KR100850700B1 - On-line cleaning cartridge system for probe card - Google Patents

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원철호
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뉴센트 주식회사
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    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid

Abstract

An on-line cleaning cartridge system for a probe card is provided to realize an exact and fast cleaning process by absorbing a chemical cleaning solution and distilled water in a vacuum. A tester(30) is controlled by a controller(20) formed at a side of a machine(10). A tester head is formed on an upper end of the machine. The tester head is connected to the controller and has a probe card mounted on a jig in the state that a needle tip of the probe card is directed to a downward direction. A cleaning chuck(70) is manufactured at a side of a wafer jig(50) mounted on a lower end of the tester head. The cleaning chuck is connected to a chemical tank(60), a distilled water tank(61), a vacuum tank(62), pumps(63,64,65), and a connecting hose(66) in the machine. The jig is mounted on the tester head. The jig moves the probe card vertically and horizontally to clean the needle tip and test defects of a wafer by moving it between the cleaning chuck and the wafer jig. The cleaning chuck includes a plate main frame(73), a support jig, and a filter(75). Plural vacuum communication holes and supply communication holes are formed on the plate main frame. The support jig is protruded upside on an upper surface of the plate main frame. The filter is placed on an upper portion of the support jig. The vacuum communication hole of the plate main frame is communicated with the vacuum tank through the connecting hose. The supply communication hole is communicated with the chemical tank and the distilled water tank through the connecting hose.

Description

프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템{On-Line cleaning cartridge system for probe card}On-Line cleaning cartridge system for probe card

본 발명은 반도체 웨이퍼 검사에 사용되는 프로브카드를 세척하기 위한 프로브카드의 세척 카트리지 시스템에 관한 것이다. 더욱 상세히 설명하자면, 본 발명은 바람직하게는 프로브카드가 검사장치에 결합된 상태에서 바로 세척할 수 있는 소위 온라인(on-line) 방식의 세척장치로 수평연동수단과 수직연동수단을 통해 프로브카드가 웨이퍼 지그와 크리닝 척을 이동하면서 순차적으로 크리닝 척의 케미컬 척과 증류수 척을 통해 프로브카드의 니들팁을 세척하며, 웨이퍼 지그 위의 웨이퍼를 검사함으로써 검사 정확도를 향상시킨 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템이다.The present invention relates to a cleaning cartridge system of a probe card for cleaning a probe card used for semiconductor wafer inspection. In more detail, the present invention is a so-called on-line cleaning device which can be cleaned immediately in the state where the probe card is coupled to the inspection device, the probe card through the horizontal interlocking means and the vertical interlocking means. It is a probe card online cleaning cartridge system that moves the wafer jig and the cleaning chuck sequentially to clean the needle tip of the probe card through the chemical chuck and the distilled water chuck of the cleaning chuck and improves the inspection accuracy by inspecting the wafer on the wafer jig.

일반적으로 프로브카드(probe card)는 웨이퍼(wafer) 상에 형성된 각각의 칩을 검사하기 위해 PCB 기판상에 에폭시(epoxy)로 고정시킨 프로브(probe)를 검사하고자 하는 칩의 패드면에 접촉시킨 후 테스트 시스템의 전기적 신호를 칩 상에 전해주는 툴(tool)이며, 웨이퍼가 실질적으로 검사를 할 수 있도록 테스트 시스템의 각 신호배선과 웨이퍼 상의 각 패드를 칩 단위로 동시에 접촉시켜 주는 검사장치이다. In general, a probe card is contacted with a pad surface of a chip to be inspected with an epoxy fixed probe on a PCB substrate to inspect each chip formed on a wafer. It is a tool that transmits the electrical signal of the test system on the chip, and is an inspection device that simultaneously contacts each signal wiring of the test system and each pad on the wafer so that the wafer can be substantially inspected.

검사를 진행하는 과정에서 프로브카드의 니들팁(needletip)이 웨이퍼를 접촉하면서 웨이퍼의 표면에 증착된 알루미늄을 뚫고 접촉하기 때문에 알루미늄 입자가 프로브카드의 니들팁에 고착되며, 이로 인하여 산화물이 형성된다. 따라서, 이러한 프로브카드의 니들팁이 오염됨으로써 프로브팁(probe tip)의 접촉저항이 증가하여 프로브카드의 수명이 단축되는 문제점이 있었고, 디바이스 수율(yield)이 감소하는 문제점이 동시에 발생하게 되었다. Since the needle tip of the probe card contacts the wafer while penetrating the aluminum, the aluminum particles adhere to the needle tip of the probe card, thereby forming an oxide. Therefore, the needle tip of the probe card is contaminated, thereby increasing the contact resistance of the probe tip, thereby shortening the life of the probe card, and reducing the device yield.

종래에는 프로브카드의 니들팁에서 이물질을 제거하기 위해, 프로브카드의 니들팁의 측면이나 바닥면을 연마시트 중의 숫돌입자와 수백회 반복하여 접촉시켜 니들팁의 형상이 변화되고 있었다. 또한 이러한 접촉 공정에서 니들칩의 일부가 구부러져 프로브카드의 높이에 편차가 발생하는 경우도 있었다. Conventionally, in order to remove foreign substances from the needle tip of the probe card, the shape of the needle tip was changed by repeatedly contacting the side or bottom surface of the needle tip of the probe card with the grindstone particles in the polishing sheet hundreds of times. In addition, some of the needle chip is bent in the contact process, the deviation of the height of the probe card in some cases.

이런 경우에, 웨이퍼의 전극에 니들팁을 접촉시킬 때, 프로브카드의 니들팁의 형상이 변화하거나 높이에 편차가 발생하는 것에 의해, 니들팁과 전극의 접촉이 완전하지 않고 전극으로 소정의 전류를 통전하는 것이 곤란하게 되는 등의 문제가 발생하고 있었다. 따라서 프로브카드를 세척액으로 세척하는 작업은 재검사의 필요성을 감소시켜 디바이스 수율을 개선하며, 프로브카드의 수명을 연장하는 최선의 방법이라고 할 수 있다. In this case, when the needle tip is brought into contact with the electrode of the wafer, the shape of the needle tip of the probe card changes or a deviation occurs in height, whereby the contact between the needle tip and the electrode is not complete and a predetermined current is applied to the electrode. Problems such as difficulty in energizing have occurred. Therefore, cleaning the probe card with the cleaning solution is the best way to reduce the need for retesting, improve device yield, and extend the life of the probe card.

도 1은 종래의 프로브카드의 니들팁 세척장치의 일 실시예를 나타내는 구성 도로서, 미국특허공보 5,814,158호(1998. 9. 29.)에는 전기장치의 테스트 패드와 전기 접촉을 하기 위한 프로브팁이 제공된 프로브카드를 청소하기 위해서, 팁을 세정액에 노출함으로서 팁의 오염물질을 세척하는 데 알맞은 장치로서 이러한 장치는 프로브 카드용 지지 프레임과 세정액용 콘테이너를 포함하며, 지지 프레임의 프로브카드의 프로브칩을 콘테이너를 향해 이동하도록 이동 가능한 구성의 프로브카드의 니들팁 세척장치가 개시되어 있다. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a needle tip cleaning device of a conventional probe card, US Patent Publication No. 5,814,158 (1998. 9. 29.) is a probe tip for making electrical contact with the test pad of the electrical device In order to clean the provided probe card, a device suitable for cleaning the contaminants of the tip by exposing the tip to the cleaning liquid, the device comprising a support frame for the probe card and a container for the cleaning liquid, the probe chip of the probe card of the support frame Disclosed is a needle tip cleaning device for a probe card that is movable to move toward a container.

그러나 이러한 종래의 프로브카드의 니들팁 세척장치는, 콘테이너의 하부에 펌프가 설치되어 저수조의 세정액을 상부로 이송시켜 프로브카드의 니들팁의 선단을 세정액의 상면에 침지시켜 세척하므로, 세정액이 항상 펌프의 이송에 되므로 세정액면이 변동하게 되어 니들팁의 침지 깊이가 변동하여 세척이 불균일하게 이루어지는 문제점이 있었다. However, in the needle tip cleaning device of the conventional probe card, the pump is installed at the lower part of the container to transfer the cleaning liquid of the reservoir to the upper portion, so that the tip of the needle tip of the probe card is immersed on the upper surface of the cleaning liquid, so that the cleaning liquid is always pumped. Because of the transfer of the cleaning liquid surface fluctuated there was a problem that the immersion depth of the needle tip is fluctuated and the cleaning is uneven.

도 2는 종래의 프로브카드의 니들팁 세척장치의 다른 실시예를 나타내는 구성도로서, 공개특허공보 1999-62556호(1999. 7. 26.)에는 프로브침의 최선단부의 마모 및 형상의 변화가 적고 프로브침의 수명을 연장시키는 것이 가능한 프로브카드용 프로브침의 클리닝장치에 사용하는 세정액을 제공하기 위해서, 인산을 함유하는 수용액 또는 무수크롬산과 인산을 함유하는 수용액으로 이루어지는 프로브카드용 프로브침의 세정액에 프로브카드용 프로브침의 최선단부를 침지하고, 프로브침의 최선단부가 세정액에 침지되었을 때, 세정액을 진동발생 부재에 의해 진동시키는 프로브카드용 프로브침의 클리닝 장치가 개시되어 있다. Figure 2 is a configuration diagram showing another embodiment of the needle tip cleaning device of the conventional probe card, Patent Publication No. 1999-62556 (July 26, 1999) is a change in the wear and shape of the tip of the probe needle In order to provide a cleaning liquid for use in a cleaning apparatus of a probe needle for probe card which is small and can extend the life of the probe needle, a cleaning solution for a probe needle for probe card comprising an aqueous solution containing phosphoric acid or an aqueous solution containing chromic anhydride and phosphoric acid Disclosed is a cleaning apparatus for a probe needle for probe card, in which the tip end of the probe needle for probe card is immersed in and the tip end of the probe needle is immersed in the cleaning liquid.

이러한 프로브카드 니들팁 세척장치는, 전체의 스텐드(44), 초음파발생장치(30), 고정대(43), 세정욕조(22), 후처리욕조(27), 건조처리조(29)를 구비한다. 세정욕조(22), 후처리욕조(27) 및 건조처리조(29)의 상측영역에는 프로브카드 유지부재(39) 및 유지부재 안내부(40)가 설치되고, 세정욕조(22) 및 후처리욕조(27)의 하측 영역에는 초음파 발생장치(30)가 설치되어 있다. The probe card needle tip cleaning device includes an entire stand 44, an ultrasonic wave generator 30, a fixing base 43, a cleaning bath 22, a post treatment bath 27, and a drying treatment tank 29. . The probe card holding member 39 and the holding member guide portion 40 are provided in the upper regions of the cleaning bath 22, the after treatment bath 27, and the drying treatment tank 29, and the cleaning bath 22 and the after treatment are provided. The ultrasonic generator 30 is provided in the lower region of the bathtub 27.

프로브카드 유지부재(39)는 베이스부(38)과 상하 동작이 가능한 승강부(37)로 이루어진다. 또, 프로브카드 유지부재(39)는 유지부재 안내부(40)를 따라서 수평방향 이동이 가능하다. 프로브카드 유지부재(39)의 승강부(37)에는 클리닝 작업의 대상인 프로브침(31)을 갖는 프로브카드가 유지되어 있다.The probe card holding member 39 is made up of a base portion 38 and a lifting portion 37 that can be moved up and down. In addition, the probe card holding member 39 is movable in the horizontal direction along the holding member guide portion 40. The lifting unit 37 of the probe card holding member 39 holds a probe card having a probe needle 31 as a cleaning target.

그러나 이러한 세척장치에서 세정액면 및 후처리액면이 초음파발생장치(30)에 의해 진동이 발생되게 되어 니들팁의 침지 깊이가 변동하여 세척이 불균일하게 이루어지는 문제점이 있었다. However, in such a cleaning device, the cleaning liquid surface and the post-treatment liquid surface are vibrated by the ultrasonic generator 30, so that the immersion depth of the needle tip is fluctuated, resulting in uneven cleaning.

또한, 이러한 경우 프로브카드의 니들팁을 세정액에 침전시킨 상태에서 진동소자를 이용하여 수조 내의 세정액을 진동시키고 있으나, 현재 주로 사용되고 있는 프로브카드의 니들팁의 길이는 50-350㎛의 미세한 길이를 가지고 있다. 따라서 이와 같이 수면의 진동이 발생할 경우 진동자에 의한 세정액 높이 표면의 변화가 1-5mm 까지 발생하므로, 통상 니들의 침전 상태 중에 여러 니들이 병렬적으로 늘어져 있는 형태로 인한 액체의 모세관 현상 때문에 세척액의 높이를 제어할 수 없으며, 또한, 프로브카드 하부 조립구조에 표면장력에 의한 면접촉이 발생하여 프로브카드 표면까지 세척액이 침투하게 되어 프로브카드가 손상되는 문제점이 있었다. 또한, 세정욕조(22), 후처리욕조(27) 및 건조처리조(29)가 일렬로 설치되므로 설치면적이 증가하게 되는 문제점도 있었다. In this case, the needle tip of the probe card is vibrated in the tank by using a vibrating element while the needle tip of the probe card is precipitated in the cleaning solution. However, the needle tip of the currently used probe card has a fine length of 50-350 μm. have. Therefore, when the surface vibration occurs, the surface of the cleaning liquid caused by the vibrator changes to 1-5 mm. Therefore, the height of the cleaning liquid is increased due to the capillary phenomenon of the liquid due to the formation of several needles in parallel in the precipitation state of the needle. In addition, there is a problem in that the surface contact occurs by the surface tension in the probe card lower assembly structure to penetrate the cleaning solution to the surface of the probe card damage the probe card. In addition, since the cleaning bath 22, the after-treatment bath 27 and the drying treatment tank 29 are installed in a line, there is also a problem that the installation area increases.

이외에도 미국특허공보 4,314,855호(1982. 2. 9.)에는 테스트 프로브를 끓는 물에 침지함으로써 테스트 프로브에 축적된 오염물질 알루미늄 및 산화알루미늄의 혼합물 산화물 등을 실질적으로 제거하고, 이 물에 소량의 인산이나 불화수소를 첨가하여 세척작용을 향상시키는 테스트 프로브의 세척방법이 개시되어 있다. In addition, U.S. Patent No. 4,314,855 (February 9, 1982) immersed a test probe in boiling water to substantially remove contaminant aluminum and a mixture oxide of aluminum oxide accumulated in the test probe, and a small amount of phosphoric acid in the water. A method of cleaning a test probe for improving the cleaning effect by adding hydrogen fluoride is disclosed.

그러나 이러한 테스트 프로브의 세척방법에서도 테스트 프로브의 침지 깊이를 균일하게 유지할 수 없어 세척이 불균일하게 이루어지는 문제점이 있었다. However, there is a problem in that even the cleaning method of the test probe can not maintain the immersion depth of the test probe uniformly, the cleaning is uneven.

본 발명은 반도체 웨이퍼 검사에 사용되는 프로브카드를 세척하기 위한 프로브카드의 세척 카트리지 시스템에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 바람직하게는 프로브카드가 검사장치에 결합된 상태에서 바로 세척할 수 있는 온라인 방식의 세척장치로 수평연동수단과 수직연동수단을 통해 프로브카드가 웨이퍼 지그와 크리닝 척을 이동하면서 순차적으로 크리닝 척의 케미컬 척과 증류수 척을 통해 프로브카드의 니들팁을 세척하며, 웨이퍼 지그 위의 웨이퍼를 검사함으로써 검사의 정확도를 향상시킨 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템을 제공하고자 한다.The present invention relates to a cleaning cartridge system of a probe card for cleaning a probe card used for semiconductor wafer inspection. In particular, the present invention is preferably an on-line cleaning apparatus that can be immediately washed while the probe card is coupled to the inspection apparatus, and the probe card sequentially moves while moving the wafer jig and cleaning chuck through the horizontal interlocking means and the vertical interlocking means. To clean the needle tip of the probe card through the chemical chuck and the distilled water chuck of the cleaning chuck, and to examine the wafer on the wafer jig to provide an online cleaning cartridge system of the probe card to improve the accuracy of the inspection.

본 발명은 기체(10)의 일측에 형성되는 컨트롤러(20)의 제어를 받는 테스터기(30); 기체(10)의 상단부에는 테스터 컨트롤러(20)와 접속되고, 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 하향된 상태로 지그(43)에 장착된 프로브카드(41)를 가진 테스터헤드(40); 테스터헤드(40)에 장착되어, 수평연동수단과 수직연동수단을 통해 프로브카드(41)를 고정한 상태에서 수직/수평 연동시키는 프로브카드 지그(43); 테스터헤드(40)의 하단에 장착된 웨이퍼 지그(50)의 측부에 블럭 구조로 제작하되, 기체(10) 내부의 케미컬탱크(60), 증류수탱크(61), 진공탱크(62), 펌프(63, 64, 65) 및 연결호스(66)로 연결된 크리닝 척(70);을 포함하고 구성되고, 테스터헤드(40)에 장착된 수직연동수단과 수평연동수단을 통해 프로브카드(41)가 수직/수평 이동하여 크리닝 척(70)과 웨이퍼 지그(50) 사이를 이동하면서, 니들팁(42)을 세척도 하고 웨이퍼의 불량도 테스트하는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템을 제공한다.The present invention is a tester 30 under the control of the controller 20 formed on one side of the base 10; A tester head 40 connected to the tester controller 20 at an upper end of the base 10 and having a probe card 41 mounted to the jig 43 with the needle tip 42 of the probe card 41 downward. ); A probe card jig 43 mounted to the tester head 40 to vertically / horizontally interlock with the probe card 41 fixed through horizontal interlocking means and vertical interlocking means; It is manufactured in a block structure on the side of the wafer jig 50 mounted at the lower end of the tester head 40, the chemical tank 60, the distilled water tank 61, the vacuum tank 62, the pump ( 63, 64, 65 and the cleaning chuck 70 connected to the connecting hose 66; comprising, the probe card 41 is vertical through the vertical interlocking means and the horizontal interlocking means mounted on the tester head 40 An on-line cleaning cartridge system of a probe card that moves between the cleaning chuck 70 and the wafer jig 50 horizontally to clean the needle tip 42 and test for defects in the wafer.

본 발명에 따라 프로브카드 지그(43)의 수평연동수단은 회동모터, 가이더, 와이어로 결합 구성되고; 프로브카드 지그(43)의 수평연동수단은 회동모터, 가이더, 체인으로 결합 구성되며; 크리닝 척(70)은, 좌우 블럭으로 형성하고, 블럭의 내부에 일정한 간격을 두고 다수의 진공연통공(71)과 공급연통공(72)이 형성된 플레이트본체(73); 플레이트본체(73)의 상면에는 상부로 돌출된 지지지그(74); 및 지지지그(74)의 상부로 올려지는 필터(75);를 포함하여 구성된다.According to the present invention, the horizontal interlocking means of the probe card jig 43 is composed of a rotation motor, a guider, and a wire; Horizontal interlocking means of the probe card jig 43 is composed of a rotation motor, a guider, a chain; The cleaning chuck 70 may include: a plate body 73 formed of left and right blocks and having a plurality of vacuum communication holes 71 and supply communication holes 72 formed at regular intervals inside the blocks; The upper surface of the plate body 73 support jig protruding upward; And a filter 75 that is raised to an upper portion of the support jig 74.

추가로, 플레이트본체(73)의 진공연통공(71)은 진공탱크(62)와 연결호스(66)를 통해 연통되고, 공급연통공(72)은 케미컬탱크(60)나 증류수탱크(61)에 연결호스(66)를 통해 연통된다.In addition, the vacuum communication hole 71 of the plate body 73 is communicated through the vacuum tank 62 and the connecting hose 66, the supply communication hole 72 is a chemical tank 60 or distilled water tank 61. Is communicated via a connecting hose (66).

본 발명에서 사용되는 원형의 필터(75)는 바람직하게는 다수의 공극이 형성된 제직된 원단이나 스폰지로 제작되고; 웨이퍼 지그(50)에 상면과 동일 평면상으로 측단에 결합 형성된 드라이(80);를 더 포함하여 구성되며; 드라이(80)는 가온된 에어를 분출하거나 또는 N2 가스를 공급시키는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템이다.The circular filter 75 used in the present invention is preferably made of woven fabric or sponge having a plurality of voids formed therein; A wafer 80 coupled to the side end on the same plane as the upper surface of the wafer jig 50; Dry 80 is an on-line cleaning cartridge system of a probe card that ejects warmed air or supplies N 2 gas.

본 발명은 웨이퍼를 검사하는 장치에 결합되는 케미컬 크리닝 척과 증류수 린스척을 형성하여 순차적으로 이동시킴으로 프로브카드를 세척하기에 그 세척의 시간이 절약되며, 세척 후 바로 검사시스템을 작동시킬 수 있어 그 작업량이 많다. The present invention forms a chemical cleaning chuck and a distilled water rinse chuck that are coupled to the wafer inspection apparatus and sequentially moves, thereby saving time for cleaning the probe card, and enabling the inspection system to be operated immediately after cleaning. There are many.

본 발명에 의한 세척방식은 화학적 세척액과 증류수를 진공으로 흡입하는 방식을 택하고 있기에 그 세척의 정확도가 높고 빠르다. In the washing method according to the present invention, since the chemical suction liquid and distilled water are sucked in a vacuum, the washing accuracy is high and fast.

본 발명에 의한 케미컬 크리닝 척과 증류수 린스척에서 사용하는 필터는 제직된 원단이나 스폰지를 사용하기에 진동에 의해 화학적 세척액과 증류수가 흔들릴 소지가 없으며, 그에 따라 종래 기술의 세척액과 증류수에서 발생되던 표면장력과 출렁거림에 의해 세척이 미흡한 점이나 정확하지 못한 점을 말끔히 해결한 유용한 발명이다. The filter used in the chemical cleaning chuck and the distilled water rinse chuck according to the present invention does not cause the chemical washing liquid and the distilled water to shake due to the vibration using the woven fabric or the sponge, and thus the surface tension generated in the conventional washing liquid and the distilled water. It is a useful invention that solves the problem of insufficient or inaccurate cleaning due to excessive slack.

본 발명은 도시된 도 3 내지 10에서처럼, 반도체 웨이퍼를 검사하고, 이를 직접적으로 검사하는 프로브카드의 니들팁에 형성된 산화물을 깨끗이 세척하여 웨이퍼의 검사 정확도를 향상시키기 위한 검사 및 세척 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to an inspection and cleaning system for improving the inspection accuracy of a wafer by inspecting the semiconductor wafer and cleaning the oxide formed on the needle tip of the probe card that directly inspects the semiconductor wafer as shown in FIGS. 3 to 10.

본 발명은 기체(10)의 일측에 형성되는 컨트롤러(20)의 제어를 받는 테스터기(30)가 있고, 기체(10)의 상단부에는 테스터 컨트롤러(20)와 접속되고, 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 하향된 상태로 지그(43)에 장착된 프로브카드(41)를 가진 테스터헤드(40)가 있으며, 테스터헤드(40)에 장착되어, 수평연동수단과 수직연동수단을 통해 프로브카드(41)를 고정한 상태에서 수직/수평 연동시키는 프로브카드 지 그(43)가 있다. The present invention has a tester 30 under the control of the controller 20 formed on one side of the base 10, the upper end of the base 10 is connected to the tester controller 20, the needle of the probe card 41 There is a tester head 40 having a probe card 41 mounted on the jig 43 with the tip 42 downward, and is mounted on the tester head 40 to probe through horizontal and vertical interlocking means. There is a probe card jig 43 for vertical / horizontal interlocking with the card 41 fixed.

또한 테스터헤드(40)의 하단에 장착된 웨이퍼 지그(50)의 측부에 블럭 구조로 제작하되, 기체(10) 내부의 케미컬탱크(60), 증류수탱크(61), 진공탱크(62), 펌프(63, 64, 65) 및 연결호스(66)로 연결된 크리닝 척(70)이 형성된다. 따라서 이들이 결합하되, 테스터헤드(40)에 장착된 수직연동수단과 수평연동수단을 통해 프로브카드(41)가 수직/수평 이동하여 크리닝 척(70)과 웨이퍼 지그(50) 사이를 이동하면서, 니들팁(42)을 세척도 하고 웨이퍼의 불량도 테스트하는 세척 카트리지 시스템이다. In addition, the side of the wafer jig 50 mounted on the lower end of the tester head 40 is manufactured in a block structure, the chemical tank 60, the distilled water tank 61, the vacuum tank 62, the pump inside the base 10 The cleaning chuck 70 is connected with the 63, 64, 65 and the connecting hose 66. Therefore, these are coupled, while the probe card 41 is moved vertically and horizontally through the vertical interlocking means and horizontal interlocking means mounted on the tester head 40 to move between the cleaning chuck 70 and the wafer jig 50, the needle It is a cleaning cartridge system that cleans the tip 42 and also tests wafer defects.

즉, 본 발명은 다음과 같이 작동한다. 웨이퍼 지그(50)에는 반도체 웨이퍼(미도시된)가 얹혀지고, 이 얹혀진 웨이퍼는 그 상단의 테스터헤드(40)에 고정된 수직연동수단과 수평연동수단을 통해서 이동하는 프로브카드(41)에 밀착하게 된다. 보다 정확하게는 프로브카드(41)의 하단으로 돌출된 다수의 니들팁(42)에 웨이퍼가 밀착하게 되는 것이다. 그리고 이 접촉에 의해 발생된 신호를 테스터 컨트롤러(20)가 감지하고 웨이퍼에 불량이 발생되었는지를 감지하는 것이다. That is, the present invention works as follows. The wafer jig 50 is loaded with a semiconductor wafer (not shown), which is in close contact with the probe card 41 moving through the vertical interlocking means and the horizontal interlocking means fixed to the tester head 40 at the upper end thereof. Done. More precisely, the wafer is in close contact with the plurality of needle tips 42 protruding to the lower end of the probe card 41. The tester controller 20 detects a signal generated by the contact and detects whether a defect has occurred in the wafer.

그런데 본 발명과 같은 웨이퍼 검사기는 아주 많은 수량의 웨이퍼를 연속적으로 검사하고 있다. 따라서 이러한 검사가 계속되면 될 수록 프로브카드(41)는 그 정확도가 떨어지고 고장이 나는 경우가 많다. 즉, 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 웨이퍼에 접촉을 하면서 웨이퍼의 표면에 증착된 알루미늄을 뚫고 접촉하기 때문에 알루미늄 입자가 프로브카드(41)의 니들팁(42)에 고착되며, 이로 인하여 산화물이 형성되는 것이다. 이러한 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 오염되면 니들팁(41)의 접촉저항은 증가되고, 그에 따라 프로브카드(41)의 수명은 단축되며, 디바이스 수율의 감소라는 문제점이 발생되는 것이다. By the way, a wafer inspector like the present invention continuously inspects a very large number of wafers. Therefore, as the test continues, the probe card 41 is less accurate and often breaks down. That is, since the needle tip 42 of the probe card 41 contacts the wafer while penetrating the deposited aluminum on the surface of the wafer, the aluminum particles are fixed to the needle tip 42 of the probe card 41. Due to this oxide is formed. If the needle tip 42 of the probe card 41 is contaminated, the contact resistance of the needle tip 41 is increased, thereby shortening the life of the probe card 41 and reducing the device yield. .

바로 이를 해결하기 위해서 본 발명에서는 검사장치와 일체로 니들팁(42)을 세척하여 산화물을 세척할 수 있는 별도의 수단이 강구되어 있는데, 이 구성이 바로 세척장치이다. In order to solve this problem, in the present invention, a separate means capable of cleaning the oxide by washing the needle tip 42 integrally with the inspection device is devised.

이 세척장치란 테스터헤드(30)의 하단에 위치하는 기체에 비치된 상태인데, 그 구성이 바로 케미컬탱크(60), 증류수탱크(61), 진공탱크(62), 각각의 펌프(63, 64, 65) 및 기타 연결호스(66)이다. This washing device is a state provided in the gas located at the lower end of the tester head 30, the configuration is the chemical tank 60, distilled water tank 61, vacuum tank 62, each pump 63, 64 , 65) and other connecting hoses 66.

먼저 웨이퍼를 검사하던 프로브카드(41)를 세척하고자 하면, 웨이퍼 지그(50)의 직 상단에 위치하게 되어있는 테스터헤드(40)의 프로브카드(41)를 이동시키게 된다. 지그(43)에 결합된 프로브카드(41)를 수평연동수단과 수직연동수단을 이용하여 도 3에 도시된 것처럼, 이동시키며 세척하는 것이다. 보다 상세히 설명하자면, 도 3에서 보이는 검사를 위한 웨이퍼 지그(50)의 직 상부에 위치하고 있던 테스터헤드(40)는 도면에서 6시 방향으로 그 수평연동수단을 통해서 이동을 하게 된다. First, when the probe card 41 for inspecting the wafer is to be cleaned, the probe card 41 of the tester head 40, which is positioned directly on the top of the wafer jig 50, is moved. The probe card 41 coupled to the jig 43 is moved and cleaned as shown in FIG. 3 by using the horizontal interlocking means and the vertical interlocking means. In more detail, the tester head 40 located directly on the wafer jig 50 for inspection shown in FIG. 3 moves through the horizontal interlocking means in the 6 o'clock direction in the drawing.

그리고 다시 수평연동수단을 통해서 9시 방향으로 이동을 하여 바로 크리닝 척(70)의 직상부 즉, 대칭형의 블럭 크리닝 척(70)의 좌측 직상부에 위치할 수 있도록 하는 것이다. 이때 그 측면을 도시한 것이 도 4인데 도시된 도면에서 크리닝 척(70)의 왼쪽 직 상부에 위치할 수 있도록 좌우 이동을 하는 것이다. Then, it moves to the 9 o'clock direction again through the horizontal interlocking means so that it can be located immediately above the cleaning chuck 70, that is, directly above the left side of the symmetrical block cleaning chuck 70. At this time, the side is shown in Figure 4 is to move left and right to be located on the upper left of the cleaning chuck 70 in the figure shown.

그리고 테스터헤드(40)에 부착된 별도의 수직연동수단을 통해서 지그(43)에 고정된 프로브카드(41)를 세밀하게 하향시켜 크리닝 척(70)의 상부와 면접될 수 있도록 하는 것이다. And through the separate vertical interlocking means attached to the tester head 40 is to be carefully down the probe card 41 fixed to the jig 43 to be interviewed with the upper portion of the cleaning chuck 70.

이때 크리닝 척(70)은 대칭형의 구조로 형성하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 테스터헤드(40)에 부착된 프로브카드(41)를 세척함에 있어서 먼저 화학적 조성물을 통해서 니들팁(42)의 외주면을 세척시켜 불순물을 떨어버리는 단계를 거친 후, 이 세척된 니들팁(42)을 증류수에 담가 화학 세정액을 씻어주는 단계를 거치고, 이 증류수가 묻은 니들팁(42)에 고온의 공기를 불어 넣어 깨끗하게 건조시키는 단계를 순차적으로 거치는 것이 세척장치이다. At this time, the cleaning chuck 70 is preferably formed in a symmetrical structure. In the present invention, in washing the probe card 41 attached to the tester head 40, first, after washing the outer peripheral surface of the needle tip 42 through the chemical composition to drop impurities, the washed needle tip ( 42) is immersed in distilled water to wash the chemical cleaning solution, and the step of sequentially drying the step of blowing clean air by blowing hot air to the needle tip 42, the distilled water.

따라서 크리닝 척(70)은 세정액을 통한 세척의 단계와 증류수를 통한 세척의 단계를 모두 수행할 수 있어야 하기에 2개의 대칭적 구조를 갖는 것이 바람직한 것이다. 본 발명의 도시된 도면에서는 도 4의 좌측부에 니들팁(42)의 세척을 담당한 케미컬 척을 두고 우측에 증류수의 공급을 위한 증류수 척을 형성하고 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않고, 좌측부에 증류수 척 그리고 우측부에 케미컬 척을 형성할 수도 있는 것이다. 컨트롤러(20)를 통해 수평연동수단과 수직연동수단의 제어만을 달성하여 이러한 위치적 변화는 얼마든지 수용할 수 있기 때문이다. 따라서 본 발명의 도 4 내지 6을 통해 그 작동의 방식을 상세히 설명한다. Therefore, it is preferable that the cleaning chuck 70 has two symmetrical structures in order to be able to perform both the washing through the washing liquid and the washing through the distilled water. In the illustrated figure of the present invention, the chemical chuck responsible for washing the needle tip 42 is disposed at the left side of FIG. However, the present invention is not limited thereto, and the chuck may be formed on the left side and the chuck on the right side. This is because only the control of the horizontal interlocking means and the vertical interlocking means through the controller 20 can accommodate such a change in position. Therefore, the manner of its operation will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 6 of the present invention.

앞에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 니들팁(42) 세척을 위해서는 먼저 케미컬 척의 상단으로 진입을 해야만 한다. 케미컬 척은 크리닝 척(70)의 일부구성으로 본 발명에서는 도면의 설명을 하지 않고 있다. 이는 좌우 대칭적인 하나의 척이 케 미컬 척일 수도 증류수 척일수도 있기 때문이다. 그러나 본 발명의 도면에서는 좌측에 위치한 척을 케미컬 척이라 명명하고 설명한다. As described above, in order to clean the needle tip 42 of the present invention, it must first enter the upper end of the chemical chuck. The chemical chuck is a part of the cleaning chuck 70, and thus the drawings are not described in the present invention. This is because a symmetrical chuck can be either a chemical chuck or a distilled water chuck. However, in the drawings of the present invention, the chuck located on the left side is named and described as a chemical chuck.

전술된 것처럼 수평연동수단과 수직연동수단을 통해서 이동하여 크리닝 척(70)의 케미컬 척의 직상부에 면접된 프로브카드(41)의 니들팁(42)은 세정액으로 그 외주면의 불순물이 세척된다. 크리닝 척(70)의 케미컬 척은 그 내부에 세정액이 담겨 진 상태인데, 바로 이 화학적 조성물인 세정액이 프로부카드(41)의 니들팁(42)에 묻으면서 산화물 등의 불순물을 벗겨주는 것이다. As described above, the needle tip 42 of the probe card 41, which is moved through the horizontal interlocking means and the vertical interlocking means and interviewed the upper portion of the chemical chuck of the cleaning chuck 70, is washed with impurities on its outer peripheral surface. The chemical chuck of the cleaning chuck 70 is in a state in which a cleaning solution is contained therein. The cleaning solution, which is a chemical composition, is peeled off on the needle tip 42 of the probucard 41 to remove impurities such as oxides.

이때 사용되는 세정액으로는 탈산소제(De-Oxidizer)를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 테스트 과정에서 발명자는 실사용 세정액으로 미국의 DM chemical사의 알카라인 케미컬(Alkaline Chemical)이란 상표의 세정액을 사용하였다. 따라서 본 발명에서는 이 세정액을 한정하지 않으며, 바람직하게는 탈산소제로 제조된 모든 세정액이 사용가능하다. At this time, it is preferable to use a deoxidizer (De-Oxidizer) as the cleaning liquid, and in the course of testing of the present invention, the inventor used a cleaning liquid of Alkaline Chemical brand of DM chemical company of the United States as a practical cleaning liquid. . Therefore, in the present invention, this washing liquid is not limited, and preferably all washing liquids made of an oxygen scavenger can be used.

크리닝 척(70)의 케미컬 척 내부에 세정액을 주입하는 방식을 설명한다. 크리닝 척(70)의 케미컬 척과 기체(10)의 내부에 내장된 케미컬탱크(60)는 도시된 것처럼 연결호스(66)를 통해서 연통된 상태이다. 또한 케미컬 척은 별도의 연결호스(66)를 이용하여 진공탱크(62)와도 연통되어 있는 상태이다. 그 연결호스(66)의 일측에는 별도의 펌프(63)가 각각 결합된 상태이다. A method of injecting a cleaning liquid into the chemical chuck of the cleaning chuck 70 will be described. The chemical chuck of the cleaning chuck 70 and the chemical tank 60 embedded in the base 10 are in communication with each other via a connection hose 66 as shown. In addition, the chemical chuck is also in communication with the vacuum tank 62 by using a separate connection hose (66). One side of the connection hose 66 is a separate pump 63 is coupled to each other.

케미컬탱크(60)의 내부에는 탈산소제의 세정액이 가득 담겨 진 상태로 비치하고, 그 연통된 부분 일측에 별도의 펌프(63)가 부착되어 있다. 따라서 펌프(63) 의 펌핑 작용에 따라 케미컬탱크(60)의 내부에 수용된 세정액은 그 연결호스(66)를 타고 크리닝 척(70)의 케미컬 척 내부로 이동하는 것이다. 바로 이렇게 이동된 세정액이 프로브카드(41)의 니들팁(42)에 적셔져 산화제 등의 불순물을 세척 시켜주는 것이다. The chemical tank 60 is provided in a state in which the cleaning solution of the oxygen scavenger is filled, and a separate pump 63 is attached to one side of the communicating portion. Therefore, the cleaning liquid contained in the chemical tank 60 moves in the chemical chuck of the cleaning chuck 70 by the connecting hose 66 according to the pumping action of the pump 63. The cleaning liquid thus moved is wetted with the needle tip 42 of the probe card 41 to wash impurities such as an oxidant.

이렇게 산화제를 세척시키고 나면, 본 발명에서는 크리닝 척(70)의 케미컬 척 내부에 존재하는 세정액을 흡입하여 외부로 빨아 내주게 되는데, 바로 이때 사용되는 것이 도시된 진공탱크(62)이다. 진공탱크(62) 내부의 저압이 밸브를 통해서 크리닝 척(70)의 케미컬 척과 연통이 되어 크리닝 척(70)의 내부에 공급된 세정액을 펌프를 통해 흡입하는 것이다. 그러면 크리닝 척(70)의 케미컬 척 내부에는 세정액이 빠져나간 상태를 유지하게 된다.After washing the oxidizing agent, in the present invention, the cleaning liquid existing in the chemical chuck of the cleaning chuck 70 is sucked out and sucked out to the outside, which is the vacuum tank 62 shown at this time. The low pressure inside the vacuum tank 62 is in communication with the chemical chuck of the cleaning chuck 70 through the valve to suck the cleaning liquid supplied into the cleaning chuck 70 through the pump. Then, the cleaning solution is maintained inside the chemical chuck of the cleaning chuck 70.

이어서 수직연동수단은 작동을 하여 프로브카드(41)를 크리닝 척(70)의 케미컬 척 외부로 빼주게 된다. 즉, 도시된 3의 도면에서 수직연동수단을 통해서 프로브카드(41)를 상승시키는 작동을 하는 것이다. 도 5를 통해 그 과정을 보다 상세히 설명하겠지만, 일단 프로부카드(41)의 니들팁(42)을 세척하고 나서는 상승시켜 위치를 확보하는 것이다. 바로 이러한 과정을 거치며 본 발명의 프로브카드(41)의 니들팁(42)은 세척의 단계를 완성하게 된다. The vertical interlocking means then operates to pull the probe card 41 out of the chemical chuck of the cleaning chuck 70. That is, the operation of raising the probe card 41 through the vertical interlocking means in the Figure 3 shown. The process will be described in more detail with reference to FIG. 5, but once the needle tip 42 of the probu card 41 has been washed, it is raised to secure a position. Immediately after this process, the needle tip 42 of the probe card 41 of the present invention completes the step of washing.

그리고 이러한 세척의 단계가 끝나게 되면, 니들팁(42)은 그 외주면에 많은 량의 세정액이 묻은 상태로 있을 것이다. 액상이기에 점도가 있을 수도 있고, 자체 표면장력이나 물이 포함되어 있기에 그 쌍극자의 성질에 따라 웨이퍼의 불량 여부 를 검사하기 위한 검사의 정확도를 해할 수 있을 만큼의 이물질이 달라붙어 있는 것과 동일하다. 따라서 이를 해결하기 위해서 본 발명에서는 크리닝 척(70)에 별도의 증류수 척을 비치하고 있는 것이다. And when this step of washing is finished, the needle tip 42 will be in a state in which a large amount of the cleaning liquid on the outer peripheral surface. It may be viscous because it is a liquid, and its surface tension or water is included, and according to the properties of the dipole, it is the same as the foreign matter sticking enough to undermine the accuracy of inspection to check the wafer for defects. Therefore, in order to solve this problem, the present invention has a separate distilled water chuck in the cleaning chuck 70.

도 6에서처럼, 본 발명의 증류수 척은 케미컬 척과 동일한 형태로 제작되는데, 크리닝 척(70)의 일부구성을 이루되 별도의 연결호스(66)를 통해서 증류수탱크(62)와 펌프(64)와 연통된 상태이고, 또한 별도의 연결호스(66)를 통해서 진공탱크(62)와 펌프(65)와 연통된 상태이다. As shown in FIG. 6, the distilled water chuck of the present invention is manufactured in the same form as the chemical chuck, which forms a part of the cleaning chuck 70 but communicates with the distilled water tank 62 and the pump 64 through a separate connection hose 66. It is in a state of being in communication with the vacuum tank 62 and the pump 65 through a separate connection hose (66).

따라서 크리닝 척(70)의 증류수 척은 케미컬 척 다음으로 프로브카드(41)이 니들팁(42)과 접촉해야만 하며, 그를 위해 테스터헤드(40)에 형성된 수평연동수단을 통해서 프로브카드(41)는 이동하여 크리닝 척(70)의 증류수 척 직 상부에 위치한 후 수직연동수단을 통해서 하향하여 크리닝 척(70)의 증류수 척에 도시된 도 6과 7에서처럼 밀착하는 것이다. Therefore, the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 has to be contacted with the needle tip 42 by the probe card 41 next to the chemical chuck, and for this purpose, the probe card 41 is connected through the horizontal interlocking means formed on the tester head 40. It moves and is positioned directly above the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 and then downwards through the vertical interlocking means to closely adhere to the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 as shown in FIGS. 6 and 7.

그리고 이 크리닝 척(70)의 증류수 척에 공급된 증류수는 니들팁(42)에 달라붙은 세정액을 씻어 주는 것이다. 즉, 증류수 척의 상단과 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 서로 면접하게 되면, 증류수탱크(61)에서 그 펌프(64)를 통해서 증류수를 공급하게 된다. 증류수는 그 연결호스(66)를 타고 크리닝 척(70)의 증류수 척으로 공급되어 니들팁(62)의 끝단을 증류수에 담가 외주면에 혹시 달라붙을 수 있는 세정액을 씻어주는 것이다. Then, the distilled water supplied to the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 washes the cleaning liquid attached to the needle tip 42. That is, when the upper end of the distilled water chuck and the needle tip 42 of the probe card 41 are interviewed with each other, the distilled water tank 61 supplies the distilled water through the pump 64. The distilled water is supplied to the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 by the connection hose 66 so as to immerse the tip of the needle tip 62 in distilled water to wash the cleaning liquid that may be stuck to the outer circumferential surface.

그 후 진공탱크(62)의 진공작용에 따라 증류수 척의 내부에 공급되었던 증류수는 흡입되어 빠져나오게 되고, 테스터헤드(40)의 수직연동수단은 작동하여 지 그(43)에 결합된 프로브카드(41)를 상승시켜 프로브카드(41)와 증류수 척 간에 일정한 간격이 형성될 수 있는 위치로 이동하게 된다. 그리고 다시 수평연동수단을 이용하여 웨이퍼 지그(50)의 직 상부로 이동시키는 것이다. 이 상태가 되면, 프로브카드(41)의 니들팁(42)은 세정액을 통한 세척 및 증류수를 통한 세척이 마친 상태가 된다. Then, according to the vacuum action of the vacuum tank 62, the distilled water that has been supplied to the inside of the distilled water chuck is sucked out, and the vertical interlocking means of the tester head 40 operates to probe card 41 coupled to the jig 43. Ascending) moves to a position where a predetermined interval can be formed between the probe card 41 and the distilled water chuck. In addition, the horizontal interlocking means is used to move directly to the upper portion of the wafer jig 50. In this state, the needle tip 42 of the probe card 41 is in a state in which the washing with the washing liquid and the washing with the distilled water are finished.

그러나 이렇게 프로브카드(41)의 니들팁(42)에는 전단계를 거치며 증류수가 묻은 상태이기에 바로 검사를 시작할 수 없다. 수분이란 전류를 통하게 하는 성질을 갖추고 있어서, 그 검사에 막대한 지장을 줄 소지가 있기 때문이다. 따라서 본 발명에서는 별도의 드라이(80) 수단을 강구하고 있는데 이에 대한 구성과 작동의 상황은 아래에서 상세히 설명한다. However, since the needle tip 42 of the probe card 41 passes through the previous step and the distilled water is in the state, the test cannot be started immediately. This is because moisture has the property of passing an electric current, which may greatly affect the inspection. Therefore, the present invention seeks a separate dry 80 means, the configuration and operation of this situation will be described in detail below.

이렇게 세정액 세척, 증류수 세척, 건조의 단계를 거치고 나서 본 발명의 온라인 세척 카트리지 시스템은 소기의 목적인 검사를 위해서 웨이퍼 지그(50)의 상부로 반도체 웨이퍼를 얹혀두고, 그 불량 여부를 검사하는 검사시스템으로 활용되는 것이다. After the washing liquid washing, distilled water washing, and drying step, the online washing cartridge system of the present invention is a test system for placing a semiconductor wafer on the top of the wafer jig 50 for the intended inspection, and inspecting the defect. It is utilized.

본 발명에서는 테스터헤드(40)에 지그(43)를 통해서 결합되는 프로브카드(41)가 도 3에 도시된 것처럼 전후좌우측을 연동하며, 크리닝 척(70)의 케미컬 척과 증류수 척 사이를 반복적으로 이동해야만 한다. 따라서 이러한 프로브카드(41)를 연동시킬 수 있는 별도의 구성이 필요한데, 이 구성이 수평연동수단이다. In the present invention, the probe card 41 coupled to the tester head 40 through the jig 43 interlocks the front, rear, left and right sides as shown in FIG. 3, and repeatedly moves between the chemical chuck and the distilled water chuck of the cleaning chuck 70. must do it. Therefore, a separate configuration for interlocking the probe card 41 is required, which is a horizontal interlocking means.

즉, 테스터헤드(40)에 형성되는 전후좌우연동수단은, 회동모터, 가이더, 와 이어로 결합된 수단이거나 또는 회동모터, 가이더, 체인으로 결합된 수단인 것이 바람직하다. 다시 말하자면, 본 발명에서 사용되는 수평연동수단은 그동안 공지된 많은 연동수단이 모두 활용될 수 있다. 단지 본 발명에서 프로브카드(41)는 아주 정교한 위치를 찾아 프로브카드(41)의 니들팁(42)과 웨이퍼의 접점을 정확하게 마주해야만 하기에 정확한 이동을 해야만 하다. That is, the front, rear, left, and right interlocking means formed on the tester head 40 is preferably a motor combined with a rotating motor, a guider, a wire, or a motor coupled with a rotating motor, a guider or a chain. In other words, the horizontal interlocking means used in the present invention may utilize all of the many known interlocking means. Only in the present invention, the probe card 41 must find a very precise position and must accurately move the needle tip 42 of the probe card 41 to exactly contact the wafer contacts.

그래서 본 발명은 가이더를 LM 가이드(linear Motion Guide)를 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 모터의 회전을 통해 테스터헤드(40)에 설치된 가이드를 타고 지그(43)에 결합된 프로브카드(41)가 이동함에 따라 프로브카드(41)가 소망하는 위치로 이동할 수 있게 하는데, 그를 위해 체인으로 연결시켜 놓은 수평연동수단이거나 또는 와이어를 연결시켜 놓은 수평연동수단이 모두 사용가능하다. 더욱이 본 발명은 이러한 방식에 한정되지 않고, 기존에 공지되고 주지된 다양한 수평연동수단이 모두 활용되어 아주 정교한 위치이동을 할 수 있는 형태의 것이면 모두 채택되어도 무방하다. Therefore, in the present invention, it is preferable to use the guider as a linear motion guide. That is, as the probe card 41 coupled to the jig 43 moves through the guide installed in the tester head 40 through the rotation of the motor, the probe card 41 can be moved to a desired position. Horizontal interlocking means connected by a chain or horizontal interlocking means by which a wire is connected can be used. Furthermore, the present invention is not limited to this manner, and may be adopted as long as it is a type capable of very precise position movement by utilizing all the various known and known horizontal interlocking means.

그렇다면 본 발명의 수평연동수단은 그 모터의 회전수를 정확하게 조절할 수 있는 형태의 것이 바람직하다. 즉, 회동모터는, 스톱핑모터나 써버모터가 사용되는 것이다. 스톱핑모터나 써버모터는 펄스를 체크함으로 그 회전수를 정확하게 제어할 수 있기에 본 발명에서는 이러한 스톱핑모터나 써버모터를 사용하는 것이다. Then, the horizontal interlocking means of the present invention is preferably of a type that can accurately adjust the rotational speed of the motor. In other words, as the rotation motor, a stopping motor or a server motor is used. Since the stopping motor or the submotor can accurately control the rotation speed by checking the pulse, the present invention uses such a stopping motor or the submotor.

한편 본 발명에서 사용하는 또 하나 프로브카드(41) 지그(42)의 수직연동수단은, 유,공압실린더이거나 회동모터, 가이더로 결합된 수단인 것이 바람직하다. 즉, 본 발명의 프로브카드(41)를 잡고 있는 지그(42)는 테스터헤드(40)가 부착된 상태로 전후좌우로 이동되고, 다시 상하로 이동될 수 있어야만 하는 것이다. Meanwhile, the vertical interlocking means of the probe card 41 and the jig 42 used in the present invention is preferably a means combined with a hydraulic / pneumatic cylinder, a rotating motor, and a guider. That is, the jig 42 holding the probe card 41 of the present invention should be able to move back and forth, left and right with the tester head 40 attached thereto, and move up and down again.

전술된 수평연동수단은 이미 설명된 상태이지만, 테스터헤드(40)에 비치되는 지그(43)는 그 상승을 위해서 유, 공압실린더를 사용하거나 회동모터를 통해 상하 이동시켜도 무방하다는 것이다. 수직연동수단의 경우도 공지된 다양한 방식의 상하연동방식이 사용될 수 있는데, 그 제어를 위해서 특별한 신경을 써야만 한다. Although the above-described horizontal interlocking means has already been described, the jig 43 provided in the tester head 40 may be moved up and down by using a hydraulic cylinder, a pneumatic cylinder, or a rotating motor. In the case of vertical interlocking means, various known vertical interlocking methods can be used, and special control must be taken for the control thereof.

만일 너무 많이 상승되어 프로브카드(41)의 니들팁(42)과 웨이퍼, 크리닝 척(70)의 케미컬 척, 증류수 척이 강하게 마주하게 되면 니들팁(42)이 손상될 우려가 높고, 너무 적게 상승한다면 케미컬 척의 사용시에는 니들팁(42)에 세정액이 묻지 않아 세척의 효과가 적으며, 증류수 척의 사용시에는 세척을 못하여 불량이 될 소지가 있는 것이다. 일반적으로 본 발명에서 니들팁(42)의 세정을 위한 침지 깊이로는 80㎛ 보다 작으면 세척효율이 저하하고, 150㎛보다 크면 프로브카드(41)의 니들팁(42)에 손상을 줄 소지가 높다. 결국 본 발명에서 상하연동수단은 니들팁(42)이 약 80-150㎛내외로 침지될 수 있는 높이를 조절해야만 한다. If the needle tip 42 of the probe card 41 and the wafer, the chemical chuck of the cleaning chuck 70, and the distilled water chuck strongly face each other, the needle tip 42 may be damaged. If the use of the chemical chuck does not have a cleaning liquid does not adhere to the needle tip 42, the effect of washing is less, when using a distilled water chuck there is a possibility that it will be defective. In general, as the immersion depth for cleaning the needle tip 42 in the present invention is less than 80㎛ cleaning efficiency is lowered, if larger than 150㎛ is likely to damage the needle tip 42 of the probe card 41 high. As a result, in the present invention, the vertical interlocking means must adjust the height at which the needle tip 42 can be immersed in about 80-150 μm.

그렇다면 본 발명에서 이러한 크리닝 척(70)의 케미컬 척과 증류수 척의 구성을 도시된 도 10과 함께 상세히 살펴보고, 그 작용을 설명한다. 본 발명에서 크리닝 척(70)은 바람직하게는 좌우 대칭의 블럭으로 형성하고, 블럭의 내부에 일정한 간격을 두고 다수의 진공연통공(71)과 공급연통공(72)이 형성된 플레이트본체(73)가 있고, 플레이트본체(73)의 상면에는 상부로 돌출된 지지지그(74)가 있으 며, 지지지그(74)의 상부로 올려지는 필터(75)가 있다. 따라서 이들이 결합하되, 플레이트본체(73)의 진공연통공(71)은 진공탱크(62)와 연결호스(66)를 통해 연통되고, 공급연통공(72)은 케미컬탱크(60)나 증류수탱크(61)에 연결호스(66)를 통해 연통되는 것이다. Then, the configuration of the chemical chuck and the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 in the present invention will be described in detail with reference to FIG. 10, and the operation thereof will be described. In the present invention, the cleaning chuck 70 is preferably formed of a symmetrical block, and the plate body 73 in which a plurality of vacuum communication holes 71 and supply communication holes 72 are formed at regular intervals inside the blocks. There is, the upper surface of the plate body 73 there is a support jig 74 protruding upward, there is a filter 75 is raised to the top of the support jig (74). Therefore, these are coupled, the vacuum communication hole 71 of the plate body 73 is communicated through the vacuum tank 62 and the connection hose 66, the supply communication hole 72 is a chemical tank 60 or distilled water tank ( 61) is communicated through the connecting hose (66).

즉, 본 발명에서 사용하는 크리닝 척(70)의 케미컬 척과 증류수 척은 사실상 그 구성의 형태면에서 동일하고, 그 작동의 방식도 동일한 좌우 대칭적 블록구조로 형성되는 것이 바람직하다. 단지 케미컬 척에는 화학적 조성물인 세정액이 공급되고, 증류수 척에는 증류수가 공급된다는 점에서만 차이가 있고, 별도의 연결호스(66)를 통해서 진공탱크(62)와 연통되어 있다는 점에서도 동일하다. 따라서 본 발명의 크리닝 척(70)에서 케미컬 척을 왼쪽에 형성하거나 오른쪽에 형성하는 사항은 중요한 사항이 아니다. That is, it is preferable that the chemical chuck and the distilled water chuck of the cleaning chuck 70 used in the present invention are substantially the same in terms of their configuration, and the manner of their operation is also formed in the same symmetrical block structure. The only difference is that the chemical chuck is supplied with the chemical liquid to the chemical chuck, and the distilled water chuck is supplied with distilled water. Also, the chemical chuck is connected to the vacuum tank 62 through a separate connection hose 66. Therefore, the matter of forming the chemical chuck on the left side or the right side in the cleaning chuck 70 of the present invention is not important.

이러한 크리닝 척(70)의 경우 도시된 도 10에서처럼, 육면체의 판상으로 세척을 요하는 프로브카드(41)의 니들팁에 비하여 다소 넓은 면적을 보유한다. 그리고 그 상부로 도시된 지지지그(74)가 바람직하게는 좌우 대칭된 상태로 돌출된 상태이다. 그리고 바로 이 지지지그(74)의 상부에 필터(75)가 올려지는 것이다. 물론 본 발명의 대칭적인 플레이트본체(73)의 내부에는 도시된 것처럼 2개의 연통공이 형성되어 있는데, 하나는 공급연통공(72)이고 다른 하나는 진공연통공(71)이다. This cleaning chuck 70 has a somewhat larger area than the needle tip of the probe card 41 requiring cleaning in the form of a hexahedron as shown in FIG. 10. And the support jig 74 shown in the upper portion is preferably in a state protruding in a symmetrical state. And the filter 75 is put on the top of the support jig 74. Of course, two communication holes are formed inside the symmetrical plate body 73 of the present invention, one of which is a supply communication hole 72 and the other is a vacuum communication hole 71.

여기서 대칭적인 구조이기에 좌우에 각각 2개의 연통공이 형성되어 있다는 의미이다. 따라서 일측의 공급연통공(72)을 통해서 증류수가 공급되고 타측의 공급연통공(72)에서는 세정액이 공급되는 것이다. 보다 상세히 설명하자면, 크리닝 척(70)인 케미컬 척이나 증류수 척에 지그(43)에 고정된 프로브카드(41)가 이동하게 되면, 케미컬탱크(60)나 증류수탱크(61)에서 그 펌프(63, 64)를 통해서 세정액이나 증류수가 공급하게 된다. The symmetrical structure here means that two communicating holes are formed on each side. Therefore, distilled water is supplied through the supply communication hole 72 on one side, and the cleaning liquid is supplied from the supply communication hole 72 on the other side. More specifically, when the probe card 41 fixed to the jig 43 is moved to the chemical chuck or the distilled water chuck, which is the cleaning chuck 70, the pump 63 in the chemical tank 60 or the distilled water tank 61 is moved. , 64) to supply the cleaning liquid or distilled water.

그러면 세정액이나 증류수는 연결호스(66)를 타고 올라와 크리닝 척(70)의 일부 구성인 케미컬 척이나 증류수 척의 공급연통공(72)으로 세정액과 증류수를 공급하는 것이다. 그리고 그 세정액이나 증류수는 지지지그(74)의 상부에 올려진 필터(75)에 흡수되어 아주 적당한 상태의 세정액이나 수분을 흡입한 상태를 유지하게 되는 것이다. Then, the cleaning liquid or distilled water is taken up through the connecting hose 66 to supply the cleaning liquid and the distilled water to the supply communication hole 72 of the chemical chuck or the distilled water chuck which is a part of the cleaning chuck 70. The cleaning liquid or distilled water is absorbed by the filter 75 mounted on the support jig 74 to maintain the state in which the cleaning liquid or moisture is inhaled.

그리고 이러한 상태에서 프로브카드(41)가 하향하여 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 크리닝 척(70)에 접근하여 면접하게 되면 니들팁(42)은 필터에 다소 박히는 형태로 세정액이나 수분을 받아들여 니들팁(42)을 세척하고 외주면을 깨끗이 세척하는 것이다. 이때 본 발명에서 아주 중요한 기술적 효과가 발생되는데, 종래 화학적 조성물인 세정액을 통해서 니들팁(42)을 세척해온 방식으로는 따라 올 수 없는 현저한 효과가 발생된다. In this state, when the probe card 41 moves downward and the needle tip 42 of the probe card 41 approaches the cleaning chuck 70 to interview the needle tip 42, the needle tip 42 is slightly embedded in the filter, and thus, the cleaning solution or water. Accept the needle tip 42 to wash and to clean the outer circumferential surface. At this time, a very important technical effect is generated in the present invention, a remarkable effect that cannot be followed by the method of washing the needle tip 42 through the cleaning liquid which is a conventional chemical composition.

종래의 방식의 경우, 니들팁(42)이 세정액에 너무 깊게 잠길 소지도 있고 특히 기체(10)가 다소 떨림을 받거나 진동에 의해 흔들릴 경우에는 어느 일측의 니들팁(42) 만이 많은 세정액 속에 침지될 수 있는 것이다. In the conventional method, the needle tip 42 may be immersed too deeply in the cleaning liquid, and in particular, when the gas 10 is slightly shaken or shaken by vibration, only the needle tip 42 on either side may be immersed in the cleaning liquid. It can be.

이는 아주 중요한 문제점으로 다가오는데, 어느 일측만 세척이 된 상태이기에 접속이 불가능한 영역이 발생된다는 점이다. 물론 이러한 현상을 방지하기 위해서 초음파 발생기를 결합시켜 그 진동음을 통해 니들팁(42)을 침지시키는 방식도 있지만 이는 정교한 해결책이 아니다. 그러나 본 발명은 필터에 다량의 세정액이나 증류수를 흡수시키고, 그 필터에 니들팁(42)을 박아 끼우는 방식으로 세정액 세척하고 증류수 세척하기에 그 정확도에 있어서 놀랄만하고, 침지의 깊이를 정확히 조절할 수 있어서 세척의 정도가 높다. 바로 이러한 점이 본 발명의 가장 큰 특징이 되는 것이다. This is a very important problem, because only one side has been cleaned, the area is impossible to access. Of course, in order to prevent this phenomenon, there is also a method of immersing the needle tip 42 through the ultrasonic sound by combining the ultrasonic generator, but this is not a sophisticated solution. However, the present invention is surprising in its accuracy in absorbing a large amount of washing liquid or distilled water in the filter, and by inserting the needle tip 42 in the filter to wash the washing liquid and distilled water, and precisely controlling the depth of the immersion. The degree of cleaning is high. This is the biggest feature of the present invention.

나아가 본 발명에서 사용되는 크리닝 척(70)인 케미컬 척이나 증류수 척의 경우 별도의 진공연통공(71)이 있는데, 이는 단계에서 증류수나 세정액이 공급되어 니들팁(72)을 침지시키고 나면 이를 진공탱크(62)로 빼주어야만 한다. Furthermore, in the case of the chemical chuck or the distilled water chuck, which is the cleaning chuck 70 used in the present invention, there is a separate vacuum communication hole 71, which is supplied with distilled water or a cleaning liquid in the step to immerse the needle tip 72, and then the vacuum tank. Must be subtracted with (62).

이는 보다 빠른 건조의 단계를 거칠 수 있게 하는 효과도 있으며, 간혹 척에 남아 있던 세정액이나 수분이 기체에 떨어지거나 프로브카드(41)의 본체에 묻어 프로브카드(41) 자체를 손상시킬 소지를 미연에 방지하기 위한 배려이다. 즉, 진공탱크(62)의 밸브가 열려 펌프를 통해 크리닝 척(70)과 진공탱크(62) 간에 압력차가 발생된다면, 크리닝 척(70)인 케미컬 척과 증류수 척에 공급된 세정액과 증류수는 흡입되어 진공탱크(62)의 내부로 흡입될 것이다. This has the effect of allowing a faster drying step, and sometimes the cleaning liquid or moisture remaining in the chuck falls on the gas or buried in the main body of the probe card 41 may damage the probe card 41 itself. It is consideration to prevent. That is, if a pressure difference is generated between the cleaning chuck 70 and the vacuum tank 62 through the pump by opening the valve of the vacuum tank 62, the cleaning liquid and the distilled water supplied to the cleaning chuck 70 and the distilled water chuck are sucked. It will be sucked into the vacuum tank 62.

이때 그 진공도에 따라서 흡입되는 증류수의 양은 차이가 있을 것인데, 이 흡입과정을 통해서 필터(75)가 흠뻑 흡입한 세정액과 증류수도 모두 흡입되는 것이다. 바로 본 발명은 이러한 진공탱크(62)의 사용에도 큰 특징이 있는 것이다. At this time, the amount of distilled water sucked according to the degree of vacuum will be different, and through this suction process, both the washing liquid and the distilled water sucked by the filter 75 are also sucked. The present invention has a great feature in the use of such a vacuum tank (62).

그리고 본 발명에서 사용하는 필터(75)는 그 용도상 첫째, 수분을 많은 량 흡수할 수 있어야만 하고, 둘째, 쉽게 배출을 위해서 공극을 많이 가져야만 한다. 이러한 용도상의 특징을 만족시켜 줄 수 있는 재질이 본 발명에서는 필요하다. 결국 원형의 필터(75)는, 다수의 공극이 형성된 제직된 원단이나 스폰지로 제작된 것이 바람직하다. 다수의 공극이 있고, 그 수분의 흡수력이 높은 직물류의 원단이나 스폰지가 가장 최적이라는 것이다. 원단의 경우도 그 흡수률이 높은 천연섬유인 면사나 특수하게 직조된 화학사의 경우가 많이 활용될 수 있다. And the filter 75 used in the present invention must first be able to absorb a large amount of moisture for its use, and second, it must have a lot of voids for easy discharge. In the present invention, a material capable of satisfying the characteristics of such a use is required. After all, the circular filter 75 is preferably made of a woven fabric or sponge having a plurality of voids. There are a number of voids, and the fabric or sponge of the fabric having high water absorption is the most optimal. In the case of fabrics, cotton yarn, which is a natural fiber having a high absorption rate, or a specially woven chemical yarn may be used.

한편 본 발명에서 원형의 웨이퍼 지그(50)에는, 그 상면과 동일 평면상으로 측단에 결합된 드라이(80)를 형성시키는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에서 그 작동의 설명을 하며, 설명을 미룬 부분이 있는데 바로 이 건조의 단계이다. On the other hand, in the present invention, the circular wafer jig 50, it is preferable to form a dry 80 coupled to the side end on the same plane as the upper surface. That is, the operation of the present invention is described, and there is a part that is deferred and this is the step of drying.

프로브카드(41)의 니들팁(42)을 청결하게 하는데 있어서, 먼저 화학적 조성물을 이용하여 외주면을 세척시켜 산화물 등이 불순물을 제거하고, 이 니들팁(42)에 묻은 세정액을 씻어내기 위해 증류수를 이용한 세척의 과정을 거친다. 그리고 바로 이 세척의 과정을 통해서 니들팁(42)의 외주면에 달라붙은 증류수를 드라이(80)를 통해서 건조시킨다는 것이다. In cleaning the needle tip 42 of the probe card 41, first, the outer circumferential surface is washed with a chemical composition to remove impurities such as oxides, and distilled water is used to wash off the cleaning liquid on the needle tip 42. Go through the process of washing. And through this washing process, the distilled water stuck to the outer circumferential surface of the needle tip 42 is dried through the dry 80.

그 과정을 도시된 도 7과 함께 상세히 설명하자면, 드라이가 작동되어 고온의 에어를 배출시키면서 웨이퍼 지그(50)가 그 수평연동수단을 통해서 좌우 연동하게 되면, 드라이(80) 내부에서 고온의 열기가 분출되면서 니들팁(42)에 묻은 수분을 건조시키는 것이다. 그리고 바로 이 건조된 상태에서 웨이퍼 지그(50)에 웨이퍼가 올려지고, 그 불량 여부를 검사하는 것이다. The process will be described in detail with reference to FIG. 7. When the wafer jig 50 is interlocked with each other through the horizontal interlocking means while the dry is operated to discharge the hot air, high temperature heat is generated in the dry 80. While erupting is to dry the moisture on the needle tip (42). In this dried state, the wafer is placed on the wafer jig 50 and the defect is inspected.

그런데 이때 본 발명에서는 드라이(80)를 사용함에 있어서, 가온된 에어를 분출하거나 또는 N2 가스를 공급시키는 것이 바람직하다. 공기를 가온시켜 드라이를 통해서 공급하거나 N2 가스 등의 고온가스를 공급시켜 보다 빠른 건조를 달성한다는 것이다. However, in the present invention, in using the dry 80, it is preferable to eject the heated air or supply N 2 gas. It warms the air and supplies it through a dry or hot gas such as N 2 gas to achieve faster drying.

마지막으로 본 발명의 도시된 도 7에는 이미 설명된 크리닝 척(70)인 케미컬 척과 증류수 척의 작동모습을 상세히 도시하고 있다. 즉, 하나하나의 단계를 거치며 이동되는 웨이퍼 지그(50)의 모습과 척들의 움직임을 도시하고 있는 것이다. 단지 케미컬 척과 증류수 척은 그 작동의 형태가 동일하기에 하나의 작동의 모습만을 도시하고 있다. Finally, Figure 7 of the present invention shows in detail the operation of the chemical chuck and the distilled water chuck which is the cleaning chuck 70 described above. That is, it shows the state of the wafer jig 50 and the movement of the chucks that are moved through one step. Only the chemical chuck and the distilled water chuck show only one type of operation because the type of operation is the same.

따라서 도시된 도면에서 테스터헤드(40)의 프로브카드(41)가 순서대로 작동되어 도 7과 같이 크리닝 척(70)인 케미컬 척을 통해 세척하고 나면, 후속으로 증류수 척으로 다시 프로브카드(41)를 이동시켜 동일한 작업을 반복한다. 다시 말해서 도시된 도 7과 동일한 작동의 형태로 다시 한 번 작동을 하는 세척의 단계를 거치고 바로 건조의 단계를 거치게 된다. Therefore, in the drawing, the probe card 41 of the tester head 40 is operated in sequence, and after cleaning through the chemical chuck which is the cleaning chuck 70 as shown in FIG. 7, the probe card 41 is subsequently returned to the distilled water chuck. Repeat to do the same by moving. In other words, in the same operation as shown in FIG. 7, the washing is performed once again, and the drying is performed immediately.

이때 건조의 단계에서는 웨이퍼 지그(50)의 상단 일측에 고정된 드라이(80)를 작동시키면서 본 발명의 수평연동수단을 통해 프로브카드(41)를 좌우로 이동시키면서 건조시키게 된다. 즉, 수직연동수단의 작동은 없는 것이다. 물론 특별한 효과를 위해서 다소 상승시켜 니들팁(42)에 접촉되지 않은 상태로의 높이 조절은 가능하지만 바람직한 작동의 방식은 아닐 것이다. 어느 정도 간격을 벌린 상태에서 전후좌우연동수단이 좌우로 연동하면서 니들팁(42)을 건조시키는 것이 본 발명에서는 가장 바람직한 작동의 모습인 것이다.At this time, the drying step while moving the probe card 41 to the left and right through the horizontal interlocking means of the present invention while operating the dry 80 is fixed to one side of the top of the wafer jig (50). That is, there is no operation of the vertical interlocking means. Of course, it is possible to adjust the height slightly without raising the needle tip 42 for a special effect, but this will not be the preferred method of operation. Drying the needle tip 42 while interlocking the left and right interlocking means from side to side in a spaced apart state to some extent is the state of the most preferred operation in the present invention.

도 1은 종래 발명의 모습을 도시한 도면,1 is a view showing a state of the prior art,

도 2도 종래 다른 실시 형태의 세척기를 도시한 도면,Figure 2 also shows a washing machine of another conventional embodiment,

도 3은 본 발명의 세척 및 검사기를 도시한 도면, 3 is a view showing a washing and testing machine of the present invention,

도 4는 본 발명의 온라인 세척 카트리지 시스템의 작동의 시작을 도시한 도면,4 shows the start of the operation of the on-line cleaning cartridge system of the present invention;

도 5는 본 발명의 온라인 세척 카트리지 시스템에서 프로브카드가 이동한 상태를 도시한 도면, 5 is a view showing a state that the probe card is moved in the online cleaning cartridge system of the present invention,

도 6은 본 발명에서 프로브카드의 니들팁을 향해 상승한 상태를 도시한 도면,Figure 6 is a view showing a state raised toward the needle tip of the probe card in the present invention,

도 7은 본 발명에서 프로브카드와 크리닝 척이 만나는 모습을 순차적으로 도시한 도면,7 is a view sequentially showing how the probe card and the cleaning chuck in the present invention,

도 8은 본 발명에서 드라이의 모습을 확대하여 도시한 도면,8 is an enlarged view of a dry state in the present invention;

도 9는 본 발명에서 검사 및 세척 시스템의 요부를 도시한 도면,Figure 9 illustrates the main parts of the inspection and cleaning system in the present invention,

도 10은 본 발명에서 크리닝 척의 모습을 단면하여 도시한 단면도이다. 10 is a cross-sectional view showing a state of the cleaning chuck in the present invention.

<도시된 도면의 주요부호에 대한 간단한 설명><Brief description of the major symbols in the drawing shown>

10; 기체 20; 컨트롤러10; Gas 20; controller

30; 테스터기 40; 테스터헤드30; Tester 40; Tester head

41; 프로브카드 42; 니들팁41; Probe card 42; Needle tip

43; 지그 50; 웨이퍼 지그43; Jig 50; Wafer jig

60; 케미컬탱크 61; 증류수탱크60; Chemical tank 61; Distilled water tank

62; 진공탱크 63, 64, 65; 펌프62; Vacuum tanks 63, 64, 65; Pump

66; 연결호스 70; 크리닝 척66; Connection hose 70; Cleaning chuck

71; 진공연통공 72; 공급연통공71; Vacuum communication holes 72; Supply Communication

73; 플레이트본체 74; 지지지그73; Plate body 74; Support jig

75; 필터 80; 드라이75; Filter 80; dry

Claims (7)

기체(10)의 일측에 형성되는 컨트롤러(20)의 제어를 받는 테스터기(30);A tester 30 under the control of the controller 20 formed on one side of the base 10; 상기 기체(10)의 상단부에는 테스터 컨트롤러(20)와 접속되고, 프로브카드(41)의 니들팁(42)이 하향된 상태로 지그(43)에 장착된 프로브카드(41)를 가진 테스터헤드(40);A tester head having a probe card 41 connected to the tester controller 20 at an upper end of the base 10 and mounted to the jig 43 with the needle tip 42 of the probe card 41 downward. 40); 상기 테스터헤드(40)의 하단에 장착된 웨이퍼 지그(50)의 측부에 블럭 구조로 제작하고, 기체(10) 내부의 케미컬탱크(60), 증류수탱크(61), 진공탱크(62), 펌프(63, 64, 65) 및 연결호스(66)로 연결된 크리닝 척(70); 및It is manufactured in a block structure on the side of the wafer jig 50 mounted at the lower end of the tester head 40, and the chemical tank 60, the distilled water tank 61, the vacuum tank 62, the pump in the base 10 A cleaning chuck 70 connected to the 63, 64, 65 and the connecting hose 66; And 상기 테스터헤드(40)에 장착되어, 수평연동수단과 수직연동수단을 통해 상기 프로브카드(41)를 고정 상태로 수직 및 수평 이동시켜 크리닝 척(70)과 웨이퍼 지그(50) 사이를 이동하면서 니들팁(42)을 세척도 하고 웨이퍼의 불량도 테스트하기 위한 프로브카드 지그(43);The needle is mounted on the tester head 40 to move the probe card 41 vertically and horizontally in a fixed state through horizontal interlocking means and vertical interlocking means to move between the cleaning chuck 70 and the wafer jig 50. A probe card jig 43 for cleaning the tip 42 and also testing wafer defects; 를 포함하여 구성되는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템으로서,An online cleaning cartridge system of a probe card configured to include, 상기 크리닝 척(70)은, The cleaning chuck 70, 좌우 블럭으로 형성하고, 블럭의 내부에 일정한 간격을 두고 다수의 진공연통공(71)과 공급연통공(72)이 형성된 플레이트본체(73); A plate body 73 formed of left and right blocks and having a plurality of vacuum communication holes 71 and supply communication holes 72 formed at regular intervals in the blocks; 상기 플레이트본체(73)의 상면에는 상부로 돌출된 지지지그(74); 및 A support jig 74 protruding upward from an upper surface of the plate body 73; And 상기 지지지그(74)의 상부로 올려지는 필터(75);A filter 75 which is lifted to an upper portion of the support jig 74; 를 포함하여 구성되고, 상기 플레이트본체(73)의 진공연통공(71)은 진공탱크(62)와 연결호스(66)를 통해 연통되고, 상기 공급연통공(72)은 케미컬탱크(60)나 증류수탱크(61)에 연결호스(66)를 통해 연통되는 것을 특징으로 하는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템.It is configured to include, the vacuum communication hole 71 of the plate body 73 is communicated through the vacuum tank 62 and the connection hose 66, the supply communication hole 72 is a chemical tank 60 or On-line cleaning cartridge system of the probe card, characterized in that communicating with the distilled water tank (61) through a connection hose (66). 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 프로브카드 지그(43)의 수평연동수단은 회동모터, 가이더, 와이어로 결합 구성된 것을 특징으로 하는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템.Horizontal interlocking means of the probe card jig (43) is an on-line cleaning cartridge system of a probe card, characterized in that composed of a rotating motor, a guider, a wire. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 프로브카드 지그(43)의 수평연동수단은 회동모터, 가이더, 체인으로 결합 구성된 것을 특징으로 하는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템.The horizontal interlocking means of the probe card jig (43) is an on-line cleaning cartridge system of a probe card, characterized in that coupled to the rotation motor, guider, chain. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 원형의 필터(75)는 다수의 공극이 형성된 제직된 원단이나 스폰지로 제작된 것을 특징으로 하는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템.The circular filter 75 is an online cleaning cartridge system of a probe card, characterized in that made of woven fabric or sponge formed with a plurality of voids. 제1항 또는 제5항에 있어서,The method according to claim 1 or 5, 상기 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템은,Online cleaning cartridge system of the probe card, 상기 원형의 웨이퍼 지그(50)에 그 상면과 동일 평면상으로 측단에 결합 형성된 드라이(80);A dry (80) formed on the circular wafer jig (50) and coupled to the side end in the same plane as the upper surface thereof; 를 더 포함하여 구성되는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템.Online cleaning cartridge system of the probe card further comprises. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 드라이(80)는 가온된 에어를 분출하거나 또는 N2 가스를 공급시키는 것을 특징으로 하는 프로브카드의 온라인 세척 카트리지 시스템.The dry (80) is the on-line cleaning cartridge system of the probe card, characterized in that to eject the heated air or supply N 2 gas.
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