부면에서 일정한 속도로 이동한다. 예를 들어, 세정액 회수부(900)는 제1 세정부(500)에서 제2 세정부(600)로 이동하는 기판 이송부(700)의 이동 방향 및 이동 속도에 대응하여 기판 이송부(700)의 하부에서 이동 한다. The cleaning solution recovery part 900 according to another embodiment of the present invention moves at a constant speed on the upper surface of the base frame 400 in response to the movement of the substrate transfer part 700. For example, the cleaning solution recovery part 900 may correspond to a moving direction and a moving speed of the substrate transfer part 700 moving from the first cleaning part 500 to the second cleaning part 600. Move on.

이와 같이, 기판 이송부(700)에 의해 지지된 기판(110)들로부터 세정액 또는 세정액 방울 등이 낙하하는 경우, 베이스 프레임(400) 상부에 배치된 세정액 회수부(900)가 기판 이송부(700)의 이동에 대응하여 이동하면서 낙하하는 세정액 및 세정액 방울 등을 그 내부로 회수할 수 있다. 따라서, 세정액 회수부(900)는 세정액이 베이스 프레임(400) 등의 기타 장비로 낙하하여 베이스 프레임(400) 등이 부식되는 것을 방지할 수 있다. As such, when the cleaning liquid, the cleaning liquid drop, or the like falls from the substrates 110 supported by the substrate transporting part 700, the cleaning liquid recovery part 900 disposed on the base frame 400 may be disposed in the substrate transporting part 700. The washing liquid, the washing liquid drop, and the like falling while moving in response to the movement can be recovered therein. Therefore, the cleaning solution recovery unit 900 may prevent the cleaning solution from falling into other equipment such as the base frame 400 and the base frame 400 and the like.

본 발명에 따르면, 기판 세정 장치는 나란하게 배치된 복수개의 세정조들 사이에서 기판들을 이송하는 기판 이송부 및 기판 이송부의 하부에 배치된 세정액 회수부를 포함한다. 이 때, 세정액 회수부가 기판 이송부에 지지된 기판들로부터 낙하하는 세정액 또는 세정액 방울 등을 회수함으로써, 세정액이 설비 또는 장치에 낙하되어 부식되는 것을 방지할 수 있다. 특히, 세정액 회수부 설비의 바닥부 상에 배치된 단순한 구조를 가지므로, 설계를 단순화하고 원가를 절감시킬 수 있다. According to the present invention, the substrate cleaning apparatus includes a substrate transfer part for transferring substrates between a plurality of cleaning tanks arranged side by side, and a cleaning liquid recovery part disposed under the substrate transfer part. At this time, the cleaning liquid recovery unit recovers the cleaning liquid or the cleaning liquid drop falling from the substrates supported by the substrate transfer unit, thereby preventing the cleaning liquid from dropping to the facility or the apparatus and corroding. In particular, since it has a simple structure disposed on the bottom of the cleaning liquid recovery unit, it is possible to simplify the design and reduce the cost.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be variously modified without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. And can be changed.

도 2는 도 1에 도시된 기판 세정 장치의 기판 이송부 및 세정액 회수부를 측면에서 바라본 측면도이다. FIG. 2 is a side view of the substrate transfer part and the cleaning liquid recovery part of the substrate cleaning device shown in FIG.

도 3은 도 2의 세정액 회수부의 일 예를 설명하기 위한 구성도이다. 3 is a configuration diagram illustrating an example of the cleaning liquid recovery part of FIG. 2.

도 4는 도 2의 세정액 회수부의 다른 예를 설명하기 위한 구성도이다. 4 is a configuration diagram illustrating another example of the cleaning liquid recovery part of FIG. 2.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 기판 세정 장치 110 : 기판100 substrate cleaning apparatus 110 substrate

120 : 카세트 200 : 적재부120: cassette 200: stacking portion

250 : 기판 전달부 300 : 기판 반전부250: substrate transfer portion 300: substrate inverting portion

400 : 베이스 프레임 500 : 제1 세정부400: base frame 500: first cleaning part

510 : 제1 세정조 520 : 제1 이송 유닛510: first cleaning tank 520: first transfer unit

600 : 제2 세정부 610 : 제2 세정조600: second cleaning unit 610: second cleaning tank

620 : 제2 이송 유닛 700 : 기판 이송부620: second transfer unit 700: substrate transfer unit

800, 900 : 세정액 회수부 810 : 바닥부800, 900: washing liquid recovery part 810: bottom part

820 : 측벽 820: sidewalls

Claims

Base frame;

At least one first cleaning unit disposed on one side of the base frame and configured to wash the substrate using a cleaning liquid;

At least one second cleaner disposed on the other side of the base frame so as to be parallel to the first cleaner, and configured to continuously clean the cleaned substrate;

A substrate transfer unit disposed between the first cleaning unit and the second cleaning unit, and configured to transfer the substrate cleaned by the first cleaning unit to the second cleaning unit; And

Disposed on the base frame between the base frame and the substrate transfer part, for recovering the residual cleaning liquid falling from the substrate to the base frame while the substrate is transferred from the first cleaning part to the second cleaning part; Substrate cleaning apparatus including a cleaning liquid recovery unit.

The method of claim 1, wherein the first cleaning portion and the second cleaning portion, respectively

A plurality of cleaning tanks each arranged in a row so as to continuously clean the plurality of substrates, and clean the substrates inside the cleaning tanks using a cleaning liquid supplied from the outside,

And the first cleaning part and the second cleaning part continuously clean the substrates in different directions.

The method of claim 1, wherein the cleaning liquid recovery unit

A bottom part disposed between the base frame and the moving substrate transfer part to block the cleaning solution from falling on the base frame; And

And a sidewall extending upwardly from an edge of the bottom portion, the sidewall for preventing the dropped cleaning liquid from being bounced off the bottom portion and exiting to the outside.

The substrate cleaning apparatus of claim 1, wherein the cleaning solution recovery unit is fixedly disposed on the base frame corresponding to a path of the substrate transfer unit moving between the first cleaning unit and the second cleaning unit.

The substrate cleaning apparatus of claim 1, wherein the cleaning liquid recovery unit recovers the falling cleaning liquid while moving at a constant speed on the upper surface of the base frame in response to the movement of the substrate transfer unit.

The substrate cleaning apparatus of claim 1, wherein the cleaning solution recovery part is formed of a material having corrosion resistance to each cleaning solution corresponding to various types of cleaning solutions.

The substrate cleaning apparatus of claim 6, wherein the cleaning solution recovery unit is made of at least one of a stainless material and a PVC material surface-treated with a material having corrosion resistance to the cleaning solution.