KR100871995B1 - 졸-겔 기술을 사용하여 실리카 바디들을 제조하는 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
상술한 바와 같이 준비된 졸은 몇 분에 걸쳐 pH를 낮추는 것에 의하여 겔화되었다. 바람직한 프로세스에서, 이러한 것은 0.5 내지 2%, 통상적으로는 1%의 메틸 포메이트(MF)를 첨가함으로써 달성된다. 다른 수용성 에스테르 또는 에스테르 형성 기질들이 사용될 수도 있다. pH 목표는 대략 9이다. 겔화제를 첨가한 후에, 그리고, 실질적인 겔화가 발생하기 전에, 졸은 필요한 크기 및 형상으로 캐스팅된다. 졸-겔 프로세스의 주된 장점은 겔의 단순한 성형에 의해 형상화된 글래스 바디를 형성하도록 사용될 수 있다는 것이다. 겔이 초기에 액체 상태이기 때문에, 이는 필요한 형상의 몰드 내로 부어질 수 있고, 몰드에서 겔화될 수 있다.
Claims (10)
- (a) 5 내지 25㎡/g의 범위로 규정된 표면적을 가지며 85% 이상의 구형 입자를 함유하는 실리카 입자와 물을 혼합함으로써, 물에 대한 실리카 입자의 중량비가 65% 이상인 졸을 준비하는 단계와,(b) 10 내지 13 범위의 값으로 상기 졸의 pH를 조절하기 위하여 수용성 염기를 첨가하는 단계와,(c) 상기 졸에 겔화제를 첨가하는 단계와,(d) 상기 졸을 몰드내로 캐스팅하는 단계와,(e) 상기 몰드의 형상으로 겔화된 바디를 형성하도록 상기 몰드 내에서 상기 졸을 겔화하는 단계와,(f) 상기 몰드로부터 상기 겔화된 바디를 제거하는 단계와,(g) 상기 겔화된 바디를 유리질 실리카 바디로 소결하도록 상기 겔화된 바디를 소가공(firing)하는 단계를 포함하는 실리카 글래스 바디 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수용성 염기는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드와 테트라에틸암모늄 하이드록사이드로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 실리카 글래스 바디 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 졸은 상기 실리카 입자의 총 자유표면의 5% 내지 50%를 단분자 코팅(momomolecularly coating)하는데 충분한 양의, 하나 이상의 유기 첨가제를 함유하는 실리카 글래스 바디 제조 방법.
- (a) (ⅰ) 5 내지 25㎡/g의 범위로 규정된 표면적을 가지며, 85% 이상의 구형 입자를 함유하는 실리카 입자와 물을 혼합함으로써, 물에 대한 실리카 입자의 중량비가 65% 이상인 졸을 준비하는 단계와; (ⅱ) 10 내지 13 범위의 값으로 상기 졸의 pH를 조절하도록 수용성 염기를 첨가하는 단계와; (ⅲ) 상기 졸에 겔화제를 첨가하는 단계와; (ⅳ) 상기 졸을 몰드 내로 캐스팅하는 단계와; (ⅴ) 상기 몰드의 형상으로 겔화된 바디를 형성하도록 상기 몰드 내에서 상기 졸을 겔화하는 단계와; (ⅵ) 상기 몰드로부터 상기 겔화된 바디를 제거하는 단계로 이루어지는 단계에 의해, 5㎏ 이상의 중량을 가지는 실리카 입자의 다공성 실리카 바디를 준비하는 단계와,(b) 상기 다공성 실리카 바디를 예비 성형체로 소결하기 위해서 상기 다공성 실리카 바디를 1300℃ 이상의 온도로 가열하는 단계를 포함하는 광섬유 예비 성형체 제조 방법.
- (a) (ⅰ) 5 내지 25㎡/g의 범위로 규정된 표면적을 가지며, 85% 이상의 구형 입자를 함유하는 실리카 입자와 물을 혼합함으로써, 물에 대한 실리카 입자의 중량비가 65% 이상인 졸을 준비하는 단계와; (ⅱ) 10 내지 13 범위의 값으로 상기 졸의 pH를 조절하기 위하여 수용성 염기를 첨가하는 단계와; (ⅲ) 상기 졸에 겔화제를 첨가하는 단계와; (ⅳ) 상기 졸을 몰드 내로 캐스팅하는 단계와; (ⅴ) 상기 몰드의 형상으로 겔화된 바디를 형성하도록 상기 몰드 내에서 상기 졸을 겔화하는 단계와; (ⅵ) 상기 몰드로부터 상기 겔화된 바디를 제거하는 단계로 이루어지는 단계들에 의해, 5㎏ 이상의 중량을 가지는 실리카 입자의 다공성 실리카 바디를 준비하는 단계와,(b) 상기 다공성 실리카 바디를 예비 성형체로 소결하기 위해서 상기 다공성 실리카 바디를 1300℃ 이상의 온도로 가열하는 단계와,(c) 상기 예비 성형체를 섬유 인발 장치에 장착하는 단계와,(d) 상기 예비 성형체로부터 광섬유를 인발하는 단계를 포함하는 광섬유 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 수용성 염기는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드와 테트라에틸암모늄 하이드록사이드로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 광섬유 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 졸은 상기 실리카 입자의 총 자유표면의 5% 내지 50%를 단분자 코팅하는데 충분한 양의, 하나 이상의 유기 첨가제를 함유하는 광섬유 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서, (a) (ⅰ) 단계 전에, 불순물들을 제거하도록 상기 실리카 입자를 원심분리하는 단계를 추가로 포함하는 광섬유 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 졸에 유기 첨가제를 첨가하는 부가 단계를 포함하는 광섬유 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 실리카 입자는 5 내지 20㎡/g미만의 표면적을 가지는 광섬유 제조 방법.
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